JPH0454677B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0454677B2 JPH0454677B2 JP58113565A JP11356583A JPH0454677B2 JP H0454677 B2 JPH0454677 B2 JP H0454677B2 JP 58113565 A JP58113565 A JP 58113565A JP 11356583 A JP11356583 A JP 11356583A JP H0454677 B2 JPH0454677 B2 JP H0454677B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- salts
- acid
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
本発明は、新規なセフアロスポリン類、具体的
には、
一般式
「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保
護基を、R2は、式
The present invention provides novel cephalosporins, specifically, the general formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is a formula
【式】(式中、R6は、
水素原子またはアルキル基を、R7は、アルキル
またはハロゲン原子で置換されていてもよいフエ
ニル基を示す。)で表わされる基またはアルキル
基で置換されていてもよい1,2,6−チアジア
ジン−1,1−ジオキシド−2−イル、テトラヒ
ドロ−1,2−チアジン−1,1−ジオキシド−
2−イルもしくはイソチアゾリジン−1,1−ジ
オキシド−2−イル基を、R3は、水素原子を、
R4は、水素原子を、R5は、保護されていてもよ
いアミノ基を、−A−は、式−CH2−または式
[Formula] (In the formula, R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 7 represents a phenyl group which may be substituted with an alkyl or halogen atom.) optional 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl, tetrahydro-1,2-thiazine-1,1-dioxide-
2-yl or isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl group, R 3 is a hydrogen atom,
R 4 is a hydrogen atom, R 5 is an optionally protected amino group, -A- is the formula -CH 2 - or the formula
【式】(式中、R8は、保護されていても
よいカルボキシル基で置換されていてもよいアル
キル基を示し、は、シンまたはアンチ異性体もし
くはそれらの混合物でもよいことを示す。)で表
わされる基を示す。」
で表わされるセフアロスポリンおよびその塩類に
関する。
而して、本発明の目的とするところは、広範囲
な抗菌スペクトルを有し、グラム陽性菌、グラム
陰性菌に対し優れた抗菌活性を示し、かつバクテ
リアが産生するβ−ラクタマーゼに対しても安定
な性質を有し、人ならびに動物の疾病に対し経口
および非経口で優れた治療効果を発揮する新規な
セフアロスポリンおよびその塩類を提供すること
にある。
本発明のセフアロスポリン類は、セフエム環の
3位エキソメチレン基に、式[Formula] (wherein R 8 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) Indicates the group represented. ” Concerning cephalosporin and its salts. Therefore, the object of the present invention is to have a broad antibacterial spectrum, exhibit excellent antibacterial activity against Gram-positive bacteria and Gram-negative bacteria, and be stable against β-lactamases produced by bacteria. The object of the present invention is to provide a novel cephalosporin and its salts, which have excellent therapeutic properties for human and animal diseases both orally and parenterally. The cephalosporins of the present invention have the formula
【式】(式
中、R6およびR7は前記した意味を有する。)で表
わされるスルホンアミド基またはアルキル基で置
換されていてもよい1,2,6−チアジアジン−
1,1−ジオキシド−2−イル、テトラヒドロ−
1,2−チアジン−1,1−ジオキシド−2−イ
ルもしくはイソチアゾリジン−1,1−ジオキシ
ド−2−イル基が結合しているところにその特徴
がある。
以下、さらに本発明を詳細に説明する。
本明細書において、特にことわらない限り、ア
ルキルとは、C1〜14アルキル、あとえば、メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデ
シルまたはラウリルなどを;アルコキシとは、上
で定義したアルキル基を有する−O−アルキル
を;低級アルキルとは、C1〜5アルキル、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチルまたはペンチルなどを;低級アルコ
キシとは、上で定義した低級アルキル基を有する
−O−低級アルキルを;アシルとは、C1〜12アシ
ル、たとえば、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、ベンゾイル、ナフトイル、ペンタンカルボニ
ル、シクロヘキサンカルボニル、フロイルまたは
テノイルなどを;アシルオキシとは、上で定義し
たアシル基を有する−O−アシルを;アルキルチ
オとは、上で定義したアルキル基を有する−s−
アルキルを;アルケニルとは、C2〜10アルケニル、
たとえば、ビニル、アリル、iso−プロペニル、
2−ペンテニルまたはブテニルなどを;アルキニ
ルとは、C2〜10アルキニル、たとえば、エチニル
または2−プロピニルなどを;シクロアルキルと
は、C3〜7シクロアルキル、たとえば、シクロプロ
ピルシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルまたはシクロヘプチルなどを;シクロアルケ
ニルとは、C5〜7シクロアルケニル、たとえば、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプ
テニルなどを;アリールとは、たとえば、フエニ
ル、ナフチルまたはインダニルなどを;アリール
オキシとは、上で定義したアリール基を有する−
O−アリールを;アルアルキルとは、たとえば、
ベンジル、フエネチル、4−メチルベンジルまた
はナフチルメチルなどを;アルアルキルオキシと
は、上で定義したアルアルキル基を有する−o−
アルアルキル基を;複素環式基とは、酸素、窒素
および硫黄から選択された少なくとも1個の複素
原子を含む複素環式基、たとえば、フリル、チエ
ニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、チ
アゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリ
ル、チアトリアゾリル、オキサトリアゾリル、ト
リアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、4−(5
−メチル−2−ピロリニル)、4−(2−ピロリニ
ル)、N−メチルピペリジニル)、ピリダジニル、
キノリル、フエナジニリル、1,3−ベンゾジオ
キソラニル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベ
ンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリルまたはクマ
リニルなどを;複素環アルキルとは、上で定義し
た複素環式基およびアルキル基から成る基を;ハ
ロゲン原子とは、たとえば、フツ素、塩素、臭素
またはヨウ素原子などをそれぞれ意味する。
本明細書中の各一般式におけるR1は、水素原
子またはカルボキシル保護基であり、カルボキシ
ル保護基としては、従来ペニシリンおよびセフア
ロスポリン系化合物の分野で通常使用されている
ものが挙げられる。これらのカルボキシル保護基
としては接触還元、化学的還元またはその他の緩
和な条件下で処理すれば脱離するエステル形成
基、または生体内において容易に脱離するエステ
ル形成基、または水もしくはアルコールで処理す
れば容易に脱離する有機シリル基、有機リン基も
しくは有機スズ基など、またはその他の種々の公
知エステル形成基が挙げられる。
この種の保護基のうち好適な保護基としては、
具体的に次のものが挙げられる。
(イ) アルキル基。
(ロ) 置換基の少なくとも1つがハロゲン、ニト
ロ、アシル、アルコキシ、オキソ、シアノ、シ
クロアルキル、アリール、アルキルチオ、アル
キルスルフイニル、アルキルスルホニル、アル
コキシカルボニル、5−アルキル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル、1−イン
ダニル、2−インダニル、フリル、ピリジル、
4−イミダゾリル、フタルイミド、スクシンイ
ミド、アゼチジノ、アジリジノ、ピロリジノ、
ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノ、N
−低級アルキルピペラジノ、ピロリル、ピラゾ
リル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾ
リル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オ
キサジアゾリル、チアトリアゾリル、オキサト
リアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、キ
ノリル、フエナジニル、ベンゾフリル、ベンゾ
チエニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾ
リル、クマリニル、2,5−ジメチルピロリジ
ノ、1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニ
ル、4−メチルピペリジノ、2,6−ジメチル
ピペリジノ、4−(5−メチル−2−ピロリニ
ル)、4−(2−ピロリニル)、N−メチルピペ
リジニル)、1,3−ベンゾジオキソラニル、
アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アシルオ
キシ、アシルチオ、アシルアミノ、ジアルキル
アミノカルボニル、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アル
アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、シク
ロアルケニルオキシ、複素環オキシ、アルコキ
シカルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボ
ニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキ
シ、アルアルキルオキシカルボニルオキシ、複
素環オキシカルボニルオキシ、アルケニルオキ
シカルボニル、アリールオキシカルボニル、ア
ルアルキルオキシカルボニル、シクロアルキル
オキシカルボニル、シクロアルケニルオキシカ
ルボニル、複素環オキシカルボニル、アルキル
アニリノまたはハロゲン、低級アルキルもしく
は低級アルコキシで置換されたアルキルアニリ
ノである置換低級アルキル基。
(ハ) シクロアルキル基:低級アルキル置換シクロ
アルキルまたは(2,2−ジ低級アルキル−
1,3−ジオキソール−4−イル)メチル基。
(ニ) アルケニル基。
(ホ) アルキニル基。
(ヘ) フエニル基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換フエニル基、または式
〔式中、−Y1−は、−CH=CH−O−、−CH=
CH−S−、−CH2CH2S−、−CH=N−CH=
N−、−CH=CH−CH=CH−、−CO−CH=
CH−CO−もしくは−CO−CO−CH=CH−を
示す。〕
で示される基もしくはその置換誘導体(置換基
は前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれ
る)、または式
〔式中、−Y2は−(CH2)3−、−(CH2)4−のよう
な低級アルキレン基を示す。〕
で示される基もしくはその置換誘導体(置換基
は前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれ
る)のようなアリール基。
(ト) ベンジルまたは置換基が少なくとも1つの前
記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置換
基である置換ベンジルのようなアルアルキル
基。
(チ) 複素環式基または置換基が少なくとも1つの
前記(ロ)で例示した置換基より任意に選ばれた置
換基である置換された複素環式基。
(リ) 脂環インダニル、脂環フタリジルまたは置換
基がメチルもしくはハロゲンであるそれらの置
換誘導体、脂環テトラヒドロナフチルまたは置
換基がメチルもしくはハロゲンであるその置換
誘導体、トリチル、コレステリル、ビシクロ
〔4,4,0〕デシルなど。
(ヌ) 脂環フタリジリデン低級アルキル基または置
換基がハロゲンもしくは低級アルキル基である
それらの置換誘導体。
上で例示したカルボキシル保護基は代表例であ
り、これら以外にも、つぎの文献に記載されてい
る保護基を任意に選択することができる。
米国特許3499909号、3573296号および3641018
号:西独特許公開公報2301014号、2253287号およ
び2337105号。
これらの中で好ましいカルボキシル保護基とし
ては、たとえば、5−低級アルキル−2−オキソ
−1,3−ジオキソール−4−イル−低級アルキ
ル基、アシルオキシアルキル基、アシルチオアル
キル基、フタリジル基、インダニル基、フエニル
基、置換基を有するかもしくは有しないフタリジ
リデン低級アルキル基または次の式で表わされる
基のように生体内で容易に脱離する基が挙げられ
る。1,2,6-thiadiazine- which may be substituted with a sulfonamide group or an alkyl group represented by the formula: (wherein R 6 and R 7 have the above meanings)
1,1-dioxido-2-yl, tetrahydro-
It is characterized by the fact that a 1,2-thiazin-1,1-dioxido-2-yl or isothiazolidine-1,1-dioxido-2-yl group is bonded thereto. Hereinafter, the present invention will be explained in further detail. In this specification, unless otherwise specified, alkyl refers to C 1-14 alkyl, such as methyl,
Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl,
such as pentyl, hexyl, heptyl, octyl, dodecyl or lauryl; alkoxy refers to -O-alkyl having an alkyl group as defined above; lower alkyl refers to C 1-5 alkyl, such as methyl, ethyl, n -propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl,
tert-butyl or pentyl; lower alkoxy refers to -O-lower alkyl having a lower alkyl group as defined above; acyl refers to C1-12 acyl, such as acetyl, propionyl, butyryl, benzoyl, naphthoyl , pentanecarbonyl, cyclohexanecarbonyl, furoyl or thenoyl; acyloxy refers to -O-acyl having an acyl group as defined above; alkylthio refers to -s- having an alkyl group as defined above;
Alkyl; alkenyl is C 2-10 alkenyl,
For example, vinyl, allyl, iso-propenyl,
2-pentenyl or butenyl, etc.; alkynyl refers to C 2-10 alkynyl, such as ethynyl or 2-propynyl; cycloalkyl refers to C 3-7 cycloalkyl, such as cyclopropylcyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl; cycloalkenyl refers to C 5-7 cycloalkenyl, such as cyclopentenyl, cyclohexenyl, cycloheptenyl, etc.; aryl refers to, for example, phenyl, naphthyl or indanyl; aryloxy refers to Having an aryl group defined in −
O-aryl; aralkyl is, for example,
benzyl, phenethyl, 4-methylbenzyl or naphthylmethyl; aralkyloxy means -o- having an aralkyl group as defined above;
Aralkyl group; heterocyclic group refers to a heterocyclic group containing at least one heteroatom selected from oxygen, nitrogen and sulfur, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyrazolyl, imidazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, Oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, pyridyl, 4-(5
-methyl-2-pyrrolinyl), 4-(2-pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl), pyridazinyl,
quinolyl, phenazinyl, 1,3-benzodioxolanyl, benzofuryl, benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl or coumarinyl; heterocyclic alkyl refers to a group consisting of a heterocyclic group and an alkyl group as defined above; ; The halogen atom means, for example, fluorine, chlorine, bromine or iodine atom, respectively. R 1 in each general formula herein is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, and examples of the carboxyl protecting group include those conventionally used in the field of penicillin and cephalosporin compounds. These carboxyl-protecting groups include ester-forming groups that are eliminated by treatment under catalytic reduction, chemical reduction, or other mild conditions, or ester-forming groups that are easily eliminated in vivo, or treated with water or alcohol. Examples thereof include an organic silyl group, an organic phosphorus group, an organic tin group, etc., which are easily eliminated in this case, and various other known ester-forming groups. Among these types of protecting groups, suitable protecting groups include:
Specifically, the following can be mentioned. (a) Alkyl group. (b) At least one of the substituents is halogen, nitro, acyl, alkoxy, oxo, cyano, cycloalkyl, aryl, alkylthio, alkylsulfinyl, alkylsulfonyl, alkoxycarbonyl, 5-alkyl-2-oxo-1,3 -dioxol-4-yl, 1-indanyl, 2-indanyl, furyl, pyridyl,
4-imidazolyl, phthalimide, succinimide, azetidino, aziridino, pyrrolidino,
piperidino, morpholino, thiomorpholino, N
- lower alkylpiperazino, pyrrolyl, pyrazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiadiazolyl, oxadiazolyl, thiatriazolyl, oxatriazolyl, triazolyl, tetrazolyl, quinolyl, phenazinyl, benzofuryl, benzothienyl, benzoxazolyl, benzothiazolyl, Coumarinyl, 2,5-dimethylpyrrolidino, 1,4,5,6-tetrahydropyrimidinyl, 4-methylpiperidino, 2,6-dimethylpiperidino, 4-(5-methyl-2-pyrrolidino), 4-(2 -pyrrolinyl), N-methylpiperidinyl), 1,3-benzodioxolanyl,
Alkylamino, dialkylamino, acyloxy, acylthio, acylamino, dialkylaminocarbonyl, alkoxycarbonylamino, alkenyloxy, aryloxy, aralkyloxy, cycloalkyloxy, cycloalkenyloxy, heterocyclicoxy, alkoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyloxy , aryloxycarbonyloxy, aralkyloxycarbonyloxy, heterocyclicoxycarbonyloxy, alkenyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, cycloalkyloxycarbonyl, cycloalkenyloxycarbonyl, heterocyclicoxycarbonyl, alkylanilino or A substituted lower alkyl group which is an alkylanilino substituted with halogen, lower alkyl or lower alkoxy. (c) Cycloalkyl group: lower alkyl-substituted cycloalkyl or (2,2-di-lower alkyl-
1,3-dioxol-4-yl)methyl group. (d) Alkenyl group. (e) Alkynyl group. (f) A substituted phenyl group or a substituted phenyl group in which the phenyl group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above, or a substituent of the formula [In the formula, -Y 1 - is -CH=CH-O-, -CH=
CH−S−, −CH 2 CH 2 S−, −CH=N−CH=
N-, -CH=CH-CH=CH-, -CO-CH=
Indicates CH-CO- or -CO-CO-CH=CH-. ] A group represented by or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above), or a group represented by the formula [In the formula, -Y 2 represents a lower alkylene group such as -(CH 2 ) 3 - or -(CH 2 ) 4 -. ] An aryl group such as the group represented by the following or a substituted derivative thereof (the substituents are arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above). (g) An aralkyl group such as benzyl or a substituted benzyl in which the substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (h) A substituted heterocyclic group in which the heterocyclic group or substituent is at least one substituent arbitrarily selected from the substituents exemplified in (b) above. (li) Alicyclic indanyl, alicyclic phthalidyl or substituted derivatives thereof whose substituent is methyl or halogen, alicyclic tetrahydronaphthyl or substituted derivatives thereof whose substituent is methyl or halogen, trityl, cholesteryl, bicyclo[4,4 ,0] Decyl etc. (v) Alicyclic phthalidylidene lower alkyl group or substituted derivatives thereof whose substituent is a halogen or lower alkyl group. The carboxyl protecting groups exemplified above are representative examples, and in addition to these, protecting groups described in the following documents can be arbitrarily selected. U.S. Patents 3499909, 3573296 and 3641018
No.: West German Patent Publications No. 2301014, No. 2253287 and No. 2337105. Among these, preferred carboxyl protecting groups include, for example, 5-lower alkyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-lower alkyl group, acyloxyalkyl group, acylthioalkyl group, phthalidyl group, and indanyl group. , a phenyl group, a phthalidylidene lower alkyl group with or without a substituent, or a group that is easily eliminated in vivo, such as a group represented by the following formula.
【式】【formula】
さらに、具体的には、たとえば、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル−
メチル、5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオ
キソール−4−イル−メチル、5−n−プロピル
−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4イル−
メチル基などの5−低級アルキル−2−オキソ−
1,3−ジオキソール−4−イル−メチル基;ア
セトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、
イソブチリルオキシメチル、バレリルオキシメチ
ル、1−アセトキシエチル、1−アセトキシ−n
−プロピル、1−ピバロイルオキシエチル、1−
ピバロイルオキシ−n−プロピル基などのアシル
オキシアルキル基;アセチルチオメチル、ピバロ
イルチオメチル、ベンゾイルチオメチル、p−ク
ロロベンゾイルチオメチル、1−アセチルチオエ
チル、1−ピバロイルチオエチル、1−ベンゾイ
ルチオエチル、1−(p−クロロベンゾイルチオ)
エチル基などのアシルチオアルキル基;メトキシ
メチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、n−ブチルオキシメ
チル基などのアルコキシメチル基;メトキシカル
ボニルオキシメチル、エトキシカルボニルオキシ
メチル、n−プロポキシカルボニルオキシメチ
ル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、n
−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、tert−
ブチルオキシカルボニルオキシメチル、1−メト
キシカルボニルオキシ−エチル、1−エトキシカ
ルボニルオキシ−エチル、1−n−プロポキシカ
ルボニルオキシ−エチル、1−イソプロポキシカ
ルボニルオキシ−エチル、1−n−ブチルオキシ
カルボニルオキシ−エチル基などのアルコキシカ
ルボニルオキシ−アルキル基;メトキシカルボニ
ルメチル、エトキシカルボニルメチル基などのア
ルコキシカルボニルメチル基;フタリジル基;イ
ンダニル基;フエニル基;2−(フタリジリデン)
−エチル、2−(5−フルオロフタリジリデン)−
エチル、2−(6−クロロフタリジリデン)−エチ
ル、2−(6−メトキシフタリジリデン)−エチル
基などのフタリジリデンアルキル基などが挙げら
れる。
また、R5の保護されていてもよいアミノ基の
保護基としては、通常ペニシリンおよびセフアロ
スポリン系化合物の分野で通常使用されているも
のが挙げられ、たとえば、トリクロロエトキシカ
ルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベン
ジルオキシカルボニル、p−トルエンスルホニ
ル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、o−
ブロモベンジルオキシカルボニル、(モノ−、ジ
−、トリ−)クロロアセチル、トリフルオロアセ
チル、ホルミル、tert−アミルオキシカルボニ
ル、tert−ブトキシカルボニル、p−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、4−(フエニルアゾ)
ベンジルオキシカルボニル、4−(4−メトキシ
フエニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、ピリ
ジン−1−オキシド−2−イル−メトキシカルボ
ニル、2−フルフリルオキシカルボニル、ジフエ
ニルメトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
1−シクロプロピルエトキシカルボニル、フタロ
イル、スクシニル、1−アダマンチルオキシカル
ボニル、8−キノリルオキシカルボニルなどの脱
離しやすいアシル基;トリチル、o−ニトロフエ
ニルスルフエニル、2,4−ジニトロフエニルス
ルフエニル、2−ヒドロキシベンジリデン、2−
ヒドロキシ−5−クロロベンジリデン、2−ヒド
ロキシ−1−ナフチルメチレン、3−ヒドロキシ
−4−ピリジルメチレン、1−メトキシカルボニ
ル−2−プロピリデン、1−エトキシカルボニル
−2−プロピリデン、3−エトキシカルボニル−
2−ブチリデン、1−アセチル−2−プロピリデ
ン、1−ベンゾイル−2−プロピリデン、1−
〔N−(2−メトキシフエニル)カルバモイル〕−
2−プロピリデン、1−〔N−(4−メトキシフエ
ニル)カルバモイル〕−2−プロピリデン、2−
エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、2−エ
トキシカルボニルシクロペンチリデン、2−アセ
チルシクロヘキシリデン、3,3−ジメチル−5
−オキソシクロヘキシリデンなどの脱離しやすい
基およびジ−もしくはトリ−アルキルシリル基な
どのアミノ基の保護基が挙げられる。
また、−A−は、式−CH2−または式
Furthermore, specifically, for example, 5-methyl-
2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-
Methyl, 5-ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-methyl, 5-n-propyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl-
5-lower alkyl-2-oxo- such as methyl group
1,3-dioxol-4-yl-methyl group; acetoxymethyl, pivaloyloxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl,
Isobutyryloxymethyl, valeryloxymethyl, 1-acetoxyethyl, 1-acetoxy-n
-propyl, 1-pivaloyloxyethyl, 1-
Acyloxyalkyl groups such as pivaloyloxy-n-propyl group; acetylthiomethyl, pivaloylthiomethyl, benzoylthiomethyl, p-chlorobenzoylthiomethyl, 1-acetylthioethyl, 1-pivaloylthioethyl, 1-benzoylthioethyl , 1-(p-chlorobenzoylthio)
Acylthioalkyl groups such as ethyl group; alkoxymethyl groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propoxymethyl, isopropoxymethyl, and n-butyloxymethyl groups; methoxycarbonyloxymethyl, ethoxycarbonyloxymethyl, n-propoxycarbonyl Oxymethyl, isopropoxycarbonyloxymethyl, n
-butyloxycarbonyloxymethyl, tert-
Butyloxycarbonyloxymethyl, 1-methoxycarbonyloxy-ethyl, 1-ethoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-propoxycarbonyloxy-ethyl, 1-isopropoxycarbonyloxy-ethyl, 1-n-butyloxycarbonyloxy- Alkoxycarbonyloxy-alkyl groups such as ethyl group; alkoxycarbonylmethyl groups such as methoxycarbonylmethyl and ethoxycarbonylmethyl groups; phthalidyl group; indanyl group; phenyl group; 2-(phthalidylidene)
-Ethyl, 2-(5-fluorophthalidylidene)-
Examples include phthalidylidene alkyl groups such as ethyl, 2-(6-chlorophthalidylidene)-ethyl, and 2-(6-methoxyphthalidylidene)-ethyl groups. In addition, as the protecting group for the amino group which may be protected for R5 , those commonly used in the field of penicillin and cephalosporin compounds are mentioned, such as trichloroethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl, benzyl oxycarbonyl, p-toluenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-
Bromobenzyloxycarbonyl, (mono-, di-, tri-)chloroacetyl, trifluoroacetyl, formyl, tert-amyloxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl ,4-(phenylazo)
Benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl, pyridin-1-oxid-2-yl-methoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl , isopropoxycarbonyl,
Easily eliminated acyl groups such as 1-cyclopropylethoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl; trityl, o-nitrophenylsulfenyl, 2,4-dinitrophenylsulfenyl , 2-hydroxybenzylidene, 2-
Hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1-naphthylmethylene, 3-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-
2-butylidene, 1-acetyl-2-propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1-
[N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl]-
2-propylidene, 1-[N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 2-
Ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene, 3,3-dimethyl-5
Examples thereof include easily leaving groups such as -oxocyclohexylidene and protecting groups for amino groups such as di- or trialkylsilyl groups. -A- is the formula -CH 2 - or the formula
【式】(式中、R8は、保護されていても
よいカルボキシル基で置換されていてもよいアル
キル基を示し、〜は、シンまたはアンチ異性体も
しくはそれらの混合物でもよいことを示す。)で
表される基を意味する。
R8における保護されていてもよいカルボキシ
ル基の保護基としては、R1で説明したと同様の
カルボキシル保護基が挙げられる。
つぎに、[Formula] (In the formula, R 8 represents an alkyl group which may be substituted with an optionally protected carboxyl group, and ~ represents a syn or anti isomer or a mixture thereof.) means a group represented by Examples of the protecting group for the optionally protected carboxyl group in R 8 include the same carboxyl protecting groups as explained for R 1 . next,
【式】で表わされるオキシム体に
は、シンおよびアンチ異性体並びにそれらの混合
物が存在するが、それらのいずれも本発明に包含
される。
本発明の各一般式のThe oxime represented by the formula includes syn and anti isomers and mixtures thereof, all of which are included in the present invention. Each general formula of the present invention
【式】で表わさ
れる基においては、つぎの平衡式で示すように互
変異性体が存在するが、その互変異性体も本発明
に包含される。
〔上記平衡式中、R6およびR8は前記の意味を有
し、R5′は保護されていてもよいイミノ基を示
す。〕
そして、上の式におけるR5′のイミノ基の保護
基としては、通常ペニシリン、セフアロスポリン
の分野で用いられる基が挙げられ、具体的には、
R5について説明したアミノ基の保護基のうち1
価基と同様の基が挙げられる。
一般式〔〕の化合物の塩類としては、従来ペ
ニシリン及びセフアロスポリン系化合物の分野で
周知の塩基性基または酸性基における塩を挙げる
ことができる。そのような塩基性基における塩と
しては、たとえば、塩酸、硝酸または硫酸などの
鉱酸との塩;シユウ酸、コハク酸、ギ酸、トリク
ロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸などの有機カル
ボン酸との塩;メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン−2−スル
ホン酸、トルエン−4−スルホン酸、メシチレン
スルホン酸(2,4,6−トリメチルベンゼンス
ルホン酸)、ナフタレン−1−スルホン酸、ナフ
タレン−2−スルホン酸、フエニルメタンスルホ
ン酸、ベンゼン−1,3−ジスルホン酸、トルエ
ン−3,5−ジスルホン酸、ナフタレン−1,5
−ジスルホン酸、ナフタレン−2,6−ジスルホ
ン酸、ナフタレン−2,7−ジスルホン酸、ベン
ゼン−1,3,5−トリスルホン酸、ベンゼン−
1,2,4−トリスルホン酸、ナフタレン−1,
3,5−トリスルホン酸などのスルホン酸との塩
を、また酸性基における塩としては、たとえば、
ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属と
の塩;カルシウムまたはマグネシウムなどのアル
カリ土類金属との塩;アンモニウム塩;ブロカイ
ン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フエ
ネチルアミン、1−エフエナミン、N,N−ジベ
ンジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、ト
リメチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−
メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘ
キシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩を挙げ
ることができる。
また、本発明は、一般式〔〕のセフアロスポ
リン、その塩類のすべての光学異性体、およびラ
セミ体ならびにすべての結晶形および水和物を包
含するものである。
さらに具体的に述べれば、一般式〔〕の化合
物中、好ましい例としては、−A−が式
In the group represented by the formula, tautomers exist as shown in the following balanced formula, and these tautomers are also included in the present invention. [In the above balanced formula, R 6 and R 8 have the above-mentioned meanings, and R 5 ' represents an optionally protected imino group. ] As the protecting group for the imino group of R 5 ' in the above formula, groups usually used in the field of penicillin and cephalosporin can be mentioned, and specifically,
One of the amino protecting groups explained for R 5
Groups similar to the valence groups can be mentioned. Examples of the salts of the compound of general formula [] include salts with basic groups or acidic groups that are conventionally known in the field of penicillin and cephalosporin compounds. Salts on such basic groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; methane; Sulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene-2-sulfonic acid, toluene-4-sulfonic acid, mesitylenesulfonic acid (2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid), naphthalene-1-sulfonic acid, naphthalene- 2-sulfonic acid, phenylmethanesulfonic acid, benzene-1,3-disulfonic acid, toluene-3,5-disulfonic acid, naphthalene-1,5
-Disulfonic acid, naphthalene-2,6-disulfonic acid, naphthalene-2,7-disulfonic acid, benzene-1,3,5-trisulfonic acid, benzene-
1,2,4-trisulfonic acid, naphthalene-1,
Salts with sulfonic acids such as 3,5-trisulfonic acid, and salts with acidic groups include, for example,
Salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; ammonium salts; brocaine, dibenzylamine, N-benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine, N,N-di Benzylethylenediamine, triethylamine, trimethylamine, tributylamine, pyridine,
Dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-
Examples include salts with nitrogen-containing organic bases such as methylmorpholine, diethylamine, and dicyclohexylamine. The present invention also encompasses all optical isomers and racemates of cephalosporin of the general formula [ ] and its salts, as well as all crystal forms and hydrates. More specifically, in the compound of the general formula [], as a preferable example, -A- is the formula
【式】で表わされるオキシム体が、その中で
も、シン異性体が、さらには、R8がアルキル基、
特に、メチル基、エチル基もしくは式−
CH2COOR1(式中、R1は、前記した意味を有す
る。)で表わされる各々の基が挙げられる。
つぎに、R2の好ましいものの例としては、式
Among the oxime bodies represented by [Formula], there are syn isomers, and R 8 is an alkyl group,
In particular, a methyl group, an ethyl group or a formula -
Examples include each group represented by CH 2 COOR 1 (wherein R 1 has the meaning described above). Next, as a preferable example of R 2 , the formula
【式】で表わされる基の場合、R6は水素
原子または低級アルキル基が、R7は低級アルキ
ル基が挙げられ、さらに、低級アルキル基で置換
されていてもよい1,2,6−チアジアジン−
1,1−ジオキシド−2−イル基が挙げられる。
一般式〔〕の化合物の中から、いくつかの代
表的化合物について抗菌作用を示す。
抗菌作用(表−1)
日本化学療法学会標準法
〔(CHEMOTHERAPY)第23巻第1〜2頁
(1975年)〕に従い、Heart Infusion broth(栄研
化学社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を
含むHeart Infusion agar培地(栄研化学社製)
に接種し、37℃、20時間培養後、菌の発育の有無
を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもつ
てMIC(μg/ml)とした。ただし、接種菌量は
104個/プレート(106個/ml)とした。
試験化合物は以下のとおりである。
(A) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−(3,5−ジメチル−1,2,6−チ
アジアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)
メチル−Δ3−セフエム−4−カルボン酸のト
リフルオロ酢酸塩。
(B) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−(メタンスルホンアミド)メチル−
Δ3−セフエム−4−カルボン酸のトリフルオ
ロ酢酸塩
(C) 7−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−(3,5−ジメチル−1,
2,6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−
2−イル)メチル−Δ3−セフエム−4−カル
ボン酸のギ酸塩。In the case of the group represented by the formula, R 6 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 7 is a lower alkyl group, and 1,2,6-thiadiazine which may be further substituted with a lower alkyl group. −
A 1,1-dioxido-2-yl group is mentioned. Among the compounds of the general formula [], some representative compounds exhibit antibacterial activity. Antibacterial activity (Table 1) Cultured at 37°C for 20 hours in Heart Infusion broth (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.) according to the standard method of the Japanese Society of Chemotherapy [(CHEMOTHERAPY) Vol. 23, pages 1-2 (1975)]. Heart Infusion agar medium containing bacterial solution and drug (manufactured by Eiken Chemical Co., Ltd.)
After culturing at 37°C for 20 hours, the presence or absence of bacterial growth was observed, and the minimum concentration at which bacterial growth was inhibited was defined as the MIC (μg/ml). However, the amount of inoculated bacteria is
10 4 pieces/plate (10 6 pieces/ml). The test compounds are as follows. (A) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1 -dioxide-2-yl)
Trifluoroacetate of methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid. (B) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]-3-(methanesulfonamido)methyl-
Δ 3 -Cefem-4-carboxylic acid trifluoroacetate (C) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-(3, 5-dimethyl-1,
2,6-thiadiazine-1,1-dioxide-
Formate salt of 2-yl)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid.
【表】【table】
【表】
** セフアロポリネース生産菌
つぎに、本発明の化合物の製造法について説明
する。
本発明の化合物は、たとえば、下に示す方法に
よつて製造することができる。
〔上記式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、
R8、A、Wおよび〓は前記した意味を有し、R17
はアミノ基、式[Table] ** Cephaloporinase-producing bacteria Next, the method for producing the compound of the present invention will be explained. The compound of the present invention can be produced, for example, by the method shown below. [In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 ,
R 8 , A, W and 〓 have the meanings given above; R 17
is an amino group, the formula
【式】(式中、
R19、R20およびR21は同一または異なつて、水素
原子または反応に関与しない有機残基を示す。)
または式[Formula] (In the formula, R 19 , R 20 and R 21 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction.) or Formula
【式】(式中、R22およびR23
は同一または異なつて、水素原子または反応に関
与しない有機残基を示す。)
で表わされる基を、また、R18は置換基を有する
かもしくは有しないアシルオキシまたはカルバモ
イルオキシ基を、Xはハロゲン原子を、〓Zは〓
Sまたは〓S→Oを、および環中の点線は2〜3
または3〜4位間が二重結合であることを各々意
味する。〕
以下、詳細に説明すると、R17はアミノ基、式
[Formula] (wherein R 22 and R 23 are the same or different and represent a hydrogen atom or an organic residue that does not participate in the reaction), and R 18 has a substituent or acyloxy or carbamoyloxy group, X is a halogen atom, Z is
S or 〓S→O, and the dotted line in the ring is 2-3
Or each means that there is a double bond between the 3rd and 4th positions. ] Below, to explain in detail, R 17 is an amino group, the formula
【式】または式[expression] or expression
【式】で 表わされる基を示すが、式[Formula] Indicates the group represented by the formula
【式】
で表わされる基には、その異性体である式
The group represented by [Formula] has the isomer of the formula
【式】で表わされる基も本発明に
包含される。そしてR19、R20、R21、R22および
R23における反応に関与しない有機残基として
は、当該分野で知られている有機残基、たとえ
ば、置換基を有するかもしくは有しない脂肪族残
基、脂環式残基、芳香族残基、芳香脂肪族残基、
複素環残基、アシル基などが挙げられ、具体的に
は次のような基が例示できる。
(1) 脂肪族残基:たとえば、メチル、エチル、プ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、ペンチルな
どのアルキル基;ビニル、プロペニル、ブテニ
ルなどのアルケニル基。
(2) 脂環式残基:たとえば、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチルなどのシクロア
ルキル基;シクロペンテニル、シクロヘキセニ
ルなどのシクロアルケニル基。
(3) 芳香族残基:たとえば、フエニル、ナフチル
などのアリール基。
(4) 芳香脂肪族残基:たとえば、ベンジル、フエ
ネチルなどのアルアルキル基。
(5) 複素環残基:たとえば、ピロリジニル、ピペ
ラジニル、フリル、チエニル、ピロリル、ピラ
ゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジ
ル、イミダゾリル、キノリル、ベンゾチアゾリ
ル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリ
アゾリル、テトラゾリルなどの分子中にヘテロ
原子(酸素、窒素または硫黄原子)を任意に含
有する複素環式基。
(6) アシル基:有機カルボン酸から誘導されるア
シル基であり、このような有機カルボン酸とし
ては、たとえば、脂肪族カルボン酸;脂環式カ
ルボン酸;脂環式脂肪族カルボン酸;脂肪族カ
ルボン酸に酸素または硫黄原子を介してまたは
介さずに芳香族残基もしくは複素環式基が結合
した芳香置換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ
脂肪族カルボン酸、芳香族チオ脂肪族カルボン
酸、複素環置換脂肪族カルボン酸、複素環オキ
シ脂肪族カルボン酸、複素環チオ脂肪族カルボ
ン酸;カルボニル基に酸素、窒素または硫黄原
子を介して芳香族残基、脂肪族残基もしくは脂
環式残基が結合した有機カルボン酸類;芳香族
カルボン酸;複素環カルボン酸などの有機カル
ボン酸が挙げられる。
ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、ブタン酸、イソブタン酸、ペ
ンタン酸、メトキシ酢酸、メチルチオ酢酸、アク
リル酸、クロトン酸などが挙げられ、脂環式カル
ボン酸としては、シクロヘキサン酸などが挙げら
れ、また脂環式脂肪族カルボン酸としては、シク
ロペンタン酢酸、シクロヘキサン酢酸、シクロヘ
キサンプロピオン酸、シクロヘキサジエン酢酸な
どが挙げられる。
また、上述の有機カルボン酸における芳香族残
基としては、フエニル、ナフチルなどが挙げら
れ、さらに上述の複素環式基としては、フラン、
チオフエン、ピロール、ピラゾール、イミダゾー
ル、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾー
ル、オキサゾール、イソオキサゾール、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール、
オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキ
サゾール、ベンゾフランなどのヘテル原子を環中
に1個以上含む複素環化合物の残基が挙げられ
る。
そして、これらの有機カルボン酸を構成する各
基は、たとえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、保護されたヒドロキシル基、アルキル基、ア
ルコキシ基、アシル基、ニトロ基、アミノ基、保
護されたアミノ基、カルボキシル基、保護された
カルボキシル基などの置換基でさらに置換されて
いてもよい。
また、R18のアシルオキシおよびカルバモイル
オキシ基としては、たとえば、アセトキシ、プロ
ピオニルオキシまたはブチリルオキシなどのアル
カノイルオキシ基;アクリロイルオキシなどのア
ルケノイルオキシ基;ベンゾイルオキシまたはナ
フトイルオキシなどのアロイルオキシ基;および
カルバモイルオキシ基が挙げられ、これらはハロ
ゲン原子、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、
アシルアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基、スルフアモイル基、カルバモイル基、カルボ
アルコキシカルバモイル基、アロイルカルバモイ
ル基、カルボアルコキシスルフアモイル基、アリ
ール基、カルバモイルオキシ基などの一種以上の
置換基で置換されていてもよい。
上述したR18の置換基において、ヒドロキシル
基、アミノ基およびカルボキシル基などは通常用
いられている保護基で保護されていてもよい。
(イ) 三位変換反応
一般式〔〕の化合物またはその塩類に、酸
または酸の錯化合物の存在下、一般式〔a〕
のスルホンアミド類またはアルキル基で置換さ
れていてもよい1,2,6−チアジアジン−
1,1−ジオキシド、テトラヒドロ−1,2−
チアジン−1,1−ジオキシドまたはイソチア
ゾリジン−1,1−ジオキシドもしくはそれら
の塩類を反応させ、所望により、ついで保護基
の脱離またはカルボキシル基を保護または塩と
することにより、一般式〔〕の7−置換また
は非置換アミノ−3−置換メチルセフエムカル
ボン酸類またはその塩類を工業的に容易な操作
で、好収率かつ高純度に製造することができ
る。
さらに、所望により、7位アミノ基の置換基
を常法により除去し、7−非置換アミノ体とす
ることができる。この方法によれば、△3−セ
フエム化合物のみならず△2−セフエム化合物
も用いることができ、△2−セフエム化合物を
用いた場合、反応後得られた△2−セフエム化
合物を△3−セフエム化合物に変換することが
できる。
また〓Zが〓Sである化合物のみならず、〓
Zが〓S→Oである化合物も出発原料として用
いることができ、その場合、反応中または後処
理の段階で〓S→Oを〓Sとすることができ
る。
また、この反応における反応試薬として用い
られる一般式〔a〕のスルホンアミド類また
はアルキル基で置換されていてもよい1,2,
6−チアジアジン−1,1−ジオキシド、テト
ラヒドロ−1,2−チアジン−1,1−ジオキ
シドまたはイソチアゾリジン−1,1−ジオキ
シドにおいて、それらの置換基に塩基性基また
は酸性基を有する場合は、必要に応じ、それぞ
れの塩の形で反応に供してもよく、その場合の
塩基性基における塩または酸性基における塩と
しては、一般式〔〕の化合物の塩類について
説明したと同様の塩基性基または酸性基におけ
る塩が挙げられる。
また、一般式〔〕および〔〕の化合物の
塩類としては、塩基性基または酸性基における
塩が挙げられ、それらの塩類は一般式〔〕の
化合物の塩類について説明したと同様の塩基性
基または酸性基における塩が挙げられる。な
お、一般式〔〕の化合物の塩類は予め単離し
て用いてもよく、あるいは系内で調整してもよ
い。
この反応において使用される酸または酸の錯
化合物としては、たとえば、プロトン酸、ルイ
ス酸またはルイス酸の錯化合物が挙げられる。
プロトン酸としては、たとえば、硫酸類、スル
ホン酸類または超強酸類(超強酸とは100%硫
酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類およびス
ルホン酸類の一部も含まれる)が挙げられ、さ
らに具体的には、硫酸、クロロ硫酸、フルオロ
硫酸などの硫酸類;メタンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸などのアルキル(モノ
−またはジ−)スルホン酸、またはp−トルエ
ンスルホン酸などのアリール(モノ−、ジ−ま
たはトリ−)スルホン酸などのスルホン酸類;
過塩素酸、マジツク酸(FSO2H−SbF5)、
FSO2H−AsF5、CF3SO3H−SbF5、HF−
BF3、H2SO4−SO3などの超強酸が挙げられ
る。
また、ルイス酸としては、たとえば、三弗化
硼素などが挙げられる。また、ルイス酸の錯化
合物としては、たとえば、三弗化硼素と、ジエ
チルエーテル、ジ−n−プロピルエーテル、ジ
−n−ブチルエーテルなどとのジアルキルエー
テル錯塩;エチルアミン、n−プロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、トリエタノールアミン
などとのアミン錯塩;ギ酸エチル、酢酸エチル
などとのカルボン酸エステル錯塩;酢酸、プロ
ピオン酸などとの脂肪酸錯塩;アセトニトリ
ル、プロピオニトリルなどとのニトリル錯塩な
どが挙げられる。
また、この反応においては有機溶媒を用いた
場合が好ましく、用いられる有機溶媒として
は、反応に不活性な全ての有機溶媒、たとえ
ば、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パンなどのニトロアルカン類;ギ酸、酢酸、ト
リフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸
などの有機カルボン酸類;アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケ
トン類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、アニソー
ル、ジメチルセロソルブなどのエーテル類;ギ
酸エチル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、クロロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル類;アセトニトリル、ブチロニトリルな
どのニトリル類;塩化メチレン、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素類;スルホランなどのスルホラン類な
どが挙げられ、これらの溶媒を二種以上混合し
て用いてもよい。また、これらの有機溶媒とル
イス酸とで形成される錯化合物を溶媒として使
用することもできる。
酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式
〔〕の化合物またはその塩類に対し当モル以
上であればよく、個々の場合に応じ適宜増減さ
せることができる。特に、2〜10倍モル量の使
用が好ましい。酸の錯化合物を用いる場合に
は、それ自体を溶媒として用いることができ、
二種以上の錯化合物を混合して用いてもよい。
また、この反応の反応試薬として用いられる
一般式〔a〕のスルホンアミド類またはアル
キル基で置換されていてもよい1,2,6−チ
アジアジン−1,1−ジオキシド、テトラヒド
ロ−1,2−チアジン−1,1−ジオキシドま
たはイソチアゾリジン−1,1−ジオキシドも
しくはそれらの塩類の使用量は、一般式〔〕
の化合物またはその塩類に対し、当モル以上で
あればよいが、特に1.0〜5.0倍モル量の使用が
好ましい。
この反応は、通常0〜80℃で行われ、数分〜
数十時間で完了する。
この反応の系内に水分があると原料または生
成物のラクトン化およびβ−ラクタム環の開裂
など好ましくない副反応を惹起することがある
ので、反応系内を無水の状態に保つことが望ま
しい。この条件を満たすために、反応系内に適
当な脱水剤、たとえば、五酸化リン、ポリリン
酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リン
などのリン化合物;N,O−ビス(トリメチル
シリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド、トリメチルクロロシラン、ジメチル
ジクロロシランなどの有機シリル化剤;アセチ
ルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド
などの有機酸クロリド;無水酢酸、無水トリフ
ルオロ酢酸などの酸無水物;無水硫酸マグネシ
ウム、無水塩化カルシウム、モレキユラーシー
ブ、カルシウムカーバイドなどの無機乾燥剤な
どを添加してもよい。
R1がカルボキシル保護基を示す一般式〔〕
の化合物を原料として使用した場合、反応後の
処理によりR1が水素原子である対応する一般
式〔〕の化合物が得られることもあるが、所
望により保護基を常法で脱離させ、R1が水素
原子である一般式〔〕の化合物を得ることも
できる。
この反応における反応試薬として用いられる
一般式〔a〕のスルホンアミド類または一般
式〔b〕のアルキル基で置換されていてもよ
い1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキ
シド、テトラヒドロ−1,2−チアジン1,1
−ジオキシドまたはイソチアゾリジン−1,1
ジオキシドもしくはそれらの塩類において、そ
れらの置換基がヒドロキシル基、アミノ基、カ
ルボキシル基などで置換されている場合、この
反応を実施するにあたり、これらの基を各々対
応する通常使用されている保護基で保護し、反
応終了後、従来の脱離反応に付すことにより、
所望の化合物を得ることができる。
また、一般式〔〕の化合物は、所望によ
り、常法に従つてカルボキシル基を保護または
塩類とすることができ、目的の化合物を得るこ
ともできる。また、R17がアミノ基である一般
式〔〕の化合物は、常法により、後述のよう
なアミノ基における反応性誘導体とすることが
できる。
(ロ) アシル化反応
叙上の方法で得られた一般式〔〕の化合物
またはそのアミノ基における反応性誘導体もし
くはそれらの塩類に、一般式〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕または〔〕の化合物またはそ
のカルボキシル基における反応性誘導体もしく
はそれらの塩類を反応させれば、一般式〔〕、
〔〕、〔〕、〔XI〕たは〔〕の化合物もし
くはそれらの塩類が得られる。
また、一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕、〔XI〕、〔〕、または〔〕の
化合物の塩類としては、塩基性基または酸性基
における塩が挙げられ、それらの塩類は一般式
〔〕の化合物の塩類について説明したと同様
の塩基性基または酸性基における塩が挙げられ
る。
一般式、〔〕の化合物のアミノ基における
反応性誘導体としては、たとえば、イソシアネ
ート、一般式〔〕の化合物またはその塩類と
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリ
メチルシリルアセトアミド、トリメチルシリル
クロライドなどのシリル化合物、三塩化燐、
A group represented by the formula is also included in the present invention. and R 19 , R 20 , R 21 , R 22 and
Organic residues that do not participate in the reaction in R 23 include organic residues known in the art, such as aliphatic residues with or without substituents, alicyclic residues, aromatic residues, aromatic aliphatic residues,
Examples include heterocyclic residues and acyl groups, and specific examples include the following groups. (1) Aliphatic residues: for example, alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, pentyl; alkenyl groups such as vinyl, propenyl, butenyl. (2) Alicyclic residues: For example, cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl; cycloalkenyl groups such as cyclopentenyl and cyclohexenyl. (3) Aromatic residues: for example, aryl groups such as phenyl and naphthyl. (4) Aroaliphatic residues: for example, aralkyl groups such as benzyl and phenethyl. (5) Heterocyclic residues: For example, heteroatoms (oxygen , nitrogen or sulfur atoms). (6) Acyl group: An acyl group derived from an organic carboxylic acid. Examples of such organic carboxylic acids include aliphatic carboxylic acids; alicyclic carboxylic acids; alicyclic aliphatic carboxylic acids; Aromatic substituted aliphatic carboxylic acids, aromatic oxyaliphatic carboxylic acids, aromatic thioaliphatic carboxylic acids, heteroaromatics in which an aromatic residue or a heterocyclic group is bonded to a carboxylic acid with or without an oxygen or sulfur atom Ring-substituted aliphatic carboxylic acid, heterocyclic oxyaliphatic carboxylic acid, heterocyclic thioaliphatic carboxylic acid; aromatic residue, aliphatic residue or alicyclic residue via an oxygen, nitrogen or sulfur atom to the carbonyl group Organic carboxylic acids such as organic carboxylic acids bound to; aromatic carboxylic acids; and heterocyclic carboxylic acids can be mentioned. Here, examples of aliphatic carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, isobutanoic acid, pentanoic acid, methoxyacetic acid, methylthioacetic acid, acrylic acid, crotonic acid, etc., and examples of alicyclic carboxylic acids include cyclohexane. Examples of the alicyclic aliphatic carboxylic acids include cyclopentane acetic acid, cyclohexane acetic acid, cyclohexane propionic acid, and cyclohexadiene acetic acid. Further, aromatic residues in the above-mentioned organic carboxylic acids include phenyl, naphthyl, etc., and further examples of the above-mentioned heterocyclic groups include furan,
Thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, thiazole, isothiazole, oxazole, isoxazole, thiadiazole, oxadiazole, thiatriazole,
Examples include residues of heterocyclic compounds containing one or more hetero atoms in the ring, such as oxatriazole, tetrazole, benzoxazole, and benzofuran. The groups constituting these organic carboxylic acids include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, a nitro group, an amino group, a protected amino group, and a carboxyl group. It may be further substituted with a substituent such as a group or a protected carboxyl group. Examples of the acyloxy and carbamoyloxy groups of R 18 include alkanoyloxy groups such as acetoxy, propionyloxy or butyryloxy; alkenoyloxy groups such as acryloyloxy; aroyloxy groups such as benzoyloxy or naphthoyloxy; and carbamoyloxy These include halogen atoms, nitro groups, amino groups, alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, acyloxy groups,
Even if it is substituted with one or more substituents such as acylamino group, hydroxyl group, carboxyl group, sulfamoyl group, carbamoyl group, carbalkoxycarbamoyl group, aroylcarbamoyl group, carbalkoxysulfamoyl group, aryl group, carbamoyloxy group, etc. good. Among the substituents for R 18 described above, the hydroxyl group, amino group, carboxyl group, etc. may be protected with a commonly used protecting group. (a) Three-position conversion reaction A compound of general formula [] or its salt is reacted with general formula [a] in the presence of an acid or an acid complex compound.
1,2,6-thiadiazine- which may be substituted with a sulfonamide or an alkyl group
1,1-dioxide, tetrahydro-1,2-
By reacting thiazine-1,1-dioxide or isothiazolidine-1,1-dioxide or salts thereof, and optionally removing the protecting group or protecting or converting the carboxyl group into a salt, the compound of the general formula [] 7-Substituted or unsubstituted amino-3-substituted methyl cefemcarboxylic acids or salts thereof can be produced with good yield and high purity through industrially easy operations. Furthermore, if desired, the substituent on the 7-position amino group can be removed by a conventional method to obtain a 7-unsubstituted amino compound. According to this method, not only the △ 3 -cephem compound but also the △ 2 -cepheme compound can be used, and when the △ 2 -cepheme compound is used, the △ 2 -cepheme compound obtained after the reaction is converted into △ 3 -cepheme compound. can be converted into compounds. Moreover, not only compounds where 〓Z is 〓S, but also 〓
Compounds in which Z is 〓S→O can also be used as starting materials, in which case 〓S→O can be converted to 〓S during the reaction or in the work-up step. In addition, 1,2,
When 6-thiadiazine-1,1-dioxide, tetrahydro-1,2-thiazine-1,1-dioxide or isothiazolidine-1,1-dioxide has a basic group or acidic group as a substituent, If necessary, each salt may be subjected to the reaction in the form of a salt, and in that case, the salt with a basic group or the salt with an acidic group may be the same basic group as explained for the salts of the compound of general formula []. Or a salt at an acidic group. In addition, salts of the compounds of general formulas [] and [] include salts with basic groups or acidic groups, and these salts include salts with basic groups or acidic groups similar to those explained for the salts of compounds of general formulas []. Mention may be made of salts at acidic groups. In addition, the salts of the compound of general formula [] may be isolated beforehand and used, or may be prepared in-system. The acid or acid complex used in this reaction includes, for example, a protonic acid, a Lewis acid, or a Lewis acid complex.
Protonic acids include, for example, sulfuric acids, sulfonic acids, or super strong acids (super strong acids mean acids stronger than 100% sulfuric acid, and also include some of the aforementioned sulfuric acids and sulfonic acids); Specifically, sulfuric acids such as sulfuric acid, chlorosulfuric acid, and fluorosulfuric acid; alkyl (mono- or di-)sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid; or aryl (mono-)sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid; , di- or tri-)sulfonic acids;
perchloric acid, magicic acid (FSO 2 H−SbF 5 ),
FSO 2 H−AsF 5 , CF 3 SO 3 H−SbF 5 , HF−
Examples include super strong acids such as BF 3 and H 2 SO 4 −SO 3 . Furthermore, examples of the Lewis acid include boron trifluoride. In addition, examples of complex compounds of Lewis acids include dialkyl ether complex salts of boron trifluoride and diethyl ether, di-n-propyl ether, di-n-butyl ether, etc.; ethylamine, n-propylamine, n-butylamine; , triethanolamine, etc.; carboxylic acid ester complex salts with ethyl formate, ethyl acetate, etc.; fatty acid complex salts with acetic acid, propionic acid, etc.; nitrile complex salts with acetonitrile, propionitrile, etc., and the like. In addition, it is preferable to use an organic solvent in this reaction, and examples of organic solvents that can be used include all organic solvents that are inert to the reaction, such as nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane; formic acid, acetic acid, Organic carboxylic acids such as trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, and propionic acid; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, anisole, and dimethyl cellosolve; Esters such as ethyl formate, diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl chloroacetate, and butyl acetate; Nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, and 1,2-dichloroethane; Sulfolane and the like, and two or more of these solvents may be used as a mixture. Moreover, a complex compound formed by these organic solvents and a Lewis acid can also be used as a solvent. The amount of the acid or acid complex compound to be used may be at least the equivalent molar amount of the compound of general formula [] or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. In particular, it is preferable to use 2 to 10 times the molar amount. When using an acid complex compound, it can itself be used as a solvent,
A mixture of two or more types of complex compounds may be used. In addition, sulfonamides of general formula [a] or 1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide, tetrahydro-1,2-thiazine, which may be substituted with an alkyl group, are used as reaction reagents in this reaction. The amount of -1,1-dioxide or isothiazolidine-1,1-dioxide or salts thereof to be used is determined by the general formula []
The amount may be at least one equivalent molar amount, but it is particularly preferable to use an amount of 1.0 to 5.0 times the molar amount of the compound or its salt. This reaction is usually carried out at 0 to 80°C for several minutes to
It can be completed in a few dozen hours. If moisture is present in the reaction system, undesirable side reactions such as lactonization of the raw material or product and cleavage of the β-lactam ring may occur, so it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. In order to satisfy this condition, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as a phosphorus compound such as phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, or phosphorus oxychloride; N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide. , trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane; organic acid chlorides such as acetyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride; acid anhydrides such as acetic anhydride, trifluoroacetic anhydride; anhydrous magnesium sulfate, anhydrous chloride Inorganic desiccants such as calcium, molecular sieves, calcium carbide, etc. may be added. General formula in which R 1 represents a carboxyl protecting group []
When a compound of the formula [] is used as a raw material, the corresponding compound of the general formula [] in which R 1 is a hydrogen atom may be obtained by post-reaction treatment, but if desired, the protecting group can be removed by a conventional method, and R It is also possible to obtain compounds of the general formula [ ] where 1 is a hydrogen atom. 1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide, tetrahydro-1, which may be substituted with a sulfonamide of general formula [a] or an alkyl group of general formula [b], used as a reaction reagent in this reaction. ,2-thiazine 1,1
-dioxide or isothiazolidine-1,1
When the substituents in the dioxide or their salts are substituted with a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, etc., in carrying out this reaction, each of these groups is replaced with a corresponding commonly used protecting group. After the reaction is completed, by subjecting it to a conventional elimination reaction,
A desired compound can be obtained. Further, in the compound of general formula [], the carboxyl group can be protected or salted according to a conventional method, if desired, and the desired compound can also be obtained. Further, the compound of the general formula [] in which R 17 is an amino group can be converted into a reactive derivative at the amino group as described below by a conventional method. (b) Acylation reaction The compound of the general formula [] obtained by the above method, or its reactive derivative at the amino group, or a salt thereof, is added to the compound of the general formula [], [],
If a compound of [], [] or [] or a reactive derivative thereof at the carboxyl group or a salt thereof is reacted, the general formula [],
Compounds of [ ], [ ], [XI] or [ ] or salts thereof are obtained. Also, the general formula [], [], [], [],
Salts of the compound of [], [], [XI], [], or [] include salts in basic or acidic groups, and these salts are the same as those described for the salts of the compound of general formula []. Examples include salts with basic or acidic groups similar to . Examples of reactive derivatives at the amino group of the compound of general formula [] include isocyanates, compounds of general formula [] or their salts, silyl compounds such as bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, trimethylsilyl chloride, and phosphorus trichloride. ,
【式】【formula】
【式】(CH3CH2O)2PCl、
(CH3CH2)2PClなどのリン化合物または
(C4H9)3SnClなどのスズ化合物との反応により
生成するシリル誘導体、リン誘導体またはスズ
誘導体など、アシル化反応において繁用される
ものはすべて含有される。
一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕または〔
〕の化合物のカルボキシル基における反応性
誘導体としては、具体的には、酸ハロゲン化
物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、
活性エステルならびに一般式〔〕、〔〕、
〔〕、〔〕または〔〕の化合物とビルス
マイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられ
る。混合酸無水物としては、たとえば、炭酸モ
ノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステ
ルなどの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸
無水物、ピバリン酸やトリクロロ酢酸などのハ
ロゲンで置換されていてもよい低級アルカン酸
との混合酸無水物などが用いられる。活性酸ア
ミドとしては、たとえば、N−アシルサツカリ
ン、N−アシルイミダゾール、N−アシルベン
ゾイルアミド、N,N′−ジシクロヘキシル−
N−アシル尿素、N−アシルスルホンアミドな
どが用いられる。つぎに、活性エステルとして
は、たとえば、シアノメチルエステル、置換フ
エニルエステル、置換ベンジルエステル、置換
チエニルエステルなどが用いられる。
また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体
としては、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミドなどの酸アミド
に、ホスゲン、塩化チオニル、三塩化リン、三
臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリ
クロロメチル=クロロホルメート、塩化オキサ
リルなどのハロゲン化剤を作用させて得られる
ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙
げられる。
一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕または〔
〕の各々の化合物を遊離酸または塩の状態で
使用する場合は、適当な縮合剤を用いる。この
ような縮合剤とては、たとえば、N,N′−ジ
シクロヘキシルカルボジイミドのようなN,
N′−ジ置換カルボジイミド;N,N′−チオニ
ルジイミダゾールのようなアゾライド化合物;
N−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,
2−ジヒドロキシキノリン、オキシ塩化燐、ア
ルコキシアセチレンなどの脱水剤;2−クロロ
ピリジニウムメチルヨージド、2−フルオロピ
リジニウムメチルヨージドなどの2−ハロゲノ
ピリジニウム塩などが用いられる。
このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中、
塩基の存在下または不存在下で実施される。溶
媒として、たとえば、クロロホルム、塩化メチ
レンなどのハロゲン化炭化水素類;テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル類;N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N′−ジメチ
ルアセトアミド、アセトン、水またはこれらの
混合物などが使用できる。また、塩基として
は、水酸化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸
アルカリまたは酢酸アルカリなどの無機塩基;
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジ
ン、N−メチルモリホリン、ルチジン、コリジ
ンなどの第3級アミンあるいはジシクロヘキシ
ルアミン、ジエチルアミンなどの第2級アミン
などの有機塩基が挙げられる。
なお、本発明の一般式〔a〕または〔
b〕の化合物もしくはそれらの塩類に誘導する
ことができる一般式〔〕の化合物またはその
塩類は、次のようにして製造することもでき
る。
一般式〔〕の化合物またはその塩類を使つ
て一般式〔〕の化合物またはその塩類を得る
には、ジケテンと塩素、もしくは臭素などのハ
ロゲンとの反応〔ジヤーナル・オブ・ザ・ケミ
カル・ソサイエテイ、97、1987(1910)〕により
得られる4−ハロゲノ−3−オキソ−ブチリル
ハライドと、一般式〔〕の化合物またはその
塩類とを常法に従つて反応させればよい。この
反応条件及び操作は、当該分野で知られた条件
および操作が適用できる。また、一般式〔〕
の化合物の塩類は、常法に従つて容易に得るこ
とができ、その塩類としては、前述の一般式
〔〕の化合物の塩類のところで説明したと同
様の塩基性基または酸性基における塩が挙げら
れる。得られる一般式〔〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によつて単離精製してもよい
が、単離することなく、次の反応に用いること
もできる。
なお、一般式〔〕、〔〕、〔〕、〔〕また
は〔〕の化合物またはそのカルボキシル基
における反応性誘導体もしくはそれらの塩類の
使用量は一般式〔〕の化合物またはそのアミ
ノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩
類1モルに対し、それぞれ通常約1〜数モル程
度が好ましい。
これらの反応は、通常−50〜40℃で行われ、
10分〜48時間で完了する。
また、このアシル化反応において、保護基の
導入および脱離ならびに塩類への変換は常法に
従つて行い、対応する目的化合物に変換するこ
とができる。
以上のようにして得られた一般式〔〕、
〔〕、〔〕、〔XI〕または〔〕の化合物も
しくはそれらの塩類は、公知の手段により単離
精製できるが、さらに一般式〔〕、〔〕、
〔XI〕または〔〕の化合物もしくはそれら
の塩類は単離することなく次の反応の原料とし
て用いることもできる。
(ハ) ニトロソ化反応
つぎに一般式〔〕の化合物またはその塩類
から一般式〔〕の化合物またはその塩類を得
るには、一般式〔〕の化合物またはその塩類
に、ニトロソ化剤を反応させる。この反応は、
通常溶媒中で行われ、溶媒としては、水、酢
酸、ベンゼン、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、その他の反応に不活性な溶媒
が使用できる。ニトロソ化剤の好ましい例とし
ては、硝酸およびその誘導体、たとえば、塩化
ニトロシル、臭化ニトロシルなどのハロゲン化
ニトロシル;亜硝酸ナトルム、亜硝酸カリウム
などの亜硝酸アルカリ金属塩;亜硝酸ブチルエ
ステル、亜硝酸ペンチルエステルなどの亜硝酸
アルキルエスルなどが挙げられる。ニトロソ化
剤として亜硝酸の塩を使用するときには、塩
酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無機もしくは有機
の酸の存在下に反応を行うのが好ましい。亜硝
酸アルキルエステルをニトロソ化剤として使用
する場合には、アルカリ金属アルコキシドのよ
うな強塩基の存在下に行うのが好ましい。
反応は一般に−15〜30℃で行われ、10分から
10時間で完了する。また、一般式〔〕の化合
物の塩類は常法に従つて容易に得ることがで
き、その塩類としては、一般式〔〕の化合物
の塩類のところで説明したと同様の塩基性基ま
たは酸性基における塩が挙げられる。さらに、
保護基の導入および脱離は常法に従つて行い、
対応する目的化合物に変換することができる。
このようにして得られる一般式〔〕の化合
物またはその塩類は、常法によつて単離精製し
てもよいが、単離することなく次の反応に用い
ることもできる。
(ニ) エーテル化反応およびホスホリル化反応
つぎに、一般式〔〕の化合物またはその塩
類から一般式〔XI〕の化合物またはその塩類を
得るには、一般式〔〕の化合物またはその塩
類をエーテル化反応またはホスホリル化反応に
付す。
このエーテル化反応およびホスホリル化反応
は特開昭53−137988号、特開昭55−105689号、
特開昭55−149295号などに記載してあるエーテ
ル化反応およびホスホリル化反応などの通常の
方法で行うことができる。
たとえば、アルキル化反応は常法に従つて行
うことができる。反応は一般に−20〜60℃で行
われ、5分から10時間で完了する。
溶媒としては本反応を阻害しない限りいかな
るものでもよく、たとえば、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、メタノール、エタノール、ク
ロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸
ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、水など、またはこ
れらの混合物などが用いられる。
アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メ
チル、臭化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル
などのハロゲン化低級アルキル、硫酸ジメチ
ル、硫酸ジエチル、ジアゾメタン、ジアゾエタ
ンまたはp−トルエンスルホン酸メチルなどが
用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン以外
のアルキル化剤を用いるときは、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸
塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属の水酸化物、トリエチルアミン、
ピリジン、N,N−ジメチルアニリンなどの塩
基の存在下に一般に行う。
また、一般式〔XI〕の化合物の塩類は常法に
従つて容易に得ることができ、その塩類として
は、一般式〔〕の化合物の塩類のところで説
明したと同様の塩基性基または酸性基における
塩が挙げられる。
さらに保護基の導入および脱離は常法に従つ
て行い、対応する目的化合物に変換することが
できる。
このようにして得られる一般式〔XI〕の化合
物またはその塩類は、常法によつて単離精製し
てもよいが、単離することなく次の反応に用い
ることもできる。
(ホ) 閉環反応
つぎに一般式〔XI〕、〔〕または〔XI〕の各
化合物もしくはそれらの塩類に、一般式〔XII〕
のチオホルムアミドまたはチオ尿素類を反応さ
せれば、本発明の一般式〔a〕または〔
b〕の化合物もしくはそれらの塩類が得られ
る。
この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒と
しては、本反応を阻害しない限りいかなるもの
でもよいが、たとえば、水、メタノール、エタ
ノール、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピリド
ンなど、またはこれら二種以上の混合溶媒が用
いられる。
脱酸剤の添加は、特に必要としないが、セフ
アロスポリン骨格に変化を与えない範囲の量の
脱酸剤を添加すると円滑に反応が進行すること
もある。この反応に用いられる脱酸剤として
は、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素アルカリ
金属塩、トリエチルアミン、ピリジン、N,N
−ジメチルアニリンなどの無機または有機塩基
が挙げられる。反応は一般に0〜100℃の範囲
で行われる。通常、一般式〔〕、〔〕または
〔XI〕の化合物もしくはそれらの塩類1当量に
対し、それぞれ1〜数当量のチオホルムアミド
またはチオ尿素類が用いられる。反応時間は、
通常1〜48時間、好ましくは1〜10時間であ
る。
また、この閉環反応において、保護基の導入
および脱離ならびに塩類への変換は常法に従つ
て行い、対応する目的化合物に変換することが
できる。
以上のようにして得られた本発明の一般式
〔a〕または〔b〕の目的化合物もしくは
それらの塩類は、常法によつて単離することが
できる。
(ヘ) オキシム化反応
一般式〔〕の化合物またはその塩類に、一
般式〔〕の化合物またはその塩類を反応させ
ることによつて、一般式〔b〕の化合物または
その塩類が得られる。
一般式〔〕の化合物の塩類としては、たと
えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが挙げ
られる。そして、この反応は、通常、水、アルコ
ールなどの溶媒のほかに、反応に不活性な溶媒、
またはこれらの混合溶媒中で行われ、反応は通
常、0〜100℃、好ましくは10〜50℃の範囲で行
われ、10分〜48時間で完了する。
一般式〔〕の化合物またはその塩類1当量
に対して、1〜数当量の一般式〔〕の化合物
またはその塩類が用いられる。
尚一般式〔〕の化合物の塩類はそのまま本
反応に用いることができるが、たとえば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカ
リ金属;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
などの水酸化アルカリ土類金属;炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属;炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸アルカ
リ土類金属;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムなどの炭酸水素アルカリ金属;リン酸マグネ
シウム、リン酸カルシウムなどのリン酸アルカリ
土類金属;リン酸水素2ナトリウム、リン酸水素
2カリウムなどのリン酸水素アルカリ金属などの
無機塩基、または酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
などの酢酸アルカリ金属;トリメチルアミン、ト
リエチルアミンなどのトリアルキルアミン;ピコ
リン、N−メチルピロリジン、N−メチルモルホ
リン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕−
5−ノネン、1,4−ジアザビシクロ〔2,2,
2〕オクタン、1,5−ジアザビシクロ〔5,
4,0〕−7−ウンデセンなどの有機塩基などの
塩基の存在下に反応させることもできる。
また、このオキシム化反応において、保護基の
導入および脱離ならびに塩類への変換は常法に従
つて行い、対応する目的化合物に変換することが
できる。以上のようにして得られた本発明の一般
式〔〕の化合物またはその塩類は常法によつて
単離することができる。
以上のようにして得られた一般式〔〕の化合
物またはその塩類は、遊離酸の形、非毒性塩また
は生理的に許容されるエステルの形で細菌感染症
の治療および予防のために人および動物に投与す
ることができ、遊離酸の形もしくは非毒性塩の形
で非経口的投与方法、または生理的に許容される
エステルの形で経口的投与方法を適用することが
好ましい。その場合、通常セフアロスポリン系薬
剤に適用されている剤形、たとえば、錠剤、カプ
セル剤、散剤、顆粒剤、細粒剤、シロツプ剤、注
射剤(点滴剤も含む)、坐薬などの形に調製すれ
ばよい。上の薬剤を調製する際、必要に応じ、た
とえば、デンプン、乳糖、砂糖、リン酸カルシウ
ム、炭酸カルシウムなどの賦形剤;アラビアゴ
ム、デンプン、結晶セルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースな
どの結合剤;タルク、ステアリン酸マグネシウム
などの滑沢剤;およびカルボキシメチルカルシウ
ム、タルクなどの崩壊剤などの希釈剤および/ま
たは添加剤を用いてもよい。
また、一般式〔〕の化合物またはその塩類を
投与する場合、症状によつて投与量、投与回数お
よび投与方法は適宜選択できるが、一般に成人1
人当り、1回量約50〜5000mgを1日1〜4回程度
経口または非経口投与すればよい。
つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて
説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
参考例 1
三弗化硼素13.6gを含むスルホラン溶液(50ml
に7−アミノセフアロスポラン酸(以下、7−
ACAと略記する。)13.6gおよびメタンスルホン
アミド4.75gを加えて溶解させた後、室温で4時
間反応させる。反応終了後、反応液を氷冷下メタ
ノール250ml中へ導入し、ついでピリジン15.8g
を滴下する。析出晶を取し、メタノールで十分
洗浄した後乾燥すれば、融点188〜191℃(分解)
を示す7−アミノ−3−(メタンスルホンアミド)
メチル−△3−セフエム−4−カルボン酸7.85g
(収率51.1%)を得る。
Ir(KBr)cm-1;〓C=o 1790、1610
NMR(CF3COOD)δ値;
3.26(3H、a、−CH3)、
3.90(2H、bs、C2−H)、
4.55(2H、bs、 [ Formula ] Silyl derivatives , phosphorus derivatives , or All compounds frequently used in acylation reactions, such as tin derivatives, are included. General formula [], [], [], [] or [
] Specifically, the reactive derivatives at the carboxyl group of the compound include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, activated acid amides,
Active ester and general formula [], [],
Examples include reactive derivatives of the compound of [], [] or [] and the Vilsmeier reagent. Examples of mixed acid anhydrides include mixed acid anhydrides with carbonic acid monoalkyl esters such as carbonic acid monoethyl ester and carbonic acid monoisobutyl ester, and lower alkanoic acids which may be substituted with halogen such as pivalic acid and trichloroacetic acid. Mixed acid anhydrides and the like are used. Examples of active acid amides include N-acyl saccharin, N-acylimidazole, N-acylbenzoylamide, N,N'-dicyclohexyl-
N-acylurea, N-acylsulfonamide, etc. are used. Next, as the active ester, for example, cyanomethyl ester, substituted phenyl ester, substituted benzyl ester, substituted thienyl ester, etc. are used. In addition, examples of derivatives reactive with the Vilsmeier reagent include N,N-dimethylformamide,
Acid amides such as N,N-dimethylacetamide are treated with halogenating agents such as phosgene, thionyl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, trichloromethyl chloroformate, and oxalyl chloride. Examples include derivatives reactive with Vilsmeier's reagent obtained by General formula [], [], [], [] or [
] When using each compound in the form of a free acid or salt, a suitable condensing agent is used. Such condensing agents include, for example, N,N'-dicyclohexylcarbodiimide,
N'-disubstituted carbodiimides; azolide compounds such as N,N'-thionyldiimidazole;
N-ethoxycarbonyl-2-ethoxy-1,
Dehydrating agents such as 2-dihydroxyquinoline, phosphorus oxychloride, and alkoxyacetylene; 2-halogenopyridinium salts such as 2-chloropyridinium methyl iodide and 2-fluoropyridinium methyl iodide are used. This acylation reaction is generally carried out in a suitable solvent.
It is carried out in the presence or absence of a base. Examples of solvents include halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; N,
N-dimethylformamide, N,N'-dimethylacetamide, acetone, water or a mixture thereof can be used. In addition, as a base, an inorganic base such as alkali hydroxide, alkali hydrogen carbonate, alkali carbonate or alkali acetate;
Examples include organic bases such as tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine, lutidine, and collidine, and secondary amines such as dicyclohexylamine and diethylamine. In addition, general formula [a] or [
The compound of the general formula [] or its salts which can be derived from the compound of b] or its salts can also be produced as follows. In order to obtain the compound of the general formula [] or its salts using the compound of the general formula [] or its salts, the reaction of diketene with a halogen such as chlorine or bromine [Journal of the Chemical Society, 97] , 1987 (1910)] and a compound of the general formula [] or a salt thereof may be reacted according to a conventional method. Conditions and operations known in the art can be applied to this reaction condition and operation. Also, general formula []
The salts of the compound of formula [] can be easily obtained according to conventional methods, and the salts include the same basic or acidic group salts as explained above for the salts of the compound of the general formula []. It will be done. The resulting compound of general formula [] or its salts may be isolated and purified by conventional methods, but may also be used in the next reaction without isolation. The amount of the compound of the general formula [], [], [], [], or [] or its reactive derivative at the carboxyl group or their salts is the same as the amount of the compound of the general formula [] or its reactive derivative at the amino group. Or each is preferably about 1 to several mol each per 1 mol of the salt. These reactions are usually carried out at -50 to 40°C,
Completes in 10 minutes to 48 hours. In addition, in this acylation reaction, introduction and removal of a protecting group and conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert the compound into the corresponding target compound. General formula obtained as above [],
Compounds of [], [], [XI] or [] or their salts can be isolated and purified by known means, but furthermore, compounds of the general formula [], [],
The compound [XI] or [] or a salt thereof can also be used as a raw material for the next reaction without being isolated. (c) Nitrosation reaction Next, to obtain a compound of general formula [] or a salt thereof from a compound of general formula [] or a salt thereof, the compound of general formula [] or a salt thereof is reacted with a nitrosation agent. This reaction is
The reaction is usually carried out in a solvent, and water, acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, and other solvents inert to the reaction can be used as the solvent. Preferred examples of nitrosating agents include nitric acid and its derivatives, such as nitrosyl halides such as nitrosyl chloride and nitrosyl bromide; alkali metal salts of nitrite such as sodium nitrite and potassium nitrite; butyl nitrite and pentyl nitrite. Examples include alkyl esters of nitrite such as esters. When using a salt of nitrous acid as a nitrosating agent, the reaction is preferably carried out in the presence of an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, or acetic acid. When a nitrite alkyl ester is used as a nitrosating agent, it is preferably carried out in the presence of a strong base such as an alkali metal alkoxide. The reaction is generally carried out at -15 to 30°C and starts from 10 minutes.
Complete in 10 hours. In addition, the salts of the compound of general formula [] can be easily obtained according to the conventional method, and the salts can be prepared using the same basic or acidic groups as explained for the salts of the compound of general formula []. Salt is an example. moreover,
Introduction and removal of protecting groups are carried out according to conventional methods.
It can be converted into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] or its salts thus obtained may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without being isolated. (d) Etherification reaction and phosphorylation reaction Next, in order to obtain the compound of general formula [XI] or its salts from the compound of general formula [] or its salts, the compound of general formula [] or its salts is etherified. reaction or phosphorylation reaction. This etherification reaction and phosphorylation reaction are described in JP-A-53-137988, JP-A-55-105689,
It can be carried out by conventional methods such as etherification reaction and phosphorylation reaction described in JP-A-55-149295. For example, the alkylation reaction can be carried out according to a conventional method. The reaction is generally carried out at -20 to 60°C and is completed in 5 minutes to 10 hours. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, chloroform, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, N,N-dimethylformamide, N,
N-dimethylacetamide, water, or a mixture thereof is used. As the alkylating agent, for example, lower alkyl halides such as methyl iodide, methyl bromide, ethyl iodide, and ethyl bromide, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, diazomethane, diazoethane, or methyl p-toluenesulfonate are used. . When using alkylating agents other than diazomethane and diazoethane, alkylating agents such as alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, triethylamine,
It is generally carried out in the presence of a base such as pyridine, N,N-dimethylaniline. In addition, the salts of the compound of general formula [XI] can be easily obtained according to a conventional method, and the salts can be prepared using the same basic group or acidic group as explained for the salts of the compound of general formula []. Examples include salt. Furthermore, the introduction and removal of a protecting group can be carried out according to a conventional method to convert the compound into the corresponding target compound. The compound of general formula [XI] or its salts thus obtained may be isolated and purified by a conventional method, but it can also be used in the next reaction without isolation. (e) Ring-closing reaction Next, each compound of the general formula [XI], [] or [XI] or a salt thereof is combined with the general formula [XII].
If thioformamide or thiourea is reacted, the general formula [a] or [
b] or their salts are obtained. This reaction is usually carried out in a solvent. Any solvent may be used as long as it does not inhibit this reaction, but examples include water, methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, N,N-dimethylformamide, N,
N-dimethylacetamide, N-methylpyridone, or a mixed solvent of two or more of these is used. Although it is not particularly necessary to add a deoxidizing agent, the reaction may proceed smoothly if the deoxidizing agent is added in an amount within a range that does not change the cephalosporin skeleton. The deoxidizers used in this reaction include alkali metal hydroxide, alkali metal hydrogen carbonate, triethylamine, pyridine, N,N
- Inorganic or organic bases such as dimethylaniline. The reaction is generally carried out at a temperature in the range of 0 to 100°C. Generally, one to several equivalents of thioformamide or thioureas are used per equivalent of the compound of general formula [], [] or [XI] or a salt thereof. The reaction time is
Usually 1 to 48 hours, preferably 1 to 10 hours. In addition, in this ring-closing reaction, the introduction and removal of a protecting group and the conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound. The target compound of the general formula [a] or [b] of the present invention obtained as described above or a salt thereof can be isolated by a conventional method. (f) Oxime formation reaction A compound of general formula [b] or a salt thereof can be obtained by reacting a compound of general formula [] or a salt thereof with a compound of general formula [] or a salt thereof. Examples of the salts of the compound of general formula [] include hydrochloride, hydrobromide, and sulfate. This reaction is usually carried out using solvents such as water and alcohol, as well as solvents that are inert to the reaction.
Alternatively, the reaction is carried out in a mixed solvent thereof, and the reaction is usually carried out at a temperature of 0 to 100°C, preferably 10 to 50°C, and is completed in 10 minutes to 48 hours. One to several equivalents of the compound of general formula [] or a salt thereof is used per equivalent of the compound of general formula [] or a salt thereof. The salts of the compound of the general formula [] can be used as they are in this reaction; for example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth hydroxides such as magnesium hydroxide and calcium hydroxide. Metals; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkaline earth metal carbonates such as magnesium carbonate and calcium carbonate; alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; alkali phosphates such as magnesium phosphate and calcium phosphate Earth metals; inorganic bases such as alkali metal hydrogen phosphates such as disodium hydrogen phosphate and dipotassium hydrogen phosphate; or alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate; trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine; picoline; N-methylpyrrolidine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo[4,3,0]-
5-Nonene, 1,4-diazabicyclo[2,2,
2] Octane, 1,5-diazabicyclo[5,
The reaction can also be carried out in the presence of a base such as an organic base such as 4,0]-7-undecene. In addition, in this oximation reaction, introduction and removal of a protecting group and conversion to a salt can be carried out according to conventional methods to convert it into the corresponding target compound. The compound of the general formula [] of the present invention or its salts obtained as described above can be isolated by a conventional method. The compound of general formula [] or its salts obtained as described above can be used in the treatment and prevention of bacterial infections in humans and in the form of free acids, non-toxic salts or physiologically acceptable esters. Preference is given to applying parenteral administration methods, in the form of free acids or non-toxic salts, or oral administration methods, which can be administered to animals, in the form of physiologically acceptable esters. In that case, it should be prepared in the dosage forms normally applied to cephalosporin drugs, such as tablets, capsules, powders, granules, fine granules, syrups, injections (including infusions), and suppositories. Bye. When preparing the above drug, if necessary, excipients such as starch, lactose, sugar, calcium phosphate, calcium carbonate; binders such as gum arabic, starch, microcrystalline cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose; talc Diluents and/or additives such as lubricants such as , magnesium stearate; and disintegrants such as carboxymethylcalcium, talc, etc. may also be used. In addition, when administering the compound of general formula [] or its salts, the dosage, frequency of administration, and administration method can be selected as appropriate depending on the symptoms, but in general, adults
A single dose of about 50 to 5000 mg per person may be administered orally or parenterally about 1 to 4 times a day. Next, the present invention will be explained with reference to Reference Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto. Reference example 1 Sulfolane solution containing 13.6 g of boron trifluoride (50 ml)
7-aminocephalosporanic acid (hereinafter referred to as 7-
Abbreviated as ACA. ) and 4.75 g of methanesulfonamide were added and dissolved, and then reacted at room temperature for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was introduced into 250 ml of methanol under ice cooling, and then 15.8 g of pyridine was added.
drip. If you remove the precipitated crystals, thoroughly wash them with methanol, and then dry them, the melting point is 188-191℃ (decomposition).
7-Amino-3-(methanesulfonamide)
Methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid 7.85g
(yield 51.1%). Ir (KBr) cm -1 ; C=o 1790, 1610 NMR (CF 3 COOD) δ value; 3.26 (3H, a, -CH 3 ), 3.90 (2H, bs, C 2 -H), 4.55 (2H , bs,
【式】)、
5.49(2H、s、C6−H、C7−H)
同様にして、次の化合物を得た。
Γ7−アミノ−3−〔(p−クロロベンゼンスルホ
ンアミド)メチル〕−△3−セフエム−4−カル
ボン酸
融点;197〜199℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νC=O 1790、1610
NMR(CF3COOD)δ値;
3.80(2H、s、C2−H)、
4.24(2H、bs、[Formula]), 5.49 (2H, s, C 6 -H, C 7 -H) In the same manner, the following compound was obtained. Γ7-amino-3-[(p-chlorobenzenesulfonamido)methyl]-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point: 197-199°C (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νC=O 1790, 1610 NMR (CF 3 COOD) δ value; 3.80 (2H, s, C 2 −H), 4.24 (2H, bs,
【式】)、
5.35(2H、s、C6−H、C7−H)、
7.53、7.92(4H、ABq、J=8Hz、
[Formula]), 5.35 (2H, s, C 6 -H, C 7 -H), 7.53, 7.92 (4H, ABq, J = 8Hz,
【式】)
参考例 2
(1) 三弗化硼素27.1gを含むスルホラン溶液100
mlに7−ACA27.2gおよび3,5−ジメチル
−1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキ
シド16.0gを加えて溶解させた後、室温で4時
間反応させる。反応終了後、反応液を氷冷下メ
タノール500ml中へ導入し、ついでピリジン
31.6gを滴下する。析出晶を取し、メタノー
ルで十分洗浄した後乾燥すれば、7−アミノ−
3−(3,5−ジメチル−1,2,6−チアジ
アジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチ
ル−△3−セフエム−4−カルボン酸の粗結晶
30.5g(収率82.0%)を得る。
同様にして、次の化合物の粗結晶を得た。
Γ7−アミノ−3−(N−メチルメタンスルホ
ンアミド)メチル−△3−セフエム−4−カ
ルボン酸
Γ7−アミノ−3−(1,2,6−チアジアジ
ン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル
−△3−セフエム−4−カルボン酸
Γ7−アミノ−3−(テトラヒドロ−1,2−
チアジン−1,1−ジオキシド−2−イル)
メチル−△3−セフエム−4−カルボン酸
Γ7−アミノ−3−(5−メチル−イソチアゾ
リジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メ
チル−△3−セフエム−4−カルボン酸
(2) (1)で得られた7−アミノ−3−(3,5−ジ
メチル−1,2,6−チアジアジン−1,1−
ジオキシド−2−イル)メチル−△3−セフエ
ム−4−カルボン酸の粗結晶30gをメタノール
300mlに懸濁させ、これにp−トルエンスルホ
ン酸・1水和物12.3gを加える。ついでジフエ
ニルジアゾメタン46.9gを徐々に加え、室温で
15分間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物に酢酸エチル300ml
および水300mlを加え、炭酸水素ナトリウム加
えてPH7.0に調整する。ついで不溶物を別し
た後、有機層を分取し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残留
物をカラムクロマトグラフイー(和光シリカゲ
ルC=200、溶離液;ベンゼン:酢酸エチル=
3:1)で精製すれば、融点97〜99℃(分解を
示すジフエニルメチル=7−アミノ−3−(3,
5−ジメチル−1,2,6−チアジアジン−
1,1−ジオキシド−2−イル)メチル−△3
−セフエム−4−カルボキシレート20.5g(収
率47.2%)を得る。
IR(KBr)cm-1;〓C=O 1780、1720
NMR(CDCl3)δ値;
1.90(3H、s、−CH2)、
2.22(3H、s、−CH2)、
3.44(2H、bs、C2−H)、
4.75(1H、d、J=5Hz、C6−H)、
4.92(1H、d、J=5Hz、C7−H)、
5.01(2H、bs、[Formula]) Reference example 2 (1) 100 sulfolane solution containing 27.1 g of boron trifluoride
27.2 g of 7-ACA and 16.0 g of 3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-dioxide were added to and dissolved in the resulting solution, and the mixture was allowed to react at room temperature for 4 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was introduced into 500ml of methanol under ice cooling, and then pyridine was added.
Drop 31.6g. 7-Amino-
Crude crystals of 3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl- Δ3 -cephem-4-carboxylic acid
Obtain 30.5 g (82.0% yield). In the same manner, crude crystals of the following compound were obtained. Γ7-amino-3-(N-methylmethanesulfonamido)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid Γ7-amino-3-(1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl) Methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Γ7-amino-3-(tetrahydro-1,2-
thiazin-1,1-dioxide-2-yl)
Methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Γ7-amino-3-(5-methyl-isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl)methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid (2) ( 7-amino-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-1,1-
30g of crude crystals of dioxide-2-yl)methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid were dissolved in methanol.
Suspend in 300 ml and add 12.3 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate. Then, 46.9 g of diphenyldiazomethane was gradually added and the mixture was heated at room temperature.
Incubate for 15 minutes. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 300 ml of ethyl acetate was added to the resulting residue.
Add 300ml of water and adjust the pH to 7.0 by adding sodium bicarbonate. After separating the insoluble matter, the organic layer is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C = 200, eluent: benzene: ethyl acetate =
3:1), diphenylmethyl 7-amino-3-(3,
5-dimethyl-1,2,6-thiadiazine-
1,1-dioxido-2-yl)methyl-△ 3
-Cefem-4-carboxylate 20.5 g (yield 47.2%) are obtained. IR (KBr) cm -1 ; C=O 1780, 1720 NMR (CDCl 3 ) δ value; 1.90 (3H, s, -CH 2 ), 2.22 (3H, s, -CH 2 ), 3.44 (2H, bs , C 2 -H), 4.75 (1H, d, J = 5Hz, C 6 -H), 4.92 (1H, d, J = 5Hz, C 7 -H), 5.01 (2H, bs,
【式】)、 5.73(1H、s、【formula】), 5.73 (1H, s,
【式】)、 7.03(1H、s、−CH)、 7.23〜7.70(10H、m、【formula】), 7.03 (1H, s, -CH), 7.23~7.70 (10H, m,
【式】 ×2) 同様にして、表−2の化合物を得た。 [Formula] ×2) In the same manner, the compounds shown in Table 2 were obtained.
【表】【table】
Claims (1)
護基を、R2は、式【式】(式中、R6は、 水素原子またはアルキル基を、R7は、アルキル
またはハロゲン原子で置換されていてもよいフエ
ニル基を示す。)で表わされる基またはアルキル
基で置換されていてもよい1,2,6−チアジア
ジン−1,1−ジオキシド−2−イル、テトラヒ
ドロ−1,2−チアジン−1,1−ジオキシド−
2−イルもしくはイソチアゾリジン−1,1−ジ
オキシド−2−イル基を、R3は、水素原子を、
R4は、水素原子を、R5は、保護されていてもよ
いアミノ基を、−A−は、式−CH2−または式
【式】(式中、R8は、保護されていても よいカルボキシル基で置換されていてもよいアル
キル基を示し、〜は、シンまたはアンチ異性体も
しくはそれらの混合物でもよいことを示す。)で
表わされる基を示す。」 で表わされるセフアロスポリンおよびその塩類。 2 R5が、アミノ基である特許請求の範囲第1
項記載のセフアロスポリンおよびその塩類。 3 −A−が、式【式】(式中、R8およ び〜は、前記した意味を有する。)で表わされる
基である特許請求の範囲第1項または第2項記載
のセフアロスポリンおよびその塩類。 4 −A−が、式【式】(式中、シン異 性体である。)で表わされる基である特許請求の
範囲第1〜3項いずれかの項記載のセフアロスポ
リンおよびその塩類。 5 −A−が、式【式】(式 中、シン異性体であり、R1は、前記した意味を
有する。)で表わされる基である特許請求の範囲
第1〜3項いずれかの項記載のセフアロスポリン
およびその塩類。 6 R2が、式【式】(式中、R6および R7は、前記した意味を有する。)で表わされる基
である特許請求の範囲第第1〜5項いずれかの項
記載のセフアロスポリンおよびその塩類。 7 R2が、アルキル基で置換されていてもよい
1,2,6−チアジアジン−1,1−ジオキシド
−2−イル基である特許請求の範囲第1〜5項い
ずれかの項記載のセフアロスポリンおよびその塩
類。 8 R2が、アルキル基で置換されていてもよい
テトラヒドロ−1,2−チアジン−1,1−ジオ
キシド−2−イル基である特許請求の範囲第1〜
5項いずれかの項項記載のセフアロスポリンおよ
びその塩類。 9 R2が、アルキル基で置換されていてもよい
イソチアゾリジン−1,1−ジオキシド−2−イ
ル基である特許請求の範囲第1〜5項いずれかの
項記載のセフアロスポリンおよびその塩類。 10 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(メタンスルホンアミド)メチル−△3−セ
フエム−4−カルボン酸、そのエステルまたはそ
れらの塩である特許請求の範囲第6項記載の化合
物。 11 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(3,5−ジメチル−1,2,6−チアジ
アジン−1,1−ジオキシド−2−イル)メチル
−△3−セフエム−4−カルボン酸、そのエステ
ルまたはそれらの塩である特許請求の範囲第7項
記載の化合物。 12 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(テトラヒドロ−1,2−チアジン−1,
1−ジオキシド−2−イル)メチル−△3−セフ
エム−4−カルボン酸、そのエステルまたはそれ
らの塩である特許請求の範囲第8項記載の化合
物。 13 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(5−メチルイソチアゾリジン−1,1−
ジオキシド−2−イル)メチル−△3−セフエム
−4−カルボン酸、そのエステルまたはそれらの
塩である特許請求の範囲第9項記載の化合物。 14 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(シン)−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド]−3−(3,5−ジメチル−1,2,
6−チアジアジン−1,1−ジオキシド−2−イ
ル)メチル−△3−セフエム−4−カルボン酸、
そのエステルまたはそれらの塩である特許請求の
範囲第7項記載の化合物。[Claims] 1. General formula "In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 2 is a hydrogen atom or a carboxyl protecting group, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R 7 is an alkyl or halogen atom substituted. 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxide-2-yl, tetrahydro-1,2-thiazine-, which may be substituted with a group represented by (a phenyl group which may be substituted with a phenyl group) or an alkyl group. 1,1-dioxide-
2-yl or isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl group, R 3 is a hydrogen atom,
R 4 is a hydrogen atom, R 5 is an optionally protected amino group, -A- is the formula -CH 2 - or the formula [formula] (wherein R 8 is an optionally protected represents an alkyl group which may be substituted with a suitable carboxyl group, and represents a group represented by (- represents a syn or anti isomer or a mixture thereof). ” Cephalosporin and its salts. 2. Claim 1 in which R 5 is an amino group
Cephalosporin and its salts as described in Section. 3. The cephalosporin and its salts according to claim 1 or 2, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 8 and ~ have the above-mentioned meanings) . 4. The cephalosporin and its salts according to any one of claims 1 to 3, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (in which it is a syn isomer). 5. Any one of claims 1 to 3, wherein -A- is a group represented by the formula [Formula] (wherein is a syn isomer and R 1 has the meaning described above) Cephalosporin and its salts as described. 6. The cephalosporin according to any one of claims 1 to 5, wherein R 2 is a group represented by the formula [Formula] (wherein R 6 and R 7 have the above-mentioned meanings). and its salts. 7. The cephalosporin according to any one of claims 1 to 5, wherein R 2 is a 1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl group optionally substituted with an alkyl group. and its salts. 8 Claims 1 to 2 , wherein R 2 is a tetrahydro-1,2-thiazin-1,1-dioxide-2-yl group which may be substituted with an alkyl group.
Cephalosporin and its salts as described in any of Item 5. 9. The cephalosporin and its salts according to any one of claims 1 to 5, wherein R2 is an isothiazolidin-1,1-dioxide-2-yl group which may be substituted with an alkyl group. 10 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
7. The compound according to claim 6, which is -3-(methanesulfonamido)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 11 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-(3,5-dimethyl-1,2,6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid, its ester, or a salt thereof A compound according to item 7 within the scope of the invention. 12 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-(tetrahydro-1,2-thiazine-1,
9. The compound according to claim 8, which is 1-dioxid-2-yl)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 13 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamide]
-3-(5-methylisothiazolidine-1,1-
10. The compound according to claim 9, which is dioxido-2-yl)methyl-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid, an ester thereof, or a salt thereof. 14 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-carboxymethoxyiminoacetamide]-3-(3,5-dimethyl-1,2,
6-thiadiazin-1,1-dioxid-2-yl)methyl- Δ3 -cephem-4-carboxylic acid,
The compound according to claim 7, which is an ester thereof or a salt thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58113565A JPS604191A (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | Novel cephalosporin compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58113565A JPS604191A (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | Novel cephalosporin compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604191A JPS604191A (en) | 1985-01-10 |
| JPH0454677B2 true JPH0454677B2 (en) | 1992-08-31 |
Family
ID=14615480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58113565A Granted JPS604191A (en) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | Novel cephalosporin compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604191A (en) |
-
1983
- 1983-06-23 JP JP58113565A patent/JPS604191A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS604191A (en) | 1985-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR860000932B1 (en) | Process for the preparation of 7-amino-3-substituted methyl-Δ³-cepem-4-carboxylic acid | |
| EP0049118B1 (en) | Cephalosporin derivatives, their preparation and compositions containing them | |
| US4621081A (en) | Cephalosporin antibiotics | |
| US3917587A (en) | Cephalosporin ethers | |
| US3925368A (en) | Acylureido substituted cephalosporins | |
| EP0267733A2 (en) | Cephalosporin compounds, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them | |
| JPS6052755B2 (en) | New cephalosporins | |
| US4197298A (en) | [3-Heterocyclic-7-(2-methoxyimino-2-aminothiazolyl) acetamido]cephalosporins | |
| JPH0454677B2 (en) | ||
| KR870000611B1 (en) | Method for preparing cephalosporin | |
| JPH058199B2 (en) | ||
| JPH0454676B2 (en) | ||
| JPS6137274B2 (en) | ||
| JPH0357913B2 (en) | ||
| JPH0527637B2 (en) | ||
| KR860000487B1 (en) | Process for preparing cephalosporins | |
| JPH0530836B2 (en) | ||
| GB2051066A (en) | Cephalosporin derivatives suitable for oral administration | |
| JPH0323552B2 (en) | ||
| JPH10182655A (en) | New cephem compounds | |
| EP0095329A2 (en) | Cephalosporin antibiotics | |
| HU201946B (en) | Process for producing cefemcarboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions comprising same | |
| JPH04112891A (en) | New oxime derivative and antimicrobial agent containing the same derivative | |
| EP0150458A2 (en) | Cephem compounds | |
| FR2533216A1 (en) | New cephalosporins and their salts. |