JPH0463014B2 - - Google Patents
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- JPH0463014B2 JPH0463014B2 JP18248983A JP18248983A JPH0463014B2 JP H0463014 B2 JPH0463014 B2 JP H0463014B2 JP 18248983 A JP18248983 A JP 18248983A JP 18248983 A JP18248983 A JP 18248983A JP H0463014 B2 JPH0463014 B2 JP H0463014B2
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- group
- indium
- resin
- chelate resin
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Description
本発明は、インジウムを含有する溶液からイン
ジウムを回収する方法に関するものである。
さらに詳しくは特殊なキレート樹脂を使用し
て、溶液中のインジウムを吸着回収する方法に関
するものである。
インジウムは地球上に広く存在するが天然に濃
縮された状態で存在しないため、何らかの方法で
多量成分を除去しつつ微量成分を含む液を循環さ
せることによつて濃縮させるか、非常に希薄な状
態から直接回収する方法が考えられている。
インジウムの工業的生産は、亜鉛精錬、鉛精錬
の副産物の中に濃縮されるスラグから行なわれて
いる。インジウムの工業的生産方法としては、た
とえば鉛溶鉱炉スラグを、硫酸浸出し、インジウ
ム、鉛等を含有する残渣と、亜鉛、銅、カドミウ
ム等成分を含有する溶液とに分けた後、上記残渣
をさらに硫酸浸出を行なつてインジウムを溶解し
鉛と分離し、上記インジウム含有溶液に、酸化亜
鉛と硫化ソーダを添加し、中和硫化を行ないイン
ジウムを沈澱として分離し、該沈澱に水酸化ナト
リウムを加え不純物を溶解除去し、残渣であるイ
ンジウムを再度硫酸浸出し、硫化水素処理を施し
不純物を沈澱除去した後、アルミニウム置換し、
電解によつて金属インジウムを得る方法が知られ
ている。
インジウムの最も有効な原料であるこれら鉱石
中には、多種類の元素を有しているためインジウ
ムを製造するための処理は上述のように複雑であ
りインジウムを低コストで回収することは容易で
はない。
また、インジウム含有溶液からインジウムを回
収する方法としてイミノジ酢酸型の官能基を有す
るキレート樹脂で吸着回収する方法は公知である
(Anal.Chem.Acta.アナリテイカ、ヒミカ、アク
タ、40(1968)479−485)。しかしながら、上記イ
ミノジ酢酸型の官能基を有するキレート樹脂を用
いる方法では該樹脂のインジウム吸着容量が小さ
いため、使用樹脂当りのインジウムの回収量が工
業的には十分なものでないとか、インジウムの選
択吸着性が必ずしも高くない、といつた欠点があ
り、未だ工業的に満足されたものではない。
かかる事情に鑑み、本発明者らは上記不都合を
克服し、特に回収量の向上したインジウムの回収
法を見出すべく、鋭意研究した結果、特定の官能
基を有するキレート樹脂が、インジウム含有溶液
中のインジウムに対して非常に大きい吸着容量を
有することを見出し、本発明方法を完成するに至
つた。すなわち、本発明は分子中にフオスフイン
基、ホスホニウム塩基、フオスフイン酸基、フオ
スフイン酸エステル基、フオスホン酸基、フオス
ホン酸エステル基、アミノアルキレン燐酸エステ
ル基及び前記官能基の金属塩から選ばれた少なく
とも一種の官能基を有するキレート樹脂と、イン
ジウムを含有する溶液を接触させることを特徴と
する溶液中に含まれるインジウムの回収法を提供
するにある。
本発明において用いられるキレート樹脂は、分
子中に一般式
−P(R)2、−
P(R)3
(式中Rは、同一または異なる水素原子、アルキ
ル基、フエニル基、置換フエニル基)で示される
フオスフイン基、ホスホニウム塩基、一般式−
PO(OH)2で示されるフオスホン酸基、一般式−
PO(OR)2(式中Rは同一または異なる水素原子、
アルキル基、フエニル基、置換フエニル基を示
し、少くとも1つはアルキル基、フエニル基また
は置換フエニル基を示す)で示されるフオスホン
酸エステル基、一般式−PO(OH)Hで示される
フオスフイン酸基、一般式−PO(OR)H(式中R
はアルキル基、フエニル基または置換フエニル
基)で示されるフオスフイン酸エステル基、一般
式
The present invention relates to a method for recovering indium from a solution containing indium. More specifically, it relates to a method of adsorbing and recovering indium in a solution using a special chelate resin. Although indium is widely distributed on the earth, it does not exist in a naturally concentrated state, so it must be concentrated by some method that removes the major components and circulates a liquid containing trace components, or it must be concentrated in a very diluted state. A method is being considered for direct recovery from Industrial production of indium is from slag concentrated in the by-products of zinc and lead smelting. As an industrial production method for indium, for example, lead blast furnace slag is leached with sulfuric acid, separated into a residue containing indium, lead, etc., and a solution containing components such as zinc, copper, cadmium, etc., and then the above residue is further processed. Perform sulfuric acid leaching to dissolve indium and separate it from lead, add zinc oxide and sodium sulfide to the above indium-containing solution, perform neutralization and sulfidation to separate indium as a precipitate, and add sodium hydroxide to the precipitate. The impurities are dissolved and removed, the residual indium is leached with sulfuric acid again, and the impurities are precipitated and removed by hydrogen sulfide treatment, and then replaced with aluminum.
A method of obtaining metallic indium by electrolysis is known. These ores, which are the most effective raw materials for indium, contain many different elements, so the process to produce indium is complicated as described above, and it is not easy to recover indium at low cost. do not have. Furthermore, as a method for recovering indium from an indium-containing solution, a method of adsorption and recovery using a chelate resin having an iminodiacetic acid type functional group is known (Anal. Chem. Acta. Analytica, Himika, Acta, 40 (1968) 479- 485). However, in the method using a chelate resin having an iminodiacetic acid type functional group, the indium adsorption capacity of the resin is small, so the amount of indium recovered per resin used is not industrially sufficient, or the selective adsorption of indium is difficult. However, it has the drawback that its properties are not necessarily high, and it has not yet been industrially satisfied. In view of these circumstances, the present inventors conducted intensive research to overcome the above-mentioned disadvantages and to find a method for recovering indium that particularly improved the recovery amount. It was discovered that it has a very large adsorption capacity for indium, and the method of the present invention was completed. That is, the present invention provides at least one type selected from a phosphine group, a phosphonium base, a phosphinate group, a phosphinate group, a phosphonic acid group, a phosphonate group, an aminoalkylene phosphate group, and a metal salt of the above functional group in the molecule. The present invention provides a method for recovering indium contained in a solution, which comprises contacting a chelate resin having a functional group with a solution containing indium. The chelate resin used in the present invention has the general formula -P(R) 2 , -P(R) 3 (wherein R is the same or different hydrogen atom, alkyl group, phenyl group, or substituted phenyl group) in the molecule. Phosphine group, phosphonium base, general formula -
Phosphonic acid group represented by PO(OH) 2 , general formula −
PO(OR) 2 (wherein R is the same or different hydrogen atom,
a phosphonic acid ester group represented by an alkyl group, a phenyl group, or a substituted phenyl group, at least one of which represents an alkyl group, a phenyl group, or a substituted phenyl group), a phosphonic acid represented by the general formula -PO(OH)H group, general formula -PO(OR)H (in the formula R
is an alkyl group, phenyl group or substituted phenyl group), a phosphinate group represented by the general formula
【式】および/または[expression] and/or
【式】(式中Xはアミノアルキレン
基、ポリアルキレンポリアミノアルキレン基、R
はアルキル基、フエニル基または置換フエニル
基)で示されるアミノアルキレン燐酸エステル基
または前記官能基の金属塩を有するキレート樹脂
であれば特に制限されるものではない。
本発明の前記官能基の金属塩を有するキレート
樹脂とはフオスフイン基、ホスホニウム塩基、フ
オスホン酸基、フオスホン酸エステル基、フオス
フイン酸基、フオスフイン酸エステル基またはア
ミノアルキレン燐酸エステル基との金属塩の間の
キレート結合若しくは錯結合による金属塩であつ
てこれら塩形成の金属塩の結合力が前記官能基と
インジウムとの結合力より弱い金属であれば特に
制限されるものではない。該金属塩の金属として
は一般にはナトリウム、カリウム、カルシウム、
マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金
属が使用される。
フオスフイン基、ホスホニウム塩基を有するキ
レート樹脂としては、クロルメチル基、ブロムメ
チル基等のハロゲン化アルキル基、臭素、ヨウ素
等のハロゲン原子を含有したスチレン−ジビニル
ベンゼン共重合体、、フエノール樹脂、ポリエチ
レン、ポリプロピレン等の重合体にリチウムジフ
エニルホスフイン、ナトリウムジフエニルホスフ
イン、リチウムフエニルホスフイン、トリクレジ
ルホスフイン等のホスフイン化合物、前記化合物
の混合物を反応させて得たフオスフイン基、ホス
ホニウム塩基を生成した樹脂等が挙げられる。
フオスホン酸エステル基を有するキレート樹脂
としては、クロルメチル基、ブロムメチル基等の
ハロゲン化アルキル基を含有したスチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体、フエノール樹脂、アニリ
ン樹脂、m−フエニレン重合体(以下、ハロゲン
化アルキル基を有した樹脂と称す。)に亜リン酸
トリエチル、亜リン酸トリフエニル、亜リン酸ト
リメチル等の亜リン酸誘導体、前記亜燐酸誘導体
の混合物(以下、亜燐酸誘導と称す。)を反応さ
せた樹脂等が挙げられる。
フオスホン酸基を有するキレート樹脂として
は、前記フオスホン酸エステル基を有するキレー
ト樹脂を酸、若しくはアルカリ触媒下、エステル
の加水分解反応をさせた樹脂;ポリスチレン、フ
エノール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等
の重合体に三塩化燐を反応させ、次いで塩素又は
酸素を反応させた後、アルカリ又は酸存在下加水
分解反応を行つた樹脂等が挙げられる。
フオスフイン酸エステル基を有するキレート樹
脂としては、前記ハロゲン化アルキル基を有した
樹脂に次亜燐酸ジエチル、次亜燐酸ジフエニル等
の次亜リン酸誘導体、前記次亜燐酸誘導体の混合
物(以下、次亜燐酸誘導体と称す。)を反応させ
た樹脂等が挙げられる。
フオスフイン酸基を有するキレート樹脂として
は、前記フオスフイン酸エステル基を有するキレ
ート樹脂を酸、若しくはアルカリ触媒下、エステ
ルの加水分解反応をさせた樹脂;ポリスチレン、
フエノール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン
等の重合体に三塩化燐を反応させ、次いで加水分
解反応を行つた樹脂等が挙げられる。
アミノアルキレン燐酸基を有するキレート樹脂
としては、前記ハロゲン化アルキル基、スルホニ
ルクロリド基、カルボニルクロリド基、イソシア
ナート基、ニトリル基、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子、エポキシ基、アルデヒド基、ケトン基
等のアミン反応性基を有したスチレン−ジビニル
ベンゼン共重合体、フエノール樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリアク
リロニトリル、ポリシアン化ビニリデン、ポリメ
タアクリロニトリル、ポリ−α−クロルアクリロ
ニトリル等の重合体(以下、アミン反応性基を有
した樹脂と称す。)に、アンモニア、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテ
トラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエ
チレンヘキサミン、ヘキサメチレンジアミン、グ
アニジン、ヒドラジン等のアミノ化合物を反応さ
せて得た樹脂(以下、アミノ化樹脂と称す。)に、
アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド、アセト
ン、アセチルアセトン等のアルデヒド若しくはケ
トン類、および前記アルデヒド、ケトンの混合物
を反応させたシツフ塩基を有する樹脂に前記亜燐
酸誘導体を反応させた樹脂;前記アミノ化樹脂
に、ホルマリン、ホルムアルデヒド、パラホルム
アルデヒド、トリオキシサン等のメチレン化剤と
前記、亜燐酸誘導体を反応させた樹脂;前記アミ
ノ化樹脂にクロメチルフオスホン酸ジエチル、ク
ロルメチルフオスホン酸エチル、クロルメチルフ
オスホン酸ジフエニル、クロルメチルフオスホン
酸ジクレジル、クロルメチルフオスフイン酸エチ
ル等のハロゲン化アルキル燐酸エステル、前記ハ
ロゲン化アルキル燐酸エステルの混合物を反応さ
せた樹脂等が挙げられる。
しかして、本発明に限定するキレート樹脂が従
来公知のイミノジ酢酸型キレート樹脂に比較して
吸着容量で6倍またはそれ以上吸着するというこ
とは全く予期し難いことであつた。
本発明方法の実施に当り、上記キレート樹脂と
接触させるインジウム含有溶液として通常PHが
8.5以下のインジウム含有水溶液が適用されるが、
勿論他のインジウム含有溶液であつても適用する
ことができる。
特に、本発明方法の処理液としては亜鉛、鉛の
精錬スラツジ等の硫酸浸出液からのもの及び海水
が好適である。
本発明方法の実施に当り、上記キレート樹脂と
インジウムを含有する溶液との接触は、適宜条件
を選定して行えば良い。接触方法は特に制限され
るものではなく、例えばインジウムを含有する溶
液中へ、キレート樹脂を浸漬する方法、キレート
樹脂を充填した塔中へ、インジウム含有溶液を通
す方法等が一般に採用される。しかしながら、処
理操作の点からキレート樹脂を充填した塔中へ、
インジウム含有溶液を通す方法が好適に採用され
る。
本発明方法の実施に当り、キレート樹脂の使用
量は特に制限されるものではなく、処理対象とす
るインジウム含有溶液中のインジウム濃度、用い
るキレート樹脂の種類等によつても変わるが、こ
れは適宜予備実験を行なうことにより設定するこ
とができる。一般にキレート樹脂の使用量は、適
宜選択すればよい。
キレート樹脂とインジウム含有溶液の接触温度
は特に制限されるものではないが、通常0〜100
℃の温度で実施される。また接触時間も特に制限
されるものではなく、通常数秒以上の接触時間が
あれば十分である。
形状は粒状又は球状樹脂が好適に用いられる
が、また用途に応じ破砕状、繊維状、ハニカム
状、布状、液状等の樹脂も使用できる。
本発明方法によつてインジウムを吸着捕集した
ところのキレート樹脂は、次いで塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸、硫化ソーダ、イミノジ酢酸、エチレン
ジアミン、四酢酸等により溶離回収するとか、加
熱分離することにより、キレート樹脂とインジウ
ムを分離するとかして、インジウムをキレート樹
脂から分離する。
以上のようにして分離回収されたインジウムは
次いで公知の方法、例えば硫酸塩となし電解する
ことによつてインジウム金属として回収すること
ができる。
以上詳述したような本発明方法によれば、公知
のイミノジ酢酸型キレート樹脂に比較してその吸
着能力が6倍ないしそれ以上であり、その工業的
価値に大なるものである。
以下に、本発明方法を実施例によつてさらに詳
細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り、以下の実施例によつて限定されるものではな
い。
実施例 1
クロルメチル化ポリスチレン200重量部をトル
エン溶媒中、亜リン酸トリエチル500重量部と反
応させて得たフオスホン酸エステル基を有する樹
脂(以下、本重合体をキレート樹脂Aと称す。)
の10c.c.を内径12m/mφのカラムに充填し、塔頂
よりインジウム102.2ppm含むPH1.0の亜鉛鉱石製錬
スラツジの硫酸浸出液100c.c.を2時間で通過し流
出液中のインジウムの分析を行つたところ、8.3
mgのインジウムが吸着した。
実施例 2〜9
キレート樹脂B;
フオスホン酸基を有する市販の樹脂〔デユオラ
イトES−63(ダイヤモンドシヤムロツク社製)〕。
キレート樹脂C;
ポリアクリロニトリル60重量部を水溶媒中ジエ
チレントリアミン103重量部と反応させて得たア
ミノ化ポリアクリロニトリルを更に36%塩酸存在
下、ホルマリン水溶液281重量部と亜燐酸トリエ
チル498重量部を反応させて得たアミノアルキレ
ン燐酸エステル基を有する樹脂。
キレート樹脂D;
クロルメチル化ポリスチレン200重量部とトリ
ブチルホスフイン200重量部をジメチルホルムア
ミド溶媒中で反応させて得たホスホニウム塩基を
有する樹脂。
キレート樹脂E;
クロルメチル化ポリスチレン200重量部とトリ
フエニルホスフイン260重量部をジメチルホルム
アミド溶媒中反応させて得たホスホニウム塩基を
有する樹脂。
キレート樹脂F;
臭素化ポリスチレン150重量部をテトラヒドロ
フラン溶媒中、1.6モル%n−ブチルリチウム−
ヘキサン溶液64重量部と反応させてリチウムポリ
スチレンを得た。これをテトラヒドロフラン溶媒
中、クロルジフエニルフオスフイン300重量部と
反応させ、さらに塩化メチレン溶媒中、40%過酢
酸371重量部で酸化して得たフオスフイン基を有
する樹脂。
キレート樹脂G;
キレート樹脂Dを20%苛性ソーダ水溶液中で加
水分解して得たフオスホン酸のナトリウム塩を有
する樹脂。
キレート樹脂H;
ポリスチレン100重量部をクロロホルム溶媒中、
三塩化燐150重量部と反応させた後、加水分解反
応して得たフオスフイン酸基を有する樹脂。
キレート樹脂I;
アミノ化ポリスチレン100重量部を1・2−ジ
クロルエタン溶媒中、クロルメチルフオスフイン
酸クレジル120重量部と反応して得たフオスフイ
ン酸エステル基を有する樹脂。
以上のキレート樹脂を使用し、各々実施例1と
同様にしてインジウム102.2ppmを含むPH1.0の亜
鉛鉱石製錬スラツジの硫酸浸出液100c.c.を2時間
で通液しインジウムの分析をしたところ第1表に
示すような結果が得られた。[Formula] (wherein X is an aminoalkylene group, a polyalkylene polyaminoalkylene group, R
is not particularly limited as long as it is a chelate resin having an aminoalkylene phosphate group represented by (alkyl group, phenyl group, or substituted phenyl group) or a metal salt of the above functional group. The chelate resin having a metal salt of the above-mentioned functional group of the present invention is a metal salt between a phosphine group, a phosphonium base, a phosphonic acid group, a phosphonic acid ester group, a phosphonic acid group, a phosphonic acid ester group, or an aminoalkylene phosphate ester group. There is no particular restriction as long as the metal salt is a metal salt formed by a chelate bond or a complex bond, and the bonding force of the metal salt formed by these salts is weaker than the bonding force between the functional group and indium. The metal of the metal salt generally includes sodium, potassium, calcium,
Alkali metals and alkaline earth metals such as magnesium are used. Examples of chelate resins having a phosphine group or a phosphonium group include styrene-divinylbenzene copolymers containing halogenated alkyl groups such as chloromethyl groups and bromomethyl groups, and halogen atoms such as bromine and iodine, phenolic resins, polyethylene, polypropylene, etc. A phosphine group or phosphonium base was produced by reacting the polymer with a phosphine compound such as lithium diphenylphosphine, sodium diphenylphosphine, lithium phenylphosphine, tricresylphosphine, or a mixture of the above compounds. Examples include resin. Examples of chelate resins having phosphonic acid ester groups include styrene-divinylbenzene copolymers containing halogenated alkyl groups such as chloromethyl groups and bromomethyl groups, phenol resins, aniline resins, and m-phenylene polymers (hereinafter referred to as halogenated alkyl groups). phosphorous acid derivatives such as triethyl phosphite, triphenyl phosphite, and trimethyl phosphite, and a mixture of the above phosphorous acid derivatives (hereinafter referred to as phosphorous acid derivatives). and other resins. The chelate resin having a phosphonic acid group is a resin obtained by subjecting the chelate resin having a phosphonic acid ester group to an ester hydrolysis reaction under an acid or alkali catalyst; a polymer such as polystyrene, phenol resin, polyethylene, polypropylene, etc. Examples include resins that are reacted with phosphorus trichloride, then reacted with chlorine or oxygen, and then subjected to a hydrolysis reaction in the presence of an alkali or acid. The chelate resin having a phosphinate group may be a mixture of the resin having a halogenated alkyl group, a hypophosphorous acid derivative such as diethyl hypophosphite or diphenyl hypophosphite, or a mixture of the above hypophosphorous acid derivatives (hereinafter referred to as hypophosphorous acid derivative). Examples include resins made by reacting phosphoric acid derivatives). The chelate resin having a phosphinate group includes a resin obtained by subjecting the chelate resin having a phosphinate group to an ester hydrolysis reaction under an acid or alkali catalyst; polystyrene;
Examples include resins in which a polymer such as a phenol resin, polyethylene, or polypropylene is reacted with phosphorus trichloride and then subjected to a hydrolysis reaction. Examples of the chelate resin having an aminoalkylene phosphate group include the halogenated alkyl group, sulfonyl chloride group, carbonyl chloride group, isocyanate group, nitrile group, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, epoxy group, aldehyde group, ketone group, etc. Polymers such as styrene-divinylbenzene copolymers, phenolic resins, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polyvinylidene cyanide, polymethacrylonitrile, poly-α-chloroacrylonitrile, etc. having amine-reactive groups (hereinafter referred to as (referred to as a resin having an amine-reactive group) with an amino compound such as ammonia, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, hexamethylenediamine, guanidine, or hydrazine. resin (hereinafter referred to as aminated resin),
A resin in which the phosphorous acid derivative is reacted with an aldehyde or ketone such as acetaldehyde, formaldehyde, acetone, acetylacetone, and a mixture of the aldehydes and ketones; a resin in which the phosphorous acid derivative is reacted with the aminated resin; A resin obtained by reacting a methylenating agent such as , paraformaldehyde, or trioxysan with the above-mentioned phosphorous acid derivative; diethyl chloromethylphosphonate, ethyl chloromethylphosphonate, diphenyl chloromethylphosphonate, or chloromethyl in the aminated resin. Examples include halogenated alkyl phosphates such as dicresyl phosphonate and ethyl chloromethylphosphinate, and resins made by reacting mixtures of the halogenated alkyl phosphates. However, it was completely unexpected that the chelate resin limited to the present invention would have an adsorption capacity six times or more than the conventionally known iminodiacetic acid type chelate resin. In carrying out the method of the present invention, the pH of the indium-containing solution that is brought into contact with the chelate resin is usually
An aqueous solution containing indium of 8.5 or less is applied,
Of course, other indium-containing solutions can also be used. Particularly suitable as the treatment liquid for the method of the present invention are those from sulfuric acid leachates such as zinc and lead smelting sludge, and seawater. In carrying out the method of the present invention, the contact between the chelate resin and the indium-containing solution may be carried out under appropriately selected conditions. The contact method is not particularly limited, and for example, a method of immersing a chelate resin in a solution containing indium, a method of passing an indium-containing solution through a column filled with a chelate resin, etc. are generally employed. However, from the point of view of processing operations, into a column filled with chelate resin,
A method of passing an indium-containing solution is preferably employed. In carrying out the method of the present invention, the amount of chelate resin used is not particularly limited and varies depending on the indium concentration in the indium-containing solution to be treated, the type of chelate resin used, etc. It can be set by conducting preliminary experiments. Generally, the amount of chelate resin to be used may be selected as appropriate. The contact temperature between the chelate resin and the indium-containing solution is not particularly limited, but is usually between 0 and 100°C.
It is carried out at a temperature of °C. Further, the contact time is not particularly limited, and a contact time of several seconds or more is usually sufficient. Particulate or spherical resins are preferably used, but resins in crushed, fibrous, honeycomb, cloth, and liquid shapes can also be used depending on the purpose. The chelate resin from which indium has been adsorbed and collected by the method of the present invention is then eluted and recovered with hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, sodium sulfide, iminodiacetic acid, ethylenediamine, tetraacetic acid, etc., or separated by heating. Indium is separated from the chelate resin by separating the chelate resin and indium. The indium separated and recovered as described above can then be recovered as indium metal by a known method, for example, by electrolysis with sulfate. According to the method of the present invention as detailed above, the adsorption capacity is six times or more than that of the known iminodiacetic acid type chelate resin, and its industrial value is great. EXAMPLES The method of the present invention will be explained in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless the gist thereof is exceeded. Example 1 A resin having a phosphonate group obtained by reacting 200 parts by weight of chloromethylated polystyrene with 500 parts by weight of triethyl phosphite in a toluene solvent (hereinafter, this polymer is referred to as chelate resin A).
A column with an inner diameter of 12 m/mφ was filled with 10 c.c. of the sulfuric acid leachate of PH1.0 zinc ore smelting sludge containing 102.2 ppm of indium from the top of the column. An analysis of 8.3
mg of indium was adsorbed. Examples 2 to 9 Chelate resin B; Commercially available resin having a phosphonic acid group [Duolite ES-63 (manufactured by Diamond Shamlok Co., Ltd.)]. Chelate resin C: Aminated polyacrylonitrile obtained by reacting 60 parts by weight of polyacrylonitrile with 103 parts by weight of diethylenetriamine in an aqueous solvent was further reacted with 281 parts by weight of formalin aqueous solution and 498 parts by weight of triethyl phosphite in the presence of 36% hydrochloric acid. A resin having an aminoalkylene phosphate ester group obtained by Chelate resin D: A resin containing a phosphonium base obtained by reacting 200 parts by weight of chloromethylated polystyrene and 200 parts by weight of tributylphosphine in a dimethylformamide solvent. Chelate resin E: A resin containing a phosphonium base obtained by reacting 200 parts by weight of chloromethylated polystyrene and 260 parts by weight of triphenylphosphine in a dimethylformamide solvent. Chelate resin F: 150 parts by weight of brominated polystyrene in tetrahydrofuran solvent, 1.6 mol% n-butyllithium
Lithium polystyrene was obtained by reacting with 64 parts by weight of hexane solution. A resin having a phosphine group obtained by reacting this with 300 parts by weight of chlordiphenylphosphine in a tetrahydrofuran solvent and further oxidizing with 371 parts by weight of 40% peracetic acid in a methylene chloride solvent. Chelate resin G: A resin containing a sodium salt of phosphonic acid obtained by hydrolyzing chelate resin D in a 20% aqueous solution of caustic soda. Chelate resin H: 100 parts by weight of polystyrene in chloroform solvent,
A resin containing phosphinic acid groups obtained by reacting with 150 parts by weight of phosphorus trichloride and then hydrolyzing it. Chelate Resin I: A resin having a phosphinate group obtained by reacting 100 parts by weight of aminated polystyrene with 120 parts by weight of cresyl chloromethylphosphinate in a 1,2-dichloroethane solvent. Using each of the above chelate resins, 100 c.c. of sulfuric acid leachate from zinc ore smelting sludge with a pH of 1.0 containing 102.2 ppm of indium was passed through the solution for 2 hours and analyzed for indium in the same manner as in Example 1. The results shown in Table 1 were obtained.
【表】【table】
【表】
実施例 10〜18
102.2ppmのインジウムを含有するPH=1.0の硫
酸水溶液50mlにA,B,C,D,E,F.G,H,
Iの樹脂0.05gをそれぞれ入れ室温で3時間撹拌
接触処理を行なつた後ロ過を行ないロ液中に残存
するインジウム濃度を分析し、インジウム吸着量
を求めた。その結果を第2表に示した。[Table] Examples 10 to 18 A, B, C, D, E, FG, H,
After adding 0.05 g of each of the resins of I and carrying out a stirring contact treatment at room temperature for 3 hours, filtration was performed, and the concentration of indium remaining in the filtrate was analyzed to determine the amount of indium adsorbed. The results are shown in Table 2.
【表】
比較例 1〜3
実施例10〜18において用いられたキレート樹脂
のかわりに市販のイオン交換樹脂スミカイオン
KA850、スミキレートCR−1(住友化学製)、イ
ミノジ酢酸型キレート樹脂デユオライトES466
(ダイヤモンドシヤムロツク製)を用い実施例10
〜18と同様にしてインジウムの吸着を行なつた。
結果を第3表に示した。[Table] Comparative Examples 1 to 3 Commercially available ion exchange resin Sumikaion was used instead of the chelate resin used in Examples 10 to 18.
KA850, Sumikylate CR-1 (manufactured by Sumitomo Chemical), iminodiacetic acid type chelate resin Duolite ES466
Example 10 using (manufactured by Diamond Shamrock)
Indium was adsorbed in the same manner as in ~18.
The results are shown in Table 3.
【表】
実施例1〜18、比較例1〜3で示したように本
願発明のキレート樹脂はインジウムを含有する水
溶液からインジウムを選択的に吸着除去する能力
が優れていることが明白である。[Table] As shown in Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 to 3, it is clear that the chelate resin of the present invention has an excellent ability to selectively adsorb and remove indium from an aqueous solution containing indium.
Claims (1)
フイン酸基、フオスフイン酸エステル基、フオス
ホン酸基、フオスホン酸エステル基、アミノアル
キレン燐酸エステル基及び前記官能基の金属塩か
ら選ばれた少なくとも一種の官能基を有するキレ
ート樹脂と、インジウムを含有する溶液を接触さ
せることを特徴とするインジウムの回収法。 2 インジウムを含有する溶液のPHが8.5以下の
水溶液であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のインジウムの回収法。 3 インジウムを含有する溶液が海水または亜
鉛、鉛を製錬する際の副産物の硫酸浸出液である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のイ
ンジウムの回収法。[Scope of Claims] 1 At least one member selected from a phosphine group, a phosphonium base, a phosphinate group, a phosphinate group, a phosphonic acid group, a phosphonate group, an aminoalkylene phosphate group, and a metal salt of the above functional group. A method for recovering indium, which comprises bringing a chelate resin having a functional group into contact with a solution containing indium. 2. The method for recovering indium according to claim 1, wherein the indium-containing solution is an aqueous solution with a pH of 8.5 or less. 3. The indium recovery method according to claim 1, wherein the indium-containing solution is seawater or a sulfuric acid leachate, which is a by-product of smelting zinc and lead.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18248983A JPS6071524A (en) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | Method for recovering indium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18248983A JPS6071524A (en) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | Method for recovering indium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6071524A JPS6071524A (en) | 1985-04-23 |
| JPH0463014B2 true JPH0463014B2 (en) | 1992-10-08 |
Family
ID=16119171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18248983A Granted JPS6071524A (en) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | Method for recovering indium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6071524A (en) |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP18248983A patent/JPS6071524A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6071524A (en) | 1985-04-23 |
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