JPH0476348B2 - - Google Patents
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- JPH0476348B2 JPH0476348B2 JP63305674A JP30567488A JPH0476348B2 JP H0476348 B2 JPH0476348 B2 JP H0476348B2 JP 63305674 A JP63305674 A JP 63305674A JP 30567488 A JP30567488 A JP 30567488A JP H0476348 B2 JPH0476348 B2 JP H0476348B2
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- Japan
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- gas
- diamond
- vacuum chamber
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はダイヤモンドの気相合成方法に関し、
より詳細には黒鉛を原料とし、水素と酸素または
酸素化合物の混合ガスを媒体として安価にダイヤ
モンドあるいはダイヤモンド状硬質膜を合成する
方法ならびに装置に関する。[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a method for vapor phase synthesis of diamond.
More specifically, the present invention relates to a method and apparatus for synthesizing diamond or a diamond-like hard film at low cost using graphite as a raw material and a mixed gas of hydrogen and oxygen or an oxygen compound as a medium.
(従来の技術)
近年、ダイヤモンドの気相合成技術が進展し、
様々なダイヤモンド合成方法が提案されてきた。
例えば従来の高圧合成に加え、気相からも天然ダ
イヤモンドと同等の硬度と結晶性をもつダイヤモ
ンドないしはダイヤモンド状硬質炭素膜の人工合
成が可能となつてきた。気相からのダイヤモンド
の合成はその応用範囲が広がつてきており、ダイ
ヤモンドの硬度、熱伝導率、弾性率、半導性、光
学的特性あるいは耐食性などの優れた特性を利用
した切削工具、耐摩耗部材、ヒートシンク、半導
体、音響機器部品、光学製品あるいは耐食性部品
などへの応用が考えられている。(Conventional technology) In recent years, diamond vapor phase synthesis technology has progressed.
Various diamond synthesis methods have been proposed.
For example, in addition to conventional high-pressure synthesis, it has become possible to artificially synthesize diamond or diamond-like hard carbon films from the gas phase with hardness and crystallinity comparable to natural diamond. The range of applications for the synthesis of diamond from the gas phase is expanding, and cutting tools that take advantage of diamond's excellent properties such as hardness, thermal conductivity, elastic modulus, semiconductivity, optical properties, and corrosion resistance are being developed. Applications are being considered for wear-resistant parts, heat sinks, semiconductors, audio equipment parts, optical products, and corrosion-resistant parts.
ダイヤモンドの気相合成方法としては従来次の
ような方法が行われている。 Conventionally, the following methods have been used for vapor phase synthesis of diamond.
例えばJournal of Crystal Growth,52
(1981)219に示されるごとく、炭化水素ガスま
たは炭化水素と水素の混合ガスを加熱分解して
炭素の過飽和な雰囲気を作り、この雰囲気中に
置かれ加熱された基体上にダイヤモンドを化学
的に移送し堆積する方法。 For example, Journal of Crystal Growth, 52
(1981) 219, a hydrocarbon gas or a mixture of hydrocarbons and hydrogen is thermally decomposed to create a carbon supersaturated atmosphere, and diamond is chemically deposited on a heated substrate placed in this atmosphere. Methods of transport and deposition.
例えば、Journal of Applied Physics.
Vol.42.No.7(1971)2953に示されるごとく炭素
イオンを加速し室温の基体上にダイヤモンド状
炭素膜を合成する方法。 For example, Journal of Applied Physics.
Vol. 42. No. 7 (1971) 2953, a method of accelerating carbon ions to synthesize a diamond-like carbon film on a substrate at room temperature.
例えば、特開昭58−91100あるいはJapanese
Journal of Applied Physics.Vol.25.No.6
(1986)L519に示されるごとく、炭化水素また
はアルコール類またはケトン類と水素の混合ガ
スを高温の熱フイラメントを用いて熱分解し、
化学的に活性な原子あるいは分子を作り、加熱
された基体上にダイヤモンドを合成する方法。 For example, JP-A-58-91100 or Japanese
Journal of Applied Physics.Vol.25.No.6
(1986) as shown in L519, a mixed gas of hydrocarbons, alcohols, or ketones and hydrogen is pyrolyzed using a high-temperature thermofilament.
A method of chemically creating active atoms or molecules and synthesizing diamonds on a heated substrate.
炭化水素またはアルコール類と水素の混合ガ
スを原料としこれらのガス雰囲気中で、例えば
特開昭60−221395に示されるごとく直流放電に
より、または特開昭58−135117に示されるごと
く高周波放電により、あるいは特開昭58−
110494に示されるごとくマイクロ波放電により
プラズマを発生させ活性な化学種を作り、加熱
された基体上にダイヤモンドを合成する方法。 Using a mixed gas of hydrocarbons or alcohols and hydrogen as a raw material, in an atmosphere of these gases, for example, by direct current discharge as shown in JP-A-60-221395, or by high-frequency discharge as shown in JP-A-58-135117, Or JP-A-58-
110494, a method of generating plasma using microwave discharge to create active chemical species and synthesizing diamond on a heated substrate.
例えば、雑誌「ニユーダイヤモンド」、
Vol.4、No.2(1988)30に示されるごとく炭化水
素と水素とアルゴンまたはヘリウムの混合ガス
中に直流放電によりジエツト状に噴射する強力
な熱プラズマ流を作り、該プラズマ流の中でダ
イヤモンドを合成する方法。 For example, the magazine "New Diamond",
As shown in Vol. 4, No. 2 (1988) 30, a powerful thermal plasma stream is created in a jet-like manner by direct current discharge into a mixed gas of hydrocarbons, hydrogen, and argon or helium. How to synthesize diamonds.
例えば、雑誌「ニユーダイヤモンド」、
Vol.4、No.3(1988)34に示されるごとく、炭化
水素あるいはアルコールと水素または酸素の混
合ガスの燃焼炎中でダイヤモンドを合成する方
法。 For example, the magazine "New Diamond",
Vol. 4, No. 3 (1988) 34, a method of synthesizing diamonds in a combustion flame of a mixed gas of hydrocarbon or alcohol and hydrogen or oxygen.
これらの方法のうち、の方法は炭化水素ガス
あるいは炭化水素と水素の混合ガスを熱分解し化
学移送法によりダイヤモンドを合成するのである
が、詳細な試験方法が示してなく、また再現性が
難しいため、現在一般的には行われていない。ま
た、の方法にて合成されるダイヤモンド状炭素
膜は一般に硬度が低く、また広い面積にわたり高
速度で膜を合成するのが難しく工業的には不利で
ある。 Among these methods, method 1 synthesizes diamond by thermally decomposing hydrocarbon gas or a mixed gas of hydrocarbon and hydrogen and using a chemical transfer method, but detailed test methods are not provided and reproducibility is difficult. Therefore, it is not generally practiced at present. Furthermore, the diamond-like carbon film synthesized by the method described above generally has low hardness, and it is difficult to synthesize the film over a wide area at high speed, which is industrially disadvantageous.
そこで、現在は上記のうち〜が良好なダイ
ヤモンドを成する方法として行われている。即ち
上記〜に示すダイヤモンドの気相合成におい
てはダイヤモンドの原料となる炭素を炭化水素の
ように炭素と水素から構成される化合物ガスある
いはアルコール類、ケトン類などのような炭素と
水素と酸素から構成される化合物ガスから供給
し、これらのガスと水素ガスの混合ガス雰囲気中
で熱フイラメントないしはプラズマの存在下に
600℃〜1200℃に加熱された基体上にダイヤモン
ドの合成が行われてきた。このとき、炭素源とと
もに多量の水素ガスを反応ガス中に加えるのは熱
フイラメントあるいはプラズマにより活性化され
た水素がダイヤモンド合成時にダイヤモンドとと
もに多量に析出するグラフアイトを選択的に除去
する作用を持つているからである。また炭素源と
してアルコール類またはケトン類を用いた場合に
は高速でダイヤモンドの合成を行えることが知ら
れているが、これはアルコール類またはケトン類
の持つO−H基あるいは酸素によるグラフアイト
の除去効果が前記の活性化された水素の効果に重
畳されるため、より多くの炭素源の供給が可能に
なるためと考えられている。また、混合ガス中に
アルゴンなどの希ガスを加えることがあるが、こ
れは放電プラズマをつくる場合、放電電圧を下げ
安定な放電を行わせるためである。 Therefore, at present, among the above methods, ~ is used as a method to form a good diamond. That is, in the vapor phase synthesis of diamond shown in ~ above, carbon, which is the raw material for diamond, is a compound gas composed of carbon and hydrogen like hydrocarbons, or a compound gas composed of carbon, hydrogen, and oxygen like alcohols, ketones, etc. In the presence of a thermal filament or plasma in a mixed gas atmosphere of these gases and hydrogen gas,
Diamond synthesis has been performed on substrates heated to 600°C to 1200°C. At this time, a large amount of hydrogen gas is added to the reaction gas together with the carbon source because hydrogen activated by the thermal filament or plasma has the effect of selectively removing graphite, which is precipitated in large quantities with diamond during diamond synthesis. Because there is. It is also known that diamond can be synthesized at high speed when alcohols or ketones are used as the carbon source; It is thought that this is because the effect is superimposed on the effect of the activated hydrogen, making it possible to supply more carbon sources. In addition, a rare gas such as argon is sometimes added to the mixed gas in order to lower the discharge voltage and perform stable discharge when creating discharge plasma.
(発明が解決しようとする課題)
しかし、上述の〜の方法はダイヤモンドの
原料となる炭素を炭素化合物ガスからとつている
ためダイヤモンドとして基板上に析出される炭素
量が僅かであるにもかかわらず、ダイヤモンド合
成中は常に所定の比率に混合されたガスを流し続
けなければならないという欠点がある。(Problem to be solved by the invention) However, in the method ~ mentioned above, carbon, which is a raw material for diamond, is obtained from carbon compound gas, so even though the amount of carbon deposited on the substrate as diamond is small, However, there is a drawback that gases mixed at a predetermined ratio must be kept flowing during diamond synthesis.
(課題が解決するための手段)
本発明はまず600℃以上2000℃以下に加熱され
た黒鉛を内部に有する真空槽内に水素ガスに酸素
ガス、酸素化合物ガスまたは酸素ガスと酸素化合
物ガスの混合ガスのいずれかを加え、水素原子数
と酸素原子数の比が1:0.001〜0.3に調整された
混合ガスを充填し、該雰囲気中にて発生せしめた
プラズマ中または加熱された混合ガスを充填し、
該雰囲気中にて発生せしめたプラズマ中または加
熱されたフイラメントの近傍に置かれ600℃以上
1200℃以下に加熱された基体上にダイヤモンドを
合成するダイヤモンドの気相合成方法に係わる。(Means for Solving the Problems) The present invention first involves mixing hydrogen gas with oxygen gas, oxygen compound gas, or oxygen gas and oxygen compound gas in a vacuum chamber containing graphite heated to a temperature above 600°C and below 2000°C. Add one of the gases and fill with a mixed gas in which the ratio of the number of hydrogen atoms to the number of oxygen atoms is adjusted to 1:0.001 to 0.3, and fill with a plasma generated in the atmosphere or a heated mixed gas death,
Placed in the plasma generated in this atmosphere or near the heated filament at a temperature of 600℃ or higher
It relates to a diamond vapor phase synthesis method in which diamond is synthesized on a substrate heated to 1200°C or less.
即ち、黒鉛は酸素の存在下で600℃以上の温度
領域で一酸化炭素あるいは二酸化炭素を生成し、
また酸素と水素の反応の結果生じた水と反応し一
酸化炭素と水素を生成することがよく知られてい
る。 In other words, graphite generates carbon monoxide or carbon dioxide in the presence of oxygen at temperatures above 600°C.
It is also well known that it reacts with the water produced as a result of the reaction between oxygen and hydrogen, producing carbon monoxide and hydrogen.
これらの反応により雰囲気中に放出された炭素
化合物は熱フイラメント近傍あるいはプラズマ中
で分解・活性化され基体上にダイヤモンドを析出
する。ダイヤモンド析出により炭素は雰囲気中か
ら除かれるが、酸素および水素は依然として雰囲
気中に残るため、水となつて循環し再び黒鉛と反
応して雰囲気中に主に一酸化送素から成る炭素化
合物ガスを供給する反応に寄与することになる。
黒鉛の温度は600℃以上であればその融点近傍ま
で上げても構わないのであるが、実用上に2000℃
以下が好ましい。 The carbon compounds released into the atmosphere by these reactions are decomposed and activated near the thermal filament or in the plasma, and deposit diamond on the substrate. Although carbon is removed from the atmosphere by diamond precipitation, oxygen and hydrogen still remain in the atmosphere, so they circulate as water and react with graphite again, creating a carbon compound gas mainly consisting of hydrogen monoxide in the atmosphere. This will contribute to the reaction to which it is supplied.
The temperature of graphite can be raised to near its melting point as long as it is above 600℃, but in practical terms
The following are preferred.
基体の温度は600℃以下ではダイヤモンドと共
にグラフアイト成分が多く折出するので好ましく
なく、また1200℃を越えると折出したダイヤモン
ドがグラフアイトに変化してしまうため、基体の
温度を600℃以上1200℃以下に限定した。 If the temperature of the substrate is below 600℃, it is not preferable because a large amount of graphite component will precipitate together with diamond, and if it exceeds 1200℃, the precipitated diamond will change to graphite, so it is not preferable to set the temperature of the substrate above 600℃ or 1200℃. Limited to below ℃.
本発明はさらにガス導入管と真空排気管に接続
され、内部に基体と基体支持台とフイラメントを
具備する真空槽において、真空槽内に充填された
混合ガス中に炭素原子を炭素化合物ガスとして供
給するため加熱された黒鉛を真空槽内に内蔵する
ことを特徴とするダイヤモンドの気相合成装置、
及びガス導入管と真空排気管に接続された真空槽
の内部に基体と基体支持台を有し、該基体の周囲
にプラズマを発生せしめるための手段を具備した
ダイヤモンドの気相合成装置において、真空槽内
に充填された混合ガス中に炭素原子を炭素化合物
ガスとして供給するため加熱された黒を真空槽内
に内蔵することを特徴とするダイヤモンドの気相
合成装置に係わり、反応室となる真空槽内に加熱
された黒鉛を設置するという従来の気相合成装置
に僅かな改良を加えるだけで反応ガスの消費量を
少なくし、安価にダイヤモンドを合成するという
本発明の方法を実現したのである。 The present invention further provides a vacuum chamber that is connected to a gas inlet pipe and a vacuum exhaust pipe and that includes a substrate, a substrate support, and a filament inside, and supplies carbon atoms as a carbon compound gas to a mixed gas filled in the vacuum chamber. A diamond vapor phase synthesis device characterized by incorporating heated graphite in a vacuum chamber for the purpose of
and a diamond vapor phase synthesis apparatus, which has a substrate and a substrate support inside a vacuum chamber connected to a gas inlet pipe and a vacuum exhaust pipe, and is equipped with means for generating plasma around the substrate. This is related to a diamond vapor phase synthesis apparatus characterized by having a heated black gas built into a vacuum chamber in order to supply carbon atoms as a carbon compound gas to a mixed gas filled in the chamber, and a vacuum serving as a reaction chamber. By making slight improvements to the conventional gas-phase synthesis equipment, in which heated graphite is installed in a tank, the method of the present invention reduces the amount of reaction gas consumed and synthesizes diamond at low cost. .
(実施例)
以下に実施例をもつて本発明の方法ならびに装
置について示す。(Example) The method and apparatus of the present invention will be described below with examples.
実施例 1
第1図に示すような装置を用いてダイヤモンド
の気相合成を行つた。すなわち、真空槽1内には
黒鉛加熱用ヒータ電流導入端子12に支持された
モリブデン製ヒータ3が設けられ、黒鉛粉末2が
該モリブデン製ヒータ上に載せられている。さら
に、モリブデン製ヒータの上方には基板支持台支
持具兼ヒータ電流導入端子11に接続する加熱ヒ
ータ13を内蔵する基体支持台5が形成されると
ともに、該基体支持台上にタングステン板から成
る基体6が載置されている。さらに、基体の上方
に3〜5mmの隙間を介してフイラメント4がフイ
ラメント用電流導入端子10により支持されてい
る。なお、7は真空排気管、8は該真空排気管に
配置された排気バルブ、9はガス導入管である。Example 1 Diamond was synthesized in a vapor phase using an apparatus as shown in FIG. That is, a molybdenum heater 3 supported by a heater current introduction terminal 12 for heating graphite is provided in the vacuum chamber 1, and graphite powder 2 is placed on the molybdenum heater. Further, above the molybdenum heater, a substrate support 5 having a built-in heater 13 connected to the substrate support and heater current introduction terminal 11 is formed, and a substrate made of a tungsten plate is mounted on the substrate support. 6 is placed. Furthermore, a filament 4 is supported by a current introduction terminal 10 for filament with a gap of 3 to 5 mm above the base. Note that 7 is a vacuum exhaust pipe, 8 is an exhaust valve disposed on the vacuum exhaust pipe, and 9 is a gas introduction pipe.
実施の方法はまず真空槽内を真空排気管7を通
して10-4Torrまで排気した後、モリブデンヒー
タ上に置いた黒鉛粉末を通電により800〜1000℃
に加熱し、真空度が10-5Torrに達した後、真空
排気管につながる排気バルブを閉じ、水素:水蒸
気のモル比を100:2とした混合ガスをガス導入
管を通して真空槽内の圧力が100Torrに達するま
で導入し、ついでフイラメントを通電により約
2000℃に加熱することによつてフイラメントの下
方に置かれた基体上にダイヤモンドの合成を行つ
た。ダイヤモンド合成時には基体支持台に取り付
けたヒータに通電し基体支持台の温度を800℃と
し、この上に載せた基体を加熱した。これによ
り、2時間の合成処理を行つたところ、基体上の
フイラメント直下の部分に自形面を持つたダイヤ
モンドが多く合成され、最も厚いところで12μm
の厚さがあつた。 The method of implementation is to first evacuate the inside of the vacuum chamber to 10 -4 Torr through the vacuum exhaust pipe 7, and then heat the graphite powder placed on a molybdenum heater to 800 to 1000°C by energizing it.
After the vacuum reaches 10 -5 Torr, the exhaust valve connected to the vacuum exhaust pipe is closed, and a hydrogen:steam mixture gas with a molar ratio of 100:2 is passed through the gas introduction pipe to reduce the pressure inside the vacuum chamber. was introduced until it reached 100 Torr, and then the filament was energized to about 100 Torr.
Diamond synthesis was carried out on a substrate placed below the filament by heating to 2000°C. During diamond synthesis, electricity was applied to the heater attached to the substrate support to raise the temperature of the substrate support to 800°C, and the substrate placed on it was heated. As a result, after 2 hours of synthesis processing, many diamonds with euhedral surfaces were synthesized on the substrate directly below the filament, and the thickest part was 12 μm thick.
The thickness was warm.
ダイヤモンド合成中の真空槽内の圧力はフイラ
メントへの通電開始時に真空槽内の混合ガスの温
度が上昇したことにより上昇したが、以後はほと
んど一定であつた。 The pressure in the vacuum chamber during diamond synthesis increased due to the temperature of the mixed gas in the vacuum chamber rising when electricity started flowing to the filament, but remained almost constant thereafter.
実施例 2
第2図に示すような装置を用いてダイヤモンド
の気相合成を行つた。すなわち、真空槽1の内部
に黒鉛加熱用ヒータ電流導入端子12に支持され
た黒鉛板2′を有し、真空槽の底面から立設され
冷却口18を備えた陽極14上にはWC−Co基超
硬合金基体6が載置される。該基体から約40mm上
方にはトリア入りタングステン製のフイラメント
から成る陰極4がフイラメント用電流導入端子1
0に接続されて位置している。真空排気管7、排
気バルブ8およびガス導入管9は第1図の場合と
同様に配置されている。Example 2 Diamond was synthesized in a vapor phase using an apparatus as shown in FIG. That is, a graphite plate 2' supported by a heater current introduction terminal 12 for heating graphite is provided inside the vacuum chamber 1, and a WC-Co is placed on an anode 14 which stands up from the bottom of the vacuum chamber and is provided with a cooling port 18. A base cemented carbide base body 6 is placed. Approximately 40 mm above the base, a cathode 4 made of a thoria-filled tungsten filament is connected to a current introduction terminal 1 for the filament.
It is located connected to 0. The vacuum exhaust pipe 7, exhaust valve 8 and gas introduction pipe 9 are arranged in the same manner as in FIG.
実施の方法は、まず真空槽内を10-4Torrまで
排気後、黒鉛板を通電により約1000℃に加熱しな
がら排気を続け真空度が10-5Torrに達した後排
気バルブを閉じて排気を止め、水素ガスと酸素ガ
スを体積比で100:6とした混合ガスをガス導入
管を通して真空槽内へ圧力が30Torrに達するま
で導入した後供給を止め、ついでトリア入りタン
グステン製フイラメントを通電により約2000℃に
加熱し、フイラメントと陽極の間に4Aの電流を
流すことによつて両極間にプラズマを発生させ、
陽極上に置いた基体上にダイヤモンドの合成を行
つた。 The method is to first evacuate the inside of the vacuum chamber to 10 -4 Torr, then continue to evacuate the graphite plate while heating it to approximately 1000℃ by energizing it, and when the degree of vacuum reaches 10 -5 Torr, close the exhaust valve and evacuate. A mixture of hydrogen gas and oxygen gas with a volume ratio of 100:6 was introduced into the vacuum chamber through the gas introduction tube until the pressure reached 30 Torr, and then the supply was stopped, and then the tungsten filament containing thoria was energized. Plasma is generated between the filament and the anode by heating it to approximately 2000℃ and passing a 4A current between the filament and the anode.
Diamond synthesis was performed on a substrate placed on an anode.
ダイヤモンド合成時にはプラズマの影響で基体
の温度が上昇するため、陽極内部に備えた冷却口
に通水することによつて陽極を冷却し、その上に
載せた基体の温度を700〜1000℃の範囲に保つた。 During diamond synthesis, the temperature of the substrate increases due to the influence of plasma, so the anode is cooled by passing water through the cooling port provided inside the anode, and the temperature of the substrate placed on it is kept within a range of 700 to 1000℃. I kept it.
これにより3時間の処理を行つたところ、WC
−Co基超硬合金上に約10μmの厚さの自形面を持
つた多結晶から成るダイヤモンド膜が合成され
た。 After 3 hours of processing, WC
A diamond film consisting of polycrystalline polycrystals with approximately 10 μm thick euhedral surfaces was synthesized on -Co-based cemented carbide.
実施例 3
第3図に示すように、内部の気体が対流により
循環できる構造を持つ真空槽1内に通電により加
熱できる黒鉛板2′を有し、真空槽内の気体中に
プラズマを発生させるためのマイクロ波発振器1
5とマイクロ波を真空槽へ導入するための導波管
16とプラズマの状態を調整するためのプランジ
ヤー17およびその他の付属品から成るマイクロ
波プラズマ発生装置とプラズマ中に基体6を置く
ための基体支持台5を有する装置を用いて以下の
方法にてダイヤモンドの合成を行つた。Example 3 As shown in Fig. 3, a graphite plate 2' that can be heated by electricity is provided in a vacuum chamber 1 having a structure that allows internal gas to circulate through convection, and plasma is generated in the gas within the vacuum chamber. Microwave oscillator 1 for
5, a waveguide 16 for introducing microwaves into the vacuum chamber, a plunger 17 for adjusting the state of plasma, and other accessories; and a substrate for placing the substrate 6 in the plasma. Diamond was synthesized by the following method using an apparatus having a support 5.
タングステン板を基体としこれを基体支持台上
に置き、実施例2と同様の手順にて真空排気およ
び黒鉛の加熱を行い、水素ガス:一酸化窒素ガス
のモル比を100:4とした混合ガスを真空槽内に
30Torrまで充填し、350Wのマイクロ波を形成
し、このプラズマ中に置いた基体上にダイヤモン
ドの合成を行つた。このときの基体の温度は800
〜900℃と推定された。 A tungsten plate was used as a base, and this was placed on a base support, and vacuum evacuation and graphite heating were performed in the same manner as in Example 2. A mixed gas of hydrogen gas and nitrogen monoxide gas with a molar ratio of 100:4 was used. into a vacuum chamber
The plasma was filled to 30 Torr, a 350 W microwave was generated, and diamond was synthesized on a substrate placed in this plasma. The temperature of the base at this time is 800
Estimated to be ~900℃.
この方法により3時間の処理を行つたところタ
ングステン基体上に約5μmの厚さの自形面を持つ
多結晶ダイヤモンドから成る膜が合成された。 After 3 hours of treatment using this method, a film consisting of polycrystalline diamond with euhedral planes and a thickness of approximately 5 μm was synthesized on a tungsten substrate.
上記実施例2および3において、酸素化合物ガ
スとして水および一酸化窒素を用いたが、これら
の他に例えば二酸化窒素、一酸化炭素、二酸化炭
素あるいはアルコールのような炭素と水素と酸素
から構成される化合物ガスを用いた場合でも同様
な効果が得られる。また、実施例2および3では
直流放電およびマイクロ波により放電プラズマを
発生したがプラズマを発生するための手段として
はこの他に高周波を用いた場合にも同様な効果が
得られる。 In Examples 2 and 3 above, water and nitrogen monoxide were used as the oxygen compound gas, but in addition to these, gases made of carbon, hydrogen, and oxygen such as nitrogen dioxide, carbon monoxide, carbon dioxide, or alcohol A similar effect can be obtained even when a compound gas is used. Further, in Examples 2 and 3, discharge plasma was generated by direct current discharge and microwaves, but similar effects can be obtained when high frequency waves are used as a means for generating plasma.
実施例 4
第4図に示すような装置を用いてダイヤモンド
の気相合成を行つた。すなわち、真空槽1内には
黒鉛加熱用ヒータ電流導入端子12に支持された
モリブデン製ヒータ3が設けられ、黒鉛粉末2が
該モリブデン製ヒータ上に載せられている。さら
に、モリブデン製ヒータの上方には基体支持台支
持具兼ヒータ電流導入端子11に接続する加熱ヒ
ータ13を内蔵する基体支持台5が形成されると
ともに該基体支持台上に10mm×10mm×3mmのタン
グステン板から成る基体6が載置されている。さ
らに、基体の上方に3〜5mmの隙間を介してフイ
ラメント4がフイラメント用電流導入端子10に
より支持されている。また、真空槽の混合ガスは
真空槽下部側面から吸引されガス循環ンプ20に
より加圧された後ガス流量計19を通り真空槽上
部から真空槽内へ噴射される。なお、7は真空排
気管、8は該真空排気管に配置された排気バル
ブ、9はガス導入管である。Example 4 Diamond was synthesized in a vapor phase using an apparatus as shown in FIG. That is, a molybdenum heater 3 supported by a heater current introduction terminal 12 for heating graphite is provided in the vacuum chamber 1, and graphite powder 2 is placed on the molybdenum heater. Further, above the molybdenum heater, a base support 5 having a built-in heater 13 connected to the base support and heater current introduction terminal 11 is formed, and a 10 mm x 10 mm x 3 mm base support is formed on the base support. A base body 6 made of a tungsten plate is mounted. Furthermore, a filament 4 is supported by a current introduction terminal 10 for filament with a gap of 3 to 5 mm above the base. Further, the mixed gas in the vacuum chamber is sucked from the lower side of the vacuum chamber, pressurized by the gas circulation pump 20, and then passed through the gas flow meter 19 and injected into the vacuum chamber from the upper part of the vacuum chamber. Note that 7 is a vacuum exhaust pipe, 8 is an exhaust valve disposed on the vacuum exhaust pipe, and 9 is a gas introduction pipe.
実施の方法はまず真空槽内を真空排気管7を通
して10-4Torrまで排気した後、モリブデンヒー
タ上に置いた黒鉛粉末を通電により800〜1000℃
に加熱し、真空度が10-5Torrに達した後、真空
排気管につながる排気バルブを閉じ、水素:酸素
のモル比を95:5とした混合ガスをガス導入管を
通して真空槽内の圧力が50Torrに達するまで導
入し、ついで循環ポンプにより真空槽内のガスを
500CCMの流量で循環させその後フイラメントを
通電により約2000℃に加熱することによつてフイ
ラメントの下方に置かれた基体上にダイヤモンド
の合成を行つた。ダイヤモンド合成時には基体支
持台に取り付けたヒータに通電し基体支持台の温
度を800℃とし、この上に載せた基体を加熱した。
これにより、2時間の合成処理を行つたところ、
タングステン基板上面にダイヤモンドが合成さ
れ、膜厚は厚い部分で約16θμm、薄い部分で約
8μmであつた。 The method of implementation is to first evacuate the inside of the vacuum chamber to 10 -4 Torr through the vacuum exhaust pipe 7, and then heat the graphite powder placed on a molybdenum heater to 800 to 1000°C by energizing it.
After the vacuum level reaches 10 -5 Torr, the exhaust valve connected to the vacuum exhaust pipe is closed, and a mixture of hydrogen and oxygen with a molar ratio of 95:5 is passed through the gas introduction pipe to reduce the pressure inside the vacuum chamber. The gas in the vacuum chamber is introduced until it reaches 50Torr, and then the circulation pump is used to pump the gas in the vacuum chamber.
Diamond was synthesized on a substrate placed below the filament by circulating at a flow rate of 500 CCM and then heating the filament to about 2000°C by passing an electric current through it. During diamond synthesis, electricity was applied to the heater attached to the substrate support to raise the temperature of the substrate support to 800°C, and the substrate placed on it was heated.
As a result, after 2 hours of synthesis processing,
Diamond is synthesized on the top surface of the tungsten substrate, and the film thickness is approximately 16θμm in the thick part and approximately 16θμm in the thin part.
It was 8 μm.
比較例として循環ポンプを動作させない他は上
記と同条件としてダイヤモンドの合成を行つたと
ころダイヤモンドの膜厚は厚い部分で約10μm、
薄い部分で約2μmとなり、ガスを循環させない場
合に較べ膜の成長速度が遅くなり膜厚のばらつき
も大きくなつた。 As a comparative example, diamond was synthesized under the same conditions as above except that the circulation pump was not operated, and the diamond film thickness was approximately 10 μm in the thick part.
The thickness of the thin part was about 2 μm, and the growth rate of the film was slower and the variation in film thickness was larger than when gas was not circulated.
実施例 5
第5図に示すような装置を用いてダイヤモンド
の気相合成を行つた。すなわち、真空槽1の内部
に黒鉛加熱用ヒータ電流導入端子12に支持され
た黒鉛板2′を有し、真空槽の底面から立設され
冷却水孔18を備えた陽極14上にはJIS記号
SNGN120408型のWC−Co基超硬合金基体6が
載置される。該基体から約40mm上方にはトリア入
りタングステン製のフイラメントから成る陰極4
がフイラメント用電流導入端子10に接続されて
位置している。ガス循環用ポンプ20、ガス流量
計19、真空排気管7、排気バルブ8およびガス
導入管9は第4図の場合と同様に配置されてい
る。Example 5 Diamond was synthesized in a vapor phase using an apparatus as shown in FIG. That is, a graphite plate 2' supported by a heater current introduction terminal 12 for heating graphite is provided inside the vacuum chamber 1, and a JIS symbol is placed on an anode 14 that stands up from the bottom of the vacuum chamber and is provided with a cooling water hole 18.
A WC-Co-based cemented carbide substrate 6 of the SNGN120408 type is placed. Approximately 40 mm above the base is a cathode 4 made of a thoria-filled tungsten filament.
is located connected to the filament current introduction terminal 10. The gas circulation pump 20, gas flow meter 19, vacuum exhaust pipe 7, exhaust valve 8, and gas introduction pipe 9 are arranged in the same manner as in FIG. 4.
実施の方法は、まず真空槽内を10-4Torrまで
排気後、黒鉛板を通電により約1000℃に加熱しな
がら排気を続け真空度が10-5Torrに達した後排
気バルブを閉じて排気を止め、水素ガスと一酸化
炭素ガスを体積比で90:10とした混合ガスをガス
導入管を通して真空槽内へ圧力が30Torrに達す
るまで導入した後供給を止め、ガス循環ポンプを
動かし真空槽内のガスを500SCCMの流量で循環
させ、ついでトリア入りタングステン製フイラメ
ントを通電により約2000℃に加熱し、フイラメン
トとの陽極の間に4Aの放電電流を流すことによ
つて両極間にプラズマを発生させ、陽極上に置い
た基体上にダイヤモンドの合成を行つた。ダイヤ
モンド合成時にはプラズマの影響で基体の温度が
上昇するため、陽極内部に備えた冷却水孔に通水
することによつて陽極を冷却し、その上に載せた
基体の温度を700〜1000℃の範囲に保つた。これ
により3時間の処理を行つたところ、WC−Co基
超硬合金基体上に自形面を持つた多結晶から成る
ダイアモンド膜が合成され、その膜厚は上面周辺
部で約25μmであり上面中心部で約12μmであつ
た。 The method is to first evacuate the inside of the vacuum chamber to 10 -4 Torr, then continue to evacuate the graphite plate while heating it to approximately 1000℃ by energizing it, and when the degree of vacuum reaches 10 -5 Torr, close the exhaust valve and evacuate. A mixture of hydrogen gas and carbon monoxide gas with a volume ratio of 90:10 was introduced into the vacuum chamber through the gas introduction pipe until the pressure reached 30 Torr, then the supply was stopped, and the gas circulation pump was started to fill the vacuum chamber. The gas inside is circulated at a flow rate of 500SCCM, then the thoria-filled tungsten filament is heated to approximately 2000℃ by electricity, and plasma is generated between the two electrodes by passing a discharge current of 4A between the filament and the anode. Then, diamond was synthesized on the substrate placed on the anode. During diamond synthesis, the temperature of the substrate increases due to the influence of plasma, so the anode is cooled by passing water through the cooling water hole provided inside the anode, and the temperature of the substrate placed on it is increased to 700 to 1000℃. I kept it within range. After 3 hours of treatment, a diamond film consisting of polycrystals with euhedral surfaces was synthesized on the WC-Co-based cemented carbide substrate, and the film thickness was approximately 25 μm at the periphery of the upper surface. It was approximately 12 μm in the center.
比較例として、ガス循環ポンプを動作させない
他は上記と同条件にてダイヤモンドの合成を行つ
たところ、WC−Co基超硬合金基体の上面周辺部
に約15μm、上面中心部に約3μmの厚さのダイヤ
モンド膜が合成された。比較例の場合はガスを循
環させた場合に較べ膜成長速度が遅く、膜厚の不
均一さも大きい。 As a comparative example, when diamond was synthesized under the same conditions as above except that the gas circulation pump was not operated, a thickness of about 15 μm was formed around the top surface of the WC-Co-based cemented carbide substrate, and a thickness of about 3 μm was formed at the center of the top surface. A diamond film was synthesized. In the case of the comparative example, the film growth rate was slower and the film thickness was more nonuniform than when gas was circulated.
実施例 6
第6図に示すように、内部の気体がガス循環ポ
ンプ20を用いてガス流量形19にて流量を測定
しながら循環できる構造を持つ真空槽1内に通電
により加熱できる黒鉛板2′有し、真空槽内の気
体中にプラズマを発生させるためのマイクロ波発
振器15とマイクロ波を真空槽へ導入するための
導波管16とプラズマの状態を調整するためのプ
ランジヤー17およびその他の付属品から成るマ
イクロ波プラズマ発生装置とプラズマ中に基体6
を置くための気体支持台5を有する装置を用いて
以下の方法にてダイヤモンドの合成を行つた。Embodiment 6 As shown in FIG. 6, a graphite plate 2 which can be heated by electricity is placed in a vacuum chamber 1 which has a structure in which the gas inside can be circulated using a gas circulation pump 20 while measuring the flow rate with a gas flow type 19. ' has a microwave oscillator 15 for generating plasma in the gas in the vacuum chamber, a waveguide 16 for introducing microwaves into the vacuum chamber, a plunger 17 for adjusting the state of the plasma, and other components. A microwave plasma generator consisting of accessories and a substrate 6 in the plasma
Diamond was synthesized by the following method using an apparatus having a gas support stand 5 for placing the diamond.
JIS記号SNGN120408型のWC−Co基超硬合金
を基体としてこれを基体支持台上に置き、実施例
5と同様の手順にて真空排気および黒鉛の加熱を
行い、水素ガス:水蒸気のモル比95:5とした混
合ガスを真空槽内に30Torrまで充填し、ガス循
環ポンプにて真空槽内のガスを200SCCMの流量
で循環させた後、350Wのマイイクロ波を導入し
て真空槽内の混合ガス中に放電プラズマを形成
し、このプラズマ中に置いた基体上にダイヤモン
ドの合成を行つた。このとき基体の温度は800〜
900℃と推定された。 A WC-Co based cemented carbide of JIS symbol SNGN120408 type was used as a base, placed on a base support, and vacuum evacuated and graphite heated in the same manner as in Example 5, with a hydrogen gas:water vapor molar ratio of 95. : Fill the vacuum chamber with the mixed gas prepared in 5 to 30 Torr, circulate the gas in the vacuum chamber at a flow rate of 200 SCCM using a gas circulation pump, and then introduce 350 W microwaves to control the mixed gas in the vacuum chamber. A discharge plasma was formed inside the chamber, and diamond was synthesized on a substrate placed in this plasma. At this time, the temperature of the substrate is 800~
The temperature was estimated to be 900℃.
この方法により3時間の処理を行つたところ、
基体の上面周辺部に約7μm、上面中心部に約4μm
の厚さの自形面を持つ多結晶ダイヤモンドから成
る膜が合成された。 After 3 hours of treatment using this method,
Approximately 7μm on the periphery of the top surface of the base, and approximately 4μm on the center of the top surface
A film consisting of euhedral polycrystalline diamond with a thickness of .
比較例として、ガス循環ポンプを設置せず自然
対流のみでガス循環を行わせる方法で充填ガスの
種類、圧力、黒鉛温度、基体の種類、基体温度、
マイクロ波出力、処理時間を上記と同じくしてダ
イヤモンドの合成を行つたところ、ダイヤモンド
膜の厚さは基体の上面周辺部で約5μm、基体上面
中心部で約2μmであり、膜成長速度が遅くなると
ともに、膜厚の不均一さも増した。 As a comparative example, the type of filling gas, pressure, graphite temperature, type of substrate, substrate temperature,
When diamond was synthesized using the same microwave output and processing time as above, the thickness of the diamond film was approximately 5 μm at the periphery of the upper surface of the substrate and approximately 2 μm at the center of the upper surface of the substrate, indicating that the film growth rate was slow. At the same time, the non-uniformity of the film thickness also increased.
以上の実施例4〜6に示されたように、真空槽
内のガスを循環せしめるためのガス循環ポンプを
設け、ダイヤモンドの気相合成の原料となる炭素
化合物ガスのダイヤモンド合成領域への供給量を
高めることによりダイヤモンドの合成速度が上昇
するとともに合成されたダイヤモンド膜の膜厚の
均一性を改善することができた。 As shown in Examples 4 to 6 above, a gas circulation pump is provided to circulate the gas in the vacuum chamber, and the amount of carbon compound gas supplied to the diamond synthesis area, which is the raw material for diamond vapor phase synthesis, is provided. By increasing the diamond synthesis rate, we were able to improve the uniformity of the thickness of the synthesized diamond film.
(効 果)
本発明の方法によれば、ダイヤモンドの原料と
なる炭素を従来法の炭化水素ガスあるいは炭酸水
素化合物ガスなどの気体から連続的に供給する代
わりに、反応容器となる真空槽内に加熱できる黒
鉛を備えた装置を用い、少なくとも水素と酸素を
含む混合ガスを反応ガスとして用いることによつ
て黒鉛から連続的に炭素源を供給することが可能
となり反応ガスの消費量も格段に少なくすること
ができ、したがつて安価にダイヤモンドを合成す
ることができるので工業的に非常に有利である。
また、従来の気相合成装置に僅かな改良を加える
だけで本願の方法が実施できるのであり、きわめ
て容易かつ経済的である。(Effects) According to the method of the present invention, instead of continuously supplying carbon, which is a raw material for diamond, from a gas such as hydrocarbon gas or hydrogen carbonate compound gas in the conventional method, carbon is supplied into a vacuum chamber, which is a reaction vessel. By using a device equipped with graphite that can be heated and using a mixed gas containing at least hydrogen and oxygen as a reaction gas, it is possible to continuously supply a carbon source from graphite, and the consumption of reaction gas is also significantly reduced. Therefore, it is very advantageous industrially because diamond can be synthesized at low cost.
Furthermore, the method of the present invention can be carried out by making slight improvements to a conventional gas phase synthesis apparatus, making it extremely easy and economical.
さらに、真空槽内のガスを強制的に循環せしめ
る手段を設けることにより、高速かつ均一にダイ
ヤモンドを合成することが可能となり、工業的に
非常に有利である。しかも、従来の方法に僅かな
改良を加えるだけで実施できるのである。 Furthermore, by providing a means for forcibly circulating the gas in the vacuum chamber, it becomes possible to synthesize diamond uniformly at high speed, which is very advantageous industrially. Moreover, it can be implemented with only slight improvements to the conventional method.
第1図乃至第6図はいずれも本発明によるダイ
ヤモンドの気相合成装置の概略図である。
1は真空槽、2は黒鉛粉末、2′は黒鉛板、3
は黒鉛加熱用ヒータ、4はフイラメント、5は気
体支持台、6は基体、7は真空排気管、8は排気
バルブ、9はガス導入管、10はフイラメント用
電流導入端子、11は基体支持台支持具兼ヒータ
電流導入端子、12は黒鉛加熱用ヒータ電流導入
端子、13は基体支持台加熱用ヒータ、14は陽
極、15はマイクロ波発振器、16は導波管、1
7はプランジヤー、18は冷却水孔、19はガス
流量計、20はガス循環ポンプ。
1 to 6 are schematic diagrams of a diamond vapor phase synthesis apparatus according to the present invention. 1 is a vacuum chamber, 2 is graphite powder, 2' is a graphite plate, 3
is a heater for graphite heating, 4 is a filament, 5 is a gas support base, 6 is a base body, 7 is a vacuum exhaust pipe, 8 is an exhaust valve, 9 is a gas introduction pipe, 10 is a current introduction terminal for the filament, 11 is a base support base 12 is a heater current introduction terminal for heating the graphite; 13 is a heater for heating the substrate support; 14 is an anode; 15 is a microwave oscillator; 16 is a waveguide;
7 is a plunger, 18 is a cooling water hole, 19 is a gas flow meter, and 20 is a gas circulation pump.
Claims (1)
部に有する真空槽内に、水素ガスに、酸素ガス;
酸素化合物ガス;または酸素ガスと酸素化合物ガ
スの混合ガス;のいずれかを加え、水素原子数と
酸素原子数の比が1:0.001〜0.3に調整された混
合ガスを充填し、該雰囲気中にて発生せしめた放
電プラズマ中または加熱されたフイラメントの近
傍に置かれ600℃以上1200℃以下に加熱された基
体上にダイヤモンドを合成することを特徴とする
ダイヤモンドの気相合成方法。 2 前記真空槽内の混合ガスを強制的に循環させ
る請求項1記載のダイヤモンド気相合成方法。 3 ガス導入管と真空排気管に接続され、内部に
基体と基体支持台とフイラメントとを具備する真
空槽を具え、真空槽内に充填された混合ガス中に
炭素原子を炭素化合物として供給するため通電に
より加熱することのできる黒鉛を真空槽に内蔵し
たことを特徴とするダイヤモンドの気相合成装
置。 4 ガス導入管と真空排気管に接続され、内部に
基体と基体支持台とを具備する真空槽を具え、該
基体の周囲にプラズマを発生せしめるための手段
を設け、真空槽内に充填された混合ガス中に炭素
原子を炭素化合物ガスとして供給するため通電ま
たはプラズマにより加熱することのできる黒鉛を
真空槽内に内蔵することを特徴とするダイヤモン
ドの気相合成装置。 5 前記真空槽内に充填された混合ガスを循環せ
しめる手段を設けた請求項3又は4記載のダイヤ
モンド気相合成装置。[Claims] 1 Hydrogen gas and oxygen gas in a vacuum chamber containing graphite heated to 600°C or more and 2000°C or less;
Add either oxygen compound gas; or a mixed gas of oxygen gas and oxygen compound gas; fill the mixed gas with the ratio of the number of hydrogen atoms to the number of oxygen atoms adjusted to 1:0.001 to 0.3, and fill the atmosphere with 1. A method for vapor phase synthesis of diamond, characterized in that diamond is synthesized on a substrate heated to 600°C or more and 1200°C or less, which is placed in a discharge plasma generated by or near a heated filament. 2. The diamond vapor phase synthesis method according to claim 1, wherein the mixed gas in the vacuum chamber is forcibly circulated. 3 A vacuum chamber connected to a gas inlet pipe and a vacuum exhaust pipe and equipped with a substrate, a substrate support, and a filament inside, for supplying carbon atoms as a carbon compound to the mixed gas filled in the vacuum chamber. A diamond vapor phase synthesis device characterized by a vacuum chamber containing graphite that can be heated by electricity. 4. A vacuum chamber connected to a gas inlet pipe and a vacuum exhaust pipe and having a substrate and a substrate support therein, provided with means for generating plasma around the substrate, and filled with the vacuum chamber. A diamond vapor phase synthesis apparatus characterized in that a vacuum chamber contains graphite that can be heated by electricity or plasma in order to supply carbon atoms as a carbon compound gas to a mixed gas. 5. The diamond vapor phase synthesis apparatus according to claim 3 or 4, further comprising means for circulating the mixed gas filled in the vacuum chamber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63305674A JPH0244096A (en) | 1988-05-02 | 1988-12-02 | Method and apparatus for vapor phase synthesis of diamond |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10765188 | 1988-05-02 | ||
| JP63-107651 | 1988-05-02 | ||
| JP63305674A JPH0244096A (en) | 1988-05-02 | 1988-12-02 | Method and apparatus for vapor phase synthesis of diamond |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7303350A Division JPH08225394A (en) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | Gas phase synthesis of diamond |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244096A JPH0244096A (en) | 1990-02-14 |
| JPH0476348B2 true JPH0476348B2 (en) | 1992-12-03 |
Family
ID=26447679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63305674A Granted JPH0244096A (en) | 1988-05-02 | 1988-12-02 | Method and apparatus for vapor phase synthesis of diamond |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244096A (en) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5927753B2 (en) * | 1981-11-25 | 1984-07-07 | 科学技術庁無機材質研究所長 | Diamond synthesis method |
| JPS61183198A (en) * | 1984-12-29 | 1986-08-15 | Kyocera Corp | Production of diamond film |
| JPS62158195A (en) * | 1985-12-27 | 1987-07-14 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | Diamond synthesis method |
| JPS63117995A (en) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Kobe Steel Ltd | Device for synthesizing diamond in vapor phase |
-
1988
- 1988-12-02 JP JP63305674A patent/JPH0244096A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0244096A (en) | 1990-02-14 |
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