JPH0442324B2 - - Google Patents
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- JPH0442324B2 JPH0442324B2 JP61101092A JP10109286A JPH0442324B2 JP H0442324 B2 JPH0442324 B2 JP H0442324B2 JP 61101092 A JP61101092 A JP 61101092A JP 10109286 A JP10109286 A JP 10109286A JP H0442324 B2 JPH0442324 B2 JP H0442324B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle size
- silica
- particle
- particles
- silica particles
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、均一粒径の球状シリカ粒子を製造す
る方法に関する。
る方法に関する。
アルコール溶媒中で、アルキルシリケートをア
ンモニアおよび水と接触させて0.05μ〜2μmのシ
リカ微粒子を製造する方法が、W.Stober等によ
り開示されている[J.Colloid & Interface
Sci.、26、62(1968)〕。
ンモニアおよび水と接触させて0.05μ〜2μmのシ
リカ微粒子を製造する方法が、W.Stober等によ
り開示されている[J.Colloid & Interface
Sci.、26、62(1968)〕。
さらに、金属アルコキシドを有機溶剤に溶解し
て得た溶液と水および分散剤からなる溶液とを混
合し、金属アルコキシドを加水分解して微細なセ
ラミツク粉末を製造する方法も知られている(特
開昭60−166203号公報)。またエタノール、アン
モニア水、ケイ酸エチルを加えて反応条件と、シ
リカ球成長の経過を粒径分布をともに観測した報
告もなされている(「粉体および粉末冶金」第23
巻第4号第137〜142頁)。
て得た溶液と水および分散剤からなる溶液とを混
合し、金属アルコキシドを加水分解して微細なセ
ラミツク粉末を製造する方法も知られている(特
開昭60−166203号公報)。またエタノール、アン
モニア水、ケイ酸エチルを加えて反応条件と、シ
リカ球成長の経過を粒径分布をともに観測した報
告もなされている(「粉体および粉末冶金」第23
巻第4号第137〜142頁)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来のアルコール溶媒−アルキルシリケート−
アンモニア−水のシリカ粒子製造法においては粒
径と粒径分布のコントロールが容易でなく、また
粒子の二次的な凝集も起り易いので、粒径の揃つ
た粒子を工業的に製造するのが困難であつた。
アンモニア−水のシリカ粒子製造法においては粒
径と粒径分布のコントロールが容易でなく、また
粒子の二次的な凝集も起り易いので、粒径の揃つ
た粒子を工業的に製造するのが困難であつた。
また、特開昭60−166203号公報の方法では、加
水分解によつて生成した粒子の凝集を抑制するた
めに分散剤を使用する。しかし、この方法は極め
て微細なシリカ粒子の合成を目的としたもので、
比較的粒径の大きい、粒径の揃つたシリカ粒子の
合成には不適当である。
水分解によつて生成した粒子の凝集を抑制するた
めに分散剤を使用する。しかし、この方法は極め
て微細なシリカ粒子の合成を目的としたもので、
比較的粒径の大きい、粒径の揃つたシリカ粒子の
合成には不適当である。
また、従来知られている一工程によるシリカ粒
子の制法では希望する粒径、特に比較的大きい粒
径のシリカ粒子を得るには長時間を要し、しかも
粒径の均一性に欠けるという問題があつた。
子の制法では希望する粒径、特に比較的大きい粒
径のシリカ粒子を得るには長時間を要し、しかも
粒径の均一性に欠けるという問題があつた。
本発明者らは先ず常法により核となるシリカ粒
子を生成させ、次いでこの粒子をゆつくり成長さ
せると均一粒径のシリカ粒子が短時間で得られる
ことを見出し本発明に到達した。
子を生成させ、次いでこの粒子をゆつくり成長さ
せると均一粒径のシリカ粒子が短時間で得られる
ことを見出し本発明に到達した。
すなわち本発明の目的は、均一な粒径の球状シ
リカ粒子を得ることにある。
リカ粒子を得ることにある。
本発明の他の目的は、反応効率良く高純度の球
状シリカ粒子を得ることにある。
状シリカ粒子を得ることにある。
本発明はシリカ粒子を製造する方法において、
アルコール溶媒中でアルキルシリケートを水およ
びアンモニアで加水分解し、シリカ粒子核を生成
させ、次いでアルキルシリケートおよび炭化水素
を添加し、前記シリカ粒子核の成長と整粒を行わ
せることを特徴とするシリカ粒子の製造法であ
る。
アルコール溶媒中でアルキルシリケートを水およ
びアンモニアで加水分解し、シリカ粒子核を生成
させ、次いでアルキルシリケートおよび炭化水素
を添加し、前記シリカ粒子核の成長と整粒を行わ
せることを特徴とするシリカ粒子の製造法であ
る。
本発明で使用されるアルキルシリケートは、オ
ルケイト酸(H4SiO4)のアルキルエステルで一
般式Si(OR)4(R:アルキル基)で表わされ、通
常アルキル基Rの炭素数は1〜5程度であるが、
アルキルシリケートの反応性、工業規模での入手
の容易さなどから特に炭素数2〜3のアルキルシ
リケート、すなわちエチルシリケート、プロピル
シリケートなどが好ましい。
ルケイト酸(H4SiO4)のアルキルエステルで一
般式Si(OR)4(R:アルキル基)で表わされ、通
常アルキル基Rの炭素数は1〜5程度であるが、
アルキルシリケートの反応性、工業規模での入手
の容易さなどから特に炭素数2〜3のアルキルシ
リケート、すなわちエチルシリケート、プロピル
シリケートなどが好ましい。
本発明で使用されるアルコールとしてはアルキ
ルシリケートを溶解するものであれば良く、種々
の液状アルコールが使用できるが、炭素数が多過
ぎると粒径分布がブロードになり好ましくない。
通常は炭素数1〜6のアルキルアルコールが使用
しうるが、特に好ましいのは炭素数1〜3のアル
キルアルコール、すなわちメタノール、エタノー
ル、プロパノールなどである。
ルシリケートを溶解するものであれば良く、種々
の液状アルコールが使用できるが、炭素数が多過
ぎると粒径分布がブロードになり好ましくない。
通常は炭素数1〜6のアルキルアルコールが使用
しうるが、特に好ましいのは炭素数1〜3のアル
キルアルコール、すなわちメタノール、エタノー
ル、プロパノールなどである。
本発明の第1段階工程であるシリカ粒子核の生
成は、アルコール溶媒中でアルキルシリケートを
水とアンモニアを用いて加水分解することによつ
て行なうことができる。加水分解の条件は目的の
粒子径によつて変りうるが、アルキルシリケート
に対するアルコール溶媒の使用量は重量比で1〜
50倍、特に好ましくは2〜20である。
成は、アルコール溶媒中でアルキルシリケートを
水とアンモニアを用いて加水分解することによつ
て行なうことができる。加水分解の条件は目的の
粒子径によつて変りうるが、アルキルシリケート
に対するアルコール溶媒の使用量は重量比で1〜
50倍、特に好ましくは2〜20である。
アルキルシリケートを加水分解するために添加
する水の量はアルキルシリケートに対しモル比で
4倍以上を必要とするが、通常は5〜100倍程度
である。またアンモニア量は使用するアルキルシ
リケートの種類、目的粒径などによつて変りうる
がアルキルシリケートに対しモル比で1〜20倍程
度である。
する水の量はアルキルシリケートに対しモル比で
4倍以上を必要とするが、通常は5〜100倍程度
である。またアンモニア量は使用するアルキルシ
リケートの種類、目的粒径などによつて変りうる
がアルキルシリケートに対しモル比で1〜20倍程
度である。
本発明のシリカ粒子核は、上記の如くアルコー
ル溶媒中でアルキルシリケート、アンモニア、水
を10〜100℃、5分〜数時間撹拌、混合して調製
される。
ル溶媒中でアルキルシリケート、アンモニア、水
を10〜100℃、5分〜数時間撹拌、混合して調製
される。
工程は、第1工程で得られたシリカ粒子核を含
む溶液にアルキルシリケートおよび炭化水素を添
加混合することによつてできる。たとえば、第1
工程で得られたシリカ粒子核を含む溶液にアルコ
ール、炭化水素およびアンモニアを添加混合し、
次いでアルキルシリケートを添加し、シリカ粒子
核の成長を行わせることができる。
む溶液にアルキルシリケートおよび炭化水素を添
加混合することによつてできる。たとえば、第1
工程で得られたシリカ粒子核を含む溶液にアルコ
ール、炭化水素およびアンモニアを添加混合し、
次いでアルキルシリケートを添加し、シリカ粒子
核の成長を行わせることができる。
第2工程で使用するアンモニアとアルキルシリ
ケート量は目的粒径によつて変りうるが、第1工
程で使用した量に対し、各々1〜30倍、特に好ま
しくは2〜20倍である。目的粒子径が比較的大き
い場合は、追加するアンモニア、アルキルシリケ
ート量を多くする必要があるが、この様な場合に
はこれら試薬をアルコール溶媒で希釈して添加す
ることが望ましい。
ケート量は目的粒径によつて変りうるが、第1工
程で使用した量に対し、各々1〜30倍、特に好ま
しくは2〜20倍である。目的粒子径が比較的大き
い場合は、追加するアンモニア、アルキルシリケ
ート量を多くする必要があるが、この様な場合に
はこれら試薬をアルコール溶媒で希釈して添加す
ることが望ましい。
第2工程の加水分解条件は10〜100℃、1〜10
時間程度である。
時間程度である。
なお、本発明の第2工程においては、粒子の凝
集を防止する目的で炭化水素を添加する。この炭
化水素はアルコールに相容せしめるため、アルコ
ールと相溶性があるものであれば特に限定される
ものではない、溶媒回収の容易さ、炭化水素の価
格などから炭素数5〜12の脂肪族、脂環族、芳香
族炭化水素が好ましく、特に炭素数6〜9が好ま
しい。特に好ましい炭化水素の例として、n−ヘ
キサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
−シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどがある。
集を防止する目的で炭化水素を添加する。この炭
化水素はアルコールに相容せしめるため、アルコ
ールと相溶性があるものであれば特に限定される
ものではない、溶媒回収の容易さ、炭化水素の価
格などから炭素数5〜12の脂肪族、脂環族、芳香
族炭化水素が好ましく、特に炭素数6〜9が好ま
しい。特に好ましい炭化水素の例として、n−ヘ
キサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
−シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどがある。
以下、本発明を実施例をもつて説明する。
実施例 1
エタノール120g、エチルシリケート5gを500
c.c.のフラスコに仕込み、50℃300rpmの条件で濃
アンモニア水40mlを添加し、シリカ粒子核を生成
させた。(平均粒子計0.5μm)。
c.c.のフラスコに仕込み、50℃300rpmの条件で濃
アンモニア水40mlを添加し、シリカ粒子核を生成
させた。(平均粒子計0.5μm)。
次いで、エタノール30g、n−ヘキサン20g、
エチルシリケート15gの混合溶液を同一条件下に
15分間でゆつくりと滴下させ、さらに30分間撹拌
を継続し、シリカ粒子を調製した(平均粒子径
0.8μm)。
エチルシリケート15gの混合溶液を同一条件下に
15分間でゆつくりと滴下させ、さらに30分間撹拌
を継続し、シリカ粒子を調製した(平均粒子径
0.8μm)。
第1図は得られたシリカ微粒子の粒子構造の走
査型電子顕微鏡写真である。
査型電子顕微鏡写真である。
さらに生成した粒子核および粒子の粒径、粒径
分布は遠心式自動粒度測定装置(堀場製作所、
CAPA−500)により測定した。
分布は遠心式自動粒度測定装置(堀場製作所、
CAPA−500)により測定した。
粒子核およびシリカ粒子の粒径分布を第4図お
よび第5図に各々示す。
よび第5図に各々示す。
第4図および第5図から、第1工程のシリカ粒
子核生成時には、シリカ粒子核の粒度が不均一で
あつたにもかかわらず、第2工程の粒子調製工程
を経ると、シリカ粒子の粒度が極めて均一になる
ことが判明した。
子核生成時には、シリカ粒子核の粒度が不均一で
あつたにもかかわらず、第2工程の粒子調製工程
を経ると、シリカ粒子の粒度が極めて均一になる
ことが判明した。
実施例 2
エタノール120g、およびエチルシリケート10
gを1フラスコに仕込み、0℃、300rpmの条
件で濃アンモニア水20gを添加しシリカ粒子核を
生成させた(平均粒子径0.8μm)。
gを1フラスコに仕込み、0℃、300rpmの条
件で濃アンモニア水20gを添加しシリカ粒子核を
生成させた(平均粒子径0.8μm)。
次いでエタノール240g、n−ヘキサン40g、
アンモニア水150gをフラスコに添加し、エタノ
ール100g、エチルシリケート100gの混合溶液を
60分間でゆつくり滴下し、さらに60分間撹拌し、
シリカ微粒子を調製した(平均粒子径2.1μm)。
第4図は得られたシリカ微粒子の粒子構造の走査
型電子顕微鏡写真である。さらに粒子核およびシ
リカ粒子の粒径分布を実施例1と同様に測定した
結果を第6図および第7図に示す。
アンモニア水150gをフラスコに添加し、エタノ
ール100g、エチルシリケート100gの混合溶液を
60分間でゆつくり滴下し、さらに60分間撹拌し、
シリカ微粒子を調製した(平均粒子径2.1μm)。
第4図は得られたシリカ微粒子の粒子構造の走査
型電子顕微鏡写真である。さらに粒子核およびシ
リカ粒子の粒径分布を実施例1と同様に測定した
結果を第6図および第7図に示す。
第6図および第7図から明らかなように、第1
工程のシリカ粒子核生成時にはシリカ粒子核の粒
度が不均一であつたにもかかわらず、第2工程の
粒子調製工程を経るとシリカ粒子の粒度が極めて
均一になつた。
工程のシリカ粒子核生成時にはシリカ粒子核の粒
度が不均一であつたにもかかわらず、第2工程の
粒子調製工程を経るとシリカ粒子の粒度が極めて
均一になつた。
比較例 1
エタノール160gと濃アンモニア水40gを500ml
フラスコに仕込み、30℃、300rpmエチルシリケ
ート20gを20分間でゆつくり滴下させ、さらに30
分間撹拌を継続し、シリカ粒子を調製した。第3
図は得られたシリカ粒子構造の走査型電子顕微鏡
写真である。得られたシリカ粒子の粒度分布を第
8図に示した。
フラスコに仕込み、30℃、300rpmエチルシリケ
ート20gを20分間でゆつくり滴下させ、さらに30
分間撹拌を継続し、シリカ粒子を調製した。第3
図は得られたシリカ粒子構造の走査型電子顕微鏡
写真である。得られたシリカ粒子の粒度分布を第
8図に示した。
従来から知られているアルコール−アンモニア
−水素のアルキルシリケート加水分解で球状のシ
リカ粒子が得られるが、第3図に示される様に粒
子の形状が悪く、粒径の均一性に欠ける。
−水素のアルキルシリケート加水分解で球状のシ
リカ粒子が得られるが、第3図に示される様に粒
子の形状が悪く、粒径の均一性に欠ける。
ところが、本発明の方法では第1図および第2
図から明らかなように、形状および粒径の各均一
性ともに優れたシリカ粒子が容易に得られる。
図から明らかなように、形状および粒径の各均一
性ともに優れたシリカ粒子が容易に得られる。
本発明で得られるシリカ粒子は、セラミツク
ス、触媒用素材あるいは顔料、塗料、合成樹脂、
合成繊維の充填剤として使用される。
ス、触媒用素材あるいは顔料、塗料、合成樹脂、
合成繊維の充填剤として使用される。
第1図および第2図は本発明方法により得られ
たシリカ粒子の粒子構造の走査型電子顕微鏡写
真、第3図は従来方法により得られたシリカ粒子
の粒子構造の走査型電子顕微鏡写真であり、第4
図および第6図はシリカ粒子核の粒度分布、なら
びに第5図、第7図および第8図はシリカ粒子の
粒度分布を示す図である。
たシリカ粒子の粒子構造の走査型電子顕微鏡写
真、第3図は従来方法により得られたシリカ粒子
の粒子構造の走査型電子顕微鏡写真であり、第4
図および第6図はシリカ粒子核の粒度分布、なら
びに第5図、第7図および第8図はシリカ粒子の
粒度分布を示す図である。
Claims (1)
- 1 シリカ粒子を製造する方法において、アルコ
ール溶媒中でアルキルシリケートを水およびアン
モニアで加水分解し、シリカ粒子核を生成させ、
次いでアルキルシリケートおよび炭化水素を添加
し、前記シリカ粒子核の成長と整粒を行わせるこ
とを特徴とするシリカ粒子の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10109286A JPS62260712A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | シリカ粒子の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10109286A JPS62260712A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | シリカ粒子の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62260712A JPS62260712A (ja) | 1987-11-13 |
| JPH0442324B2 true JPH0442324B2 (ja) | 1992-07-13 |
Family
ID=14291450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10109286A Granted JPS62260712A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | シリカ粒子の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62260712A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63103812A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-09 | Toshiba Silicone Co Ltd | 真球状シリカ粉末の製造方法 |
| TWI372139B (en) * | 2006-06-02 | 2012-09-11 | Evonik Degussa Gmbh | Pelletized silica particles |
| JPWO2021153502A1 (ja) * | 2020-01-28 | 2021-08-05 | ||
| US12589061B2 (en) | 2021-05-04 | 2026-03-31 | Momentive Performance Materials Japan Llc | Method for producing silica particles and their use in cosmetic compositions |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6252119A (ja) * | 1985-08-29 | 1987-03-06 | Tokuyama Soda Co Ltd | シリカ粒子の製造方法 |
-
1986
- 1986-05-02 JP JP10109286A patent/JPS62260712A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62260712A (ja) | 1987-11-13 |
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