JPH0458196B2 - - Google Patents
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- JPH0458196B2 JPH0458196B2 JP5265287A JP5265287A JPH0458196B2 JP H0458196 B2 JPH0458196 B2 JP H0458196B2 JP 5265287 A JP5265287 A JP 5265287A JP 5265287 A JP5265287 A JP 5265287A JP H0458196 B2 JPH0458196 B2 JP H0458196B2
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
イ 発明の目的
a 産業上の利用分野
本発明は、プリント配線板の製造時に感光性レ
ジスト膜を電着する方法、およびその実施のため
の装置に関するものである。
ジスト膜を電着する方法、およびその実施のため
の装置に関するものである。
b 従来の技術
プリント配線板の製造時に、銅または半田スル
ホール法にて回路パターンを形成するため、銅張
積層基板に感光性レジスト膜を塗布する手段とし
ては、従来例えばスルホールを穴埋め後に、スク
リーン印刷で液体レジストを塗布するスクリーン
印刷法や、ドライフイルムをマミネートするテン
テイング法等がある。
ホール法にて回路パターンを形成するため、銅張
積層基板に感光性レジスト膜を塗布する手段とし
ては、従来例えばスルホールを穴埋め後に、スク
リーン印刷で液体レジストを塗布するスクリーン
印刷法や、ドライフイルムをマミネートするテン
テイング法等がある。
しかし上記スクリーン印刷法は、全てのスルホ
ールを穴埋めする手間を要するので、生産性が良
くない。またテンテイング法は、銅張積層基板と
ドライフイルムとの寸法の組み合わせによつて
は、ドライフイルムにかなりのロスを生じて不経
済で有るし、銅箔表面に傷があるとそこは被覆さ
れず、エツチング時に断線や短路が生じる、等の
問題があつた。
ールを穴埋めする手間を要するので、生産性が良
くない。またテンテイング法は、銅張積層基板と
ドライフイルムとの寸法の組み合わせによつて
は、ドライフイルムにかなりのロスを生じて不経
済で有るし、銅箔表面に傷があるとそこは被覆さ
れず、エツチング時に断線や短路が生じる、等の
問題があつた。
そこで近時、例えば特開昭61−206293号公報に
見られる如く、感光性レジスト膜を電着塗装によ
り形成する方法が開発されている。電着塗装法は
従来、自動車の下塗り塗装法として発展してきた
ものであるが、これをプリント配線板の感光性レ
ジスト膜の形成に利用できるようにしようとする
ものであり、銅張積層基板の表面に感光性レジス
ト膜を均一で、かつ表面の傷をも被覆させるとと
もに、レジスト膜材料のロスをなくし、また完全
自動化を図つて生産性を向上させようとするもの
である。
見られる如く、感光性レジスト膜を電着塗装によ
り形成する方法が開発されている。電着塗装法は
従来、自動車の下塗り塗装法として発展してきた
ものであるが、これをプリント配線板の感光性レ
ジスト膜の形成に利用できるようにしようとする
ものであり、銅張積層基板の表面に感光性レジス
ト膜を均一で、かつ表面の傷をも被覆させるとと
もに、レジスト膜材料のロスをなくし、また完全
自動化を図つて生産性を向上させようとするもの
である。
c 発明が解決しようとする問題点
しかし従来の自動車の下塗り塗装等で用いられ
ている電着塗装手段は、被塗装物を電着塗料の入
つた電着槽に上下移動で浸漬させたり、あるいは
被塗装物をコンベアで斜め移行させながら、電着
槽内に浸漬させるものである。この電着塗装手段
をそのままプリント配線板用に利用したのでは、
小径のスルホールに液が入りきらず気泡が残り、
感光性レジスト膜を確実に電着させることは不可
能である。
ている電着塗装手段は、被塗装物を電着塗料の入
つた電着槽に上下移動で浸漬させたり、あるいは
被塗装物をコンベアで斜め移行させながら、電着
槽内に浸漬させるものである。この電着塗装手段
をそのままプリント配線板用に利用したのでは、
小径のスルホールに液が入りきらず気泡が残り、
感光性レジスト膜を確実に電着させることは不可
能である。
特に近時は、電子機器が小型・軽量・高性能化
するに伴い、半導体素子とともにプリント配線板
も高密度・微細回路化・高信頼性が要求されてい
る。そのような基板の小径・多数のスルホール
に、上記従来の電着塗装手段ではなおさら気泡が
残り、確実に感光性レジスト膜を電着させること
ができない、という問題点がある。
するに伴い、半導体素子とともにプリント配線板
も高密度・微細回路化・高信頼性が要求されてい
る。そのような基板の小径・多数のスルホール
に、上記従来の電着塗装手段ではなおさら気泡が
残り、確実に感光性レジスト膜を電着させること
ができない、という問題点がある。
本発明は、プリント配線板の感光性レジスト膜
電着形成に用いる方法、および装置に関し、上記
従来の問題点を解決しようとするものである。即
ち本発明の目的は、基板の小径・多数のスルホー
ルにも親水性を与えることで、気泡を生じず確実
に感光性レジスト膜を電着可能として、電着塗装
装置が有する長所を生かすことにより、高密度・
微細回路化・高信頼性のプリント配線板を製造で
きるようにすることにある。
電着形成に用いる方法、および装置に関し、上記
従来の問題点を解決しようとするものである。即
ち本発明の目的は、基板の小径・多数のスルホー
ルにも親水性を与えることで、気泡を生じず確実
に感光性レジスト膜を電着可能として、電着塗装
装置が有する長所を生かすことにより、高密度・
微細回路化・高信頼性のプリント配線板を製造で
きるようにすることにある。
ロ 発明の構成
a 問題点を解決するための手段
本発明に係るプリント配線板のレジスト膜電着
方法は、スルホール2付の銅張積層基板1を、電
着本槽Bの電着塗料化された感光性レジスト液3
中で電着処理する前に、該基板1を、同じレジス
ト液3が加圧されて流れる前処理槽A中に、その
流れを遮蔽する如く通過させて、基板1のスルホ
ール2に液3を通すことにより、スルホール2内
の空気の追出しと親水性を与えるようにしたもの
である。
方法は、スルホール2付の銅張積層基板1を、電
着本槽Bの電着塗料化された感光性レジスト液3
中で電着処理する前に、該基板1を、同じレジス
ト液3が加圧されて流れる前処理槽A中に、その
流れを遮蔽する如く通過させて、基板1のスルホ
ール2に液3を通すことにより、スルホール2内
の空気の追出しと親水性を与えるようにしたもの
である。
また本発明に係るプリント配線板のレジスト膜
電着装置は、電着本槽Bの前に前処理槽Aを設け
てなり、いずれにも電着塗料化された感光性レジ
スト液3が連続供給可能とし、前記前処理槽A
は、レジスト液3が加圧されて流れるようにする
とともに、そこを通過するスルホール2付の銅張
積層基板1で、液3の流れを遮蔽可能な開口部4
を設けてなるものである。
電着装置は、電着本槽Bの前に前処理槽Aを設け
てなり、いずれにも電着塗料化された感光性レジ
スト液3が連続供給可能とし、前記前処理槽A
は、レジスト液3が加圧されて流れるようにする
とともに、そこを通過するスルホール2付の銅張
積層基板1で、液3の流れを遮蔽可能な開口部4
を設けてなるものである。
上記構成において、電着本槽Bの形状は、第1
図・第2図・第3図・第5図で示す如く、本槽B
で満溢した液3を前処理槽Aへ供給するもので
は、蓋板のある圧力槽形とする。また第6図・第
7図・第8図のように、前処理槽Aへ後記リザー
ブ槽5から液3を直接供給するものでは、蓋板の
ない非圧力槽にすればよい。該本槽Bへの感光性
レジスト液3の供給は、例えば別に設けたりリザ
ーブ槽5からポンプ6により連続供給可能として
おく。該本槽Bの前・後側壁7,8には基板通過
用のスリツト9,10を設けてあり、それら9,
10は第1図ないし第7図に示す如く、基板1を
水平状で移行する場合には水平状に形成し、第8
図のように垂直状で移行する場合には垂直状に形
成してある。
図・第2図・第3図・第5図で示す如く、本槽B
で満溢した液3を前処理槽Aへ供給するもので
は、蓋板のある圧力槽形とする。また第6図・第
7図・第8図のように、前処理槽Aへ後記リザー
ブ槽5から液3を直接供給するものでは、蓋板の
ない非圧力槽にすればよい。該本槽Bへの感光性
レジスト液3の供給は、例えば別に設けたりリザ
ーブ槽5からポンプ6により連続供給可能として
おく。該本槽Bの前・後側壁7,8には基板通過
用のスリツト9,10を設けてあり、それら9,
10は第1図ないし第7図に示す如く、基板1を
水平状で移行する場合には水平状に形成し、第8
図のように垂直状で移行する場合には垂直状に形
成してある。
電着本槽Bおよび前処理槽Aへ供給する感光性
レジスト液3は、アニオン型で例えばカルボン酸
樹脂を有機アミンで中和し、水溶化または水分酸
化したものを用いればよい。
レジスト液3は、アニオン型で例えばカルボン酸
樹脂を有機アミンで中和し、水溶化または水分酸
化したものを用いればよい。
11は本槽Bに設けた陰極板で、前記スリツト
9,10と同一面上の両側に設けてある。また第
1図・第2図・第3図・第5図で示す如く、本槽
Bで満溢した液3を前処理槽Aへ供給する場合で
は、液流出口12を設けておく。
9,10と同一面上の両側に設けてある。また第
1図・第2図・第3図・第5図で示す如く、本槽
Bで満溢した液3を前処理槽Aへ供給する場合で
は、液流出口12を設けておく。
前処理槽Aは、第1図ないし第7図で示す如
く、基板1が水平状に通過するものでは、通過す
る基板1によつて遮蔽される開口部4、および本
槽Bのスリツト9,10と同一面上に設けた基板
通路13も水平状で、第8図のように基板1が垂
直状のものではそれら4,13も垂直状に設けて
ある。前処理槽Aにはレジスト液3の液流入口1
4を設けてあり、それ14は第1図・第2図・第
3図・第4図・第6図で示す如く、基板1が開口
部4の上面を通過するものでは、基板通路13よ
り下位置に設ける。しかし第5図・第7図や第8
図のように基板1が開口部4の下面または側面を
通過するものでは、基板通路13より上位置また
は側部に設けておく。
く、基板1が水平状に通過するものでは、通過す
る基板1によつて遮蔽される開口部4、および本
槽Bのスリツト9,10と同一面上に設けた基板
通路13も水平状で、第8図のように基板1が垂
直状のものではそれら4,13も垂直状に設けて
ある。前処理槽Aにはレジスト液3の液流入口1
4を設けてあり、それ14は第1図・第2図・第
3図・第4図・第6図で示す如く、基板1が開口
部4の上面を通過するものでは、基板通路13よ
り下位置に設ける。しかし第5図・第7図や第8
図のように基板1が開口部4の下面または側面を
通過するものでは、基板通路13より上位置また
は側部に設けておく。
また前処理槽Aの開口部4の大きさは、そこを
通過する基板1により遮蔽可能に、基板1とほぼ
同じ大きさとする。例えば小幅の基板1のため、
開口部4両側に調節用補助板を設置可能としてお
くのがよい。前処理槽Aへのレジスト液3の供給
は、第1図・第2図・第3図・第5図で示す如
く、電着本槽Bで溢流した液3を供給してもよい
し、第6図ないし第8図で示すように、本槽Bへ
のリザーブ槽5からポンプ16で供給させてもよ
く、さらには上記両者を並用してもよい。15は
ガイド部であり、開口部4で基板1が液3による
加圧を受けても遮蔽状態を解かぬように、例えば
基板1両側縁を係止可能な凹溝を形成しておく。
通過する基板1により遮蔽可能に、基板1とほぼ
同じ大きさとする。例えば小幅の基板1のため、
開口部4両側に調節用補助板を設置可能としてお
くのがよい。前処理槽Aへのレジスト液3の供給
は、第1図・第2図・第3図・第5図で示す如
く、電着本槽Bで溢流した液3を供給してもよい
し、第6図ないし第8図で示すように、本槽Bへ
のリザーブ槽5からポンプ16で供給させてもよ
く、さらには上記両者を並用してもよい。15は
ガイド部であり、開口部4で基板1が液3による
加圧を受けても遮蔽状態を解かぬように、例えば
基板1両側縁を係止可能な凹溝を形成しておく。
なお前処理槽Aにおいて、基板1は開口部4を
通過後そのまま前側壁7のスリツト9から本槽B
に送ればよいが、開口部4を遮蔽する如くタクト
式に浸漬させた後に一旦前処理槽Aより引き上げ
てから、本槽Bへ入れるようにすることも可能で
ある。また図示は省略するが、前処理槽Aに超音
波発生装置を付設してもよい。
通過後そのまま前側壁7のスリツト9から本槽B
に送ればよいが、開口部4を遮蔽する如くタクト
式に浸漬させた後に一旦前処理槽Aより引き上げ
てから、本槽Bへ入れるようにすることも可能で
ある。また図示は省略するが、前処理槽Aに超音
波発生装置を付設してもよい。
b 作 用
上記構成のレジスト膜電着方法および装置の使
用状態は、次の如くである。
用状態は、次の如くである。
スルホール2付の銅張積層基板1を、電着本槽
Bへ送る前に前処理槽Aを通す。そこでは本槽B
と同じ電着塗料化された感光性レジスト液3が、
加圧された状態で開口部4を流通しており、前記
基板1は開口部4においてその液3の流れを遮蔽
する。そのために液3は、一層圧力が加わつた状
態になつて基板1の各スルホール2に流入し、そ
こから流出することになる。それゆえ基板1の各
スルホール2は、空気が完全に追い出されるとと
もに、各スルホール2内壁に親水性が与えられ
る。
Bへ送る前に前処理槽Aを通す。そこでは本槽B
と同じ電着塗料化された感光性レジスト液3が、
加圧された状態で開口部4を流通しており、前記
基板1は開口部4においてその液3の流れを遮蔽
する。そのために液3は、一層圧力が加わつた状
態になつて基板1の各スルホール2に流入し、そ
こから流出することになる。それゆえ基板1の各
スルホール2は、空気が完全に追い出されるとと
もに、各スルホール2内壁に親水性が与えられ
る。
この状態で基板1が電着本槽Bに送られると、
各スルホール2に気泡が生じぬとともに、仮に気
泡が生じてもスルホール2内壁には親水性が与え
られているため、小さなスルホール2にも液3が
容易に浸入して、気泡を追い出して残さない。
各スルホール2に気泡が生じぬとともに、仮に気
泡が生じてもスルホール2内壁には親水性が与え
られているため、小さなスルホール2にも液3が
容易に浸入して、気泡を追い出して残さない。
したがつて電着本槽Bにおいては、各スルホー
ル2内はレジスト液3が完全に満しており、充分
な通電と反応が行われて、各スルホール2内壁に
感光性レジスト膜が確実に電着・形成される。
ル2内はレジスト液3が完全に満しており、充分
な通電と反応が行われて、各スルホール2内壁に
感光性レジスト膜が確実に電着・形成される。
ハ 発明の効果
以上で明かな如く、本発明に係るプリント配線
板のレジスト膜電着方法および装置によれば、そ
の前処理槽を通すことによつて、銅張積層基板の
小径・多数の各スルホールから空気を追い出し、
かつその内壁に親水性を与えることができる。そ
のため電着本槽においては、各スルホールが完全
に液で満され、確実に感光性レジスト膜を電着形
成できることになる。したがつて、プリント配線
板に今後ますます要求される高密度・微細回路
化・高信頼性の達成が容易になる。
板のレジスト膜電着方法および装置によれば、そ
の前処理槽を通すことによつて、銅張積層基板の
小径・多数の各スルホールから空気を追い出し、
かつその内壁に親水性を与えることができる。そ
のため電着本槽においては、各スルホールが完全
に液で満され、確実に感光性レジスト膜を電着形
成できることになる。したがつて、プリント配線
板に今後ますます要求される高密度・微細回路
化・高信頼性の達成が容易になる。
図は本発明の実施例を示すもので、第1図は本
発明を実施中の電着装置の一部縦断正面図、第2
図は第1図の要部を拡大した一部縦断正面図、第
3図は第1図の電着装置の前処理槽の一部省略縦
断正面図で、第4図はその前処理槽の縦断側面
図、第5図・第6図・第7図・第8図は他の実施
例の要部を示す一部縦断正面図である。 図面符号 A…前処理槽、B…電着本槽、1…
銅張積層基板、2…スルホール、3…感光性レジ
スト液、4…開口部、14…液流入口。
発明を実施中の電着装置の一部縦断正面図、第2
図は第1図の要部を拡大した一部縦断正面図、第
3図は第1図の電着装置の前処理槽の一部省略縦
断正面図で、第4図はその前処理槽の縦断側面
図、第5図・第6図・第7図・第8図は他の実施
例の要部を示す一部縦断正面図である。 図面符号 A…前処理槽、B…電着本槽、1…
銅張積層基板、2…スルホール、3…感光性レジ
スト液、4…開口部、14…液流入口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 スルホール2付の銅張積層基板1を、電着本
槽Bの電着塗料化された感光性レジスト液3中で
電着処理する前に、該基板1を、同じレジスト液
3が加圧されて流れる前処理槽A中に、その流れ
を遮蔽する如く通過させ、基板1のスルホール2
に液3を流入させることにより、スルホール2内
の空気の追出しと親水性を与えることを特徴とす
る、プリント配線板のレジスト膜電着方法。 2 電着本槽Bの前に前処理槽Aを設けてなり、
いずれにも電着塗料化された感光性レジスト液3
を連続供給可能とし、前記前処理槽Aは、レジス
ト液3が加圧されて流れるようにするとともに、
そこを通過時のスルホール2付の銅張積層基板1
にて、液3の流れが遮蔽可能に開口部4を設けた
ことを特徴とする、プリント配線板のレジスト膜
電着装置。 3 電着本槽Bに、スルホール2付の銅張積層基
板1が水平状に通過可能なスリツト9,10を設
けるとともに、該本槽Bを圧力槽形として満溢し
たレジスト液3の液流出口12を設け、前処理槽
Aは、前記スリツト9,10と同一高さの基板通
路13より下位置に液流入口14を設けるととも
に、基板通路13よりやや下方に液3がオーバフ
ローする開口部4を設け、かつ開口部4上を通過
する基板1の浮上り防止用ガイド部15を設けて
なる、特許請求の範囲第2項に記載のプリント配
線板のレジスト膜電着装置。 4 電着本槽Bに、スルホール2付の銅張積層基
板1が水平状に通過可能なスリツト9,10を設
けるとともに、該本槽Bを圧力槽形として、満溢
したレジスト液3の液流出口12を設け、前処理
槽Aは、前記スリツト9,10と同一高さの基板
通路13より上部に液流入口14を設けるととも
に、基板通路13よりやや上部に液3が流下する
開口部4を設け、かつ開口部4下を通過する基板
1の降下防止用ガイド部15を設けてなる、特許
請求の範囲第2項に記載のプリント配線板のレジ
スト膜電着装置。 5 電着本槽Bに、スルホール2付の銅張積層基
板1が水平状に通過可能なスリツト9,10を設
け、前処理槽Aは、前記スリツト9,10と同一
高さの基板通路13より下位置に液流入口14を
設けて、ポンプ16によりレジスト液3を供給可
能とするとともに、基板通路13より下方に液3
がオーバフローする開口部4を設け、かつ開口部
4上を通過する基板1の浮上り防止用ガイド部1
5を設けてなる、特許請求の範囲第2項に記載の
プリント配線板のレジスト膜電着装置。 6 電着本槽Bに、スルホール2付の銅張積層基
板1が水平状に通過可能なスリツト9,10を設
け、前処理槽Aは、前記スリツト9,10と同一
高さの基板通路13よりやや上部に液3が流下す
る開口部4を設けるとともに、その上部の室19
にポンプ16によりレジスト液3を供給可能と
し、かつ開口部4下を通過する基板1の降下防止
用ガイド部15を設けてなる、特許請求の範囲第
2項に記載のプリント配線板のレジスト膜電着装
置。 7 電着本槽Bに、スルホール2付の銅張積層基
板1が垂直状に通過可能なスリツトを設け、前処
理槽Aは、前記スリツトと同一面の基板通路13
を間にした片側室17に加圧されたレジスト液3
の液流入口14を設けるとともに、他側室18へ
液3が流入可能な開口部4を設け、かつ開口部4
における基板1の横ぶれ防止用ガイド部15を設
けてなる、特許請求の範囲第2項に記載のプリン
ト配線板のレジスト膜電着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5265287A JPS63219188A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | プリント配線板のレジスト膜電着方法、および電着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5265287A JPS63219188A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | プリント配線板のレジスト膜電着方法、および電着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63219188A JPS63219188A (ja) | 1988-09-12 |
| JPH0458196B2 true JPH0458196B2 (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=12920788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5265287A Granted JPS63219188A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | プリント配線板のレジスト膜電着方法、および電着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63219188A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02136359U (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-14 | ||
| US5502345A (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Unitary transducer with variable resistivity |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP5265287A patent/JPS63219188A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63219188A (ja) | 1988-09-12 |
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