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JPH0441131B2 - - Google Patents
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JPH0441131B2 - - Google Patents

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JPH0441131B2
JPH0441131B2 JP57076503A JP7650382A JPH0441131B2 JP H0441131 B2 JPH0441131 B2 JP H0441131B2 JP 57076503 A JP57076503 A JP 57076503A JP 7650382 A JP7650382 A JP 7650382A JP H0441131 B2 JPH0441131 B2 JP H0441131B2
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JP
Japan
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cyclohexene
reaction
cyclohexanol
catalyst
zsm
Prior art date
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JP57076503A
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JPS58194828A (ja
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Masazumi Chono
Hiroshi Ishida
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明は、シクロヘキセンを接触水和してシク
ロヘキサノールを製造する方法に関するものであ
る。さらに詳しくは、シクロヘキセンを接触水和
してシクロヘキサノールを製造する際に、触媒と
して結晶性アルミノシリケートZSM−5を用い
るシクロヘキサノールの製造法に関するものであ
る。 (従来の技術およびその問題点) 従来、シクロヘキセンの水和反応によるシクロ
ヘキサノールの製造方法としては、鉱酸、特に硫
酸を用いる間接或いは直接水和反応が知られてい
る。又、他の均一触媒として芳香族スルホン酸を
使用する方法(特公昭43−8104号公報、特公昭43
−16123号公報)、リンタングステン酸およびリン
モリブデン酸等のヘテロポリ酸を使用する方法
(特開昭53−9746号公報)等が提案されている。 しかしながら、これら均一系触媒は、反応器材
質の腐食および触媒の劣化の問題がある。又、こ
れらの均一系触媒の反応系では、生成するシクロ
ヘキサノールの殆どが触媒を含む水層に存在す
る。このため、シクロヘキサノールの水層からの
分離回収が煩雑になり多大のエネルギーを消費す
る欠点がある。 これらの欠点を改善する方法として固体触媒を
使用する方法、例えば、イオン交換樹脂を使用す
る方法が提案されている(特公昭38−15619号公
報、特公昭44−26656号公報)。しかしながら、こ
れらイオン交換樹脂は、機械的強度の問題や耐熱
性が不充分なため、触媒活性が急激に低下するた
め、長時間安定した活性を維持できないという欠
点がある。 さらに、固体触媒を使用する方法として、結晶
性アルミノシリケートを使用する方法が提案され
ている。特公昭47−45323号公報によれば、脱ア
ルカリしたモルデナイト、クリノプチロライト、
もしくはフオージヤサイト系ゼオライトを用いる
オレフイン類の水和方法が提案されている。 その明細書中の記載によれば、実施例4にシク
ロヘキセンの例が記載されている。それによれ
ば、オートクレーブ中、反応温度200〜210℃、反
応時間10〜15時間で、水のシクロヘキサノールへ
の転化率は、0.05〜0.06%と極めて低く、この記
載よりシクロヘキセンのシクロヘキサノールへの
転化率を計算すると、0.07〜0.08%とやはり極め
て低くなる。一方、同じ実施例に記載されている
プロピレン、1−ブテンの反応例では、同様の条
件でかつ反応時間が短いにもかかわらず、直鎖オ
レフインからのアルコールへの転化率は、10〜20
%、4〜7%(前記同様、水の転化率からの計算
値)と高い。この様に、シクロヘキセンは、他の
直鎖オレフインに比べて著しく反応性が低い事が
知られていた。 また、米国特許第4214107号明細書によれば、
結晶性アルミノシリケートZSM−5を触媒とし
て用いるエチレン、プロピレン等の直鎖オレフイ
ンの気相接触水和反応の例が記載されているが環
状オレフインの例はない。 さらに、特開昭57−70828号公報によれば、触
媒としてモービルオイル社の発表しているZSM
系のゼオライト、例えば、ZSM−5、ZSM−12
を用いるオレフインの水和方法が提案されてい
る。しかしながら、この公報中には、環状オレフ
インの記載は全くない。又、この公報中、第4ペ
ージ左下欄第1行〜同頁右上欄第2行の記載によ
れば、炭素数が大きく分枝度の高いものは立体障
害により反応が起りにくいという記載があり、実
施例もエチレン、プロピレン、ブテンと直鎖状オ
レフインの例だけである。分子の大きさから考え
た場合、環状オレフインは、分枝した鎖状オレフ
インよりさらに大きいため、立体障害から反応が
さらに困難である事が予想される。 以上のごとく、従来の技術からは、環状オレフ
インであるシクロヘキセンの水和反応は、困難で
ある事が示唆されている。 (問題点を解決するための手段) 以上のごとく、シクロヘキセンの水和反応は困
難である事が予想されたが本発明者らは、鋭意検
討を重ねた結果、驚くべき事に、触媒として結晶
性アルミノシリケートZSM−5を用いた場合に、
非常に高いシクロヘキサノール収率で、反応が進
行する事を見い出し、本発明を完成するに至つ
た。 すなわち、本発明は、シクロヘキセンを水和し
てシクロヘキサノールを製造する際に、触媒とし
て結晶性アルミノシリケートZSM−5を用い、
反応温度100〜150℃で行うことを特徴とするシク
ロヘキサノールの製造法である。 この様な事実は、これまで予想されなかつた驚
くべき知見である。なぜ、結晶性アルミノシリケ
ートZSM−5が、先に述べた脱アルカリしたモ
ルデナイト、クリノプチロライト、フオージヤサ
イトに比べて、環状オレフインであるシクロヘキ
センの水和に高活性であるかは明らかではない
が、以下の様な理由が考えられる。 結晶性アルミノシリケートZSM−5は、先の
ゼオライトに比べて、疎水性であるため、反応系
に多量に存在する水による阻外効果が少ない事が
考えられる、。さらに直鎖状オレフインは、分子
が小さいために、ゼオライトの結晶構造内の細孔
中の拡散が比較的速いのに対して、環状オレフイ
ンであるシクロヘキセンは、分子が大きいために
拡散が遅い。そのため、環状オレフインであるシ
クロヘキセンの場合は、ゼオライトの細孔構造
が、1次元であるか、2次元、3次元につながつ
ているかによつて拡散速度に大きな差が生じる。
この点で、ZSM−5は、3次元に連結した細孔
を持つため、環状オレフインであるシクロヘキセ
ンの拡散に非常に有利であり、この事が高活性を
示す一つの理由であると考えられる。 本発明の実施に際し、これらの触媒は水に不溶
性であり、反応層からの分離も容易であり、その
上機械的強度、耐熱性に優れ、更に装置の腐食の
問題もない。 本発明の実施に際し用いられる結晶性アルミノ
シリケートZSM−5とは、モービルオイル社が
開発したゼオライトである(米国特許第3702886
号明細書参照)。このZSM−5は、結晶を構成す
るSiO2とAl2O3のモル比が、20以上であり、結晶
構造中に、酸素10員環の入口を有する三次元の細
孔を有する特異なゼオライトである。 本発明の実施に際して、結晶性アルミノシリケ
ートZSM−5中のカチオンは、プロトン、Mg、
Ca、Sr等のアルカリ土類金属、La、Ce等の希土
類金属である事が好ましく、最も好ましいのは、
プロトン型である。 本発明は、シクロヘキセンと水だけで行つても
良いし、又、他の有機溶媒を共存させても良い。
この場合、有機溶媒とは、ハロゲン化炭化水素、
アルコール類、エーテル類、ケトン類である。ハ
ロゲン化炭酸水素としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、テトラクロロメタン、トリクロロエタ
ン、テトラクロロエタン及び対応する臭化物、ヨ
ウ化物、フツ化物である。アルコール類として
は、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、n−プロパノール、イソブタノール、n−ブ
タノール等のC1〜C10のアルコール類である。 エーテル類としては、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジアミルエーテル、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコールのジメチルエーテルあ
るいはスルフオン例えば、ジプロピルスルフオ
ン、スルフオンラン、スルホキシド例えば、ジメ
チルスルホキシド等の単エーテル及び複エーテル
等である。ケトン類としては、アセトン、メチル
エチルケトン等である。 上記いずれの有機溶媒とも、2種以上からなる
混合物も使用することができる。 本発明の実施に際し、水の使用量は、シクロヘ
キセン1モルに対して、1〜100モルの範囲が適
当である。触媒の使用量は、シクロヘキセンに対
して重量比で0.01〜100の範囲が適当である。有
機溶媒を使用する場合は、シクロヘキセンに対し
て容量比で0.1〜100の範囲が適当である。 反応温度は100〜150℃の範囲である。反応温度
が100℃未満では反応速度が低下し、また、150℃
を越えると副生物が多くなり、シクロヘキサノー
ルの選択率が低下するうえに触媒の寿命が短くな
る。 反応は、減圧、常圧、加圧のいずれの状態でも
良いが、加圧が好ましい。 反応形式は、バツチ方式、連続方式いずれでも
行うことができる。 (発明の効果) 本発明によれば、シクロヘキセンを水和してシ
クロヘキサノールを製造する際に、極めて高い収
率で、かつ装置の腐食もなくシクロヘキサノール
を製造する事ができる。 (実施例) 以下に、本発明を実施例により詳しく説明す
る。 参考例 1 Qブランドケイ酸塩水溶液(SiO2=29.9wt%)
150gに、10%水酸化テトラプロピルアンモニウ
ム水溶液180gを加え、さらに硝酸アルミニウム
(Al(NO33・9H2O)4gと水40gを加えて10分
間攪拌した。その後、その溶液を強攪拌しながら
濃硝酸を滴下してPHを10〜10.5に調整して均質な
ゲルを得た。このゲルを攪拌機付1オートクレ
ーブに入れ、180℃で24時間攪拌した。その結果、
得られた生成物を充分な量のイオン交換水で洗浄
した後、120℃で10時間乾燥した。この生成物は、
X線回折によりZSM−5と同定された。又、ケ
イ光X線分析より求めたアルミナに対するシリカ
のモル比は60であつた。 さらに、この生成物は、600℃で24時間空気流
通下で焼成した後、塩化アンモニウム水溶液でイ
オン交換して、さらに500℃で24時間空気焼成し
て触媒とした。 参考例 2 Qブランドケイ酸塩水溶液(SiO2=29.9wt%)
150gに10%水酸化テトラプロピルアンモニウム
水溶液180gを加え、さらに、硝酸アルミニウム
(Al(NO33・9H2O)15gと水40gを加えて10分
間攪拌した。その後、その溶液を強攪拌しながら
濃硝酸を滴下してPHを10〜10.5に調整して均質な
ゲルを得た。このゲルを攪拌機付1オートクレ
ーブに入れ、180℃で24時間攪拌した。その結果、
得られた生成物を充分な量のイオン交換水で洗浄
した後、120℃で10時間乾燥した。この生成物は、
X線回折によりZSM−5と同定された。又、ケ
イ光X線分析より求めたアルミナに対するシリカ
のモル比は25であつた。 さらに、この生成物は、600℃で24時間空気流
通下で焼成した後、塩化ランタン水溶液でイオン
交換して、さらに500℃で24時間空気焼成して触
媒とした。 実施例 1 内容積200c.c.の攪拌機付オートクレーブに、水
70g、シクロヘキセン7g及び参考例1で製造し
た触媒5gを仕込み100℃で1時間攪拌しながら
反応させた。反応後、生成物をガスクロ分析した
結果、シクロヘキサノール収率は10%であつた。 実施例 2 反応温度を150℃とする以外は、実施例1と同
じ条件で反応を行つた。その結果、シクロヘキサ
ノール収率は15%であつた。 実施例 3〜9 内容積200c.c.の攪拌機付オートクレーブに水30
g、シクロヘキセン10g、参考例1で製造した触
媒5g及び表−1に示す各種有機溶剤を仕込み、
150℃で1時間攪拌しかしながら反応させた。 その結果を表1に示す。
【表】 比較例 1 触媒としてシリカアルミナ(SiO2:Al2O3モル
比=1:1)を用いる以外は、実施例1と同じ条
件で反応を行つた。その結果、シクロヘキサノー
ルは生成しなかつた。 比較例 2 触媒としてHY型ゼオライト(U.C.C製SK−40
をプロトン交換、SiO2/Al2O3=4.6)を用いる以
外は、実施例1と同じ条件で反応を行つた。その
結果シクロヘキサノールは生成しなかつた。 比較例 3 触媒として合成モルデナイト(東洋曹達社製、
TSZシリーズ、SiO2/Al2O3=20)をプロトン交
換したものを用いて、実施例1と同じ条件でシク
ロヘキセンの水和反応を行つた。その結果、シク
ロヘキサノールの収率は、1.2%であつた。 比較例 4 内容積200c.c.の攪拌機付オートクレーブに、水
70g、プロペン10g及び参考例1で製造した触媒
5gを仕込み、150℃、90Kg/cm2で2時間反応を
行つた。反応後、生成物をガスクロで分析した結
果、イソプロパノールの収率は7%であつた。 実施例 10 参考例2で製造した触媒を用いる以外は、実施
例1と同じ条件でシクロヘキセンの水和反応を行
つた。その結果シクロヘキサノールの収率は9%
であつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 シクロヘキセンを水和してシクロヘキサノー
    ルを製造する際に、触媒として結晶性アルミノシ
    リケートZSM−5を用い、反応温度100〜150℃
    で行うことを特徴とするシクロヘキサノールの製
    造方法。
JP57076503A 1982-05-10 1982-05-10 シクロアルカノ−ルの製造法 Granted JPS58194828A (ja)

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JPS58194828A JPS58194828A (ja) 1983-11-12
JPH0441131B2 true JPH0441131B2 (ja) 1992-07-07

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