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JPH0473773B2 - - Google Patents
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JPH0473773B2 - - Google Patents

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JPH0473773B2
JPH0473773B2 JP20056183A JP20056183A JPH0473773B2 JP H0473773 B2 JPH0473773 B2 JP H0473773B2 JP 20056183 A JP20056183 A JP 20056183A JP 20056183 A JP20056183 A JP 20056183A JP H0473773 B2 JPH0473773 B2 JP H0473773B2
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • GPHYSICS
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    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は製版用静電記録材料に係わり、特に透
明性プラスチツクフイルム支持体の片面に静電記
録層を有し、他方の面に活性光線遮光性を有し、
且つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層を有
する製版用静電記録津材料に関するものである。 従来、写真印刷の製版作業に於いて、文字やカ
ラー写真を含む貼り込み原稿からPS印刷のため
の分版されたフイルム原稿を作成する過程で銀塩
その他の反転感光材料或はマスキング材料と称さ
れている原稿の不要部分を選択的に遮光する材料
等が使用されている。そして前記のマスキング材
料としては、活性光線遮光性の着色剤をプラスチ
ツクスや紙に添加せしめた着色プラスチツクスフ
イルムや着色紙、或は透明プラスチツクフイルム
の片面に、活性光線を遮光する能力の有る剥離性
被膜等を設けたものが知られている。 前者のマスキング材料は、材料自体を切り抜い
てパターン化して使用し、後者のマスキング材料
はプラスチツクフイルム支持体上の着色被膜のみ
をカツターナイフなどで切り、必要部分だけを支
持体から剥離して遮光膜のパターン化を形成する
ものである。 このようなパターン化の作業は、通常貼込み原
稿又は撮影したリス原稿と重ねて行い、パターン
化されたマスキング材料は銀塩等の写真材料と透
明粘着テープでり合わせて次の工程の原稿とされ
ている。 前記した従来のマスキング作業に於いては、ナ
イフ等によるカツテイング作業中に原稿の位置ズ
レを起こし易く、又感光性フイルムとマスキング
材料が重なるため、感光乳剤面と遮光性被膜との
間のベース厚が増し、焼きボケが生じる欠陥があ
つた。 また銀塩材料に於いては、感光膜の露光、現像
工程を暗室内で処理しなければならず、作業能率
が悪く露光、現像に伴う装置が必要であつた。 一方、ジアゾニウム感光材料においては、現像
時にアンモニアを使用するため臭いの問題があつ
た。 前記のジアゾニウム感光材料は銀塩材料に比べ
てある程度明室化することができるものの、それ
でも安全光を必要とした。更に銀塩材料、ジアゾ
ニウム感光材料ともに貯蔵安定性の問題があり、
特にジアゾニウム感光材料はセルフライフが1年
前後と短く、又、その保存には冷暗所又は装置を
要した。 そして又、前記の銀塩材料、ジアゾニウム感光
材料ともに、オリジナル原稿より光学的に第二原
図を得るため、経時変化修正をおこなうに伴い、
一定期間オリジナル原稿を保管する必要が有り、
保管中のオリジナル原稿の保存中における温度変
化による寸法安定性に問題があり、経時変化に伴
う修正時に、オリジナル原稿と修正図面との間
に、位置ズレを起こし、オリジナル原稿と修正図
面とのトンボ合わせによる位置決めが困難であつ
た。 一方、紙質のマスキング材料は、温湿度の影響
を受けて反り易く、ネガ原稿の大面積をマスクし
て使用する場合など、寸法精度が悪く精密製版に
は問題があつた。 本発明は前記従来の製版材料の欠陥を解消した
もので、その要旨は、低抵抗層と誘電体層をその
表面に有する体積抵抗値が101〜1020Ωcmである
透明支持体の裏面に、活性光線遮光性を有し、且
つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層を設け
て成ることを特徴とする遮光性マスク層を有する
製版用静電記録材料である。 以下、図面を基に本発明を具体的に説明する。
図面に於いて、第1図は本発明の一実施例を示す
拡大断面図、第2図は活性光線遮光性を有し、且
つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層をラミ
ネートするタイプの一実施例を示す拡大断面図、
第3図は第1図の材料を静電画像処理し、誘電体
層上に静電画像を形成し、遮光性マスク層を一部
剥離した状態を示す拡大断面図、第4図は第2図
の材料を静電画像処理し、誘電体層上に静電画像
を形成し、遮光性マスク層を一部剥離した状態を
示す拡大断面図である。 図面に於いて1は透明支持体であり、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びトリアセチルセルロ
ース樹脂等のフイルム又はシートである。 前記透明支持体1の体積抵抗値は101〜1020Ω
cmである。なお支持体自体が導電性を有する透明
支持体であつてもよい。この導電性を有する透明
支持体の体積抵抗値は105〜1012Ωcmの範囲のも
のが適している。 そして又、透明支持体1の表面には低抵抗層2
が設けてあり、更に低抵抗層2の表面には誘電体
層3が設けてある。 前記低抵抗層2は、導電剤、例えばポリビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、2
−アクロイルエチルトリメチルアンモニウムクロ
ライドとビニルスルホンとの共重合体およびスル
ホン化スチレンオリゴマー等をアクリル樹脂、メ
トキシメチロール化ナイロン、熱可塑性ポリエス
テル樹脂およびポリウレタン樹脂等のバインダー
を介して塗工することによつて得られる。 そして、前記低抵抗層2の上に設ける誘電体層
3は、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリビニルブチラール樹脂、シリコーン樹
脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体およびセルロース誘導体樹脂等を水、有
機溶媒に溶解または分散せしめた塗工液を塗工、
乾燥することによつて設ける。なおこの塗工液に
は改質剤として微粉末シリカ等が配合される。 本発明においては、前記透明支持体1の裏面に
活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性を有
する剥離性マスク層4を設けてある。 前記の活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透
過性を有する剥離性マスク層4は特に紫外線に対
して遮光効果があり、可視光線に対しては透過性
を有する顔料又は染料を可撓性の熱可塑性高分子
物質に溶解分散せしめたものである。 具体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリアミド及びポリウレタン等の熱可塑
性高分子物質にアゾ系染顔料、アントラキノン系
染顔料、銅フタロシアニン系顔料、黄鉛、ベンガ
ラ及びカーボンブラツク等を配合し、更に有機溶
媒で両者を溶解又は分散することによつて得た遮
光性塗工液を透明支持体1の裏面に、ハケ塗り、
ナイフコーター、ロールコーター等で塗布乾燥す
ることによつて設ける。又、この剥離性マスク層
中には、必要に応じてカチオン系帯電防止剤、ノ
ニオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤が添
加される。 前記活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過
性を有する剥離マスク層4の厚さは5〜50μ、好
ましくは10〜30μである。その光線透過率はラツ
テン18Aフイルターで2.0以上必要であり、又体
積抵抗値は105〜1016Ωcmであれば良い。 又、活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過
性を有する剥離マスク層4の透明支持体1に対す
る接着強度は通常の作業で剥離し易い範囲内であ
れば良く、180°剥離による接着力が1cm幅当たり
10〜500gに設定できる。 10g以下では脱落し易く、又500g以上では被膜
が破断したり、剥離が困難になるので好ましくな
い。 活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性を
有する剥離性マスク4を設けるもう一つの方法
は、前記遮光性塗工液を透明支持体1とは別の透
明支持体5の表面に塗布し、該透明支持体5の裏
面に、感圧、感熱接着が可能なラミネート層6を
介して透明支持体1の裏面にラミネーターにより
ラミネートする。 具体的には、透明支持体5の厚さは5〜100μ
であり、好ましくは10〜50μである。透明支持体
5の表面に前記遮光性塗工液を乾燥膜厚が10〜
30μになるように塗布乾燥し、更に透明支持体5
の裏面にラミネート層を1〜50μ、好ましくは3
〜10μ設けることによつて成される。該遮光性マ
スク層のラミネート層6と透明支持体1の誘電体
層とは反対の面に50〜200℃の温度範囲でラミネ
ーターによりラミネートする。 前記ラミネート層6に使用する材料としては、
エポキシ樹脂、フエノール樹脂、アクリルニトリ
ルゴム、ネオプレンゴム、ブチラール樹脂、アク
リルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンコム、ポ
リウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、シリコー
ン樹脂、シアノアクリレート樹脂、ポリビニルピ
ロリドン樹脂等から採択される接着剤の1種又は
2種以上が挙げられる。そしてその光線透過率は
ラツテン18Aフイルターで2.0以上必要であり、
又、180°剥離による接着力は1cm当たり10〜500g
が好ましい。 かくのごとく構成された本発明の活性光線遮光
性を有し、且つ可視光線透過性を有する剥離性マ
スク層を有する製版用静電記録材料は、静電記録
材料の裏面に紫外線に対して高い遮光性を有する
剥離性被膜を具備し、又静電記録材料の表面に
は、静電画像を得るための低抵抗層と誘電体層を
具備するもので、従来別々の材料として供給され
ていた二つの機能を一つの基材上に有する特徴が
有る。 この結果、本発明の遮光性マスク層をを有する
製版用静電記録材料を使用すると、画像の現出が
明室下で実施することができ、またトナーの定着
により画像の現出も簡単に行える。 また画像の消去、修正が消ゴム等で用意に行
え、複写機等によるコピーも可能である。 更に、感光性フイルムと異なつて保存性、セル
フライフの問題が解消され半永久的に画像の現出
が可能であり、画像現出後さらに、異なつた画像
を現出させオーバーラツプすることも可能で、か
つ静電記録機器の機能から画像データーをデジタ
ル変換することによつて、ネガ、ポジ両方の画像
を現出することができる。 又、画像データーをフロツピーデイスクに保存
することができ、画像データーが必要なとき、同
一画像を多数枚現出することができる。 更には、遮光性マスク層の剥離作業を行う際、
遮光性マスク層が可視光線透過性であることか
ら、下に在る静電画像を目視することができ、容
易に不要部分をカツターナイフ等でカツテイン
グ、剥離が行え、例えば切り抜き文字版を簡単
に、しかも精度良く作成することが可能であり、
オリジナル版としてリスフイルム等に焼付け、第
二原図を作成することもできる利点がある。 そして又、静電画像記録層と剥離性マスク層が
表裏一体となつて構成されているので、位置ズレ
を生じることがなく、焼きボケも大幅に改善され
る等、写真製版の質的向上に優れた効果をもたら
すものである。 以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 (イ) 剥離性マスク層作成用塗工液の調整 下記組成の成分をボールミルに入れ、分散混合
し塗工液を得た。 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 140重量部 (商品名:ビニライトVYHH ユニオンカーバイト社製品) アクリルニトリルゴム 50重量部 (商品名:ニツポールNS230 日本合成ゴム社製品) スチレン樹脂 20重量部 アゾ染料 12重量部 (商品名:ネオザポンレツドGE バスフ社製品) 微粉末シリカ 16重量部 (商品名:エアロジルOK412 富士デビソン社製品) メチルエチルケトン 600重量部 トルオール 200重量部 (ロ) 低抵抗層用塗工液の調整 導電性樹脂 10重量部 (商品名:ケミスタツト6300H 三洋化成社製品) メトキシメチロール化ナイロン 5重量部 (商品名:テイサンレジンEF30T 帝国化学社製品) 水溶性ポリエステル樹脂 5重量部 (商品名:バイロナールMD1200 東洋紡社製品) 微粉末シリカ 0.1重量部 (商品名:サイロイド308 富士デビソン社製品) カルボキシ化澱粉 0.05重量部 メタノール 20重量部 水 70重量部 メチルセルソルブ 10重量部 (ハ) 誘電体層用塗工液の調整 スチレン樹脂 5重量部 ポリビニルブチラール樹脂 10重量部 メチルセルロース 5重量部 微粉末シリカ 1重量部 (商品名:サイロイド308 富士デビソン社製品) カルボキシ化澱粉 2重量部 メチルエチルケトン 60重量部 トリオール 20重量部 厚さ50μ、体積抵抗値2.6×1018Ωcmのポリエチ
レンテレフタレートフイルムの片面に前記(ロ)によ
つて調整した低抵抗用塗工液をコーテイングバー
#15にて塗布、乾燥して膜厚が約4μの低抵抗層
を得た。 次いで、その上に前記(ハ)によつて調整した誘電
体層用塗工液をコーテイングバー#10にて塗布、
乾燥して膜厚が3.5μの誘電体層を設けた。 更にポリエチレンテレフタレートフイルムのも
う一方の面に前記(イ)によつて調整した剥離性マス
ク層作成用塗工液をリバースロールコーターによ
つて塗布、乾燥し、膜厚が25μの高い遮光性を有
する剥離性マスク層を設けることによつて遮光性
マスク層を有する製版用静電記録材料を得た。 前記の製版用静電記録材料をバーサテツク社製
静電記録装置V80により、速度1.2インチ/sec帯
電圧780Vで電荷を印加して潜像を現像定着した
ところ、鮮明な画像が得られた。 又、高い遮光性を有する剥離性マスク層の剥離
性も良好であつた。その結果を第1表に示す。 実施例 2 帯電防止材練込型ポリエステルフイルム支持体
(商品名:X53東レ社製品、厚さ75μ体積抵抗値
4.2×1013Ωcm)上に実施例1と同様にして低抵
抗層2、誘電体層3及び高い遮光性を有する剥離
性マスク層4を各々設けることによつて製版用静
電記録材料を得た。前記の静電記録材料をバーサ
テツク社製静電記録装置V80により、速度1.2イ
ンチ/sec帯電圧680Vで電荷を印加して潜像を現
像定着したところ、鮮明な画像が得られた。又、
高い遮光性を有する剥離性マスク層の剥離性も良
好であつた。その結果を第1表に示す。 実施例 3 (ニ) ラミネート層用塗工液の調整 エチレン−酢酸ビニル共重合体 20重量部 (商品名:ソアレツクスDH 日本合成ゴム社製品) 微粉末シリカ 0.2重量部 (商品名:サイロイド308 富士デビソン社製品) メチルエチルケトン 50重量部 トリオール 30重量部 (ホ) ラミネート用高い遮光性を有するマスク層用
塗工液 ポリエステル樹脂 20.0重量部 (商品名:バイロン200 東洋紡社製品) アゾ染料 2.0重量部 (商品名:ネオザポンレツドGE バスフ社製品) アゾ染料 2.0重量部 (商品名:ネオザポンレツドGE バスフ社製品) レベリング剤 0.5重量部 (商品名:ペインタツトM ダウコーニング社製品) メチルエチルケトン 50.0重量部 トリオール 30.0重量部 厚さ20μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム支持体の片面に前記(ホ)によつて調整したラミネ
ート用高い遮光性を有するマスク層用塗工液をリ
バースロールコーターにて塗工し、膜厚9μの遮
光性を有するマスク層4を設け、更に支持体4の
もう一方の面に前記(ニ)によつて調整したラミネー
ト用塗工液をコーテイングバー#10にて塗工して
膜厚約3μの感圧接着が可能なラミネート層6を
設ける。次いで、予め準備したポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体(厚100μ体積抵抗5.3
×1018Ωcm)の片面に実施例1と同様にして低抵
抗体層2、誘電体層3を設けてある透明支持体1
のもう一方の面に、先にラミネートし層を約100
℃の熱ロール式ラミネーターにてラミネートし、
高い遮光性を有する剥離性マスク層(4,5,6
が一体となつた)を設けることによつて遮光性マ
スク層を有する製版用静電記録材料を得た。 この遮光性マスク層を有する静電記録材料の剥
離界面は、ラミネート層6と、透明支持体1の間
でラミネート層はマスク層の方に接着した支持体
面より剥離し、支持体面上にはラミネート層は残
らない。 この剥離性マスク層を有する製版用静電記録材
料を実施例1と同様の記録装置により、速度1.2
インチ/sec帯電圧700Vで電荷を印加して潜像を
現像定着したところ、鮮明な画像が得られた。そ
の結果を第1表に示す。 【表】
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrostatic recording material for plate making, and in particular, a transparent plastic film support having an electrostatic recording layer on one side and an actinic ray blocking property on the other side,
The present invention also relates to an electrostatic recording material for plate making having a peelable mask layer that transmits visible light. Conventionally, in the plate-making process for photo printing, in the process of creating separated film originals for PS printing from pasted originals containing text and color photographs, silver salts and other reversal photosensitive materials or masking materials were used. Materials and the like are used that selectively block unnecessary parts of the original document. The above-mentioned masking material may be a colored plastic film or colored paper made by adding a coloring agent that blocks actinic rays to plastic or paper, or a peeling material that has the ability to block actinic rays on one side of a transparent plastic film. Products with a sexual coating etc. are known. The former masking material is used by cutting out the material itself to form a pattern, while the latter masking material is used by cutting only the colored film on the plastic film support with a cutter knife, peeling only the necessary part from the support, and creating a light-shielding film. It forms a pattern. This patterning work is usually done by overlapping the pasted manuscript or photographed squirrel manuscript, and the patterned masking material is combined with photographic material such as silver salt and transparent adhesive tape, and then used with the manuscript for the next process. has been done. In the conventional masking work described above, the position of the original is likely to shift during cutting with a knife, etc., and the photosensitive film and masking material overlap, so the base thickness between the light-sensitive emulsion surface and the light-shielding coating is reduced. There was a defect that increased the image quality and caused blurring. Furthermore, in the case of silver salt materials, the exposure and development steps of the photosensitive film must be carried out in a dark room, resulting in poor working efficiency and the need for equipment for exposure and development. On the other hand, diazonium photosensitive materials have a problem with odor because ammonia is used during development. Although the diazonium photosensitive material described above can be made into a brighter room to a certain extent than the silver salt material, it still requires safe light. Furthermore, both silver salt materials and diazonium photosensitive materials have problems with storage stability.
In particular, diazonium photosensitive materials have a short self-life of about one year, and require a cool, dark place or equipment for storage. Furthermore, in order to obtain a second original image optically from the original manuscript, both the silver salt material and the diazonium photosensitive material mentioned above were corrected over time.
It is necessary to keep the original manuscript for a certain period of time,
There is a problem with the dimensional stability of the original manuscript due to temperature changes during storage, and when making corrections due to changes over time, misalignment occurs between the original manuscript and the revised drawing, resulting in registration marks between the original manuscript and the revised drawing. Positioning by alignment was difficult. On the other hand, paper-based masking materials tend to warp due to the influence of temperature and humidity, and have poor dimensional accuracy, which poses problems for precision plate making, such as when masking a large area of a negative original. The present invention eliminates the defects of the conventional plate-making materials, and its gist is that a transparent support having a low resistance layer and a dielectric layer on the surface and a volume resistivity of 10 1 to 10 20 Ωcm is coated on the back side of the transparent support. , an electrostatic recording material for plate making having a light-shielding mask layer, characterized in that it is provided with a removable mask layer having actinic ray-shielding properties and visible light-transmitting properties. Hereinafter, the present invention will be specifically explained based on the drawings.
In the drawings, FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an example of a type in which a removable mask layer having actinic ray blocking properties and visible light transmittance is laminated. An enlarged sectional view showing an example,
Fig. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the material shown in Fig. 1 subjected to electrostatic image processing to form an electrostatic image on the dielectric layer and partially peeled off the light-shielding mask layer. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which the material shown in the figure is subjected to electrostatic image processing, an electrostatic image is formed on the dielectric layer, and a light-shielding mask layer is partially peeled off. In the drawings, reference numeral 1 denotes a transparent support, which is a film or sheet made of polyethylene terephthalate resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, triacetyl cellulose resin, or the like. The volume resistivity value of the transparent support 1 is 10 1 to 10 20 Ω.
cm. Note that the support itself may be a transparent support having conductivity. The volume resistivity of this electrically conductive transparent support is suitably in the range of 10 5 to 10 12 Ωcm. Furthermore, a low resistance layer 2 is provided on the surface of the transparent support 1.
Further, a dielectric layer 3 is provided on the surface of the low resistance layer 2. The low resistance layer 2 is made of a conductive agent such as polyvinylbenzyltrimethylammonium chloride, 2
- By coating a copolymer of acroylethyltrimethylammonium chloride and vinyl sulfone, sulfonated styrene oligomer, etc. through a binder such as acrylic resin, methoxymethylolated nylon, thermoplastic polyester resin, and polyurethane resin. can get. The dielectric layer 3 provided on the low resistance layer 2 is made of acrylic resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral resin, silicone resin, polystyrene resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and cellulose derivative resin. Coating with a coating liquid made by dissolving or dispersing etc. in water or organic solvent,
Set by drying. Incidentally, this coating liquid contains finely powdered silica or the like as a modifier. In the present invention, a releasable mask layer 4 having actinic ray blocking properties and visible light transmittance is provided on the back surface of the transparent support 1. The removable mask layer 4 which has actinic ray blocking properties and visible light transmittance has a flexible pigment or dye that has a blocking effect particularly against ultraviolet rays and is transparent to visible light. It is dissolved and dispersed in a thermoplastic polymer material. Specifically, thermoplastic polymer materials such as polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyamide, and polyurethane, azo dyes and pigments, and anthraquinone-based A light-shielding coating liquid obtained by blending dye pigments, copper phthalocyanine pigments, yellow lead, red iron, carbon black, etc., and dissolving or dispersing both in an organic solvent is applied to the back surface of the transparent support 1. Brush painting,
It is applied by coating and drying using a knife coater, roll coater, etc. In addition, a cationic antistatic agent, a nonionic antistatic agent, and an anionic antistatic agent are added to this removable mask layer as necessary. The thickness of the peeling mask layer 4 having actinic ray blocking properties and visible light transmittance is 5 to 50 microns, preferably 10 to 30 microns. Its light transmittance should be 2.0 or more using a Ratten 18A filter, and its volume resistivity should be 10 5 to 10 16 Ωcm. In addition, the adhesive strength of the peelable mask layer 4 having actinic ray blocking properties and visible light transmittance to the transparent support 1 may be within a range that is easy to peel off in normal work, and the adhesive strength by 180° peeling is sufficient. per 1cm width
Can be set from 10 to 500g. If it is less than 10 g, it will easily fall off, and if it is more than 500 g, the coating will break or become difficult to peel off, which is not preferable. Another method for providing the removable mask 4 having actinic ray blocking properties and visible light transmittance is to apply the light blocking coating liquid to the surface of a transparent support 5 different from the transparent support 1. Then, on the back surface of the transparent support 5, a laminate layer 6 capable of pressure-sensitive and heat-sensitive adhesion is interposed and laminated onto the back surface of the transparent support 1 using a laminator. Specifically, the thickness of the transparent support 5 is 5 to 100μ.
and preferably 10 to 50μ. The light-shielding coating liquid is applied to the surface of the transparent support 5 to a dry film thickness of 10 to
Coat and dry to a thickness of 30μ, and then coat with transparent support 5.
Laminate layer on the back side of 1~50μ, preferably 3
This is achieved by providing ~10μ. The laminate layer 6 of the light-shielding mask layer and the surface of the transparent support 1 opposite to the dielectric layer are laminated using a laminator at a temperature in the range of 50 to 200°C. The materials used for the laminate layer 6 include:
Epoxy resin, phenolic resin, acryl nitrile rubber, neoprene rubber, butyral resin, acrylic rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, silicone resin, cyanoacrylate resin, polyvinyl Examples include one or more adhesives selected from pyrrolidone resins and the like. The light transmittance of the Ratsuten 18A filter is required to be 2.0 or higher.
Also, the adhesive strength after 180° peeling is 10 to 500 g per cm.
is preferred. The electrostatic recording material for plate making of the present invention having a removable mask layer having actinic ray blocking properties and visible light transmittance, configured as described above, has a layer on the back side of the electrostatic recording material that is highly resistant to ultraviolet rays. It is equipped with a removable coating that has light-shielding properties, and the surface of the electrostatic recording material is equipped with a low resistance layer and a dielectric layer for obtaining electrostatic images, which were conventionally supplied as separate materials. It has the feature of having two functions on one base material. As a result, when using the electrostatic recording material for plate making having the light-shielding mask layer of the present invention, images can be developed in a bright room, and images can also be easily developed by fixing the toner. I can do it. Furthermore, images can be easily erased or corrected using an eraser or the like, and can also be copied using a copying machine or the like. Furthermore, unlike photosensitive film, the problems of storage stability and self-life are resolved, and images can be displayed semi-permanently, and after the image has been formed, it is also possible to display different images and overlap them. By digitally converting image data using the functions of the electrostatic recording device, both negative and positive images can be produced. In addition, image data can be stored on a floppy disk, and when image data is needed, multiple copies of the same image can be displayed. Furthermore, when peeling off the light-shielding mask layer,
Since the light-shielding mask layer is transparent to visible light, the electrostatic image underneath can be seen visually, and unnecessary parts can be easily cut and peeled off with a cutter knife, etc. For example, cut-out character plates can be easily cut out. Moreover, it can be created with high precision,
It has the advantage that it can be printed onto lithium film or the like as an original version to create a second original drawing. In addition, since the electrostatic image recording layer and the removable mask layer are integrated into the front and back, there is no positional shift, and printing blur is significantly improved, resulting in qualitative improvements in photoengraving. It brings about excellent effects. Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples. Example 1 (a) Preparation of coating liquid for creating a peelable mask layer Components having the following composition were placed in a ball mill and dispersed and mixed to obtain a coating liquid. Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 140 parts by weight (Product name: Vinyrite VYHH, product of Union Carbide Co., Ltd.) Acrylic nitrile rubber 50 parts by weight (Product name: Nitzpol NS230, product of Nihon Gosei Rubber Co., Ltd.) Styrene resin 20 parts by weight Azo dye 12 parts by weight (Product name: Neozaponretsu GE product by Basf) Finely powdered silica 16 parts by weight (Product name: Aerosil OK412, product by Fuji Davison) Methyl ethyl ketone 600 parts Toluene 200 parts by weight (2) Adjustment of conductivity of coating liquid for low resistance layer Resin 10 parts by weight (Product name: Chemistat 6300H, Sanyo Kasei product) Methoxymethylolated nylon 5 parts by weight (Product name: Teisan Resin EF30T, Teikoku Kagaku product) Water-soluble polyester resin 5 parts by weight (Product name: Vylonal MD1200, Toyobo product) ) Finely powdered silica 0.1 parts by weight (Product name: Thyroid 308, Fuji Davison product) Carboxylated starch 0.05 parts by weight Methanol 20 parts by weight Water 70 parts by weight Methyl cell solve 10 parts by weight (c) Preparation of coating liquid for dielectric layer Styrene resin 5 parts by weight Polyvinyl butyral resin 10 parts by weight Methyl cellulose 5 parts by weight Finely powdered silica 1 part by weight (product name: Thyroid 308, manufactured by Fuji Davison) Carboxylated starch 2 parts by weight Methyl ethyl ketone 60 parts by weight Triol 20 parts by weight Thickness: 50μ, The low-resistance coating solution prepared in (b) above was applied to one side of a polyethylene terephthalate film with a volume resistivity of 2.6×10 18 Ωcm using a coating bar #15, and dried to a low-resistance film with a thickness of approximately 4μ. Got layers. Next, apply the dielectric layer coating solution prepared in (c) above using coating bar #10,
A dielectric layer having a thickness of 3.5 μm was dried. Further, on the other side of the polyethylene terephthalate film, the coating solution for creating a releasable mask layer prepared in the above (a) is applied using a reverse roll coater and dried to have a film thickness of 25 μm and a high light-shielding property. By providing a peelable mask layer, an electrostatic recording material for plate making having a light-shielding mask layer was obtained. When a latent image was developed and fixed on the electrostatic recording material for plate making using an electrostatic recording device V80 manufactured by Versatech Co., Ltd. by applying a charge at a speed of 1.2 inches/sec at a charging voltage of 780 V, a clear image was obtained. Furthermore, the removability of the removable mask layer having high light-shielding properties was also good. The results are shown in Table 1. Example 2 Antistatic material kneaded polyester film support (product name: X53 Toray product, thickness 75μ volume resistivity)
4.2×10 13 Ωcm) in the same manner as in Example 1 to obtain an electrostatic recording material for plate making by respectively providing a low resistance layer 2, a dielectric layer 3, and a peelable mask layer 4 having high light-shielding properties. Ta. When a latent image was developed and fixed on the electrostatic recording material using an electrostatic recording device V80 manufactured by Versatech Co., Ltd. by applying a charge at a speed of 1.2 inches/sec at a charging voltage of 680 V, a clear image was obtained. or,
The removability of the removable mask layer having high light-shielding properties was also good. The results are shown in Table 1. Example 3 (d) Preparation of coating solution for laminate layer Ethylene-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight (product name: Soarex DH, product of Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.) Fine powder silica 0.2 parts by weight (product name: Thyroid 308 Fuji Davison) Methyl ethyl ketone 50 parts by weight Triol 30 parts by weight (e) Coating liquid for mask layer with high light-shielding properties for laminate Polyester resin 20.0 parts by weight (Product name: Vylon 200 Toyobo product) Azo dye 2.0 parts by weight (Product name Azo dye 2.0 parts by weight (Product name: Neozaponred GE Basf Company product) Leveling agent 0.5 parts by weight (Product name: Paintat M, Dow Corning product) Methyl ethyl ketone 50.0 parts Triol 30.0 parts Thickness: 20μ The coating solution for a mask layer with high light-shielding properties for lamination prepared in the above (e) was coated on one side of a polyethylene terephthalate film support using a reverse roll coater to form a mask layer with a film thickness of 9 μm with light-shielding properties. 4, and then apply the laminating coating solution prepared in (d) above to the other surface of the support 4 using a coating bar #10, allowing pressure-sensitive adhesion with a film thickness of approximately 3μ. A laminate layer 6 is provided. Next, a pre-prepared polyethylene terephthalate film support (thickness 100μ volume resistance 5.3
Transparent support 1 having a low resistance layer 2 and a dielectric layer 3 provided on one side of the substrate (×10 18 Ωcm) in the same manner as in Example 1.
On the other side, first laminate about 100 layers.
Laminate with a heat roll laminator at ℃,
Peelable mask layer (4, 5, 6) with high light-shielding properties
An electrostatic recording material for plate making having a light-shielding mask layer was obtained. The peeling interface of the electrostatic recording material having this light-shielding mask layer is between the laminate layer 6 and the transparent support 1, where the laminate layer is peeled off from the support surface adhered to the mask layer, and the laminate layer is peeled off from the support surface adhered to the mask layer. No layers remain. The electrostatic recording material for plate making having this peelable mask layer was coated at a speed of 1.2 using the same recording device as in Example 1.
When a latent image was developed and fixed by applying a charge at a voltage of 700 V in/sec, a clear image was obtained. The results are shown in Table 1. 【table】

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の遮光性マスク層を有する製版
用静電記録材料の一実施例を示す拡大断面図、第
2図は遮光性マスク層をラミネートするタイプの
一実施例を示す拡大断面図、第3図は第1図の材
料を静電画像処理し、誘電体層上に静電画像を形
成し、遮光性マスク層の一部を剥離した状態を示
す拡大断面図、第4図は第2図の材料を静電画像
処理し、誘電体層上に静電画像を形成し、遮光性
マスク層の一部を剥離した状態を示す拡大断面図
である。 1……透明支持体、2……低抵抗層、3……誘
電体層、4……活性光線遮光性を有し、可視光線
透過性を有する剥離性マスク層、5……剥離性マ
スク層支持体、6……ラミネート層、7……静電
画像。
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the electrostatic recording material for plate making having a light-shielding mask layer of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing an example of the type in which the light-shielding mask layer is laminated. , FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the material shown in FIG. 1 subjected to electrostatic image processing to form an electrostatic image on the dielectric layer, and a part of the light-shielding mask layer has been peeled off. FIG. FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a state in which the material shown in FIG. 2 is subjected to electrostatic image processing, an electrostatic image is formed on the dielectric layer, and a part of the light-shielding mask layer is peeled off. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Transparent support, 2...Low resistance layer, 3...Dielectric layer, 4...Releasable mask layer having actinic ray blocking properties and visible light transmittance, 5...Releasable mask layer Support, 6... Laminate layer, 7... Electrostatic image.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 低抵抗層と誘電体層をその表面に有する体積
抵抗値が101〜1020Ωcmである透明支持体の裏面
に、活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性
を有する剥離性マスク層を設けて成ることを特徴
とする遮光性マスク層を有する製版用静電記録材
料。
1. A removable mask that has actinic ray blocking properties and visible light transmittance on the back side of a transparent support having a low resistance layer and a dielectric layer on its surface and a volume resistivity of 10 1 to 10 20 Ωcm. An electrostatic recording material for plate making having a light-shielding mask layer comprising a layer.
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