JPH0447384B2 - - Google Patents
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- JPH0447384B2 JPH0447384B2 JP5688486A JP5688486A JPH0447384B2 JP H0447384 B2 JPH0447384 B2 JP H0447384B2 JP 5688486 A JP5688486 A JP 5688486A JP 5688486 A JP5688486 A JP 5688486A JP H0447384 B2 JPH0447384 B2 JP H0447384B2
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- protective film
- rare earth
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光記録担体用基板の酸化物保護膜中の不安定な
酸素が記録媒体を劣化するのを防止するために酸
化物と共に希土類金属を同時成膜した後熱処理し
て、不安定な酸素を希土類金属で完全にトラツプ
する。[Detailed Description of the Invention] [Summary] In order to prevent unstable oxygen in the oxide protective film of the optical record carrier substrate from deteriorating the recording medium, a rare earth metal is simultaneously deposited with an oxide and then heat treated. to completely trap unstable oxygen with rare earth metals.
本発明は光記録担体用基板の製造方法に係り、
特に、記録媒体が基板からの悪影響を受けるのを
防止するための保護膜の製法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a substrate for an optical record carrier,
In particular, the present invention relates to a method of manufacturing a protective film for preventing a recording medium from being adversely affected by a substrate.
光デイスク、特に光磁気デイスク用基板はその
表面、記録、再生用のレーザービームをデイスク
上の所定の位置にトラツキングできるよう案内溝
が付されている。基板は、通常、案内溝を形成し
易くするため、プラスチツクまたはガラス等の円
板を基材とし、この上に紫外線硬化型樹脂を塗布
した後、案内溝を形成したものが用いられる。し
かし、これら基板材料には、未硬化のモノマーな
どの活性な成分が含まれており、この上に直接に
光磁気記録材料である希土類−遷移金属系記録層
を形成すると、酸化反応による記録層の劣化が生
じる。この原因は、記録層を形成する成分の一つ
である希土類金属がこれら基板中に含まれる活性
な成分と反応するためである。この結果、合金相
中の希土類金属の含有量が見掛上減少し、磁気的
特性、記録・再生特性の劣化を招いている。
Optical disks, particularly magneto-optical disk substrates, have guide grooves on their surfaces so that laser beams for recording and reproduction can be tracked to predetermined positions on the disk. In order to make it easier to form the guide grooves, the substrate is usually a disk made of plastic or glass, on which an ultraviolet curing resin is applied and then the guide grooves are formed. However, these substrate materials contain active components such as uncured monomers, and when a rare earth-transition metal recording layer, which is a magneto-optical recording material, is directly formed on these substrate materials, the recording layer is damaged due to an oxidation reaction. Deterioration occurs. This is because the rare earth metal, which is one of the components forming the recording layer, reacts with the active components contained in these substrates. As a result, the content of rare earth metals in the alloy phase apparently decreases, leading to deterioration of magnetic properties and recording/reproducing properties.
このため、従来から基板と記録層の中間に透明
な保護膜を設けて記録層の劣化防止を図つてい
る。光磁気デイスクでは、記録・再生を、基板側
からレーザービームを入射し、その反射光を用い
て再生するため、保護膜は透明なものでなければ
ならない。 For this reason, conventionally, a transparent protective film has been provided between the substrate and the recording layer to prevent deterioration of the recording layer. In a magneto-optical disk, a laser beam is incident from the substrate side and the reflected light is used for recording and reproduction, so the protective film must be transparent.
このような目的から保護膜としては一般的に酸
化物材料が使われてきた。 For this purpose, oxide materials have generally been used as protective films.
しかしながら、酸化物は下記のような理由から
光磁気デイスクの十分な保護膜とはいえない。す
なわち、酸化物を蒸着あるいはスパツタリングな
どの手法によつて成膜すると、酸化物保護膜は構
造的に多くの欠陥を含み、特に不安定な酸素(遊
離の酸素)を有している。このため、保護膜中に
存在する不安定な酸素が記録層中の希土類金属と
反応し、記録層を劣化させる。
However, oxides cannot be said to be a sufficient protective film for magneto-optical disks for the following reasons. That is, when an oxide film is formed by a method such as vapor deposition or sputtering, the oxide protective film contains many structural defects, and particularly contains unstable oxygen (free oxygen). Therefore, the unstable oxygen present in the protective film reacts with the rare earth metal in the recording layer, causing the recording layer to deteriorate.
このような保護膜による記録媒体の劣化は希土
類金属を用いた光磁気記録媒体において著しい
が、その他の光磁気記録担体、あるいは穴あけ形
光記録担体、等においても大なり小なり共通であ
り、記録媒体に対して不活性な保護膜の提供が望
まれる。 Such deterioration of recording media due to a protective film is remarkable in magneto-optical recording media using rare earth metals, but it is also common to other magneto-optical record carriers, hole-shaped optical record carriers, etc. It is desirable to provide a protective film that is inert to the medium.
本発明は、上記問題点を解決するために、基材
上に酸化物と希土類金属を同時成膜して保護膜を
形成した後、熱処理して酸化物保護膜を安定化す
る光記録担体用基板の製造方法を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an optical recording carrier in which an oxide and a rare earth metal are simultaneously deposited on a substrate to form a protective film, and then the oxide protective film is stabilized by heat treatment. A method for manufacturing a substrate is provided.
前述のように、酸化物を基板上に成膜する際不
安定な酸素あるいは遊離を酸素が発生するが、酸
化物と共に希土類金属を同時成膜すれば、希土類
金属は酸素親和性が高いので不安定な酸素と容易
に結合して酸化物を生成し、酸素が安定化され
る。しかし、この同時成膜の段階では希土類金属
と不安定な酸素とが十分に結合し、安定な酸化物
を完全に形成しているとはいい難い。そこで、希
土類金属と不安定な酸素とを十分に結合し、安定
な酸化物にするために、本発明では、成膜後更に
熱処理を行なう。この熱処理は真空中、大気中、
不活性雰囲気中等のいずれで行なつてもよいが、
酸素を含む雰囲気中で行なうと、例えば過剰な希
土類金属も酸化されるなどの利点があり、好まし
い。一般的には、大気中で行なえばよい。 As mentioned above, when forming an oxide film on a substrate, unstable oxygen or free oxygen is generated, but if a rare earth metal is simultaneously formed into a film with an oxide, rare earth metals have a high affinity for oxygen, so there is no possibility of non-oxidation. Oxygen is stabilized by easily combining with stable oxygen to form oxides. However, at this stage of simultaneous film formation, it cannot be said that the rare earth metal and unstable oxygen are sufficiently combined to form a stable oxide completely. Therefore, in the present invention, in order to sufficiently combine the rare earth metal and unstable oxygen to form a stable oxide, heat treatment is further performed after the film is formed. This heat treatment is performed in vacuum, air,
It may be carried out in any environment such as an inert atmosphere, but
It is preferable to carry out the process in an atmosphere containing oxygen, since this has the advantage that, for example, excess rare earth metals are also oxidized. Generally, it may be carried out in the atmosphere.
保護膜を被着する基材はアクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリカーボネート樹脂などのプラスチツ
ク、あるいはガラス等であることができ、基板が
透明である必要がなければ金属等でもよい。一般
的には、基材表面にトラツキング用案内溝が形成
されている。この案内溝はプラスチツクあるいは
ガラス基材を直接エツチングして形成してもよい
が、通常、紫外線硬化樹脂を基材表面で型を用い
て硬化させて形成される。 The base material to which the protective film is applied may be plastic such as acrylic resin, epoxy resin, polycarbonate resin, or glass, or may be metal if the substrate does not need to be transparent. Generally, tracking guide grooves are formed on the surface of the base material. Although the guide grooves may be formed by directly etching the plastic or glass substrate, they are usually formed by curing an ultraviolet curing resin on the surface of the substrate using a mold.
保護膜に用いる酸化物としては、Sio2、
Al2O3、CaO、La2O3、MgO、Sb2O3、SiOを例
示できる。 Oxides used for the protective film include Sio2 ,
Examples include Al 2 O 3 , CaO, La 2 O 3 , MgO, Sb 2 O 3 and SiO.
希土類金属としてはLa、Ce、Pr、Nd、Pm、
Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、
Luがある。酸化物および希土類金属は混合物で
もよい。 Rare earth metals include La, Ce, Pr, Nd, Pm,
Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb,
There is Lu. The oxide and rare earth metal may be a mixture.
保護膜の成膜は酸化物と希土類金属を同時蒸
着、同時スパツタリングなど慣用の同時成膜手法
で成膜すればよい。 The protective film may be formed by a conventional simultaneous film formation method such as simultaneous vapor deposition or simultaneous sputtering of an oxide and a rare earth metal.
酸化物に対して希土類金属の量が多くなると、
不安定な酸素がより多く安定化され、記録膜の保
護効果が大きくなる。しかし、希土類金属の量が
ある程度以上になると保護効果は飽和する。これ
は酸化物の成膜時に生ずる不安定な酸素が完全に
安定化されるためと考えられる。そして、希土類
金属の量をさらに多くすると、過剰の金属のため
に保護膜の透明度が低下する。基板側を光入射あ
るいは出射側として使用する場合には保護膜の吸
光率が10%以下であることが望ましく、従つて、
希土類金属の量をあまり過剰にしないことが必要
である。実施例では、酸化物に対する希土類金属
の成膜速度(膜厚すなわち体積成長速度)が0.4
程度で保護効果が飽和した。 When the amount of rare earth metal increases relative to the oxide,
More unstable oxygen is stabilized, increasing the protective effect of the recording film. However, when the amount of rare earth metal exceeds a certain level, the protective effect becomes saturated. This is thought to be because unstable oxygen generated during oxide film formation is completely stabilized. When the amount of rare earth metal is further increased, the transparency of the protective film decreases due to the excess metal. When using the substrate side as the light input or output side, it is desirable that the absorbance of the protective film is 10% or less.
It is necessary not to use too much of the rare earth metal. In the example, the film formation rate (film thickness or volumetric growth rate) of the rare earth metal relative to the oxide was 0.4.
The protective effect was saturated at a certain level.
保護膜の厚さは数100nmが好ましい。 The thickness of the protective film is preferably several 100 nm.
熱処理の温度は通常の酸化物の安定化処理とは
異なり、かなり低くしても効果がある。ただ、基
材、特にプラスチツク基材あるいは案内溝形成用
紫外線硬化樹脂が損傷しない範囲で高温で行なう
方が処理が促進され好ましい。通常、ガラス基材
上に形成された紫外線硬化樹脂を考慮しても、少
なくとも150℃程度までは大丈夫である。但し、
基材が高温に耐える場合でもあまり高温になると
熱膨張率の差のために保護膜と基材の密着性が低
下するので、例えば、200℃以下が好ましい。熱
処理時間は通常1時間程度で十分であるが、それ
以下でも効果はあり、またそれ以上長くしても経
済的理由以外に特に不都合はない。 Unlike ordinary oxide stabilization treatments, the heat treatment temperature can be kept quite low to be effective. However, it is preferable to carry out the treatment at a high temperature within a range that does not damage the base material, especially the plastic base material or the ultraviolet curable resin for forming the guide grooves, as this will accelerate the process. Normally, even considering the ultraviolet curing resin formed on the glass substrate, it is safe up to at least about 150°C. however,
Even if the base material can withstand high temperatures, if the temperature is too high, the adhesion between the protective film and the base material will decrease due to the difference in coefficient of thermal expansion, so the temperature is preferably 200° C. or lower, for example. Although a heat treatment time of about 1 hour is usually sufficient, a shorter heat treatment time is still effective, and a longer heat treatment time is not particularly disadvantageous other than for economic reasons.
こうして完成された光記録担体用基板は、その
上に記録膜、さらに上地保護膜が形成されて光記
録担体が完成される。その手法は慣用的であるこ
とができる。 A recording film and an upper protective film are formed on the optical record carrier substrate thus completed to complete the optical record carrier. The approach can be conventional.
実施例 1
アクリル樹脂基板を真空蒸着装置にセツトし、
蒸発源として酸化物であるSio2と希土類金属であ
るTbを用い、3×10-5Paの真空下、基板を回転
しながら各蒸着源に電子ビームを当ててSio2と
Tbを基板上に同時蒸着した。そして、Tb/Sio2
の蒸着速度比(膜厚比)を0〜0.4の間で変化さ
せ、200nm厚の保護膜を形成した。これらを60
℃、大気中で80時間熱処理を施した後、希土類−
遷移金属系媒体としてTbFeCo膜を作成した。作
成条件は、真空度1.3×10-5Pa、蒸着速度Tb:
0.23nm/s,FeCo:0.2nm/sである。作成さ
れた膜は保磁力Hc=7〜8KOe、カー回転角θK=
0.35degであつた。さらにTbFeCo層の上に真空
を破ることなくSiの保護膜を200nmの厚みに成膜
した。
Example 1 An acrylic resin substrate was set in a vacuum evaporation device,
Sio 2 , an oxide, and Tb, a rare earth metal, are used as evaporation sources, and each evaporation source is irradiated with an electron beam while rotating the substrate under a vacuum of 3 × 10 -5 Pa to evaporate Sio 2 and Tb.
Tb was co-deposited onto the substrate. And Tb/Sio 2
A protective film with a thickness of 200 nm was formed by changing the deposition rate ratio (film thickness ratio) between 0 and 0.4. 60 of these
℃, after 80 hours of heat treatment in air, rare earth -
A TbFeCo film was created as a transition metal-based medium. The preparation conditions were a vacuum level of 1.3×10 -5 Pa and a deposition rate of Tb:
0.23 nm/s, FeCo: 0.2 nm/s. The produced film has a coercive force Hc = 7 to 8 KOe and a Kerr rotation angle θ K =
It was 0.35deg. Furthermore, a Si protective film with a thickness of 200 nm was formed on the TbFeCo layer without breaking the vacuum.
このデイスクを60℃、大気中に放置し保磁力の
変化を追跡した。その結果を第1図に示す。第1
図には、比較のために保護膜を形成しないで基板
上にTbFeCo膜を直接形成したデイスクについて
の結果も示した。第1図を参照すると、Sio2−
Tbの保護膜のないもの(破線)では保磁力Hcが
増加しており、これはPMMA基板からの活性な
成分による酸化と考えられる。つぎにTbを含ま
ない保護膜(図中γ=0で示す)では保護膜のな
い場合よりもHcが大きく変化しており、これは
SiO2による記録膜の酸化と考えられる。Tbをよ
り多く混入するに従つて(γが大きくなるに従つ
て)Hcの変化は小さくなつていることが認めら
れる。また、第1図中、一点鎖線は成膜後の熱処
理がない場合、実線は成膜後に熱処理をした場合
である。これらの間の変化から、熱処理によつて
Hcの変化がより小さくなつていることが認めら
れる。 This disk was left in the atmosphere at 60°C and changes in coercive force were tracked. The results are shown in FIG. 1st
For comparison, the figure also shows the results for a disk in which a TbFeCo film was directly formed on the substrate without forming a protective film. Referring to Figure 1, Sio 2 −
In the case without the Tb protective film (dashed line), the coercive force Hc increases, and this is thought to be due to oxidation by active components from the PMMA substrate. Next, with the protective film that does not contain Tb (indicated by γ = 0 in the figure), Hc changes more than in the case without the protective film, which is
This is thought to be due to oxidation of the recording film due to SiO 2 . It is observed that the change in Hc becomes smaller as more Tb is mixed (as γ becomes larger). Furthermore, in FIG. 1, the dashed line indicates the case where no heat treatment was performed after film formation, and the solid line indicates the case where heat treatment was performed after film formation. From the changes between these, by heat treatment
It is observed that the change in Hc is becoming smaller.
つぎに、これらのデイスクを用い、60℃、90%
RHに放置した場合の記録再生特性の変化を第2
図に示す。第2図から、熱処理を施すことにより
C/Nの減少を小さくできることが認められる。 Next, using these disks, heat at 60℃ and 90%
Changes in recording and playback characteristics when left at RH are shown in the second section.
As shown in the figure. From FIG. 2, it is recognized that the decrease in C/N can be reduced by applying heat treatment.
なお、実施例1では熱処理を60℃という比較的
低温で行なつたが、以上のように保護膜の安定化
に効果が認められた。通常、成膜した酸化物を熱
処理して安定化するために必要な温度はこれより
ずつと高いところにあり、本発明では酸化物と希
土類金属を同時成膜したことにより、単なる酸化
物の熱処理とは異なる機構で膜が安定化されてい
ることがうかがわれる。 In Example 1, the heat treatment was performed at a relatively low temperature of 60° C., and as described above, it was found to be effective in stabilizing the protective film. Normally, the temperature required to heat-treat and stabilize the formed oxide film is much higher than this, but in the present invention, by simultaneously forming the oxide and rare earth metal, it is possible to simply heat-treat the oxide. This suggests that the membrane is stabilized by a different mechanism.
実施例 2
基板材料としてスチレン樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂を用いた場合にも実施例1
と同様の結果を得た。Example 2 Styrene resin, epoxy resin,
Example 1 also when using polycarbonate resin
obtained similar results.
実施例 3
基板材料として、ガラス円板上に紫外線硬化型
樹脂による案内溝を付した樹脂層を有する円板を
用い、実施例1と同様にしてSiO2−Tb保護膜を
作成した。但し、この実施例では熱処理を120℃、
8時間行なつた。Example 3 A SiO 2 -Tb protective film was prepared in the same manner as in Example 1 using a glass disk having a resin layer with guide grooves made of an ultraviolet curable resin as the substrate material. However, in this example, the heat treatment was performed at 120°C.
It lasted 8 hours.
得られたデイスクを大気中120℃に放置してHc
の変化を追跡した。結果を第3図に示す。 The obtained disk was left at 120℃ in the atmosphere to collect Hc.
We tracked changes in The results are shown in Figure 3.
つぎに、120℃、90%RHの環境下にデイスク
を放置した場合の記録・再生特性の変化を追跡し
た。結果を第4図に示す。 Next, we tracked changes in recording and playback characteristics when the disk was left in an environment of 120°C and 90% RH. The results are shown in Figure 4.
第3図および第4図から、熱処理を行うことに
よつてC/Nの減少を小さくすることができ、光
デイスクの長寿命化が可能になることが認められ
る。 From FIG. 3 and FIG. 4, it is recognized that by performing heat treatment, the decrease in C/N can be reduced and the life of the optical disk can be extended.
実施例 4
酸化物としてAl2O3、CaO、La2O3、MgO、
Sb2O3を用い、希土類としてTbを用いた場合に
も、実施例1〜3に示すと同様の結果を得た。Example 4 Oxides include Al 2 O 3 , CaO, La 2 O 3 , MgO,
Similar results as shown in Examples 1 to 3 were obtained when Sb 2 O 3 was used and Tb was used as the rare earth element.
実施例 5
酸化物としてSiO2、希土類としてLa、Ce、
Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、
Er、Tm、Yb、Luのいずれを用いても実施例1
〜3とほぼ同様の結果を得た。Example 5 SiO 2 as oxide, La, Ce, as rare earth
Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho,
Example 1 using any of Er, Tm, Yb, and Lu
- Almost the same results as in 3 were obtained.
本発明によれば、光記録材料の長期安定を可能
にする優れた光記録担体用基板が提供され、この
基板は透明であることができる。なお、上記の説
明は主として光磁気記録担体に関連して説明した
が、基板の安定化が記録材料の長期安定化に寄与
することは、追記型、相変態型、等の光記録担体
においても多少とも認められることである。
According to the invention, an excellent substrate for an optical record carrier is provided which allows long-term stability of the optical recording material, and this substrate can be transparent. Although the above explanation was mainly related to magneto-optical record carriers, the fact that stabilization of the substrate contributes to long-term stability of the recording material also applies to write-once type, phase change type, etc. optical record carriers. This is somewhat acceptable.
第1図は実施例1の光デイスクの保磁力の経時
変化を示すグラフ図、第2図は実施例1の光デイ
スクのC/N比の経時変化を示すグラフ図、第3
図は実施例3の光デイスクの保磁力の経時変化を
示すグラフ図、第4図は実施例3の光デイスク
C/N比の経時変化を示すグラフ図である。
FIG. 1 is a graph showing the change over time in the coercive force of the optical disk of Example 1, FIG. 2 is a graph showing the change over time in the C/N ratio of the optical disk of Example 1, and FIG.
4 is a graph showing the change over time in the coercive force of the optical disk of Example 3, and FIG. 4 is a graph showing the change over time in the C/N ratio of the optical disk in Example 3.
Claims (1)
保護膜を形成した後、それを熱処理して酸化物保
護膜を安定化することを特徴とする光記録担体用
基板の製造方法。1. A method for producing a substrate for an optical record carrier, which comprises forming a protective film by simultaneously depositing an oxide and a rare earth metal on a base material, and then heat-treating the film to stabilize the oxide protective film.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5688486A JPS62217441A (en) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | Production of substrate for optical recording carrier |
| DE8686402530T DE3685649T2 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-14 | APPARATUS WITH OPTICAL MEMORY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF. |
| EP86402530A EP0231672B1 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-14 | Optical memory device and process for fabricating same |
| KR1019860009659A KR900003688B1 (en) | 1986-01-29 | 1986-11-15 | Optical memory device and process for fabricating thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5688486A JPS62217441A (en) | 1986-03-17 | 1986-03-17 | Production of substrate for optical recording carrier |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62217441A JPS62217441A (en) | 1987-09-24 |
| JPH0447384B2 true JPH0447384B2 (en) | 1992-08-03 |
Family
ID=13039844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5688486A Granted JPS62217441A (en) | 1986-01-29 | 1986-03-17 | Production of substrate for optical recording carrier |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62217441A (en) |
-
1986
- 1986-03-17 JP JP5688486A patent/JPS62217441A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62217441A (en) | 1987-09-24 |
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