JPH0467520B2 - - Google Patents
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- JPH0467520B2 JPH0467520B2 JP22995485A JP22995485A JPH0467520B2 JP H0467520 B2 JPH0467520 B2 JP H0467520B2 JP 22995485 A JP22995485 A JP 22995485A JP 22995485 A JP22995485 A JP 22995485A JP H0467520 B2 JPH0467520 B2 JP H0467520B2
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 235000012247 sodium ferrocyanide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
＜産業上の利用分野＞
本発明は、オフセツトマスターを親水化処理す
る装置における出口ニツプロール（以下、単に出
口ロールと略称する。）の改良に関する。 ＜従来の技術＞ オフセツト印刷に版として用いられるオフセツ
トマスターは支持体上に感光面を形成した紙状の
ものであり、例えば酸化亜鉛紙等が使用されてい
る。このオフセツトマスターは通常、製版機によ
り画像が形成されている。即ち、オフセツトマス
ターは帯電された後、原稿の画像が投影されて、
潜像が形成される。そして、酢酸ビニル等の親油
性物質を含む現像剤により現像され、引き続き定
着、乾燥される。次に、このオフセツトマスター
は、黄血塩とリン酸塩を主成分とする親水化処理
液に接触作用され、感光面の画像部以外の非画像
部を親水性としている。この後、一対の出口ロー
ルにより挟まれて引き出され、この時に余分な親
水化処理液が絞り落され、適量の親水化処理液が
塗布されることとなつている。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ オフセツトマスターの感光面に塗られる親水化
処理液は適量かつ均一であることが重要である。
即ち過多に塗られると印刷時に耐印刷枚数の低下
（以下「耐刷不良」と記す）や、処理液を浪費し
てコスト高となる。また過少に塗られると親水化
処理が不充分となり、非画像部に印刷汚れが発生
する。 従来の出口ロールとしては一般的にゴム系例え
ばシリコン、NBR等が使用されその硬度とニツ
プ圧力を変えて調整していたが、一対の出口ロー
ルがいずれも同じ材料であつたため、オフセツ
ト・マスターの感光面のみならず支持体表面上に
もある量の親水化処理液が塗られ無駄に消費され
る。第２−ｂ図の様にマスターの両端に多量の
処理液が塗られ塗布ムラとなる欠点があつた。 本発明は、上記従来技術に鑑み親水化処理液を
必要最小限にかつ均一に塗布できる経済的な出口
ロールを提供することを目的とするものである。 ＜問題点を解決するための手段＞ 斯かる目的を達成する本発明の構成は現像され
たオフセツトマスターを親水化処理液に接触作用
せしめて前記オフセツトマスターの感光面におけ
る非画像部を親水性とする親水化処理装置におい
て、処理されたオフセツトマスターを間に挾んで
余分な処理液を絞る一対の出口ロールのうち、オ
フセツトマスターの感光面に接触する出口ロール
の表面をゴム製とすると共にオフセツトマスター
の支持体に接触する出口ロールの表面を適度の弾
性を有する吸水性材料で形成したことを特徴とす
る。 ＜作用＞ 一対の出口ロールによりオフセツトマスターが
間に挾まれて余分な処理液を絞り取る際、オフセ
ツトマスターの感光面は表面がゴム製の出口ロー
ルに接触するので適量の親水化処理液が塗布され
るのに対し、オフセツトマスターの支持体面は吸
水性を有する物質で表面が形成された出口ロール
に接触するので、ぬぐい取られて親水化処理液が
ほとんど塗布されることがなく、その消費量が低
減する。 またマスター両端に多量に塗られる塗布ムラも
ほとんどなくなり均一に塗布される。これは従来
はニツプ部のマスターの端面と一対のロール表面
とで形成される三角形のすき間を通じて親水化処
理液が回り込んで両端の塗布ムラを形成するのに
対し、本発明では支持体面に接触するロールの適
度な弾性がこの三角形のすき間を生じさせないた
めと考えられる。 ＜実施例＞ 以下、本発明の一実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。 第１図〜第３図に本発明の一実施例を示す。第
３図に示されるように、本実施例は、製版機に親
水化処理装置１を組み込んだものである。即ち、
製版機においては、ロール状に巻かれたオフセツ
トマスター２が給紙室３内に収納され、適宜長さ
に繰り出されてカツタ４で裁断され、この裁断さ
れたオフセツトマスター２が帯電器５でコロナ放
電により直接帯電された後、露光台６に一時的に
保持される。そして、原稿台７上にセツトされた
原稿をランプ８で照明することにより、原稿画像
を投影ミラー９で反射し、図示省略のレンズを介
して露光台５上のオフセツトマスター２に投影し
て潜像を形成する。更に、このオフセツトマスタ
ー２を搬送ガイド１０を通して現像室１１へ送
り、ここで現像し、次に定着器１２にて定着す
る。この後、第２図に示すように一対の入口ロー
ル１３，１４に挾まれて親水化処理装置１に案内
され、親水化処理液１５中に浸漬される。親水化
処理液１５としては例えば黄血塩とリン酸塩とを
混合して用いる。親水化処理液１５中に浸漬され
たオフセツトマスター２は、その非画像部が親水
性を有するようになり、引き続き一対の出口ロー
ル１６，１７に挾まれて引き上げられる。図中に
おいてオフセツトマスター２は上面が感光面であ
り、下面が支持体面であるので、一対の出口ロー
ルのうちの上方の出口ロール１６はゴム製であ
る。これに対し、下方の出口ロール７は、第１図
に示すように金属性又はプラスチツクス製のロー
ル１８の外周面に帯状のエクセーヌ（東レ株式会
社製、商品名）１９を螺旋状に巻き付けて接着し
て構成されている。エクセーヌ１９は天然皮革と
同様極めて細かい繊維（0.01〜0.09デユール）が
束となつたものがからみ合つた単一層であるか
ら、適度の弾性及び吸水性を有している。従つ
て、オフセツトマスター２が一対の出口ロール１
６，１７により挾まれて引き上げられる際、その
感光面は表面がゴム製の出口ロール１６に接触す
るので適量の親水性処理液が塗布されるのに対
し、その支持体面はエクセーヌ１９で表面が形成
された出口ロール１７に接触するので、エクセー
ヌ１９によりぬぐい取られて親水性処理液がほと
んど塗布されることがない。感光面に塗布される
親水性処理液の量としては２〜３ｇ／m2が最適で
あるが、出口ロール１６のゴム材質、ゴム硬度、
表面粗さを変えることによつて、1.0〜5.0ｇ／m2
の範囲で自由にコントロールできる。又、エクセ
ーヌ１９は適度の弾性を有するので、感光面に塗
布ムラが生ずることはない。またエクセーヌ１９
の厚さは0.8〜1.5mmとし、またエクセーヌの伸び
方向をロールの長手方向に一致させた。尚、下側
の出口ロール１７の下部が親水化処理液１５に浸
漬されているのは、エクセーヌ１９が乾いてしま
うと親水性処理液によりごわごわとしたものとな
つて、弾性や吸水性の面で好ましくないからであ
る。 このように出口ロール１６，１７により引き出
されたオフセツトマスター２は、第３図に示され
るように、乾燥室２０にて乾燥された後、排出ト
レイ２１に排出される。 上記構成を有する本実施例の親水化処理装置の
出口ロールは、下側の出口ロール１７の表面がエ
クセーヌ１９で形成されているので、オフセツト
マスター２の支持体面に親水化処理液が残ること
なく、ふき取られる。尚、本実施例ではエクセー
ヌ１９を用いていたが、これに限られるものでな
く、適度の弾性を有する吸水性物質が用いられ
る。適度の弾性を必要とするのは、オフセツトマ
スターの感光面両端の塗布ムラを防止するためで
ある。 次に、オフセツトマスターの感光面塗布量、支
持体面塗布量及び塗布ムラについて試験した結果
を表−１を参照して説明する。同表に示されるよ
うに、比較例１，２，３では、ロール材質がいず
れもゴム系であるため、支持体面塗布量が1.2〜
2.5ｇ／m2と比較的大きく、親水化処理液が無駄
に消費されている。これに対し、実施例１，２，
３，４，５では支持体面側(B)の出口ロールの材質
が吸水性のあるエクセーヌであるため、支持体面
塗布量が0.4〜0.5ｇ／m2と格段に少ない。更に、
比較例３では、ロール材質がゴム硬度の大きな
NBRであるため、塗布ムラが生じていた
る装置における出口ニツプロール（以下、単に出
口ロールと略称する。）の改良に関する。 ＜従来の技術＞ オフセツト印刷に版として用いられるオフセツ
トマスターは支持体上に感光面を形成した紙状の
ものであり、例えば酸化亜鉛紙等が使用されてい
る。このオフセツトマスターは通常、製版機によ
り画像が形成されている。即ち、オフセツトマス
ターは帯電された後、原稿の画像が投影されて、
潜像が形成される。そして、酢酸ビニル等の親油
性物質を含む現像剤により現像され、引き続き定
着、乾燥される。次に、このオフセツトマスター
は、黄血塩とリン酸塩を主成分とする親水化処理
液に接触作用され、感光面の画像部以外の非画像
部を親水性としている。この後、一対の出口ロー
ルにより挟まれて引き出され、この時に余分な親
水化処理液が絞り落され、適量の親水化処理液が
塗布されることとなつている。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ オフセツトマスターの感光面に塗られる親水化
処理液は適量かつ均一であることが重要である。
即ち過多に塗られると印刷時に耐印刷枚数の低下
（以下「耐刷不良」と記す）や、処理液を浪費し
てコスト高となる。また過少に塗られると親水化
処理が不充分となり、非画像部に印刷汚れが発生
する。 従来の出口ロールとしては一般的にゴム系例え
ばシリコン、NBR等が使用されその硬度とニツ
プ圧力を変えて調整していたが、一対の出口ロー
ルがいずれも同じ材料であつたため、オフセツ
ト・マスターの感光面のみならず支持体表面上に
もある量の親水化処理液が塗られ無駄に消費され
る。第２−ｂ図の様にマスターの両端に多量の
処理液が塗られ塗布ムラとなる欠点があつた。 本発明は、上記従来技術に鑑み親水化処理液を
必要最小限にかつ均一に塗布できる経済的な出口
ロールを提供することを目的とするものである。 ＜問題点を解決するための手段＞ 斯かる目的を達成する本発明の構成は現像され
たオフセツトマスターを親水化処理液に接触作用
せしめて前記オフセツトマスターの感光面におけ
る非画像部を親水性とする親水化処理装置におい
て、処理されたオフセツトマスターを間に挾んで
余分な処理液を絞る一対の出口ロールのうち、オ
フセツトマスターの感光面に接触する出口ロール
の表面をゴム製とすると共にオフセツトマスター
の支持体に接触する出口ロールの表面を適度の弾
性を有する吸水性材料で形成したことを特徴とす
る。 ＜作用＞ 一対の出口ロールによりオフセツトマスターが
間に挾まれて余分な処理液を絞り取る際、オフセ
ツトマスターの感光面は表面がゴム製の出口ロー
ルに接触するので適量の親水化処理液が塗布され
るのに対し、オフセツトマスターの支持体面は吸
水性を有する物質で表面が形成された出口ロール
に接触するので、ぬぐい取られて親水化処理液が
ほとんど塗布されることがなく、その消費量が低
減する。 またマスター両端に多量に塗られる塗布ムラも
ほとんどなくなり均一に塗布される。これは従来
はニツプ部のマスターの端面と一対のロール表面
とで形成される三角形のすき間を通じて親水化処
理液が回り込んで両端の塗布ムラを形成するのに
対し、本発明では支持体面に接触するロールの適
度な弾性がこの三角形のすき間を生じさせないた
めと考えられる。 ＜実施例＞ 以下、本発明の一実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。 第１図〜第３図に本発明の一実施例を示す。第
３図に示されるように、本実施例は、製版機に親
水化処理装置１を組み込んだものである。即ち、
製版機においては、ロール状に巻かれたオフセツ
トマスター２が給紙室３内に収納され、適宜長さ
に繰り出されてカツタ４で裁断され、この裁断さ
れたオフセツトマスター２が帯電器５でコロナ放
電により直接帯電された後、露光台６に一時的に
保持される。そして、原稿台７上にセツトされた
原稿をランプ８で照明することにより、原稿画像
を投影ミラー９で反射し、図示省略のレンズを介
して露光台５上のオフセツトマスター２に投影し
て潜像を形成する。更に、このオフセツトマスタ
ー２を搬送ガイド１０を通して現像室１１へ送
り、ここで現像し、次に定着器１２にて定着す
る。この後、第２図に示すように一対の入口ロー
ル１３，１４に挾まれて親水化処理装置１に案内
され、親水化処理液１５中に浸漬される。親水化
処理液１５としては例えば黄血塩とリン酸塩とを
混合して用いる。親水化処理液１５中に浸漬され
たオフセツトマスター２は、その非画像部が親水
性を有するようになり、引き続き一対の出口ロー
ル１６，１７に挾まれて引き上げられる。図中に
おいてオフセツトマスター２は上面が感光面であ
り、下面が支持体面であるので、一対の出口ロー
ルのうちの上方の出口ロール１６はゴム製であ
る。これに対し、下方の出口ロール７は、第１図
に示すように金属性又はプラスチツクス製のロー
ル１８の外周面に帯状のエクセーヌ（東レ株式会
社製、商品名）１９を螺旋状に巻き付けて接着し
て構成されている。エクセーヌ１９は天然皮革と
同様極めて細かい繊維（0.01〜0.09デユール）が
束となつたものがからみ合つた単一層であるか
ら、適度の弾性及び吸水性を有している。従つ
て、オフセツトマスター２が一対の出口ロール１
６，１７により挾まれて引き上げられる際、その
感光面は表面がゴム製の出口ロール１６に接触す
るので適量の親水性処理液が塗布されるのに対
し、その支持体面はエクセーヌ１９で表面が形成
された出口ロール１７に接触するので、エクセー
ヌ１９によりぬぐい取られて親水性処理液がほと
んど塗布されることがない。感光面に塗布される
親水性処理液の量としては２〜３ｇ／m2が最適で
あるが、出口ロール１６のゴム材質、ゴム硬度、
表面粗さを変えることによつて、1.0〜5.0ｇ／m2
の範囲で自由にコントロールできる。又、エクセ
ーヌ１９は適度の弾性を有するので、感光面に塗
布ムラが生ずることはない。またエクセーヌ１９
の厚さは0.8〜1.5mmとし、またエクセーヌの伸び
方向をロールの長手方向に一致させた。尚、下側
の出口ロール１７の下部が親水化処理液１５に浸
漬されているのは、エクセーヌ１９が乾いてしま
うと親水性処理液によりごわごわとしたものとな
つて、弾性や吸水性の面で好ましくないからであ
る。 このように出口ロール１６，１７により引き出
されたオフセツトマスター２は、第３図に示され
るように、乾燥室２０にて乾燥された後、排出ト
レイ２１に排出される。 上記構成を有する本実施例の親水化処理装置の
出口ロールは、下側の出口ロール１７の表面がエ
クセーヌ１９で形成されているので、オフセツト
マスター２の支持体面に親水化処理液が残ること
なく、ふき取られる。尚、本実施例ではエクセー
ヌ１９を用いていたが、これに限られるものでな
く、適度の弾性を有する吸水性物質が用いられ
る。適度の弾性を必要とするのは、オフセツトマ
スターの感光面両端の塗布ムラを防止するためで
ある。 次に、オフセツトマスターの感光面塗布量、支
持体面塗布量及び塗布ムラについて試験した結果
を表−１を参照して説明する。同表に示されるよ
うに、比較例１，２，３では、ロール材質がいず
れもゴム系であるため、支持体面塗布量が1.2〜
2.5ｇ／m2と比較的大きく、親水化処理液が無駄
に消費されている。これに対し、実施例１，２，
３，４，５では支持体面側(B)の出口ロールの材質
が吸水性のあるエクセーヌであるため、支持体面
塗布量が0.4〜0.5ｇ／m2と格段に少ない。更に、
比較例３では、ロール材質がゴム硬度の大きな
NBRであるため、塗布ムラが生じていた
【表】
が、実施例５では、感光面側(B)のロール材質が
NBRであるにもかかわらず、支持体面側(B)が適
度の弾力性を有するエクセリーヌであるため、塗
布ムラは生じない。ここで、塗布ムラの○，△，
×はオフセツトマスターの両側における厚塗り部
分がどのくらいあるかをもつて判断の基準とし
た。また使用したオフセツトマスターはELP−
Mark（富士写真フイルム株式会社製）、親水
性処理液はELP−Ｅ（富士写真フイルム株式会社
製）である。 ＜発明の効果＞ 以上、実施例について具体的に説明したように
本発明の親水化処理装置の出口ロールは、オフセ
ツトマスターの支持体面に適度の弾性を有する吸
水性材料が接触するので、親水化処理液の消費量
を低減し、経済的である。
NBRであるにもかかわらず、支持体面側(B)が適
度の弾力性を有するエクセリーヌであるため、塗
布ムラは生じない。ここで、塗布ムラの○，△，
×はオフセツトマスターの両側における厚塗り部
分がどのくらいあるかをもつて判断の基準とし
た。また使用したオフセツトマスターはELP−
Mark（富士写真フイルム株式会社製）、親水
性処理液はELP−Ｅ（富士写真フイルム株式会社
製）である。 ＜発明の効果＞ 以上、実施例について具体的に説明したように
本発明の親水化処理装置の出口ロールは、オフセ
ツトマスターの支持体面に適度の弾性を有する吸
水性材料が接触するので、親水化処理液の消費量
を低減し、経済的である。
第１図〜第３図は本発明の一実施例に係り、第
１図は、金属又はプラスチツク製のロールにエク
セーヌを巻き付けて出口ロールを製作する様子を
示す説明図、第２−ａ図は親水化処理装置の概略
構造図、第２−ｂ図は両端の塗布ムラを示す説明
図、第３図は親水化処理装置を備えた製版機の概
略構造図である。 図面中、１は親水化処理装置、２はオフセツト
マスター、１５は親水化処理液、１６，１７は出
口ロール、１９はエクセーヌである。
１図は、金属又はプラスチツク製のロールにエク
セーヌを巻き付けて出口ロールを製作する様子を
示す説明図、第２−ａ図は親水化処理装置の概略
構造図、第２−ｂ図は両端の塗布ムラを示す説明
図、第３図は親水化処理装置を備えた製版機の概
略構造図である。 図面中、１は親水化処理装置、２はオフセツト
マスター、１５は親水化処理液、１６，１７は出
口ロール、１９はエクセーヌである。
Claims (1)
- １ 現像されたオフセツトマスターを親水化処理
液に接触作用せしめて前記オフセツトマスターの
感光面における非画像部を親水性とする親水化処
理装置において、処理されたオフセツトマスター
を間に挾んで余分な処理液を絞りとる一対の出口
ニツプロールのうち、オフセツトマスターの感光
面に接触する出口ニツプロールの表面をゴム製と
すると共にオフセツトマスターの支持体に接触す
る出口ニツプロールの表面を適度の彈性を有する
吸水性材料で形成したことを特徴とする親水化処
理装置の出口ニツプロール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22995485A JPS6290292A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 親水化処理装置の出口ニツプロ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22995485A JPS6290292A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 親水化処理装置の出口ニツプロ−ル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6290292A JPS6290292A (ja) | 1987-04-24 |
| JPH0467520B2 true JPH0467520B2 (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=16900313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22995485A Granted JPS6290292A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 親水化処理装置の出口ニツプロ−ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6290292A (ja) |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP22995485A patent/JPS6290292A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6290292A (ja) | 1987-04-24 |
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