JPH0464307B2 - - Google Patents
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Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は電気回路を形成する配線基板の製造に
利用する。特に、製造工程が簡単であり、絶縁層
に両表面に貫通するピンホールがない配線基板の
製造方法に関する。
〔概 要〕
電気回路用のプリント基板の製造方法におい
て、
片面に接着剤が塗布されたリケイ用フイルムを
用いて、接着剤層を転写することにより、形成す
る操作を少なくとも3回重ねて行うことにより、
三つの接着剤層が積層構造により形成され、両
表面を貫通するピンホールがないようにしたもの
である。
〔従来の技術〕
表面に金属層が形成された電気回路用の配線基
板は、金属層に樹脂で作られた接着剤を塗布し、
この接着剤を硬化することにより製造する。
金属層が両面に形成されるものでは、その一方
の面は接地電位の配線に使用され、両面の金属層
が共に薄い金属箔であるときには、フレキシブル
基板であり、接地電位の金属層が厚い金属板であ
るときには、硬質の回路基板となる。この両面に
金属層が形成された電気回路用基板では、絶縁層
に貫通するピンホールがあると、両面の耐電圧が
小さくなる。
これを改良するものとして、絶縁層を多層構造
にして、一つの層の中では貫通するピンホールが
あつても、両表面を貫通するピンホールを無くす
る技術が知られているがピンホールを皆無にする
ことはできずに通常フイルム層を導入することに
より対応している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、多層構造の絶縁層を形成するには、接
着剤の塗布および硬化の工程を層の数だけ繰り返
すことが必要であり、製造工数が大きくなり、そ
の製品はおのずと高価になる欠点がある。
本発明はこれを改良するもので、多層構造の絶
縁層を含む電気回路用基板を小さい製造工数で製
造することができる方法を提供することを目的と
する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の第一の発明は、金属箔に多層の絶縁層
を形成する方法であつて、この絶縁層を表面平滑
なピンホールのないリケイフイルム上にBステー
ジ状態で形成し転写することで、リケイフイルム
面の平滑なピンホールのない面が多層構造の絶縁
内に二層以上有することにより、電気絶縁性特に
貫層耐電圧に優れた絶縁層が形成されることを特
徴とする。
本発明の第二の発明は、両面が金属層である多
層の絶縁層を有する電気回路配線基板を製造する
方法であつて、単位当たりの絶縁層を薄くするこ
とにより従来方式に比べ、絶縁層そのものを薄く
することができ、このことにより他の機能、特に
熱伝導性を良くすることができる。また片面の金
属箔をベース材として使用すれば寸法安定性のよ
い片面金属張金属ができることを特徴とする。
本発明の第三の発明は、引き裂く外力に対して
強靭な多層の絶縁層を形成する方法であつて、絶
縁層の1層ないし、3層にウイスカー等皮膜の強
度を良くする物質を混入することもでき、また皮
膜強度の強い樹脂を複合化することも任意にでき
る。
リケイフイルムを透明にすることにより接着剤
層の目視検査を可能にすることができる。
〔作 用〕
片面に接着剤が塗布されたリケイ用フイルムは
極めて均一に多量に製造することができる。ま
た、片面に接着剤が塗布されたリケイ用フイルム
はその取扱いが容易であり、このリケイ用フイル
ムの接着剤層を転写する工程は、軟性の接着剤を
一様に塗布する工程に比べてはるかに簡単であつ
て工数が小さい。その上透明フイルムをリケイフ
イルム用いれば接着絶縁層の検査が容易にできる
長所もある。
したがつて、本発明によれば、多層の絶縁層を
有する電気回路配線基板を小さい工数で安価に製
造することができる。
ピンホールのない薄い絶縁層はBステージを経
て作成することは非常に難しいため、通常、
100μm以上の厚さが信頼性の点から必要であるこ
とが知られている。本発明者等は鋭意検討を加え
た結果、溶剤型ワニスを用いる場合に溶剤を蒸発
乾燥しBステージ状態の樹脂薄膜を製造する際
に、樹脂薄膜形成時の蒸発収縮等によつてピンホ
ールが発生するが、リケイフイルム上で蒸発が一
方向のみ起こるため、フイルムに接する面の樹脂
薄膜にピンホールが発生しないことを発見した。
しかし、樹脂薄膜形成時の加熱によるリケイフイ
ルムの収縮もピンホール発生に対して効果があ
る。また、転写加熱硬化後の電気回路用配線基板
の硬化収縮をより小さく押さえる効果がある。こ
れにより、転写法を用いてピンホールのない絶縁
層を作成することができ、しかもこれを3回繰り
返すことによりその効果が確実になる。
〔実施例 1〕
リケイフイルムの厚さ60μmのポリプロピレン
フイルム(東レ(株)製トレフアンフイルム)に厚さ
20μmになるようにフレキシブル用エポキシ樹脂
を塗工し、乾燥させてBステージ状態にする(第
一の工程)。
次に、第一の工程で得たBステージ状態のエポ
キシ樹脂を厚さ35μmの銅箔の処理面に張り合わ
せ加熱硬化させる(第二の工程)。
次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂
を張り合わせ、加熱硬化させる(第三の工程)。
次に、第三の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂
を張り合わせ、加熱硬化させて絶縁層60μmの片
面銅張フレキシブルプリント回路用基板を得た。
〔実施例 2〕
リケイフイルムの厚さ60μmのポリプロピレン
フイルム(本州製紙(株)製アルフアンフイルム)
に、厚さ5μmになるようにフレキシブル用ポリイ
ミド樹脂を塗工し、これを乾燥させてBステージ
状態にする(第一の工程)。
次に、第一の工程で得たBステージ状態のポリ
イミド樹脂を厚さ18μmの銅箔の処理面に張り合
わせ、加熱硬化させる(第二の工程)。
次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせポリイ
ミド樹脂の樹脂面に第一の工程で得たポリイミド
樹脂を張り合わせる(第三の工程)。
次に、第三の工程で得た銅箔張り合わせポリイ
ミド樹脂の樹脂面どうしを張り合わせ、加熱硬化
させて絶縁層100μmの片面銅箔張フレキシブルプ
リント回路用基板を得た。
〔実施例 3〕
リケイフイルムの厚さ60μmのフツ化ビニール
フイルム(米国デユポン社製テドラフイルム)
に、厚さ10μmになるようにエポキシ樹脂を塗工
し、これを乾燥させてBステージ状態にする(第
一の工程)。
次に、この第一の工程で得たBステージ状態の
エポキシ樹脂を厚さ35μmの銅箔の処理面に張り
合わせ、加熱硬化させる(第二の工程)。
リケイフイルムの厚さ60μmのポリプロピレン
フイルム(本州製紙(株)製アルフアンフイルム)
に、チタン酸カリウム繊維を25%含むフレキシブ
ル用エポキシ樹脂を厚さ30μmになるように塗工
乾燥させてBステージ状態にする(第三の工程)。
次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に第三の工程で得たエポキシ樹脂
を張り合わせる(第四の工程)。
次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面と第四の工程で得た銅箔張り合わ
せエポキシ樹脂の樹脂面とを張り合わせ、加熱硬
化させて絶縁層50μmの両面銅張フレキシブルプ
リント回路用基板を得た。
〔実施例 4〕
リケイ処理を施した厚さ50μmのポリエステル
フイルム(東レ(株)製ルミラーフイルム)に、厚さ
15μmになるようにエポキシ樹脂を塗工し乾燥さ
せてBステージ状態にする(第一の工程)。
次に、第一の工程で得たBステージ状態のエポ
キシ樹脂を厚さ35μmの銅箔の処理面に張り合わ
せ、加熱硬化させる(第二の工程)。
次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂
を張り合わせ、加熱硬化させる(第三の工程)。
次に、第三の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂
を張り合わせる(第四の工程)。
次に、第四の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面と第一の工程で得た銅箔張り合わ
せる(第五の工程)。
次に、第五の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面と厚さ2mmのアルミニウム板の処
理面とを張り合わせ、加熱硬化させて絶縁層
60μmのアルミニウム金属ベース銅張基板を得た。
〔実施例 5〕
リケイフイルムの厚さ40μmのポリプロピレン
フイルム(東レ(株)製トレフアンフイルム)にフレ
キシブル用エポキシ樹脂を厚さ10μmになるよう
に塗工し、乾燥させてBステージ状態にする(第
一の工程)。
次に、第一の工程で得たエポキシ樹脂を厚さ
18μmの銅箔の処理面に張り合わせ、加熱硬化さ
せる(第二の工程)。
次に、リケイフイルムの厚さ50μmのポリエス
テルフイルム(東レ(株)ルミラーフイルム)に厚さ
30μmの耐熱ナイロン樹脂を塗工乾燥する(第三
の工程)。
次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に第三の工程で得たナイロン樹脂
を加熱し張り合わせる(第四の工程)。
次に、第四の工程で得た銅箔張り合わせエポキ
シナイロン樹脂の樹脂面と第二の工程で得た銅箔
張り合わせ、エポキシ樹脂の樹脂面とを加熱し張
り合わせて、絶縁層50μmの両面銅張フレキシブ
ルプリント回路用基板を得た。
〔実施例 6〕
リケイフイルムの厚さ60μmのポリプロピレン
フイルム(東レ(株)製トレフアンフイルム)に、厚
さ15μmになるようにフレキシブル用エポキシ樹
脂を塗上乾燥させてBステージ状態にする(第一
の工程)。
次に、第一の工程で得たBステージ状態のエポ
キシ樹脂を厚さ35μmの圧延銅箔の処理面に張り
合わせ、加熱硬化させる(第二の工程)。
次に、第一の工程で得たBステージのエポキシ
樹脂を厚さ50μmの鉄箔の処理面に張り合わせる
(第三の工程)。
次に、第三の工程で得た鉄箔張り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面と第一の工程で得たBステージ状
態のエポキシ樹脂を張り合わせる(第四の工程)。
次に第四の工程で得た鉄箔張り合わせエポキシ
樹脂の樹脂面と第二の工程で得た銅箔張り合わせ
エポキシ樹脂の樹脂面とを張り合わせ、加熱硬化
させて絶縁層45μmの鉄箔ベースの銅張フレキシ
ブルプリント回路用基板を得た。その断面構造は
図の通りである。
〔試験結果〕
上記各実施例について試験を行つた結果を次表
に示す。引き剥がし強さ、耐溶剤性は2.5mm幅の
銅箔または鉄箔を90度方向に引き剥がし、1cm当
たりに換算した値で示す。
[Industrial Field of Application] The present invention is utilized for manufacturing a wiring board forming an electric circuit. In particular, the present invention relates to a method of manufacturing a wiring board that has a simple manufacturing process and has no pinholes penetrating both surfaces of the insulating layer. [Summary] In a method of manufacturing printed circuit boards for electrical circuits, an operation of forming the adhesive layer is performed at least three times by transferring the adhesive layer using a re-keying film coated with adhesive on one side. As a result, three adhesive layers are formed in a laminated structure, and there are no pinholes penetrating both surfaces. [Prior Art] A wiring board for electric circuits with a metal layer formed on the surface is manufactured by applying an adhesive made of resin to the metal layer.
It is manufactured by curing this adhesive. If the metal layer is formed on both sides, one side is used for wiring at ground potential, and if the metal layers on both sides are both thin metal foils, it is a flexible board, and the metal layer at ground potential is thick metal. When it is a board, it becomes a hard circuit board. In this electric circuit board in which metal layers are formed on both sides, if there is a pinhole penetrating the insulating layer, the withstand voltage on both sides becomes small. To improve this, a known technique is to make the insulating layer a multilayer structure so that even if there is a pinhole that penetrates within one layer, there will be no pinhole that penetrates both surfaces. Since this cannot be completely eliminated, it is usually dealt with by introducing a film layer. [Problems to be solved by the invention] However, in order to form an insulating layer with a multilayer structure, it is necessary to repeat the process of applying and curing the adhesive for the number of layers, which increases the number of manufacturing steps and increases the cost. The product naturally has the disadvantage of being expensive. The present invention improves this and aims to provide a method that can manufacture an electric circuit board including a multilayered insulating layer with a small number of manufacturing steps. [Means for Solving the Problems] The first aspect of the present invention is a method of forming a multilayer insulating layer on a metal foil, and the insulating layer is coated on a RIKEN film with a smooth surface and no pinholes. By forming and transferring on a stage, the smooth pinhole-free surface of the RIKEI film has two or more layers in the multilayer structure of the insulation, forming an insulation layer with excellent electrical insulation properties, especially cross-layer withstand voltage. It is characterized by being The second invention of the present invention is a method for manufacturing an electric circuit wiring board having a multilayer insulating layer with metal layers on both sides. It can be made thinner, which can improve other functions, especially thermal conductivity. Another feature is that if a single-sided metal foil is used as a base material, a single-sided metal-clad metal with good dimensional stability can be produced. The third invention of the present invention is a method for forming a multilayer insulating layer that is strong against external forces that tear it apart, and the method includes mixing a substance that improves the strength of the film, such as whiskers, into one or three of the insulating layers. It is also possible to optionally combine a resin with strong film strength. By making the RIKAY film transparent, visual inspection of the adhesive layer can be made possible. [Function] A film for refilling with an adhesive coated on one side can be produced extremely uniformly in large quantities. In addition, the Rikei film with adhesive coated on one side is easy to handle, and the process of transferring the adhesive layer of the Rikei film is much easier than the process of uniformly applying a soft adhesive. It is easy to use and requires less man-hours. Furthermore, using a transparent film such as RIKEN film has the advantage that the adhesive insulating layer can be easily inspected. Therefore, according to the present invention, an electric circuit wiring board having multiple insulating layers can be manufactured at low cost with a small number of man-hours. It is very difficult to create a thin insulating layer without pinholes through B-stage, so it is usually
It is known that a thickness of 100 μm or more is required from the viewpoint of reliability. As a result of extensive studies, the inventors of the present invention found that when using a solvent-based varnish, pinholes may occur due to evaporation shrinkage during the formation of the resin thin film when the solvent is evaporated and dried to produce a B-stage resin thin film. However, because evaporation occurs only in one direction on RIKEI film, we discovered that pinholes do not occur in the resin thin film on the surface that is in contact with the film.
However, shrinkage of the RIKEN film due to heating during formation of the resin thin film is also effective against the generation of pinholes. Further, it has the effect of suppressing the curing shrinkage of the electrical circuit wiring board after transfer heat curing to a smaller extent. As a result, an insulating layer without pinholes can be created using the transfer method, and the effect is ensured by repeating this three times. [Example 1] A polypropylene film (Toray film made by Toray Industries, Inc.) with a thickness of 60 μm was
Apply flexible epoxy resin to a thickness of 20 μm and dry to bring it to the B stage state (first step). Next, the epoxy resin in the B stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 35 μm thick copper foil and cured by heating (second step). Next, the epoxy resin obtained in the first step is bonded to the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step, and cured by heating (third step). Next, the epoxy resin obtained in the first step was bonded to the resin surface of the copper foil bonded epoxy resin obtained in the third step, and heated and cured to obtain a single-sided copper-clad flexible printed circuit board with an insulating layer of 60 μm. . [Example 2] Rikei Film's 60 μm thick polypropylene film (Alphan Film manufactured by Honshu Paper Industries Co., Ltd.)
Then, a flexible polyimide resin is applied to a thickness of 5 μm, and this is dried to obtain a B-stage state (first step). Next, the B-stage polyimide resin obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a copper foil with a thickness of 18 μm and cured by heating (second step). Next, the polyimide resin obtained in the first step is laminated onto the resin surface of the copper foil laminated polyimide resin obtained in the second step (third step). Next, the resin surfaces of the copper foil laminated polyimide resin obtained in the third step were laminated together and cured by heating to obtain a single-sided copper foil laminated flexible printed circuit board with an insulating layer of 100 μm. [Example 3] Rikei film fluorinated vinyl film with a thickness of 60 μm (Tedra film manufactured by DuPont, USA)
Then, apply epoxy resin to a thickness of 10 μm and dry it to bring it to the B stage state (first step). Next, the epoxy resin in the B-stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 35 μm thick copper foil and cured by heating (second step). Rikei Film's 60μm thick polypropylene film (Alphan Film manufactured by Honshu Paper Industries Co., Ltd.)
Next, a flexible epoxy resin containing 25% potassium titanate fibers is applied to a thickness of 30 μm and dried to bring it to the B stage (third step). Next, the epoxy resin obtained in the third step is laminated onto the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step (fourth step). Next, the resin side of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step and the resin side of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the fourth step are laminated together and heated to harden to form a double-sided copper-clad flexible with an insulating layer of 50 μm. A printed circuit board was obtained. [Example 4] A 50 μm thick polyester film (Lumirror film manufactured by Toray Industries, Inc.) that had been subjected to RIKEI treatment was
Apply epoxy resin to a thickness of 15 μm and dry it to bring it to the B stage state (first step). Next, the epoxy resin in the B-stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 35 μm thick copper foil and cured by heating (second step). Next, the epoxy resin obtained in the first step is bonded to the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step, and cured by heating (third step). Next, the epoxy resin obtained in the first step is laminated onto the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the third step (fourth step). Next, the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the fourth step is laminated with the copper foil obtained in the first step (fifth step). Next, the resin side of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the fifth step is laminated to the treated side of the 2 mm thick aluminum plate, and the insulation is layered by heating and hardening.
A 60μm aluminum metal base copper clad substrate was obtained. [Example 5] Flexible epoxy resin was applied to a 40 μm thick polypropylene film (Toray Film, manufactured by Toray Industries, Inc.) to a thickness of 10 μm, and dried to bring it to a B-stage state ( first step). Next, apply the epoxy resin obtained in the first step to a thickness of
It is pasted onto the treated surface of 18 μm copper foil and heated to harden (second step). Next, a 50 μm thick polyester film (Lumirror Film, manufactured by Toray Industries, Inc.) was coated with Rikei Film.
Apply and dry 30μm heat-resistant nylon resin (third step). Next, the nylon resin obtained in the third step is heated and bonded to the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step (fourth step). Next, the resin surface of the copper foil laminated epoxy nylon resin obtained in the fourth step and the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step are heated and laminated together to form a double-sided copper clad with an insulating layer of 50 μm. A flexible printed circuit board was obtained. [Example 6] Rikei Film's 60 μm thick polypropylene film (TOREFAN FILM manufactured by Toray Industries, Inc.) is coated with a flexible epoxy resin to a thickness of 15 μm and dried to bring it to the B-stage state. Step 1). Next, the epoxy resin in the B-stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a rolled copper foil with a thickness of 35 μm and cured by heating (second step). Next, the B-stage epoxy resin obtained in the first step is laminated onto the treated surface of the 50 μm thick iron foil (third step). Next, the resin surface of the iron foil laminated epoxy resin obtained in the third step is bonded to the epoxy resin in the B stage state obtained in the first step (fourth step). Next, the resin surface of the iron foil-laminated epoxy resin obtained in the fourth step is laminated with the resin surface of the copper foil-laminated epoxy resin obtained in the second step, and heated and cured to form an iron foil-based copper with an insulating layer of 45 μm. A flexible printed circuit board was obtained. Its cross-sectional structure is shown in the figure. [Test Results] The results of tests conducted on each of the above examples are shown in the following table. Peel strength and solvent resistance are values calculated per 1 cm when a 2.5 mm wide copper foil or iron foil is peeled off in a 90 degree direction.
【表】【table】
以上説明したように本発明によれば、製造工数
が小さく、従来品と同等あるいはそれ以上の製品
を得ることができる。
As explained above, according to the present invention, it is possible to obtain a product with a small number of manufacturing steps and a product that is equivalent to or better than conventional products.
図は実施例6に記載した方法による基板の構造
断面図。
The figure is a structural sectional view of a substrate obtained by the method described in Example 6.
Claims (1)
の接着剤層の表面に金属箔を張り合わせてその接
着剤を硬化させるとともにそのリケイ用フイルム
を取り除くことにより、金属箔に硬化した第一の
接着剤層を形成する第一の工程と、 この第一の工程により製造された硬化した接着
剤層の表面に、さらに、片面に接着剤が塗布され
たリケイ用フイルムの接着剤層の表面を張り合わ
せてその接着剤を硬化させるとともにそのリケイ
用フイルムを取り除くことにより、金属箔に硬化
した第一および第二の接着剤層を形成する第二の
工程と、 この第二の工程により製造された硬化した上記
第二の接着剤層の表面に、さらに、片面に接着剤
が塗布されたリケイ用フイルムの接着剤層の表面
を張り合わせてその接着剤を硬化させるとともに
そのリケイ用フイルムを取り除くことにより、金
属箔に硬化した第一、第二および第三の接着剤層
を形成する第三の工程と を含む電気回路配線用基板の製造方法。 2 第一、第二および第三の接着剤層の厚さはそ
れぞれが10μm以上100μm以下である特許請求の
範囲第1項に記載の電気回路配線用基板の製造方
法。 3 金属箔の厚さは9μm以上200μm以下である特
許請求の範囲第1項に記載の電気回路配線用基板
の製造方法。 4 片面に接着剤が塗布されたリケイ用フイルム
の接着剤層の表面に金属箔を張り合わせてその接
着剤を硬化させるとともにそのリケイ用フイルム
を取り除くことにより、金属箔に硬化した第一の
接着剤層を形成する第一の工程と、 この第一の工程により製造された硬化した接着
剤層の表面に、さらに、片面に接着剤が塗布され
たリケイ用フイルムの接着剤層の表面を張り合わ
せてその接着剤を硬化させるとともにそのリケイ
用フイルムを取り除くことにより、金属箔に硬化
した第一および第二の接着剤層を形成する第二の
工程と、 この第二の工程により製造された硬化した上記
第二の接着剤層の表面に、片面に接着剤が塗布さ
れたリケイ用フイルムの接着剤層の表面を張り合
わせてからそのリケイ用フイルムを取り除き、そ
のリケイ用フイルムが取り除かれた接着剤層の表
面を上記金属箔状とは別の金属体の表面に張り合
わせ、その接着剤層を硬化する第三の工程と を含む電気回路配線用基板の製造方法。 5 金属体が金属箔である特許請求の範囲第4項
に記載の電気回路配線用基板の製造方法。 6 金属体が金属基板である特許請求の範囲第4
項に記載の電気回路配線用基板の製造方法。 7 片面に接着剤が塗布されたリケイ用フイルム
の接着剤層の表面に金属箔を張り合わせてその接
着剤を硬化させるとともにそのリケイ用フイルム
を取り除くことにより、金属箔に硬化した第一の
接着剤層を形成する第一の工程と、 この第一の工程により製造された硬化した接着
剤層の表面に、繊維状無機物絶縁材料の、片面に
接着剤が塗布されたリケイ用フイルムの接着剤層
の表面に張り合わせ、その接着剤を硬化させると
ともにそのリケイ用フイルムを取り除くことによ
り、金属箔に硬化した第一および第二の接着剤層
を形成する第二の工程と、 この第二の工程により製造された硬化した上記
第二の接着剤層の表面に、さらに、繊維状無機物
絶縁材料を介して、片面に接着剤が塗布されたリ
ケイ用フイルムの接着剤層の表面を張り合わせて
その接着剤を硬化させるとともにそのリケイ用フ
イルムを取り除くことにより、金属箔に硬化した
第一、第二および第三の接着剤層を形成する第三
の工程と を含む電気回路配線用基板の製造方法。 8 繊維状無機物絶縁材料は繊維状チタン酸カリ
ウムである特許請求の範囲第7項に記載の電気回
路配線用基板の製造方法。[Scope of Claims] 1. A metal foil is pasted onto the surface of the adhesive layer of a re-keying film coated with an adhesive on one side, the adhesive is cured, and the re-keying film is removed, thereby curing into a metal foil. a first step of forming a first adhesive layer; and a first step of forming a first adhesive layer, and an adhesive of a rekeying film in which an adhesive is further applied on one side of the surface of the cured adhesive layer produced by this first step. a second step of forming hardened first and second adhesive layers on the metal foil by laminating the surfaces of the layers, curing the adhesive and removing the adhesive film; Further, on the surface of the cured second adhesive layer manufactured by above, the surface of the adhesive layer of a re-keying film coated with an adhesive on one side is applied, and the adhesive is cured, and the re-keying film is and a third step of forming cured first, second and third adhesive layers on the metal foil by removing. 2. The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim 1, wherein each of the first, second, and third adhesive layers has a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less. 3. The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim 1, wherein the metal foil has a thickness of 9 μm or more and 200 μm or less. 4. A metal foil is pasted onto the surface of the adhesive layer of a rekeying film coated with an adhesive on one side, the adhesive is cured, and the rekeying film is removed, thereby forming the first adhesive that has hardened into the metal foil. The first step is to form a layer, and the surface of the cured adhesive layer produced by this first step is further laminated with the surface of the adhesive layer of a re-keying film coated with adhesive on one side. a second step of forming cured first and second adhesive layers on the metal foil by curing the adhesive and removing the adhesive film; The surface of the second adhesive layer is laminated with the surface of the adhesive layer of a re-keying film coated with an adhesive on one side, and then the re-keying film is removed, and the adhesive layer from which the re-keying film is removed is a third step of laminating the surface of the above to the surface of a metal body different from the metal foil, and curing the adhesive layer. 5. The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim 4, wherein the metal body is a metal foil. 6 Claim 4 in which the metal body is a metal substrate
A method for manufacturing an electric circuit wiring board according to 1. 7. The first adhesive is cured on the metal foil by pasting a metal foil on the surface of the adhesive layer of the rekeying film with adhesive applied on one side, curing the adhesive, and removing the rekeying film. a first step of forming a layer; and an adhesive layer of a fibrous inorganic insulating film, which is coated with an adhesive on one side, on the surface of the cured adhesive layer produced by this first step; a second step of forming hardened first and second adhesive layers on the metal foil by attaching the metal foil to the surface of the metal foil, curing the adhesive and removing the adhesive film; The surface of the produced cured second adhesive layer is further laminated with the surface of the adhesive layer of the adhesive film coated on one side with an adhesive via a fibrous inorganic insulating material. a third step of forming hardened first, second and third adhesive layers on the metal foil by curing the metal foil and removing the adhesive film. 8. The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim 7, wherein the fibrous inorganic insulating material is fibrous potassium titanate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60077247A JPS61235150A (en) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | Manufacture of substrate for electric circuit wiring |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60077247A JPS61235150A (en) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | Manufacture of substrate for electric circuit wiring |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61235150A JPS61235150A (en) | 1986-10-20 |
| JPH0464307B2 true JPH0464307B2 (en) | 1992-10-14 |
Family
ID=13628526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60077247A Granted JPS61235150A (en) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | Manufacture of substrate for electric circuit wiring |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61235150A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI245791B (en) | 2000-03-31 | 2005-12-21 | Hitachi Chemical Co Ltd | Adhesive films, and semiconductor devices using the same |
-
1985
- 1985-04-11 JP JP60077247A patent/JPS61235150A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61235150A (en) | 1986-10-20 |
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