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JPH0459712B2 - - Google Patents
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JPH0459712B2 - - Google Patents

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JPH0459712B2
JPH0459712B2 JP58004162A JP416283A JPH0459712B2 JP H0459712 B2 JPH0459712 B2 JP H0459712B2 JP 58004162 A JP58004162 A JP 58004162A JP 416283 A JP416283 A JP 416283A JP H0459712 B2 JPH0459712 B2 JP H0459712B2
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selection means
data line
lines
semiconductor memory
switches
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Kyoo Ito
Ryoichi Hori
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1006Data managing, e.g. manipulating data before writing or reading out, data bus switches or control circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
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    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体メモリ装置、特に、高S/N
化ならびに高速化に好適な半導体メモリ装置に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to semiconductor memory devices, particularly high S/N
The present invention relates to a semiconductor memory device suitable for increasing speed and speed.

〔従来技術〕[Prior art]

従来S/N化を達成する手段として、例えば特
願昭56−81042がある。すなわち、第1図に示す
ように、第1の1本のデータ線を複数個、たとえ
ばD00,D01,D02,D03あるいはD10,D11,D12
D13に分割し、これらの分割されたデータ線と、
スイツチSW00などを介してて第2のデータ線
I/O(0),I/O(1),I/O(2),I/O
(3)とでデータの授受を行う方式である。この
方式では、第1のデータ線が細分化されるため
に、その分だけメモリセルからみた負荷容量が小
さくなり高S/N化あるいは高速化が可能とな
る。しかし本方式は、第2のデータ線I/O
(0),I/O(1),I/O(2),I/O(3)に
は多数のスイツチに関係する多数のトランジスタ
が接続されるので、これら第2のデータ線の負荷
容量が大になるので高S/N化、高速化には限界
がある。
As a conventional means for achieving S/N ratio, there is, for example, Japanese Patent Application No. 56-81042. That is, as shown in FIG. 1, a plurality of first data lines, for example, D 00 , D 01 , D 02 , D 03 or D 10 , D 11 , D 12 ,
D divided into 13 and these divided data lines,
2nd data line I/O (0), I/O (1), I/O (2), I/O via switch SW 00 etc.
(3) This is a method for exchanging data. In this method, since the first data line is subdivided, the load capacitance seen from the memory cell is reduced accordingly, making it possible to achieve a high S/N or high speed. However, in this method, the second data line I/O
(0), I/O (1), I/O (2), and I/O (3) are connected to many transistors related to many switches, so the load capacitance of these second data lines is becomes large, so there is a limit to increasing the S/N and speed.

なお、Wはワードライン、XDEC・DRおよび
YDEC・DRはXデコーダと駆動動回路およびY
デコーダと駆動回路、RWCはリードラインコン
トローラ、MCはメモリセル、WEはライトイネ
ーブル信号、Diは入力データ、Dputは出力データ
を示す。以下の付号についても同様である。
In addition, W is word line, XDEC/DR and
YDEC・DR is the X decoder, drive circuit and Y
A decoder and a drive circuit, RWC is a read line controller, MC is a memory cell, WE is a write enable signal, D i is input data, and D put is output data. The same applies to the following numbers.

また、第2図は、従来の他の例である。すなわ
ち第2のデータ線I/O(0),I/O(1)を、
分割された第1のデータ線D00,D01,D02,D03
等と並行に配置したものである。こうすることに
よつて、I/O(0),I/O(1)の負荷容量は、
1本のデータ線の分割数に対応した少数のスイツ
チに関係するトランジスタのみが接続されるの
で、前記第1図に比べて格段と小さくなる。した
がつて例えばスイツチSW00,SW10等によつて
I/O(0),I/O(1)に高速にとり出された
信号はYDEC・DRによつて制御されるスイツチ
SWY0,SWY1のいずれかが選択されて第3のデー
タ線I/Oに出力され、リードライト制御回路
RWCによつてデータ出力Dputとなる。しかし単
位長あたりのI/O(0),I/O(1)線の負荷
容量が第2図の方が小さくても、メモリアレーの
構成によつては、第2図のI/O(0),I/O
(1)の長さが十分長くなり、I/O線全体の負
荷容量が第1図の場合よりも大になつて問題にな
る欠点がある。
Further, FIG. 2 shows another conventional example. In other words, the second data lines I/O(0) and I/O(1) are
Divided first data lines D 00 , D 01 , D 02 , D 03
etc. are arranged in parallel. By doing this, the load capacity of I/O (0) and I/O (1) is
Since only transistors related to a small number of switches corresponding to the number of divisions of one data line are connected, the size is significantly smaller than that in FIG. 1. Therefore, for example, signals taken out at high speed to I/O (0) and I/O (1) by switches SW 00 , SW 10 , etc. are sent to the switches controlled by YDEC/DR.
Either SW Y0 or SW Y1 is selected and output to the third data line I/O, and the read/write control circuit
Data output is D put by RWC. However, even if the load capacitance of the I/O (0) and I/O (1) lines per unit length is smaller in Figure 2, depending on the configuration of the memory array, the I/O ( 0), I/O
There is a drawback that the length of (1) becomes sufficiently long and the load capacity of the entire I/O line becomes larger than in the case of FIG. 1, which becomes a problem.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、上記欠点のない高S/Nなら
びに高速化に好適な半導体メモリ装置を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that does not have the above drawbacks and is suitable for high S/N and high speed.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願で開示される代表的な実施形態による半導
体メモリ装置は、 その長さ方向が第1の方向と略並行に配置され
た複数のワード線W0〜W3と、 その長さ方向が上記第1の方向と交叉する第2
の方向と略並行に配置された複数の第1データ線
群D00〜D31と、 複数の第1スイツチSW0と、 該複数の第1のスイツチSW0を介して上記複数
の第1データ線群D00〜D31と接続されるととも
にその長さ方向が上記第1の方向と略並行に配置
された複数の第2データ線群i/o(0,0)〜
i/o(1,1)と、 複数の第2のスイツチSW1と、 該複数の第2のスイツチSW1を介して上記複数
の第2データ線群i/o(0,0)〜i/o(1,
1)と接続されるとともにその長さ方向が上記第
2の方向と略並行に配置された複数の第3データ
線i/o(0)〜i/o(1)と、 上記複数のワード線W0〜W3と上記複数の第1
データ線群D00〜D31との所望の交点に配置され
た複数のメモリセルMCと、 上記複数のワード線W0〜W3と上記複数の第2
のスイツチSW1とを選択する第1選択手段
XDEC・DRと、 上記複数の第1のスイツチSW0を選択する第2
選択手段YDEC・DRとを具備してなり、 上記複数の第3データ線i/o(0)〜i/o
(1)の少なくとも一本のデータ線を挟むように
上記複数の第2データ線群i/o(0,0)〜
i/o(1,1)は上記第1の方向に分割され、 上記複数の第2データ線群i/o(0,0)〜
i/o(1,1)の少なくとも一本のデータ線を
挟むように上記複数の第1データ線群D00〜D31
は上記第2の方向に分割されてなることを特徴と
する。
A semiconductor memory device according to a typical embodiment disclosed in this application includes a plurality of word lines W 0 to W 3 whose length direction is arranged substantially parallel to the first direction, and a plurality of word lines W 0 to W 3 whose length direction is arranged in the first direction. The second direction that intersects the first direction
a plurality of first data line groups D 00 to D 31 arranged substantially parallel to the direction of the plurality of first data lines D 00 to D 31 ; a plurality of first switches SW 0 ; A plurality of second data line groups i/o(0,0)~connected to the line groups D00 ~ D31 and arranged with their lengths substantially parallel to the first direction.
i/o(1,1), a plurality of second switches SW1 , and the plurality of second data line groups i/o(0,0) to i via the plurality of second switches SW1 . /o(1,
1) and the plurality of third data lines I/O(0) to I/O(1) whose length directions are arranged substantially parallel to the second direction; and the plurality of word lines. W 0 to W 3 and the first of the above
a plurality of memory cells MC arranged at desired intersections with the data line groups D 00 to D 31 ; and a plurality of word lines W 0 to W 3 and the plurality of second
1st selection means for selecting switch SW 1
XDEC/DR, and a second switch that selects the first switch SW 0 of the above plurality.
the plurality of third data lines I/O(0) to I/O;
(1) The plurality of second data line groups i/o(0,0)~
I/O(1,1) is divided in the first direction, and the plurality of second data line groups I/O(0,0) to
The plurality of first data line groups D 00 to D 31 sandwich at least one data line of i/o (1, 1).
is characterized in that it is divided in the second direction.

かかる代表的な実施形態によれば、複数の第3
データ線i/o(0)〜i/o(1)の一本のデー
タ線を挟むように複数の第2データ線群i/o
(0,0)〜i/o(1,1)は第1の方向に分割
されているので、第2データ線群i/o(0,0)
〜i/o(1,1)の配線の分布負荷容量および
分布抵抗を低減でき、高速化と高S/N化が可能
となる。
According to such representative embodiments, a plurality of third
A plurality of second data line groups I/O sandwich one data line of data lines I/O(0) to I/O(1).
(0,0) to i/o(1,1) are divided in the first direction, so the second data line group i/o(0,0)
The distributed load capacitance and distributed resistance of the ~i/o (1, 1) wiring can be reduced, making it possible to increase the speed and increase the S/N.

本願のより好適な実施形態によれば、第1選択
手段XDEC・DRが複数のワード線W0〜W3のう
ちの一本ワード線W0と複数の第2のスイツチ
SW1のうち第1の方向に沿つて配置された二つの
第2のスイツチSW1を選択し、第2選択手段
YEDC・DRが複数の第1のスイツチSW0のうち
上記第1の方向に沿つて配置された二つのスイツ
チSW0を選択することを特徴とする。
According to a more preferred embodiment of the present application, the first selection means XDEC/DR selects one word line W 0 from the plurality of word lines W 0 to W 3 and the plurality of second switches.
Two second switches SW 1 arranged along the first direction are selected from among SW 1 , and the second selection means
The YEDC/DR is characterized in that it selects two switches SW 0 arranged along the first direction from among the plurality of first switches SW 0 .

かかる好適な実施形態によれば、第1の方向に
沿つて配置された二つのメモリセルMCが選択さ
れ、この二つのメモリセルが二本の第1データ線
D00,D20、選択された二つの第1のスイツチ
SW0、二本の第2データ線i/o(0,0)、i/
o(1,0)、選択された二つの第2のスイツチ
SW1を介して二本の第3データ線i/o(0),
i/o(1)と接続されるので、選択された二つ
のメモリセルMCの読み出し情報を二本の第3デ
ータ線i/o(0),i/o(1)に並列に読み出
すことができ、多ビツト(マルチビツト)構成の
メモリXSIを構成することが可能となる。
According to this preferred embodiment, two memory cells MC arranged along the first direction are selected, and these two memory cells are connected to the two first data lines.
D 00 , D 20 , the two selected first switches
SW 0 , two second data lines i/o(0,0), i/
o(1,0), the two selected second switches
two third data lines i/o(0) via SW 1 ,
Since it is connected to i/o (1), the read information of the two selected memory cells MC can be read out in parallel to the two third data lines i/o (0) and i/o (1). This makes it possible to configure a memory XSI with a multi-bit configuration.

本発明のその他の目的と特徴は、以下の実施例
から明らかとなろう。
Other objects and features of the invention will become apparent from the following examples.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第3図は本発明の一実施例としての半導体メモ
リ装置の概略回路図である。1本のデータ線を例
えば2分割(D00,D01など)して第1のデータ
線群とし、第1のスイツチSW0を介して上記デー
タ線と直交する第2のデータ線群i/o(0,
0),i/o(0,1),i/o(1,0),i/o
(1,1)を配し、さらに第2のスイツチSW1
介して上記第1のデータ線群と並行した第3のデ
ータ線群I/O(0),I/O(1)を配する。ワ
ード線W0とYDEC・DRから出力される制御信号
YC0がONになつた場合のメモリ動作を以下に説
明する。W0がONになつて、各データ線D00
D10,D20,D30に現われた読み出し信号の中、
YC0がONによつてスイツチSW0が制御され、
D00とD20の信号だけが、i/o(0,0)とi/
o(1,0)に出力される。さらにXDEC・DRで
制御されるIOC0がONになつてこれらのデータは
それぞれI/O(0)とI/O(1)に出力され
る。このデータはセンスアツプSAによつて増幅
され、第3のスイツチSW2によつて所望のデータ
が選択されてデータ出力となる。書き込み動作は
同様にして、データ入力D1と書き込み制御信号
WEによつて、RWC回路と駆動回路DRVを介し
て行われる。尚本実施例では、4本のYC線の中、
常に2本が選択される論理になつているが、アド
レスバツフアABを2個設ければ4本の中から1
本のYCを選択することもできる。この場合、
i/o線の負荷容量は増加するが、i/o(0,
0),i/o(1,0)は共通化でき、またI/O
(0),I/O(1)は1本でよいからSW2も不要
でSA,DRVも半分ですむ。また第3図実施例で
I/O(0),I/O(1)に同時に出力されたデ
ータはそのままデコードせずに、すなわちSW2
使わずにチツプ外部に複数個のデータ出力として
出力することもできる。本構成は複数個のデータ
入力に対しても並行書きこみ可能であるこれは、
メモリLSIなどで多ビツト構成する場合に便利で
ある。本実施例は、掲出のものに限らず各種メモ
リセルルに適用可能であるが、以下では、1個の
MOSトランジスタを1個のキヤパシターでメモ
リセルが構成されるダイナツクメモリを例に説明
する。
FIG. 3 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention. For example, one data line is divided into two (D 00 , D 01 , etc.) to form a first data line group, and a second data line group i/orthogonal to the data line is connected via a first switch SW 0 . o(0,
0), i/o (0, 1), i/o (1, 0), i/o
(1, 1), and further a third data line group I/O(0), I/O(1) parallel to the first data line group is arranged via the second switch SW1 . do. Control signal output from word line W 0 and YDEC/DR
The memory operation when YC 0 turns ON is explained below. When W 0 is turned on, each data line D 00 ,
Among the read signals appearing at D 10 , D 20 , and D 30 ,
Switch SW 0 is controlled by YC 0 being ON.
Only the D 00 and D 20 signals are i/o(0,0) and i/o
o(1,0). Furthermore, IOC 0 controlled by XDEC/DR is turned on and these data are output to I/O (0) and I/O (1), respectively. This data is amplified by the sense amplifier SA, and desired data is selected by the third switch SW2 and becomes the data output. The write operation is done in the same way, using the data input D1 and the write control signal.
This is done by WE via the RWC circuit and the drive circuit DRV. In this example, among the four YC lines,
The logic is that two are always selected, but if two address buffers AB are provided, one out of four
You can also select the YC of the book. in this case,
Although the load capacity of the I/O line increases, the I/O (0,
0), i/o (1, 0) can be shared, and I/O
Since only one (0) and I/O (1) is required, SW 2 is not required, and SA and DRV can be cut in half. In addition, in the embodiment shown in Fig. 3, the data output simultaneously to I/O (0) and I/O (1) is output as multiple data outputs to the outside of the chip without being decoded, that is, without using SW 2 . You can also. This configuration allows parallel writing for multiple data inputs.
This is convenient for multi-bit configurations such as memory LSIs. Although this embodiment is applicable to various types of memory cells, not limited to those listed, in the following, one
A dynamic memory in which a memory cell is composed of a single MOS transistor and a capacitor will be explained as an example.

第4図は、本発明の他の実施例としての半導体
メモリ装置の概略回路図でデータ線が近接対線で
構成されているメモリセル(以下2交点セル)に
対するデータ線2分割の実施例である。前記第3
図におけるアドレスバツフアABは簡単のため省
略してある。また同様に、データ対線あるいは
i/o,I/O対線に目的に応じて接続されるプ
リチヤージ回路やセンスアンプは省略してある。
FIG. 4 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device as another embodiment of the present invention, and is an example of dividing data lines into two for a memory cell (hereinafter referred to as a two-intersection cell) in which the data lines are composed of adjacent pairs of lines. be. Said third
The address buffer AB in the figure is omitted for simplicity. Similarly, precharge circuits and sense amplifiers connected to data pairs or I/O and I/O pairs depending on the purpose are omitted.

MCはメモリセル、DCは読み出されたMCの読
み出し信号に対して参照電圧を発生させてセンス
アンプで差動増幅して情報“1”,“0”を弁別す
るためのダミーセルである。W0,W1,…はワー
ド線、DW0,DW1はダミーワード線、IOC0
IOC1はスイツチ制御信号である。またSWCはス
イツチ制御回路、MAはメモリセルアレーであ
る。尚、YC線(YC0,YC1,…)は本例ではAl2
層配線を使用したが、特にこれに限定されるわけ
ではない。すなわち、データ線をポリSiなどのよ
うにAl以外の他の材料で形成したメモリセルを
使えば、YC線はわざわざAl2層配線を使う必要
はなく、Al1層配線でも差違なく同様に適用さ
れ、同等の効を奏した。
MC is a memory cell, and DC is a dummy cell that generates a reference voltage for the read signal of the MC and differentially amplifies it with a sense amplifier to discriminate between information "1" and "0". W 0 , W 1 , ... are word lines, DW 0 , DW 1 are dummy word lines, IOC 0 ,
IOC 1 is a switch control signal. Also, SWC is a switch control circuit, and MA is a memory cell array. Note that the YC lines (YC 0 , YC 1 ,...) are Al2 in this example.
Although layer wiring is used, the invention is not particularly limited to this. In other words, if you use a memory cell in which the data line is made of a material other than Al, such as poly-Si, there is no need to use a 2-layer Al wiring for the YC line, and a 1-layer Al wiring can be applied in the same way. It was equally effective.

第5図は、本発明のさらに他の実施例としての
半導体メモリ装置の概略回路図である。データ対
線D0000などの両端にスイツチの役割をもつ
トランジスタQ,が配置されて、そのトランジ
スタのゲートがYC0などで制御される。また第2
のデータ線i/o(0,0),(0,0)な
どの一端にスイツチの役割をもち、IOC0
IOC0′などで制御されるトランジスタQ11が接
続されている。ここでQ00はセンスアンプ
SA1の近接に配置する方法もとれるが、レイアウ
トが複雑になるためにデータ対線に容量の不平衡
を導入し、これが雑音源となつたり、データ線容
量を増大させたりする場合がある。これに対し
て、第5図の実施例はSA1とは独立にレイアウト
できるので設計が容易となる。尚メモリセルとし
ては、例えば、日経エレクトロニクス1982年8月
30日号、p.166、図10に記載されている様な、
3層ポリSiを用いてデータ線を形成したメモリセ
ルも使える。
FIG. 5 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device as yet another embodiment of the present invention. A transistor Q, which functions as a switch, is arranged at both ends of the data pair lines D 00 and 00 , and the gate of the transistor is controlled by YC 0 and the like. Also the second
One end of the data line I/O (0,0), (0,0), etc. has the role of a switch, and IOC 0 ,
Transistors Q 1 and 1 controlled by IOC 0 ′ and the like are connected. Here Q 0 , 0 are sense amplifiers
A method of arranging it close to SA 1 is also possible, but this complicates the layout and introduces capacitance imbalance in the data pair lines, which may become a noise source or increase the data line capacity. On the other hand, the embodiment shown in FIG. 5 can be laid out independently of SA 1 , making the design easier. As a memory cell, for example, Nikkei Electronics August 1982
As described in the 30th issue, p.166, Figure 10,
Memory cells whose data lines are formed using three-layer poly-Si can also be used.

第6図は、本発明のさらに他の実施例としての
半導体メモリ装置の概略回路図でデータ対線の端
部にスイツチを配した前記第5図を利用して、第
2のデータ線を第1のデータ線と直交させた実施
例である。第2のデータ線容量がやや大きくなる
が回路が単純な分だけ面積が小になり、また設計
が容易となる。以上の回路実施例を実際のチツプ
上に配置した例を以下に述べる。
FIG. 6 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device according to yet another embodiment of the present invention, in which a second data line is connected to a second data line using FIG. This is an example in which the data line 1 is perpendicular to the data line 1. Although the capacitance of the second data line is slightly larger, the area is smaller due to the simpler circuit, and the design is easier. An example in which the above circuit embodiment is arranged on an actual chip will be described below.

第7図は前記第4図の回路図XDEC・DRに対
してMAなどの対称に配置したレイアウト図であ
る。通常2交点セルのワード線は比較的高抵抗の
ポリSiとか耐火性金属シリサイドなどが使われ
る。もしチツプCHIPの形状がパツゲージ寸法に
規制されて第7図のように長方形にせざるを得な
い場合、ワード線の遅延時間短縮のためにワード
線はチツプ短辺方向に配置し、しかも分割された
ワード線の中点から駆動する第7図の構成が望ま
しい。またYC線は、Alのような十分低抵抗配線
であればチツプの長辺方向に複数のメモリセルア
レーMA上を貫通させることができる。またI/
O線に接続されるセンスアンプSAやDRVは、レ
イアウトの容易さからYDEC・DRとは反対位置
の周辺回路群PRC2側に配置さるのが都合がよ
い。なぜなら周辺回路群PRC1側に配置すると
SAやDRVなどへの配線をYDEC・DR上を通過
させざるを得なくなるが、これはレイアウトが雑
しいからである。また第7図は、第5図の実施例
にも適用できる。ただし通常1交点セルはワード
線はAlなどのような低抵抗材で形成されている
ので、ワード線をわざわざ分割する必要はなく、
XDEC・DRは、チツプ短辺方向の端部に配置し
てもよい。
FIG. 7 is a layout diagram in which MA etc. are arranged symmetrically with respect to the circuit diagram XDEC/DR of FIG. 4. Usually, the word line of a two-intersection cell is made of relatively high resistance poly-Si or refractory metal silicide. If the shape of the chip CHIP is restricted by the part gauge dimensions and has to be rectangular as shown in Figure 7, the word line should be arranged in the direction of the short side of the chip and divided to reduce the delay time of the word line. The configuration shown in FIG. 7, which drives from the midpoint of the word line, is desirable. Furthermore, if the YC line is a sufficiently low-resistance wiring such as Al, it can be passed through the plurality of memory cell arrays MA in the long side direction of the chip. Also I/
For ease of layout, it is convenient for the sense amplifiers SA and DRV connected to the O line to be placed on the side of the peripheral circuit group PRC2 opposite to the YDEC and DR. This is because if placed on the peripheral circuit group PRC1 side,
Wiring to SA, DRV, etc. has to pass over YDEC/DR, but this is because the layout is complicated. Furthermore, FIG. 7 can also be applied to the embodiment shown in FIG. However, since the word line of a single-intersection cell is usually made of a low-resistance material such as Al, there is no need to take the trouble to divide the word line.
XDEC/DR may be placed at the end of the chip in the short side direction.

第8図は、前記第6図の回路図のレイアウト図
である。ワード線がチツプ長辺方向に配置されて
いるのでワード線が低抵抗という1交点セルの利
点が活かされた構成となつている。またYC線を
Al2層配線で形成すればYDEC・DRは図のよう
にチツプ端部に配置できるので、YDEC・DR部
の駆動回路は片側だけでよく、したがつてその分
だけその面積は小にできる。もちろん設計によつ
てはYDER・DRを真中に配置することも可能で
ある。
FIG. 8 is a layout diagram of the circuit diagram of FIG. 6. Since the word lines are arranged in the long side direction of the chip, the word line has a low resistance, which is an advantage of the one-cross point cell. Also YC line
If formed using Al2 layer wiring, the YDEC/DR can be placed at the edge of the chip as shown in the figure, so the drive circuit for the YDEC/DR section only needs to be on one side, and the area can be reduced accordingly. Of course, depending on the design, it is also possible to place YDER/DR in the middle.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、本発明によつて、高S/Nでしかも設計
の容易な半導体メモリ装置が提供できることにな
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device that has a high S/N ratio and is easy to design.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は従来の半導体メモリ装置
の概略回路図、第3図は本発明の一実施例として
の半導体メモリ装置の概略回路図、第4図〜第6
図は本発明の他の実施例としての半導体メモリ装
置の概略回路図、第7図および第8図は本発明に
使用した概略レイアウト図である。 D00,D01,…データ線、W0,W1…ワード線、
YC0,YC1,…制御信号、SA…センスアンプ、
AB…アドレスバツフア、SW0,SW1…スイツ
チ、D1…データ入力、WE…書き込み制御信号。
1 and 2 are schematic circuit diagrams of a conventional semiconductor memory device, FIG. 3 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention, and FIGS.
The figure is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device as another embodiment of the present invention, and FIGS. 7 and 8 are schematic layout diagrams used in the present invention. D 00 , D 01 , ... data line, W 0 , W 1 ... word line,
YC 0 , YC 1 ,...control signal, SA...sense amplifier,
AB...Address buffer, SW 0 , SW 1 ...Switch, D 1 ...Data input, WE...Write control signal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 その長さ方向が第1の方向と略並行に配置さ
れた複数のワード線と、 その長さ方向が上記第1の方向と交叉する第2
の方向と略並行に配置された複数の第1データ線
群と、 複数の第1のスイツチと、 該複数の第1のスイツチを介して上記複数の第
1データ線群と接続されるとともにその長さ方向
が上記第1の方向と略並行に配置された複数の第
2データ線群と、 複数の第2のスイツチと、 該複数の第2のスイツチを介して上記複数の第
2のスイツチと接続されるとともにその長さ方向
が上記第2の方向と略並行に配置された複数の第
3データ線と、 上記複数のワード線と上記複数の第1データ線
群との所望の交点に配置された複数のメモリセル
と、 上記複数のワード線と上記複数の第2のスイツ
チとを選択する第1選択手段と、 上記複数の第1のスイツチを選択する第2選択
手段とを具備してなり、 上記複数の第3データ線の少なくとも一本のデ
ータ線を挟むように上記複数の第2データ線群は
上記第1の方向に分割され、 上記複数の第2データ線群の少なくとも一本の
データ線を挟むように上記複数の第1データ線群
は上記第2の方向に分割されてなることを特徴と
する半導体メモリ装置。 2 上記第1選択手段が上記複数のワード線のう
ちの一本ワード線と上記複数の第2のスイツチの
うち上記第1の方向に沿つて配置された二つの第
2のスイツチを選択し、上記第2選択手段が上記
複数の第1のスイツチのうち上記第1の方向に沿
つて配置された二つのスイツチを選択することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体メ
モリ装置。 3 上記複数の第1データ線群と、上記複数の第
2データ線群と、上記複数の第3データ線とは、
それぞれ対線からなり、 上記複数の第1データ線群の対線はそれぞれ複
数のセンスアンプに接続されてなることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載または第2項のい
ずれかに記載の半導体メモリ装置。 4 上記複数の第3データ線には複数の読み出し
用増幅手段が接続されてなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載から第3項までのいずれ
かに記載の半導体メモリ装置。 5 上記複数の第1データ線群は折り返し型の対
線からなり、該折り返し型の対線を構成する二本
の線は互いに近接して配置されてなることを特徴
とする特許請求の範囲第1項から第4項までのい
ずれかに記載の半導体メモリ装置。 6 上記複数の第1データ線群の対線はそれぞれ
複数のセンスアンプに接続され、上記複数の第1
データ線群のそれぞれの対線を構成する二本の線
は該センスアンプを中心に上記第2の方向と略並
行に直線状に配置されてなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項から第4項までのいずれかに
記載の半導体メモリ装置。 7 上記第2選択手段は上記複数の第1のスイツ
チを選択するための複数の制御線を有し、該複数
の制御線は上記第2の方向と略並行に配置されて
なり、 上記複数の第1データ線群と、上記複数の第2
データ線群と、上記複数の第3データ線とは、第
1の配線層で形成され、 上記複数の制御線は第2の配線層で形成された
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項から第6
項のいずれかに記載の半導体メモリ装置。 8 上記第1選択手段と上記第2選択手段の少な
くとも一方の長手方向と他方の長手方向とは上記
第1の方向と上記第2の方向にそれぞれ略並行に
配置されてなることを特徴とする特許請求の範囲
第1項から第7項のいずれかに記載の半導体メモ
リ装置。 9 上記第1選択手段と上記第2選択手段の少な
くとも一方は長方形の形状のチツプの略中央に配
置されるとともに、該一方の長手方向は上記長方
形の長手方向と略並行であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項から第8項のいずれかに記載
の半導体メモリ装置。 10 上記第1選択手段と上記第2選択手段の他
方の長手方向は上記一方の長手方向と略直交する
方向であることを特徴とする特許請求の範囲第9
項記載の半導体メモリ装置。 11 上記第1選択手段と上記第2選択手段の上
記他方は上記チツプの二つの短辺のいずれかに近
接して配置されていることを特徴とする特許請求
の範囲第10項記載の半導体メモリ装置。 12 上記第1選択手段と上記第2選択手段の少
なくとも一方は長方形の形状のチツプの二つの長
辺のいずれかに近接して配置されていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項から第8項のいず
れかに記載の半導体メモリ装置。 13 上記第1選択手段と上記第2選択手段の他
方の長手方向は上記一方の長手方向と略直交する
方向であることを特徴とする特許請求の範囲第1
2項記載の半導体メモリ装置。 14 上記第1選択手段と上記第2選択手段の上
記他方は上記チツプの二つの短辺のいずれかに近
接して配置されていることを特徴とする特許請求
の範囲第13項記載の半導体メモリ装置。 15 上記第1選択手段と上記第2選択手段とは
アドレス信号に応答して上記複数のワード線と上
記複数の第2のスイツチと上記複数の第1のスイ
ツチとを選択することを特徴とする特許請求の範
囲第1項から第14項のいずれかに記載の半導体
メモリ装置。 16 上記複数のメモリセルはそれぞれ1つのト
ランジスタと1つのキヤパシターとから構成され
たダイナミツクメモリセルであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項から第15項のいずれか
に記載の半導体メモリ装置。
[Claims] 1. A plurality of word lines whose length direction is arranged substantially parallel to the first direction, and a second word line whose length direction intersects the first direction.
a plurality of first data line groups arranged substantially parallel to the direction of the plurality of first data line groups; a plurality of first switches; and a plurality of first data line groups connected to the plurality of first data line groups through the plurality of first switches. a plurality of second data line groups whose length directions are arranged substantially parallel to the first direction; a plurality of second switches; and a plurality of second switches via the plurality of second switches. a plurality of third data lines connected to the plurality of third data lines and whose length direction is arranged substantially parallel to the second direction, and a plurality of third data lines connected to the plurality of word lines and the plurality of first data line groups at a desired intersection A plurality of arranged memory cells, a first selection means for selecting the plurality of word lines and the plurality of second switches, and a second selection means for selecting the plurality of first switches. The plurality of second data line groups are divided in the first direction so as to sandwich at least one data line of the plurality of third data lines, and at least one of the plurality of second data line groups is divided in the first direction. A semiconductor memory device characterized in that the plurality of first data line groups are divided in the second direction so as to sandwich the data lines of the book. 2 the first selection means selects one word line from the plurality of word lines and two second switches arranged along the first direction from among the plurality of second switches; 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said second selection means selects two switches arranged along said first direction from among said plurality of first switches. 3 The plurality of first data line groups, the plurality of second data line groups, and the plurality of third data lines are:
Each of the plurality of pairs of data lines is connected to a plurality of sense amplifiers. semiconductor memory devices. 4. The semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of read amplification means are connected to the plurality of third data lines. 5. The plurality of first data line groups are comprised of folded pair lines, and the two lines constituting the folded pair lines are arranged close to each other. The semiconductor memory device according to any one of items 1 to 4. 6 The pairs of the plurality of first data line groups are each connected to the plurality of sense amplifiers, and the plurality of first data line groups are connected to the plurality of sense amplifiers.
Claim 1, wherein the two lines constituting each pair of the data line group are arranged in a straight line approximately parallel to the second direction with the sense amplifier as the center. 4. The semiconductor memory device according to any one of items 1 to 4. 7 The second selection means has a plurality of control lines for selecting the plurality of first switches, the plurality of control lines are arranged substantially parallel to the second direction, and the plurality of control lines a first data line group, and a plurality of second data line groups.
Claim 1, wherein the data line group and the plurality of third data lines are formed in a first wiring layer, and the plurality of control lines are formed in a second wiring layer. Section 6
3. The semiconductor memory device according to any one of the items. 8. A longitudinal direction of at least one of the first selection means and the second selection means and a longitudinal direction of the other are arranged substantially parallel to the first direction and the second direction, respectively. A semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 7. 9. At least one of the first selection means and the second selection means is arranged approximately at the center of the rectangular chip, and the longitudinal direction of the one is approximately parallel to the longitudinal direction of the rectangle. A semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 8. 10 Claim 9, wherein the other longitudinal direction of the first selection means and the second selection means is a direction substantially orthogonal to the one longitudinal direction.
The semiconductor memory device described in Section 1. 11. The semiconductor memory according to claim 10, wherein the other of the first selection means and the second selection means is disposed close to one of two short sides of the chip. Device. 12. At least one of the first selection means and the second selection means is disposed close to one of two long sides of a rectangular chip. 9. The semiconductor memory device according to claim 8. 13. Claim 1, characterized in that the other longitudinal direction of the first selection means and the second selection means is a direction substantially perpendicular to the one longitudinal direction.
2. The semiconductor memory device according to item 2. 14. The semiconductor memory according to claim 13, wherein the other of the first selection means and the second selection means is disposed close to one of two short sides of the chip. Device. 15. The first selection means and the second selection means select the plurality of word lines, the plurality of second switches, and the plurality of first switches in response to an address signal. A semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 14. 16. The semiconductor memory according to any one of claims 1 to 15, wherein each of the plurality of memory cells is a dynamic memory cell composed of one transistor and one capacitor. Device.
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KR1019830003347A KR910002962B1 (en) 1982-07-21 1983-07-20 Monolithic Semiconductor Memory Reduces Data Line Resistance
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