JPH0454496B2

JPH0454496B2 -

Info

Publication number: JPH0454496B2
Application number: JP61154644A
Authority: JP
Inventors: Akira Nomura; Yakushitsu Yamada
Original assignee: Agency of Industrial Science and Technology
Current assignee: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date: 1986-07-01
Filing date: 1986-07-01
Publication date: 1992-08-31
Also published as: JPS6312344A

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は改質多孔性無機物質及びこのものから
なるクロマトグラフイー用充てん剤に関するもの
である。

〔従来技術〕

多孔性無機物質は極めて大きい表面積及び吸着
活性を有するために各種の接触反応用触媒の他
に、最近は液体クロマトグラフイー、ガスクロマ
トグラフイーなどのカラム充てん剤として広く使
用されている。かかる多孔性無機物質にはシリカ
ゲル、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオライト、
ケイソウ土などが含まれるが、液体クロマトグラ
フイー用充てん剤としてはシリカゲル及びアルミ
ナ、殊にシリカゲルが広く利用されている。

多孔質無機物質は改質しなくても、大きな表面
積及び強い吸着活性のために吸着系充てん剤とし
て使用し得る。しかしながらシリカゲル、アルミ
ナ等の無機多孔質充てん剤は、その含水量により
吸着活性が極めて大きく変化するため、その取り
扱いに注意を要する。一方最近、シリカゲルの表
面をオクタデシルトリクロロシラン（ODS）や、
オクチルトリクロロシランで処理してC₁₈やC₈の
アルキル基で修飾された、いわゆる逆相用の充て
ん剤が広く用いられるようになつてきた。ODS
−シリカ等の逆相用充てん剤は水−メタノール
系、水−アセトニトリル系などの溶離液に対して
極めて安定な活性を有するために、取り扱いが簡
単であり、また種々の緩衝溶液も使用し得る。

またこれとは別に、シリカゲル表面上をアミノ
プロピル基、シアノプロピル基、ジオール基など
で修飾した充てん剤も市販されている。更に、シ
リカ表面上に光学活性な官能基を結合させたもの
や、クラウンエーテルなどを結合させた充填剤を
入れたカラムも市販されている。しかしながら、
これらのカラムを用いても、分離が困難な物質は
未だ多く存在し、より性質の優れた充てん剤の開
発が望まれている。更にこれら市販のカラムは分
離に有効な官能基として充てん剤表面上に実質的
に１種類の基を有するのみであり２種またはそれ
以上の官能基を規則的に導入すれば、特定の分離
対象物に対してはその識別能力が増大することが
予想される。このような観点から実質的に２種以
上の分離に有効な官能基を導入したカラムは現在
市販されていない。

〔目的〕

本発明者らは多孔性無機物質による選択的な分
離方法について鋭意研究を重ねた結果、多孔性無
機物質の表面上に２種以上の実質的に分離に関与
する官能基を規則的に導入すれば、特定の物質に
対する選択的な分離性能が向上することに着目
し、本発明をなすに至つた。

〔構成〕

本発明によれば、多孔性無機物質の細孔内にあ
らかじめ導入したアミノ基の一部を、一般式 −NHCO−Ａ−COOH （式中、Ａは二価の炭化水素基を示す）で表わされるアミド基により置換した構造を有
し、かつ該アミド基は隣接するアミノ基を介して
一定間隔で存在することを特徴とする改質多孔性
無機物質が提供される。

本発明の改質多孔性無機物質は、多孔性無機物
質の細孔内に存在するアミノ基に、エステル基を
有する酸ハロゲン化物を反応させる工程と、該反
応した化合物に含まれるエステル基を脱離させて
カルボキシル基を細孔内に形成させる工程によつ
て製造される。この場合、該アミノ基に反応させ
るエステル基を有する酸ハロゲン化物は、該多孔
性無機物質の細孔径との関係で、該アミノ基との
反応に際して立体障害を与える大きさを有し、該
アミノ基の一部のみと反応結合する。

多孔性無機物質にはシリカゲル、アルミナ、シ
リカ−アルミナ、ゼオライト、ケイソウ土等があ
るが、液体クロマトグラフイー用充てん剤として
はシリカゲル、アルミナ、殊にシリカゲル及びア
ルミナ、特にシリカゲルが適している。シリカゲ
ルの細孔特性はその調製条件に大きく依存する
が、殊にその表面積及び細孔径がクロマトグラフ
イーにおける分離特性に影響を与える。本発明で
は一例として細孔径40〜100Åのものを用いて改
質化している。細孔径が40Å以下のものを用いる
と、反応に際しての立体障害はさらに大きくな
る。シリカゲルやアルミナ表面にはOH基が存在
し、このOH基を介して種々の改質化が行なわれ
ている。本発明の製品を製造する場合において
は、このOH基にアミノプロピルトリエトキシシ
ランを反応させてアミノプロピル基を導入したも
のが出発物質として好ましい。導入量は元素分析
（Ｃ、Ｈ、Ｎ）により求め、以下、多孔性無機物
質に導入される化合物の量は特記せぬ元素分析に
より求めたものである。このアミノプロピル基で
修飾されたシリカゲル及びこのものを充てんした
カラムは液体クロマトグラフイー用として市販さ
れており、公知のものである。本発明の製品は分
子内にエステル基を有し、且つ多孔性無機物質と
の化学結合に際して、立体障害を与え、多孔性無
機物質の細孔中に第１の官能基として存在するア
ミノ基の全部とではなく、実質的にその一部のみ
と結合する化合物として酸ハロゲン化物を結合さ
せ、続いてエステル基を適当な条件下で脱離させ
て、カルボキシル基を第２の官能基として多孔性
無機物質の表面上にある間隔を置いて配置させる
ことによつて得られるものであり、かかる物質は
新規なものである。また必要に応じて多孔性無機
物質の細孔中に未反応で残存する第１のアミノ基
に脱離可能な基を含んでいてもよい他の化合物を
更に結合させ、別の第３の官能基を導入すること
もでき、そして必要ならば順次この工程を繰り返
すことにより異なる官能基を更に導入することも
できる。

本発明の製品を製造するための好適な具体例に
おいて、多孔性無機物質にはシリカゲル及びアル
ミナが含まれ、特にシリカゲルが好ましい。第１
の反応性官能基としては多孔性無機物質の表面上
に存在するOH基を介して結合させたアミノアル
キル基、殊にアミノプロピル基のアミノ基が好ま
しい。シリカゲルにアミノ基を導入する方法は公
知であり、例えばトルエン中でシリカゲルとアミ
ノプロピルトリエトキシシランを還流下で反応さ
せることにより簡単に行なわれる。

本発明の製品を製造する好適な具体例におい
て、脱離可能な基を有し、化学結合に際して立体
障害を与える程度に大きな化合物は、多孔性無機
物質中の第１の反応性官能基としてのアミノ基と
結合させ得るエステル基を有する酸クロライドで
あり、このものはこの基を介して多孔性無機物質
中に存在するアミノ基に化学結合させることがで
きる。この場合、アミノ基と酸クロライドとの間
のアシル化反応により塩酸が脱離して該エステル
化合物がアミド結合を介して導入される。この反
応は水を含まぬ不活性有機溶媒中で０〜200℃、
好ましくは溶媒の還流温度で行なわれる。この不
活性有機溶媒には、例えば脂肪族炭化水素、例え
ばペンタン、ヘキサン、ヘプタンなど、環式脂肪
族炭化水素、例えば、シクロペンタン、シクロヘ
キサンなど、塩素化された炭化水素例えばジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロ
ロエタン、クロルベンゼンなど、芳香族炭化水
素、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどが
含まれ、ベンゼン、トルエンが好ましく、殊にト
ルエンが好ましい。また、この場合のアシル化反
応には酸結合剤を用いてもよい。

本発明の製品を製造するための好適な具体例に
おいて、エステル基を有し、且つ多孔性無機物質
のアミノ基と結合する基を有し、該結合に際し立
体障害を与える酸クロライド物は例えば二塩基酸
の酸無水物とアルコールとをエステル化反応させ
てエステル基を含むカルボン酸を生成させ、その
カルボキシル基の水酸基を塩素化することにより
得られる。この場合のエステル化反応は好ましく
は水を含まぬ不活性有機溶媒中にて０〜200℃、
好ましくは溶媒の還流温度で行なわれる。この不
活性有機溶媒には、例えば脂肪族炭化水素、例え
ばペンタン、ヘキサン、ヘプタンなど、還式脂肪
族炭化水素、例えばシクロペンタン、シクロヘキ
サンなど、塩素化された炭化水素、例えばジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロ
ロエタン、クロルベンゼンなど、芳香族炭化水
素、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどが
含まれ、ベンゼン、トルエンが好ましく、殊にト
ルエンが好ましい。

エステル基を含むカルボン酸の塩素化は、例え
ば塩化チオニルを用いて塩素化することにより実
施され、これにより酸塩化物が得られる。塩化チ
オニルによる塩素化は好ましくは水を含まぬ不活
性有機溶媒中で０〜200℃、好ましくは溶媒の還
流温度で行なわれる。この不活性有機溶媒には、
例えば脂肪酸炭化水素、例えばペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタンなど、環式脂肪族炭化水素、例えば
シクロペンタン、シクロヘキサンなど、塩素化さ
れた炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、トリクロロエタン、クロルベ
ンゼンなど、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、
トルエン、キシレンなどが含まれ、ベンゼン、ト
ルエンが好ましく、殊にトルエンが好ましい。二
塩基酸の酸無水物の例には無水コハク酸、無水マ
レイン酸、無水フタル酸などが含まれる。

本発明に用いる多孔性無機物質の細孔中に存在
するアミノ基に結合し得るエステル基を有する酸
ハロゲン化物は該アミノ基と結合する際に立体障
害を与える程度に大きな分子構造を有するもので
あり、このため、該アミノ基の一部のみと実質的
にある間隔を置いて結合し、該アミノ基の未結合
のものが多孔性無機物質中に実質的にある間隔を
置いて残存する。即ち、酸ハロゲン化物とアミノ
基との間の反応で形成されたアミド基の周囲には
未反応のアミノ基が隣接するため、アミド基はそ
の隣接するアミノ基を介して一定間隔で多孔性無
機物質内に導入される。このような分子構造の大
きな酸ハロゲン化物は、二塩基性酸無水物とアル
コールを出発物質としてエステル基を有する酸ハ
ロゲン化物を製造する場合に、前記アルコールと
して炭素数８以上の分子構造の大きなアルコー
ル、好ましくは炭素数10〜36のアルコールを用い
ることにより得ることができる。酸無水物及びア
ルコールはいずれの量比でも加え得るが、好まし
くは化学量論量で加える。塩化チオニルは過剰量
で用いることが好ましい。生成物は溶媒を蒸発等
で除去することにより簡単に得られ、更に精製す
る必要はない。出発物質として酸無水物及び脂肪
族アルコールを用い、塩素化を塩化チオニルを用
いて行つた場合の反応工程の一例を次に示す。

式中、Ａは二価の炭化水素基、例えば、アルキ
レン基、アルケニレン基、またはアリーレン基を
表わす。Ｒは炭素数８以上の炭化水素基、例え
ば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シクロアルキル基、またはアリール基を表わす。

また、前記酸ハロゲン化物と多孔性無機物質中
のアミノ基との反応は次式で示すことができる。

前記式中、Ｘは多孔性無機物質を示し、Ａ及び
Ｒは前記と同じ意味を示す。

前記反応式からわかるように、酸ハロゲン化物
は、その分子が大きく、反応に対し立体障害を与
えるもので、多孔性無機物質にするアミノ基の一
部のみと反応し、アミド結合に隣接する位置には
アミノ基が存在し、アミノ基同志は隣接しない。
このことにより、アミド基は一定間隔で規則的に
多孔性無機物質内に導入される。

酸ハロゲン化物は、多孔性無機物質中のアミノ
基１モル当り0.01〜10モル、好ましくは0.1〜５
モル、殊に好ましくは0.5〜３モルの量で使用し
得る。

該酸ハロゲン化物を前記のようにして第１の反
応性官能基としてのアミノ基に結合させた後、該
反応した酸ハロゲン化物中に存在する脱離可能な
基としてのエステル基を適当な方法で脱離させ、
第２の官能基としてのカルボキシル基を形成させ
る。このようにして、多孔性無機物質の細孔内に
アミノ基とカルボキシル基を一定間隔を置いて導
入することができる。本発明の好適な具体例では
このエステル基の脱離は、適当な溶媒中にて酸ま
たはアルカリで加水分解することによつて行うこ
とができる。適当な溶媒には水、極性有機溶媒、
例えばメタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール及びブタノール、アセトン、ア
セトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドな
ど、並びにこれらの混合物がある。好ましくは水
とこれら極性有機溶媒、殊にアルコールとの混合
物を用いる。酸またはアルカリは通常の無機もし
くは有機酸または無機もしくは有機塩基を使用し
得る。本発明においては酸で加水分解することが
好ましく、塩酸が殊に好ましい。従つて本発明の
殊に好適な具体例においいて、水−エタノール混
合溶媒中にて0.1〜6N、好ましくは0.2〜4N殊に
好ましくは0.5〜3Nの塩酸溶液を用いて還流下で
10〜60分間加水分解する。この加水分解により、
結合した化合物のエステル基を形成するアルコー
ル基が脱離し、多孔性無機物質表面上の未端にカ
ルボキシル基が生じ、かくてアミノ基に加えて異
なつた反応性官能基で一定カルボキシル基をある
間隔を置いて導入することできる。

次に必要に応じて多孔性無機物質の細孔中に残
存する反応性官能基に上記のものと異なる化合物
を結合させて第３の官能基を導入することができ
る。この場合、化合物が脱離可能な基を含んでい
る場合はこのものを脱離させて第３の官能基を導
入することができる。適当ならば順次この工程を
繰り返すことにより多孔性無機物質に異なる官能
基を更に導入することができる。

〔効果〕

本発明の改質化された多孔性無機物質は、その
細孔内に少なくともアミノ基とカルボキシル基含
有アミド基の両者を含むものである。この場合、
そのカルボキシル基含有アミド基には未反応のア
ミノ基が隣接した状態で存在し、このことによつ
てそのアミド基は一定の規則的間隔をもつて多孔
性無機物質内に導入される。

本発明の改質多孔性無機物質は、前記のような
構造を有することから、そのアミノ基とカルボキ
シル基の両者の作用を独立して発揮する吸着剤や
充填剤として有利に用いることができる。例え
ば、本発明の改質多孔性無機物質を、液体クロマ
トグラフイーの充填材として用いる場合、分析対
象物質に対してランダムではなく、規則的に相互
作用させることができる。例えば、分析対象物質
が分子内にアミノ基とカルボキシル基を有するア
ミノ酸である場合、本発明の改質多孔性無機物質
内のアミノ基及びカルボキシル基がそれぞれアミ
ノ酸のアミノ基及びカルボキシル基に対して独立
して強く作用するために、そのアミノ酸を高い吸
着率で吸着分離させることができる。

本発明の改質多孔性無機物質は、これを適当な
公知の方法によりカラムに充てんし、クロマトグ
ラフイー用カラム、特に高速液体クロマトグラフ
イー用カラムとして利用することができる。

〔実施例〕

次に本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。

参考例１シリカゲル（メルク社製カラムクロマトグラフ
イー用SI−40、粒径：0.063〜0.200mm、細孔径40
Å、以後SI−40と略記する）10.0ｇを還流冷却器
を備えた容量200ml入りの平底フラスコに入れ、
トルエン100mlを加え、そしてアミノプロピルト
リエトキシシラン3.0ｇを加え、この混合物をマ
グネチツクスターラーで撹拌しながらトルエン溶
媒の還流下で１時間反応させた。その後シリカゲ
ルをろ過により溶媒から分離し、ベンゼン50mlで
３回、及びジクロロメタン50mlで３回洗浄し、真
空乾燥器中にて100℃で一夜乾燥してアミノプロ
ピルシリカ（以下APシリカと略記する）を得た。
このものを元素分析して導入されたアミノプロピ
ル基を求めた。

元素分析値：
Ｃ：6.58％；Ｈ：2.47％；Ｎ：1.65％。

窒素含有量からシリカゲル１ｇ当たり1.18ミリ
モルのアミノプロピル基が結合していることが分
かつた。

異なるシリカゲル（メルク社製カラムクロマト
グラフイー用SI−60、0.063〜0.200mm、細孔径60
Å以後SI−60と略記する）を用いる以外は上記と
同様の方法でシリカゲルにアミノプロピル基を結
合させた。

元素分析値：
Ｃ：5.50％；Ｈ：1.81％；Ｎ：1.53％。

窒素含有量からシリカゲル１ｇ当たり1.09ミリ
モルのアミノプロピル基が結合していることが分
かつた。

異なるシリカゲル（メルク社製カラムクロマト
グラフイー用SI−100、粒径：0.063〜0.200mm、
細孔径100Å、以後SI−100とする略記する）を用
いる以外は上記と同様の方法でシリカゲルにアミ
ノプロピル基を結合させた。

元素分析値：
Ｃ：4.07％；Ｈ：1.27％；Ｎ：1.12％。

窒素含有量からシリカゲル１ｇ当たり0.80ミル
モルのアミノプロピル基が結合していることが分
つた。

参考例２エステル基含有アシル化剤の調製無水コハク酸5.0ｇ（0.05モル）及びｎ−デカ
ノール7.91ｇ（0.05モル）を還流冷却器を備えた
ナス型フラスコに入れ、これにトルエン200mlを
加えて還流下で３時間反応させた。この一部をと
り、アセトニトリル：水＝１：１を溶離液として
ODS−シリカゲルカラムによる高速液体クロマ
トグラフイーにより無水コハク酸を分析した結
果、未反応の無水コハク酸はほとんど検出され
ず、反応は定量的に行なわれていることが分かつ
た。またNMRスペクトルにより、TMSを基準
として11.3ppm付近にカルボキシル基のピークが
認められた。反応生成物をフラスコ中で冷却した
後、４倍当量程度（約14.5ml）の塩化チオニルを
フラスコに加え、還流下で２時間加熱した。ロー
タリー・エバポレータにより溶媒を除去し、ベン
ゼン100mlで２回再溶解させて、それぞれベンゼ
ンをロータリー・エバポレータで除去した後、真
空乾燥中にて80℃で一夜乾燥した。生成物は
NMRスペクトルにより、11.3ppm付近のピーク
が消失しており、カルボキシル基が塩素化されて
いることが判明した。従つてこの化合物はｎ−デ
シル酸（クロロカルボニル）−プロピオネート
（C₁₀T₂₁OCOC₂H₄COCl）なる化合物であり、以
下E₁を略記する。

ｎ−デカノールの代わりに、ｎ−テトラデカノ
ール10.72ｇ（0.05モル）を用いる以外は上記の
方法を繰り返して行い、ｎ−テトラデシル酸（ク
ロロカルボニル）−プロピオネート
（C₁₄H₂₉OCOC₂H₄COCl）を得た。以下この化合
物をE₂と略記する。

ｎ−デカノールの代わりにオクタデカノール
13.52ｇ（0.05モル）を用いる以外は上記の方法
を繰り返して行い、オクタデシル酸（クロロカル
ボニル）−プロピオネート
（C₁₈H₃₇OCOC₂H₄COCl）を得た。以下この化合
物をE₃と略記する。

実施例１〔反応工程〕参考例２からのエステル基含有酸クロライド
E₁を0.25ミルモル／mlで含むトルエン溶液を調製
した。この溶液25mlをトルエン25mlで希釈し、こ
の溶液に実施例１からのAPシリカSi−40を5.0ｇ
加え、マグネチツクスターラーで撹拌しながら還
流下で１時間APシリカのアシル化反応を行つた。
反応終了後、室温に冷却し、シルカゲルをろ過に
より分離し、ベンゼン50mlで３回、及びジクロロ
メタン50mlで３回洗浄し、真空乾燥器中に100℃
で一夜乾燥した。元素分析により、このものはア
ミノ基１モル当たり0.47モルのE₁が結合してい
た。

E₁の代わりにE₂を用いる以外は上記の方法を
繰り返して行つた。得られたシリカゲルを元素分
析した結果、アミノ基１モル当たり0.42モルのE₂
が結合していた。

E₁の代わりにE₃を用いる以外は上記の方法を
繰り返して行つた。得られたシリカゲルを元素分
析した結果、アミノ基１モル当たり0.34モルのE₃
が結合していた。

次にAPシリカSI−40の代わりにAPシリカSI−
60を用いて上記と同様にE₁、E₂及びE₃でアシル
化反応を行つた。元素分析した結果、アミノ基１
モル当たりそれぞれ0.57、0.49及び0.49モルのE₁、
E₂及びE₃が結合していた。

次にAPシリカSI−40の代わりにAPシリカSI−
100を用いて上記と同様にE₁、E₂及びE₃でアシル
化反応を行つた。元素分析した結果、アミノ基１
モル当たりそれぞれ0.68、0.60及び0.60モルのE₁、
E₂及びE₃が結合していた。

この結果から細孔径の小さいシリカゲル程立体
障害を受け、そして炭素数の大きいアルコールを
エステル基を介して含む酸クロライド程立体障害
を与えることが判明した。

実施例２〔脱離工程〕実施例１においてE₂で処理されたAPシリカSI
−40 3.0ｇを水：エタノール＝１：１の2N−塩
酸溶液30mlに加え、マグネチツクスターラーで撹
拌しながら還流下で加水分解を行つた。加水分解
後、室温に冷却し、シリカゲルをろ過により分離
し、水：エタノール＝１：１の溶液50mlで３回、
及びメタノール50mlで３回洗浄し、真空乾燥器中
にて100℃で一夜乾燥した。加水分解前後の元素
分析を比較した結果、結合したE₂1分子当たり、
炭素原子が14.2個脱離しており、また窒素原子の
値はほとんど変わならないことから、加水分解に
より他の官能基には影響を与えず、C₁₄アルコー
ルのみがすべて選択的に脱離し、シリカゲル表面
上の未端にカルボキシル基を生成させることがで
きた。このカルボキシル基の存在はIRスペクト
ルにおける1700cm^-1近辺の吸収ピークでも確認で
きた。

E₂で処理されたAPシリカSI−40の代わりに同
じく処理されたAPシリカSI−60を3.0ｇ用いて上
記と同様の方法を繰り返して行つた。元素分析の
結果、結合したE₂1分子当たり炭素原子が13.7個
脱離しており、また窒素原子の値はほとんど変わ
らないことから、加水分解により他の官能基には
影響を与えず、C₁₄アルコールのみがすべて選択
的に脱離し、シリカゲル表面上の未端にカルボキ
シル基を生成させることができた。またIRスペ
クトルからも同様にカルボキシル基の存在を確認
した。

E₂で処理されたAPシリカSI−40の代わりに同
じく処理されたAPシリカSI−100を3.0ｇ用いて
上記と同様の方法を繰り返して行つた。元素分析
の結果、結合したE₂1分子当たり炭素原子が14.4
個脱離しており、また窒素原子の値はほとんど変
わらないことから、加水分解により他の官能基に
は影響を与えず、C₁₄アルコールのみがすべて選
択的に脱離し、シリカゲル表面上の未端にカルボ
キシル基を生成させることできた。またIRスペ
クトルからも同様にカルボキシル基の存在を確認
した。

実施例３参考例１のカラムクロマトグラフイー用シリカ
ゲルの代わりに２種の高速液体クロマトグラフイ
ー（HPLC）用シリカゲル（メルク社製
LiChrosorb SI−60、粒径10μｍ）を用いて参考
例１〜２及び実施例１〜２と同様にしてアミノ基
及びカルボキシル基を導入した。この２種の
HPLC用シリカゲルは対応するカラムクロマトグ
ラフイー用のものと粒径が異なるだけで、特性は
同じものであり、本発明の改質化も同様に行うこ
とができた。

この改質化したシリカゲルを常法により4i.d.×
250mmのステンレス製カラムにスラリー充てんし、
HPLC用カラムとして用いた。第１図に一例とし
てSI−60のシリカゲルを改質したカラムを用いて
除タンパクした血清を分析した際のクロマトグラ
ムを示す。溶離液としてはアセトニトリル：水＝
80：20のものをリン酸塩緩衝液でPH6.0に調整し
たものを用いた。クロマトグラム中、１はクレア
チニンであり、そして２はクレアチンである。

実施例４実施例２からの生成シリカゲルSI−40の3.0ｇ
にトルエン50mlを加え、この混合物にｐ−ニトロ
塩化ベンゾイルをシリカゲル１ｇに対して、2.5
ミリモルの量で加え、マグネチツクスターラーで
撹拌しながら還流下で１時間反応させた。反応終
了後、室温に冷却し、シリカゲルをろ過により分
離し、ベンゼンで３回、及びジクロロメタンで３
回洗浄し、真空乾燥器中にて100℃で一夜乾燥し
た。この反応によりシリカゲル１ｇ当たり0.26ミ
リモルのｐ−ニトロベンゾイル基を更に導入する
ことができた。

生成したシリカゲル2.0ｇを10％−塩化第一ス
ズ溶液20ml及び濃塩酸５mlに加え、マグネチツク
スターラーで撹拌しながら室温で２時間反応させ
た。これによりニトロ基の80％をアミノ基に還元
することができた。

実施例２からの生成シリカゲルとしてSI−40の
代わりにSI−60を用いる以外は上記の方法を繰り
返して行ない、シリカゲル１ｇ当たり0.23ミリモ
ルのｐ−ニトロベンゾイル基を導入することがで
きた。またニトロ基の80％程度をアミノ基に還元
することができた。

実施例２からの生成シリカゲルとしてSI−40の
代わりにSI−100を用いる以外は上記の方法を繰
り返して行ない、シリカゲル１ｇ当たり0.21ミリ
モルのｐ−ニトロベンゾイル基を導入することが
できた。またニトロ基の80％程度をアミノ基に還
元することができた。

シリカゲルの代わりにカラムクロマトグラフイ
ー用アルミナ（メルク社製、細孔径：90Å、中
性、粒径：0.063〜0.200mm）を用いる以外は参考
例１〜２及び実施例１〜２の方法を繰り返して行
い、アルミナを改質処理した。元素分析の結果、
アミノプロピル基はアルミナ１ｇ当たり0.43ミリ
モル導入され、例えばE₂はアミノ基１モル当た
り0.47モルの量で結合していた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明により改質したシリカゲルカラ
ムを用いて高速液体クロマトグラフイーにより血
清を分析した際のクロマトグラムを示す。

Claims

【特許請求の範囲】１多孔性無機物質の細孔内にあらかじめ導入し
たアミノ基の一部を、一般式 −NHCO−Ａ−COOH （式中、Ａは二価の炭化水素基を示す）で表わされるアミド基により置換した構造を有
し、かつ該アミド基は隣接するアミノ基を介して
一定間隔で存在することを特徴とする改質多孔性
無機物質。２多孔性無機物質の細孔内にあらかじめ導入し
たアミノ基の一部を、一般式 −NHCO−Ａ−COOH （式中、Ａは二価の炭化水素基を示す）で表わされるカルボキシル基含有アミド基で置換
した構造を有し、かつ一定間隔で存在することを
特徴とする改質多孔性無機物質からなるクロマト
グラフイー用充てん剤。