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JPH0470625B2 - - Google Patents
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JPH0470625B2 - - Google Patents

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JPH0470625B2
JPH0470625B2 JP17136588A JP17136588A JPH0470625B2 JP H0470625 B2 JPH0470625 B2 JP H0470625B2 JP 17136588 A JP17136588 A JP 17136588A JP 17136588 A JP17136588 A JP 17136588A JP H0470625 B2 JPH0470625 B2 JP H0470625B2
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nickel
roll
mother
nickel plating
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Tamakazu Takagi
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TAKAKI CHOKOKU KK
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ロータリースクリーン印刷等で使用
されるスクリーン版の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for manufacturing a screen plate used in rotary screen printing and the like.

(従来の技術) ロータリースクリーン印刷は、シリンダー状の
ニツケル製スクリーン版を用いて、繊維製品を始
め内外壁材、床材、菓子、電子基盤等の各種物品
に所定のパターンを印刷する印刷方法の一種であ
る。この印刷法においては、一般にニツケルシリ
ンダーと称せられるシリンダー状のニツケル製ス
クリーン版が使用されるが、これは、メツシユ状
のブリツジ部とそれに取り囲まれるように形成さ
れた開口部(非ブリツジ部)とで図柄印刷用の部
分を構成したものである。
(Prior art) Rotary screen printing is a printing method that uses a cylindrical nickel screen plate to print predetermined patterns on various articles such as textile products, interior and exterior wall materials, flooring, confectionery, and electronic circuit boards. It is one of a kind. In this printing method, a cylindrical nickel screen plate, generally called a nickel cylinder, is used, which consists of a mesh-like bridge part and an opening (non-bridge part) formed to surround it. This is the part for printing the design.

従来、この種のスクリーン版の製造法に関して
は、全面がメツシユ状とされたニツケルシリンダ
ーの表面に感光液を塗布した上で画像フイルムを
焼き付け、然る後その未感光部分の被膜を除去す
る所謂ラツカー法があるが、その他にもガルバノ
法及びピアスエツチング法という2つの方法が知
られている(例えば特公昭56−18944号公報参
照)。
Conventionally, the manufacturing method for this type of screen plate involves applying a photosensitive liquid to the surface of a nickel cylinder whose entire surface is mesh-shaped, then printing an image film thereon, and then removing the coating on the unexposed areas. In addition to the Lutzker method, two other methods are known: the galvano method and the piercing etching method (see, for example, Japanese Patent Publication No. 18944/1983).

このうちガルバノ法は、例えばステンレス製マ
ザーロールを用いて、(マザーロール表面研磨)
→(感光液塗布乾燥)→(メツシユ入り画像フイ
ルムの焼き付け)→(現像)→(水洗)→(メツ
キ処理)→(マザーロールからメツキロール抜き
取り)の各工程を行うことにより製品たるスクリ
ーン版(所謂ガルバノ版)を製造する方法であ
る。
Among these methods, the galvano method uses, for example, a stainless steel mother roll (mother roll surface polishing).
→ (Photosensitive liquid coating and drying) → (Basing of image film with mesh) → (Development) → (Water washing) → (Plating process) → (Removing the mesh roll from the mother roll) The screen plate (so-called This is a method of manufacturing a galvano plate.

また、ピアスエツチング法は、同じくステンレ
ス製マザーロールを用い、(マザーロール表面研
磨)→(メツキ処理)→(感光液塗布乾燥)→
(メツシユ入り画像フイルムの焼き付け)→(現
像)→(水洗)→(エツチング処理)→(マザー
ロールからメツキロール抜き取り)の各工程を行
うことにより製品たるスクリーン版(所謂ピアス
エツチング版)を製造する方法である。このピア
スエツチング法によれば、ステンレス製マザーロ
ール(以下、ステンレスマザーロールという)に
ニツケルメツキ層を形成した後、図柄に相当する
部分だけをエツチング処理するため、ガルバノ法
に比べて高い開口率(単位面積当たりに存在する
開口部分の割合)が得られると共に、細い線や点
を再現することができる。
In addition, the piercing etching method also uses a stainless steel mother roll, (mother roll surface polishing) → (plating treatment) → (photosensitive liquid coating and drying) →
A method of manufacturing a screen plate (so-called pierced etching plate) as a product by performing the following steps: (Printing of image film with mesh) → (Development) → (Washing) → (Etching treatment) → (Removal of mesh roll from mother roll) It is. According to this piercing etching method, after forming a nickel plating layer on a stainless steel mother roll (hereinafter referred to as the stainless mother roll), only the part corresponding to the pattern is etched, so compared to the galvano method, the aperture ratio (unit: The ratio of openings per area) can be obtained, and thin lines and points can be reproduced.

(発明が解決しようとする課題) ところで、上記ロータリースクリーン印刷法を
用いて被印刷物に図形や模様等の所定パターンを
印刷する際、被印刷物の種類によつては塗料や染
料の塗布量を多くしたい場合があるが、それには
比較的大きな開口率及び版厚を有するスクリーン
版を使用する必要がある。
(Problem to be Solved by the Invention) By the way, when printing a predetermined pattern such as a figure or pattern on a printing substrate using the above-mentioned rotary screen printing method, depending on the type of printing substrate, the amount of paint or dye applied may be increased. However, this requires the use of a screen plate with a relatively large aperture ratio and thickness.

然るに、そのようなスクリーン版を上記ガルバ
ノ法によつて製作しようとすると、第9図に示す
ようにニツケルメツキ層Aを或る程度まで厚く形
成した時に、ニツケルが感光性樹脂膜Bのサイド
部分B1に覆い被さる現象(所謂サイドスブリー
デイング現象)が生じることから開口部Cが小さ
くなり、その結果、あまり大きな開口率が得られ
ないという問題が生じる。
However, when attempting to manufacture such a screen plate by the above-mentioned galvano method, when the nickel plating layer A is formed to a certain degree of thickness as shown in FIG. 1 (so-called side bleeding phenomenon), the opening C becomes smaller, and as a result, a problem arises in that a very large aperture ratio cannot be obtained.

一方、ピアスエツチング法においては、このよ
うな不具合は生じないが、その反面、第10図に
示すように当該開口部Dの周辺D1が横方向にエ
ツチングされる所謂サイドエツチングが生じるた
めにスクリーン版の厚みが制限され、その結果、
あまり厚いスクリーン版を製造することができな
いという問題がある。
On the other hand, in the piercing etching method, such a problem does not occur, but on the other hand , as shown in FIG. The thickness of the plate is limited, and as a result,
The problem is that very thick screen plates cannot be manufactured.

本発明は、従来における上記のような実情に対
処するもので、所要の開口率を確保しながら厚さ
寸法の比較的大きいスクリーン版を製造し得る方
法を提供することを目的とする。
The present invention addresses the above-mentioned conventional situation, and aims to provide a method for manufacturing a screen plate having a relatively large thickness while ensuring a required aperture ratio.

(課題を解決するための手段) 上記目的達成のため、本発明は、メツシユ入り
画像フイルムと、合金又は合金メツキであるマザ
ーロール又はマザープレートとを用いて所定厚さ
のスクリーン版を製造する方法として、次のよう
に構成したことを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a screen plate of a predetermined thickness using a meshed image film and a mother roll or mother plate made of an alloy or alloy plating. It is characterized by the following structure.

即ち、第1工程として、マザーロール又はマザ
ープレートの表面に第1ニツケルメツキ層を形成
する。
That is, as a first step, a first nickel plating layer is formed on the surface of the mother roll or mother plate.

第2工程として、その第1ニツケルメツキ層の
表面を感光性樹脂溶液でコーテイングする。
As a second step, the surface of the first nickel plating layer is coated with a photosensitive resin solution.

第3工程として、そのコーテイング層の表面に
上記フイルムを焼き付けて現像及び水洗する。
In the third step, the film is printed on the surface of the coating layer, developed, and washed with water.

第4工程として、第3工程の露光、現像処理で
露出したニツケル部分をエツチング処理して除去
することにより開口部を形成する。
In the fourth step, openings are formed by etching and removing the nickel portions exposed in the exposure and development processes in the third step.

第5工程として、その開口部に非導電性の合成
樹脂を充填した状態で上記第1ニツケルメツキ層
の表面に所定厚の塩化ニツケルメツキ層と銅メツ
キ層とを順次形成する。この工程で形成する塩化
ニツケル及び銅の各メツキ層の厚さは、第1ニツ
ケルメツキ層の厚さに比べると僅かである。
As a fifth step, a nickel chloride plating layer and a copper plating layer of a predetermined thickness are sequentially formed on the surface of the first nickel plating layer with the opening filled with a non-conductive synthetic resin. The thickness of each plating layer of nickel chloride and copper formed in this step is small compared to the thickness of the first nickel plating layer.

第6工程として、上記銅メツキ層の表面に第2
ニツケルメツキ層を形成する。この工程で形成す
るメツキ層の厚さは上記第1ニツケルメツキ層の
厚さと略同程度である。
As a sixth step, a second layer is applied to the surface of the copper plating layer.
Forms a nickel layer. The thickness of the plating layer formed in this step is approximately the same as the thickness of the first nickel plating layer.

第7工程として、上記第2ニツケルメツキ層の
形成後に上記非導電性合成樹脂を除去する。
As a seventh step, the non-conductive synthetic resin is removed after the second nickel plating layer is formed.

第8工程として、第7工程で得られたメツキロ
ール又はメツキプレートを上記マザーロール又は
マザープレートから取り外す。
As an eighth step, the plating roll or plate obtained in the seventh step is removed from the mother roll or mother plate.

(作用) 上記の構成によれば、第1〜第4までの工程を
終えた時点で、ピアスエツチング版と同様の構成
のもの、つまり開口部に隣接するメツシユ状のブ
リツジ部がニツケルでなる比較的大きな開口率を
有するニツケルシリンダーができるが、この時点
では未だ十分な厚みを有していない。しかし、そ
の後において、更に第5、第6工程が行われるこ
とにより、上記ブリツジ部を構成しているニツケ
ルの表面に塩化ニツケル、銅、ニツケルの各メツ
キ層が所定の厚みで順番に形成される。その結
果、その塩化ニツケル、銅、ニツケルの各メツキ
層の厚み分だけ従来のピアスエツチング版よりも
厚さ寸法の大きいスクリーン版を製作することが
できる。
(Function) According to the above structure, when the first to fourth steps are completed, the plate has the same structure as the piercing etching plate, that is, the mesh-like bridge portion adjacent to the opening is made of nickel. A nickel cylinder with a large aperture ratio can be produced, but at this point it is not yet thick enough. However, after that, the fifth and sixth steps are performed, whereby plating layers of nickel chloride, copper, and nickel are sequentially formed at predetermined thicknesses on the surface of the nickel constituting the bridge portion. . As a result, it is possible to produce a screen plate that is thicker than the conventional piercing etching plate by the thickness of each plating layer of nickel chloride, copper, and nickel.

その場合、第1ニツケルメツキ層の表面に直接
第2ニツケルメツキ層が形成されるのではなく、
上記のように厚さの比較的薄い塩化ニツケルメツ
キ層と銅メツキ層とが順次形成された上で、その
銅メツキ層の表面に第2ニツケルメツキ層が形成
されているから、その第2ニツケルメツキ層が容
易に剥離しなくなる。言い換えると、上記のよう
なメツキ処処理を行うことにより、各メツキ層間
の結合性の低下を来さずに全体を厚く形成するこ
とができる。
In that case, the second nickel plating layer is not formed directly on the surface of the first nickel plating layer,
As described above, the relatively thin nickel chloride plating layer and the copper plating layer are sequentially formed, and then the second nickel plating layer is formed on the surface of the copper plating layer. It will not peel off easily. In other words, by performing the plating treatment as described above, the overall thickness can be formed without reducing the bonding properties between the respective plating layers.

また、塩化ニツケル、銅、ニツケルの各メツキ
層は、開口部に非導電性の合成樹脂を充填した状
態で形成されるから、この場合と同様の厚さを有
するスクリーン版を従来のガルバノ法によつて製
作した場合に比べると、サイドスブリーデイング
現象の生じる割合が遥かに小さくなる。
In addition, each plating layer of nickel chloride, copper, and nickel is formed with the openings filled with non-conductive synthetic resin, so a screen plate with the same thickness as in this case can be used using the conventional galvano method. Compared to the case where the material is manufactured in this way, the incidence of side bleeding phenomenon is much smaller.

これにより、所要の開口率を確保しながら厚さ
寸法の比較的大きいスクリーン版が得られること
になる。
As a result, a screen plate having a relatively large thickness can be obtained while ensuring the required aperture ratio.

(実施例) 以下、本発明の実施例を説明する。(Example) Examples of the present invention will be described below.

先ず、所定の外径を有するステンレスステイー
ルでなる所謂ステンレスマザーロールを円筒研磨
すると共に、そのマザーロールに対して脱脂、中
和処理を施し、然る後、第1工程として、そのマ
ザーロールをスルフアミン酸ニツケル浴の中に入
れて回転させることにより、第1図に示すように
マザーロール1の外周面全体に所定厚さ(例えば
約100μm)の第1ニツケルメツキ層2を形成す
る。
First, a so-called stainless steel mother roll made of stainless steel having a predetermined outer diameter is cylindrically polished, and the mother roll is degreased and neutralized.Then, as the first step, the mother roll is polished. By placing the mother roll in a nickel sulfamic acid bath and rotating it, a first nickel plating layer 2 of a predetermined thickness (for example, about 100 μm) is formed on the entire outer peripheral surface of the mother roll 1, as shown in FIG.

次に、第2工程として、第1ニツケルメツキ層
2の表面にスプレーで感光性樹脂溶液を吹きつけ
ることにより、第2図に示すように該メツキ層2
の表面に感光性樹脂でなるコーテイング層3を形
成する。
Next, as a second step, by spraying a photosensitive resin solution onto the surface of the first nickel plating layer 2, as shown in FIG.
A coating layer 3 made of photosensitive resin is formed on the surface.

そして、第3工程として、第3図に示すように
第2工程で形成されたコーテイング層3の表面に
所定のメツシユ入り画像フイルム4を密着させ、
その状態で当該マザーロール1を回転させながら
メタルハロゲン光源を用いて所定時間だけ露光す
ることにより、上記画像フイルム4をコーテイン
グ層3上に焼き付けると共に、その作業が完了し
た時点で現像液を用いて現像した上で水洗して不
要物を洗い流す。これにより、第4図に示すよう
に第1ニツケルメツキ層2の表面側には感光性樹
脂でなるコーテイング層3によつて被覆された部
分イ……イと第1ニツケルメツキ層2が露出して
いる部分ロ……ロとができることになる。
Then, as a third step, as shown in FIG. 3, a predetermined meshed image film 4 is brought into close contact with the surface of the coating layer 3 formed in the second step.
In this state, the image film 4 is printed on the coating layer 3 by exposing it to light for a predetermined time using a metal halogen light source while rotating the mother roll 1, and when the work is completed, the image film 4 is exposed using a developer. After developing, wash with water to remove unnecessary materials. As a result, as shown in FIG. 4, the first nickel plating layer 2 is exposed on the surface side of the first nickel plating layer 2, including the portion A...A covered with the coating layer 3 made of photosensitive resin. Partial b...b can be done.

尚、このようにして現像及び水洗を行つた後に
おいては、ピンホール等の不良箇所の有無を検査
して、不良箇所が有ればその箇所を修正し、その
上で更に所定時間だけ例えば蛍光ケミカルランプ
の光に当てて上記感光性樹脂を完全に硬化させて
おく。
After developing and rinsing in this way, inspect for defects such as pinholes, correct the defects if any, and then apply fluorescent light for a predetermined period of time. The photosensitive resin is completely cured by exposing it to light from a chemical lamp.

次に、第4工程として、上記第1ニツケルメツ
キ層2の露出部分ロ……ロをエツチング処理して
除去する。この作業は、第1ニツケルメツキ層2
を有する当該マザーロール1を所定のエツチング
液でスプレーエツチングし、その状態で上記ニツ
ケルメツキ露出部分ロ……ロが十分に腐食するま
でマザーロール1を回転させることにより行う。
これにより、マザーロール1の外周面には、第5
図に示すように感光性樹脂で被覆されている第1
ニツケルメツキ層の部分だけがブリツジ部イ′…
…イ′として残ると共に、それ以外のニツケルメ
ツキ部分が除去されることにより、非ブリツジ部
としての開口部ロ′……ロ′が形成されることにな
る。尚、この工程においても、エツチング処理を
行つた後は非処理物を十分に水洗して不要物を除
去しておく。
Next, as a fourth step, the exposed portions of the first nickel plating layer 2 are removed by etching. This work is performed on the first nickel plating layer 2.
This is carried out by spray etching the mother roll 1 with a predetermined etching solution, and then rotating the mother roll 1 in that state until the nickel plating exposed portions are sufficiently corroded.
As a result, the outer peripheral surface of the mother roll 1 has a fifth
The first one is coated with photosensitive resin as shown in the figure.
Only the part of the nickel layer is the bridge part...
... remains as A', and the other nickel plated portions are removed, thereby forming openings R'...RO' as non-bridged parts. In this step as well, after performing the etching treatment, the unprocessed materials are sufficiently washed with water to remove unnecessary materials.

そして、このようにしてマザーロール外周面に
沿つたシリンダー状の第1ニツケルメツキ層2に
ブリツジ部イ′……イ′及び開口部ロ′……ロ′を形
成した後、本発明においては、更に次のような各
工程を行う。
After forming the bridge portions A'...A' and the openings R'...Ro' in the cylindrical first nickel plating layer 2 along the outer circumferential surface of the mother roll in this manner, in the present invention, further steps are performed in the present invention. Perform the following steps.

即ち、第5工程として、第6図に示すように上
記開口部ロ′……ロ′に非導電性の合成樹脂5を充
填した状態でブリツジ部イ′……イ′の表面に例え
ば各々5μm程度の厚さの塩化ニツケルメツキ層6
と銅メツキ層7とを順次形成する。その場合、先
ず上記のブリツジ部イ′……イ′及び開口部ロ′…
…ロ′を区別せずに合成樹脂5を第1ニツケルメ
ツキ層2等の表面全体にコーテイングした後、そ
の表面側を例えば400#の水ペーパーで研磨する
ことによつて第1ニツケルメツキ層2を露出さ
せ、然る後、その露出した第1ニツケルメツキ層
2の表面に上記塩化ニツケルメツキ層6と銅メツ
キ層7とを形成するようにする。その際、前者に
ついては、例えば塩酸20と水100との混合液
の中に塩化ニツケル20Kgを混合してなるメツキ液
を使用して常温で行い、また後者については、例
えば1当たりに250gの硫酸銅と60gの硫酸とを
含むメツキ液を使用して約50℃の液温状態で行
う。
That is, as a fifth step, as shown in FIG. 6, with the non-conductive synthetic resin 5 filled in the openings R'...R', the surfaces of the bridge parts A'...A' are each coated with a thickness of, for example, 5 μm. Nickel chloride plating layer with a thickness of about 6
and copper plating layer 7 are sequentially formed. In that case, first of all,
...After coating the entire surface of the first nickel plating layer 2, etc. with the synthetic resin 5 without distinguishing between B' and the like, the first nickel plating layer 2 is exposed by polishing the surface side with, for example, 400# water paper. After that, the nickel chloride plating layer 6 and the copper plating layer 7 are formed on the exposed surface of the first nickel plating layer 2. At that time, the former is carried out at room temperature using a plating solution made by mixing 20 kg of nickel chloride in a mixture of 20 parts hydrochloric acid and 100 parts water, and the latter is carried out at room temperature using, for example, 250 g of sulfuric acid per This is carried out using a plating solution containing copper and 60 g of sulfuric acid at a temperature of about 50°C.

ここで、非導電性の合成樹脂5としては、例え
ば、東京応化工業株式会社からOPインクとして
発売されているアルカリ可溶性樹脂の溶液(フエ
ノール樹脂を所定の溶剤中に溶かしたもの)を使
用する。
Here, as the non-conductive synthetic resin 5, for example, an alkali-soluble resin solution (phenolic resin dissolved in a predetermined solvent) sold as OP ink by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. is used.

次に、第6工程として、第7図に示すように上
記銅メツキ層7の表面に所定厚さ(例えば約120
〜130μm程度の厚さ)の第2ニツケルメツキ層8
を形成する。この場合の作業は、例えば1当た
りに390gのスルフアミン酸ニツケルと37gのホウ
酸とを含むメツキ液を使用して、液温を約55℃に
保つて行う。これにより、下層側からニツケル、
塩化ニツケル、銅、ニツケルの各メツキ層2,
6,7,8が積層されてなるメツキロール9が上
記マザーロール1の外周面に形成されることにな
る。
Next, as a sixth step, as shown in FIG.
~130μm thick) second nickel plating layer 8
form. In this case, the work is carried out using, for example, a plating solution containing 390 g of nickel sulfamate and 37 g of boric acid per plating solution, and maintaining the solution temperature at about 55°C. As a result, nickel from the lower layer side,
Nickel chloride, copper, and nickel plating layers 2,
A matte roll 9 formed by laminating layers 6, 7, and 8 is formed on the outer circumferential surface of the mother roll 1.

更に、このようにして形成したメツキロール9
を当該マザーロール1から取り外す。その場合、
第8図に示すように、先ず第7工程で上記感光性
樹脂3や開口部ロ′……ロ′に充填されている合成
樹脂等の不要物を例えば苛性ソーダで洗浄除去
し、その後、第8工程でマザーロール1を冷却し
て該マザーロール1とメツキロール9との膨張差
を利用することによつて、そのメツキロール9を
マザーロール1から抜き取る。そして、ピンホー
ル等の不良箇所がないか最終的にチエツクした
後、当該メツキロールにエンドリングを装着して
製品としてのスクリーン版を完成する。
Furthermore, Metsuki Roll 9 formed in this way
from the mother roll 1. In that case,
As shown in FIG. 8, first, in the seventh step, unnecessary materials such as the photosensitive resin 3 and the synthetic resin filled in the openings RO'...RO' are removed by washing with, for example, caustic soda. In the process, the mother roll 1 is cooled and the mating roll 9 is extracted from the mother roll 1 by utilizing the expansion difference between the mother roll 1 and the mating roll 9. After a final check for defects such as pinholes, an end ring is attached to the mating roll to complete the screen plate as a product.

上記の構成によれば、第1〜第4までの工程を
終えた時点で、ピアスエツチング版と同様の構成
のもの、つまり開口部ロ′……ロ′に隣接するメツ
シユ状のブリツジ部イ′……イ′がニツケルでなる
比較的大きな開口率を有するニツケルシリンダー
ができるが、この時点では未だ十分な厚みを有し
ていない。しかし、その後において、更に第5、
第6工程が行われることにより、上記ブリツジ部
イ′……イ′を構成している第1ニツケルメツキ層
2の表面に塩化ニツケルメツキ層6、銅メツキ層
7、第2ニツケルメツキ層8の各メツキ層が所定
の厚みで順番に形成される。その結果、その塩化
ニツケル、銅、ニツケルの各メツキ層6,7,8
の厚さ分だけ従来のピアスエツチング版よりも厚
さ寸法の大きいスクリーン版を製作することがで
きる。
According to the above configuration, when the first to fourth steps are completed, a piece having the same configuration as the piercing etching plate, that is, a mesh-shaped bridge portion adjacent to the opening hole ``...'' ...A nickel cylinder with a comparatively large aperture ratio, where A' is made of nickel, is produced, but at this point it is not yet sufficiently thick. However, after that, the fifth
By performing the sixth step, each plating layer of the nickel chloride plating layer 6, the copper plating layer 7, and the second nickel plating layer 8 is formed on the surface of the first nickel plating layer 2 constituting the bridge portions A'...A'. are sequentially formed with a predetermined thickness. As a result, the plating layers 6, 7, 8 of nickel chloride, copper, and nickel
It is possible to produce a screen plate that is thicker than a conventional piercing etching plate by the thickness of .

その場合、第1ニツケルメツキ層2の表面に直
接第2ニツケルメツキ層8が形成されるのではな
く、上記のように厚さの比較的薄い塩化ニツケル
メツキ層6と銅メツキ層7とが順次形成された上
で、その銅メツキ層7の表面に第2ニツケルメツ
キ層8が形成されているから、その第2ニツケル
メツキ層8が容易に剥離しなくなる。言い換える
と、上記のようなメツキ処理を行うことにより、
各メツキ層2,6,7,8間の結合性の低下を来
さずに全体を厚く形成することができる。
In that case, the second nickel plating layer 8 is not directly formed on the surface of the first nickel plating layer 2, but the relatively thin nickel chloride plating layer 6 and the copper plating layer 7 are sequentially formed as described above. Since the second nickel plating layer 8 is formed on the surface of the copper plating layer 7, the second nickel plating layer 8 is not easily peeled off. In other words, by performing the plating process as described above,
The entire plating layer 2, 6, 7, and 8 can be formed thick without deteriorating the bonding properties between them.

また、塩化ニツケル、銅、ニツケルの各メツキ
層6,7,8は、開口部ロ′……ロ′に非導電性の
合成樹脂を充填した状態で形成されるから、この
場合と同様の厚さを有するスクリーン版を従来の
ガルバノ法によつて製作した場合に比べると、サ
イドスブリーデイング現象の生じる割合が遥かに
小さくなる。従つて、第1ニツケルメツキ層2の
上に形成される全メツキ層6,7,8の厚さを相
当に大きくしない限り、上記開口部ロ′……ロ′を
狭めることはない。
Furthermore, since the plating layers 6, 7, and 8 of nickel chloride, copper, and nickel are formed with the openings R'...R' filled with nonconductive synthetic resin, they have the same thickness as in this case. Compared to the case where a screen plate having a high density is manufactured by the conventional galvano method, the side bleeding phenomenon occurs at a much lower rate. Therefore, unless the thickness of all the plating layers 6, 7, 8 formed on the first nickel plating layer 2 is considerably increased, the openings R'...R' will not be narrowed.

これにより、所要の大きな開口率を確保しなが
ら厚さ寸法の比較的大きいスクリーン版が得られ
ることになる。
As a result, a screen plate having a relatively large thickness can be obtained while ensuring the required large aperture ratio.

尚、この実施例はマザーロール1を用いてロー
ル状ないしシリンダー状のスクリーン版を製造す
る場合に関するものであるが、本発明はこのよう
な形状のスクリーン版の製造に限るものでないこ
とは勿論である。例えば、上記マザーロール1に
代えて平板状のマザープレートを使用することに
より、ロール状ではなくプレート状のスクリーン
版を製造することも可能である。
Although this embodiment relates to the production of a roll-shaped or cylinder-shaped screen plate using the mother roll 1, it goes without saying that the present invention is not limited to the production of screen plates of such a shape. be. For example, by using a flat mother plate instead of the mother roll 1, it is also possible to manufacture a screen plate that is not roll-shaped but plate-shaped.

(発明の効果) 以上のように本発明によれば、予め従来のピア
スエツチング法と同様の方法によつてブリツジ部
及び開口部(非ブリツジ部)を有するニツケルシ
リンダーを形成して、更に該シリンダーの開口部
に非導電性の合成樹脂を充填した状態でブリツジ
部のみに塩化ニツケル、銅、ニツケルの各メツキ
層を形成するようにしたから、開口部を狭くする
ことなく十分な厚さを有するスクリーン版を製造
することができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, a nickel cylinder having a bridge portion and an opening (non-bridge portion) is formed in advance by a method similar to the conventional piercing etching method, and then the cylinder is The opening is filled with non-conductive synthetic resin, and the plating layers of nickel chloride, copper, and nickel are formed only on the bridge part, so the opening is thick enough without narrowing it. A screen version can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第8図は本発明の実施例を示すもの
で、第1図はマザーロール表面に第1ニツケルメ
ツキ層を形成した状態を示す工程図、第2図は第
1ニツケルメツキ層の表面にコーテイング層を形
成した状態を示す工程図、第3図はコーテイング
層の表面にメツシユ入り画像フイルムを密着させ
た状態を示す工程図、第4図はエツチング処理を
行う直前の第1ニツケルメツキ層の状態を示す工
程図、第5図はエツチング処理によつて第1ニツ
ケルメツキ層に開口部を形成した状態を示す工程
図、第6図は開口部でないブリツジ部に塩化ニツ
ケル層と銅メツキ層とを形成した状態を示す工程
図、第7図は銅メツキ層の表面に第2ニツケルメ
ツキ層を形成した状態を示す工程図、第8図はメ
ツキロールから非導電性合成樹脂を除去した状態
を示す工程図である。また、第9図及び第10図
は従来法の問題点を夫々示すもので、第9図はガ
ルバノ法におけるメツキ時にサイドスブリーデイ
ングが生じている状態を示す縦断面図、第10図
はピアスエツチング法におけるエツチング時にサ
イドエツチングが生じている状態を示す縦断面図
である。 1……マザーロール、2……第1ニツケルメツ
キ層、3……コーテイング層(感光性樹脂)、4
……メツシユ入り画像フイルム、5……非導電性
の合成樹脂、6……塩化ニツケルメツキ層、7…
…銅メツキ層、8……第2ニツケルメツキ層、9
……メツキロール、イ′……ブリツジ部、ロ′……
開口部(非ブリツジ部)。
Fig. 1 to Fig. 8 show examples of the present invention, Fig. 1 is a process diagram showing the state in which the first nickel plating layer is formed on the surface of the mother roll, and Fig. 2 is a process diagram showing the state in which the first nickel plating layer is formed on the surface of the mother roll. Figure 3 is a process diagram showing the state in which the coating layer has been formed. Figure 3 is a process diagram showing the state in which the meshed image film is brought into close contact with the surface of the coating layer. Figure 4 is the state of the first nickel plating layer immediately before etching. FIG. 5 is a process diagram showing the state in which an opening is formed in the first nickel plating layer by etching process, and FIG. 6 is a process diagram showing the formation of a nickel chloride layer and a copper plating layer in a bridge portion that is not an opening. Figure 7 is a process diagram showing the state in which the second nickel plating layer is formed on the surface of the copper plating layer, and Figure 8 is a process diagram showing the state in which the non-conductive synthetic resin is removed from the plated roll. be. In addition, Figures 9 and 10 show the problems of the conventional method, respectively. Figure 9 is a longitudinal cross-sectional view showing a state in which sides bleeding occurs during plating in the galvano method, and Figure 10 is a vertical cross-sectional view showing the state where side bleeding occurs during plating in the galvano method. FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a state in which side etching occurs during etching in the etching method. 1... Mother roll, 2... First nickel plating layer, 3... Coating layer (photosensitive resin), 4
...Mesh-containing image film, 5...Non-conductive synthetic resin, 6...Nickel chloride plating layer, 7...
...Copper plating layer, 8...Second nickel plating layer, 9
...Metsuki roll, I'...Bridge club, B'...
Opening (non-bridge part).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 メツシユ入り画像フイルムと、合金又は合金
メツキでなるマザーロール又はマザープレートと
を用いて所定厚さのスクリーン版を製造する方法
であつて、マザーロール又はマザープレートの表
面に第1ニツケルメツキ層を形成する第1工程
と、その第1ニツケルメツキ層の表面を感光性樹
脂溶液でコーテイングする第2工程と、そのコー
テイング層の表面に上記フイルムを焼き付けて現
像及び水洗する第3工程と、この第3工程の露
光、現像処理で露出したニツケル部分をエツチン
グ処理して除去することにより開口部を形成する
第4工程と、その開口部に非導電性の合成樹脂を
充填した状態で上記第1ニツケルメツキ層の表面
に所定厚の塩化ニツケルメツキ層と銅メツキ層と
を順次形成する第5工程と、その銅メツキ層の表
面に第2ニツケルメツキ層を形成する第6工程
と、その第2ニツケルメツキ層の形成後に上記非
導電性合成樹脂を除去する第7工程と、この第7
工程で得られたメツキロール又はメツキプレート
を上記マザーロール又はマザープレートから取り
外す第8工程とを有することを特徴とするスクリ
ーン版の製造方法。
1 A method for producing a screen plate of a predetermined thickness using a meshed image film and a mother roll or mother plate made of an alloy or alloy plating, the method comprising forming a first nickel plating layer on the surface of the mother roll or mother plate. a second step of coating the surface of the first nickel plating layer with a photosensitive resin solution; a third step of baking the film on the surface of the coating layer, developing it and washing it with water; and this third step. A fourth step of forming an opening by etching and removing the nickel portion exposed in the exposure and development process, and forming the first nickel plating layer with the opening filled with a non-conductive synthetic resin. a fifth step of sequentially forming a nickel chloride plating layer and a copper plating layer of a predetermined thickness on the surface; a sixth step of forming a second nickel plating layer on the surface of the copper plating layer; and after forming the second nickel plating layer, the above steps are performed. a seventh step of removing the non-conductive synthetic resin;
8. A method for producing a screen plate, comprising: an eighth step of removing the matte roll or plate obtained in the step from the mother roll or mother plate.
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