JPH04765B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH04765B2 JPH04765B2 JP58138656A JP13865683A JPH04765B2 JP H04765 B2 JPH04765 B2 JP H04765B2 JP 58138656 A JP58138656 A JP 58138656A JP 13865683 A JP13865683 A JP 13865683A JP H04765 B2 JPH04765 B2 JP H04765B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- frame structure
- machining
- inductance
- parasitic capacitance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/38—Influencing metal working by using specially adapted means not directly involved in the removal of metal, e.g. ultrasonic waves, magnetic fields or laser irradiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、加工片の表面を精細に仕上げるため
に所定の波形の低エネルギ電流パルスを発生する
発生器、及び枠構造から絶縁されているために該
枠構造との間に前記表面の加工状態を劣化せしめ
るように作用する寄生容量を持つ工具電極ホルダ
ーを具備し、工具電極によつて加工片電極を浸食
放電加工するための装置に係るものである。
に所定の波形の低エネルギ電流パルスを発生する
発生器、及び枠構造から絶縁されているために該
枠構造との間に前記表面の加工状態を劣化せしめ
るように作用する寄生容量を持つ工具電極ホルダ
ーを具備し、工具電極によつて加工片電極を浸食
放電加工するための装置に係るものである。
寄生容量は、加工が高強度で行なわれている場
合には、即ち粗加工中には不都合なものではな
い。ところが、仕上加工の場合にはこの寄生容量
が電気エネルギを蓄積して各放電毎にそれを解放
するので、この容量が解放するエネルギよりも小
さい放電を用いる加工が困難になる。
合には、即ち粗加工中には不都合なものではな
い。ところが、仕上加工の場合にはこの寄生容量
が電気エネルギを蓄積して各放電毎にそれを解放
するので、この容量が解放するエネルギよりも小
さい放電を用いる加工が困難になる。
仕上加工中の表面の状態を可能な限り改善する
ための種々の方法が提案されている。特に、粗加
工及び半仕上に必要な電力を供給するパルス発生
器を切離して出力に小さい容量を有している低電
力発生器をその場所に接続することが示唆されて
いる。また発生器と電極とを接続するケーブルの
容量を可能な限り減少させる試みがなされ、更
に、各電流パルスの波形を制御する、特に勾配の
比較的ゆるい立上り縁を得るための種々の手段が
提案されている。
ための種々の方法が提案されている。特に、粗加
工及び半仕上に必要な電力を供給するパルス発生
器を切離して出力に小さい容量を有している低電
力発生器をその場所に接続することが示唆されて
いる。また発生器と電極とを接続するケーブルの
容量を可能な限り減少させる試みがなされ、更
に、各電流パルスの波形を制御する、特に勾配の
比較的ゆるい立上り縁を得るための種々の手段が
提案されている。
これらの種々の解決策は限界を打破するもので
はない。その証拠に、我々は未だにこの寄生容量
に悩まされているのである。
はない。その証拠に、我々は未だにこの寄生容量
に悩まされているのである。
寄生容量を減少させるために、加工ヘツドを枠
構造に対して絶縁するだけではなく、加工片も枠
構造に対して絶縁することが提案されている。こ
のようにすると、第１の寄生容量に直列に第２の
寄生容量が接続されることになり、合計容量が減
少するようになる（ドイツ国特許3028309号参
照）。このような構成にすると高価になり、更に
加工片を高精度に加工したい場合に不可欠の装置
の構造の堅ろう性を損ねるようになる。
構造に対して絶縁するだけではなく、加工片も枠
構造に対して絶縁することが提案されている。こ
のようにすると、第１の寄生容量に直列に第２の
寄生容量が接続されることになり、合計容量が減
少するようになる（ドイツ国特許3028309号参
照）。このような構成にすると高価になり、更に
加工片を高精度に加工したい場合に不可欠の装置
の構造の堅ろう性を損ねるようになる。
これもまた複雑且つ高価な別の解決策（ドイツ
国特許3131037号参照）によれば、寄生容量の一
部を、極めて急速に且つ高精度にトリガしなけれ
ばならないトランジスタを含む分路を介して放電
させている。
国特許3131037号参照）によれば、寄生容量の一
部を、極めて急速に且つ高精度にトリガしなけれ
ばならないトランジスタを含む分路を介して放電
させている。
本発明の目的は、粗加工あるいは半仕上げ加工
の場合には立ち上がりの急峻な強大な電流パルス
の使用を妨げず、仕上げ加工の場合のように微弱
な電流パルスを使用するときは寄生容量による不
都合な影響を排除する簡単で廉価な手段を講じた
放電加工装置を提供することである。この目的を
達成するため本発明に従つて、放電加工装置の工
具電極ホルダーを包囲して高透磁性磁気回路を取
り外せるように取りつけ、それによつて加工片の
表面を仕上げ加工するときには電極ホルダーを包
囲して高透磁性磁気回路を取りつけ、加工ヘツ
ド、枠構造、両電極から成る寄生容量の充放電回
路にインクタンスを挿入するようにしている。
の場合には立ち上がりの急峻な強大な電流パルス
の使用を妨げず、仕上げ加工の場合のように微弱
な電流パルスを使用するときは寄生容量による不
都合な影響を排除する簡単で廉価な手段を講じた
放電加工装置を提供することである。この目的を
達成するため本発明に従つて、放電加工装置の工
具電極ホルダーを包囲して高透磁性磁気回路を取
り外せるように取りつけ、それによつて加工片の
表面を仕上げ加工するときには電極ホルダーを包
囲して高透磁性磁気回路を取りつけ、加工ヘツ
ド、枠構造、両電極から成る寄生容量の充放電回
路にインクタンスを挿入するようにしている。
以下に添附図面を参照して本発明の実施例を説
明する。
明する。
第１図に示す装置は枠構造１を含み、この枠構
造１はタンク２及び加工すべき加工片４を保持す
るようになつているテーブル３を担持している。
枠構造１の上部には加工ヘツド５が設けてあつ
て、工具電極６の変位を制御して工具電極６と加
工片４との間のスパーキング距離を所望値に保つ
ようになつているサーボ機構を含んでいる。放電
加工に用いられるサーボ機構は公知であり詳細な
説明は必要ないであろう。加工ヘツド５は枠構造
１に対して変位可能であり、電極ホルダー８を固
定するための板（台）を有している。台７は絶縁
物９によつて加工ヘツド５から絶縁されている。
加工用電流パルスは発生器１０から供給される。
発生器も公知であり詳細な説明は省略する。発生
器１０は導体１１及び１２によつてそれぞれ電極
ホルダー８及び加工片４に接続されている。
造１はタンク２及び加工すべき加工片４を保持す
るようになつているテーブル３を担持している。
枠構造１の上部には加工ヘツド５が設けてあつ
て、工具電極６の変位を制御して工具電極６と加
工片４との間のスパーキング距離を所望値に保つ
ようになつているサーボ機構を含んでいる。放電
加工に用いられるサーボ機構は公知であり詳細な
説明は必要ないであろう。加工ヘツド５は枠構造
１に対して変位可能であり、電極ホルダー８を固
定するための板（台）を有している。台７は絶縁
物９によつて加工ヘツド５から絶縁されている。
加工用電流パルスは発生器１０から供給される。
発生器も公知であり詳細な説明は省略する。発生
器１０は導体１１及び１２によつてそれぞれ電極
ホルダー８及び加工片４に接続されている。
勿論、電極ホルダー８は装置の枠構造１に対し
て容量を持つようになり、この寄生容量の大部分
は板（台）と加工ヘツド５との間の接近した間隔
によるものである。実際には堅ろう性の理由から
絶縁物９は比較的薄くしてあり、容量の値は／
nF程度であることが多い。
て容量を持つようになり、この寄生容量の大部分
は板（台）と加工ヘツド５との間の接近した間隔
によるものである。実際には堅ろう性の理由から
絶縁物９は比較的薄くしてあり、容量の値は／
nF程度であることが多い。
電極ホルダ８の円筒形部分８ａは高透磁率材料
製の磁気回路１３によつて取巻かれている。
製の磁気回路１３によつて取巻かれている。
寄生容量の作用を第２図及び第３図を参照して
説明する。第２図には導体１１及び１２を介して
工具電極６と加工片４との間の加工ゾーンに接続
されている発生器１０が示されている。これらの
導体はインダクタを形成するが、そのインダクタ
ンスを第２図では巻線L1で示してある。発生器
１０の出力回路にはR1で表わされる若干の抵抗
と、コンデンサC1で表わされる若干の容量が存
在している。
説明する。第２図には導体１１及び１２を介して
工具電極６と加工片４との間の加工ゾーンに接続
されている発生器１０が示されている。これらの
導体はインダクタを形成するが、そのインダクタ
ンスを第２図では巻線L1で示してある。発生器
１０の出力回路にはR1で表わされる若干の抵抗
と、コンデンサC1で表わされる若干の容量が存
在している。
電気的には、台７と加工ヘツド５との間のこの
寄生容量は枠構造１、テーブル３、加工片４、加
工ゾーン、工具電極６、電極ホルダー８及び台７
からなるループで分路されている。この寄生容量
は第２図ではコンデンサC2で示してあり、また
このループは抵抗R2及びインダクタンスL2で表
わしてある。インダクタンスLTで表わされてい
る磁気回路が電極６と直列に挿入され、寄生容量
C2の効果を減少させている。
寄生容量は枠構造１、テーブル３、加工片４、加
工ゾーン、工具電極６、電極ホルダー８及び台７
からなるループで分路されている。この寄生容量
は第２図ではコンデンサC2で示してあり、また
このループは抵抗R2及びインダクタンスL2で表
わしてある。インダクタンスLTで表わされてい
る磁気回路が電極６と直列に挿入され、寄生容量
C2の効果を減少させている。
第３図は異なる状態における電流パルスの波形
を示すものである。曲線ａは合計寄生容量及びイ
ンダクタンスが無い場合の発生器１０の出力波形
である。曲線ｂは装置にインダクタンスLTが含
まれていない場合に寄生容量によつて生ずる電流
波形である。曲線ｃは第１図に示す装置に流れる
電流波形である。
を示すものである。曲線ａは合計寄生容量及びイ
ンダクタンスが無い場合の発生器１０の出力波形
である。曲線ｂは装置にインダクタンスLTが含
まれていない場合に寄生容量によつて生ずる電流
波形である。曲線ｃは第１図に示す装置に流れる
電流波形である。
発生器１０が電圧パルスを供給すると、一般
に、加工ゾーンが電離されて放電電流が流れ得る
ようになるまでに若干の遅れが存在する。この短
かい時間の間に容量C2が充電され、電極６と加
工片４との間にスパークが発生すると、枠構造１
によつて形成されているループの抵抗及びインダ
クタンスは無視できるので、容量C2は極めて急
激に放電される。
に、加工ゾーンが電離されて放電電流が流れ得る
ようになるまでに若干の遅れが存在する。この短
かい時間の間に容量C2が充電され、電極６と加
工片４との間にスパークが発生すると、枠構造１
によつて形成されているループの抵抗及びインダ
クタンスは無視できるので、容量C2は極めて急
激に放電される。
この急激な放電はパルスの立上り縁を極めて急
峻なものとするが、これは前述のように立上りが
ゆるやかな勾配である理想パルスと極めて対照的
である。このような開始電流が流れると強い浸食
効果が発生し、加工表面のクレータの体積を増加
させるので精密な仕上げ加工が妨げられるように
なる。
峻なものとするが、これは前述のように立上りが
ゆるやかな勾配である理想パルスと極めて対照的
である。このような開始電流が流れると強い浸食
効果が発生し、加工表面のクレータの体積を増加
させるので精密な仕上げ加工が妨げられるように
なる。
インダクタンスLTが存在すると容量C2の放電
回路にインピーダンスが発生して容量C2の放電
電流が急激に増加するのを防ぐようになるから、
放電の初期電流を効果的に減衰させることにな
る。曲線Ｃは放電電流が、理想回路における放電
波形に極めて近くなつていることを示している。
回路にインピーダンスが発生して容量C2の放電
電流が急激に増加するのを防ぐようになるから、
放電の初期電流を効果的に減衰させることにな
る。曲線Ｃは放電電流が、理想回路における放電
波形に極めて近くなつていることを示している。
勿論、等価回路上では、インダクタンスLTを
容量C2の放電回路内の何処に挿入するかは重要
なことではない。しかし、実際的な理由から、イ
ンダクタンスLTを枠構造１自体が形成している
回路の一部に挿入することは困難である。
容量C2の放電回路内の何処に挿入するかは重要
なことではない。しかし、実際的な理由から、イ
ンダクタンスLTを枠構造１自体が形成している
回路の一部に挿入することは困難である。
しかし、テーブル３を枠構造１から絶縁し、テ
ーブル３の下に配置したコイル状の導体によつて
テーブル３と枠構造１とを接続してもよい。しか
し、このような構造は第１図に示す構造よりも遥
かに高価になる。
ーブル３の下に配置したコイル状の導体によつて
テーブル３と枠構造１とを接続してもよい。しか
し、このような構造は第１図に示す構造よりも遥
かに高価になる。
何れの場合にも、インダクタンスLTは高周波
数に対してその高価を発生するのに適していなけ
ればならず、そのためには磁気回路１３をフエラ
イトのトロイダル部材とすることが有利である。
数に対してその高価を発生するのに適していなけ
ればならず、そのためには磁気回路１３をフエラ
イトのトロイダル部材とすることが有利である。
第４図は電極ホルダの一部１５が矩形であるよ
うな場合に適している矩形フエライトのコア１４
を示すものである。
うな場合に適している矩形フエライトのコア１４
を示すものである。
自己誘導係数をできる限り大きくするために、
コア１４はできる限り導電性部分１５に接近させ
る。この係数は磁気回路の磁気抵抗にも依存する
から、コア１４の与えられた体積及び使用材料の
与えられた透磁率に対してはコア１４をできる限
り部分１５に接近させ、部分１５の長さに沿つて
できる限り伸ばすことが有利である。
コア１４はできる限り導電性部分１５に接近させ
る。この係数は磁気回路の磁気抵抗にも依存する
から、コア１４の与えられた体積及び使用材料の
与えられた透磁率に対してはコア１４をできる限
り部分１５に接近させ、部分１５の長さに沿つて
できる限り伸ばすことが有利である。
図示の例では、インダクタンスLTが発生器１
０から供給されるパルスの放電回路内に挿入され
ていることも理解されたい。装置が比較的急速な
加工、例えば粗加工或は半仕上加工に用いられて
いる場合には強大な電流パルスを用い立上りを急
峻とすることが有利であるから、インダクタンス
LTが望ましくない硬化をもたらすことになる。
望むならばこのインダクタンスLTを除くための
異なる解決策を用いることができる。
０から供給されるパルスの放電回路内に挿入され
ていることも理解されたい。装置が比較的急速な
加工、例えば粗加工或は半仕上加工に用いられて
いる場合には強大な電流パルスを用い立上りを急
峻とすることが有利であるから、インダクタンス
LTが望ましくない硬化をもたらすことになる。
望むならばこのインダクタンスLTを除くための
異なる解決策を用いることができる。
第４図に示すように、フエライト・コア１４は
２つの部分１４ａ及び１４ｂからなつており、取
外すことを望む場合には容易に２つに分離するよ
うにしてある。
２つの部分１４ａ及び１４ｂからなつており、取
外すことを望む場合には容易に２つに分離するよ
うにしてある。
第５図に示すように、コア１４には、可変抵抗
１７にまたがつて接続されている巻線１６が施し
てある。この抵抗１７を調整することによつて、
インダクタンスLTの効果を、巻線１６を短絡さ
せた場合に得られるような最小まで減少させるこ
とができる。
１７にまたがつて接続されている巻線１６が施し
てある。この抵抗１７を調整することによつて、
インダクタンスLTの効果を、巻線１６を短絡さ
せた場合に得られるような最小まで減少させるこ
とができる。
第６図のコア１４は高透磁率の２つの部分１４
ａ及び１４ｂからなつており、この磁気回路を分
極させるための２つの永久磁石１４ｃ及び１４ｄ
を含んでいる。この構造は、電流パルスによつて
生ずる磁場が磁気回路の望ましい抗磁力に対して
小さ過ぎるか或は大き過ぎる場合に特に有用であ
る。
ａ及び１４ｂからなつており、この磁気回路を分
極させるための２つの永久磁石１４ｃ及び１４ｄ
を含んでいる。この構造は、電流パルスによつて
生ずる磁場が磁気回路の望ましい抗磁力に対して
小さ過ぎるか或は大き過ぎる場合に特に有用であ
る。
第７図は磁気的に分極させるための別の例を示
すものである。この実施例ではフエライト・コア
１４に巻かれた巻線１６には、インダクタンス１
７、電流源１８及び可変抵抗１９によつて電流が
供給される。分極を反転させるためのスイツチ２
０を接続してもよい。インダクタンス１７は分極
用電流通路に生ずる高周波電流を〓波するもので
ある。
すものである。この実施例ではフエライト・コア
１４に巻かれた巻線１６には、インダクタンス１
７、電流源１８及び可変抵抗１９によつて電流が
供給される。分極を反転させるためのスイツチ２
０を接続してもよい。インダクタンス１７は分極
用電流通路に生ずる高周波電流を〓波するもので
ある。
第１図は本発明を実施した装置の側面図であつ
て、一部を断面で示してあり、第２図は装置の等
価回路図であり、第３図は若干の電流パルスの波
形図であり、そして第４図乃至第７図は装置内に
用いられる磁気回路の若干の実施例を示す斜視図
である。 １……枠構造、２……タンク、３……テーブ
ル、４……加工片、５……加工ヘツド、６……工
具電極、７……台、８……電極ホルダー、８ａ…
…ホルダーの円筒形部分、９……絶縁物、１０…
…発生器、１１，１２……導体、１３……磁気回
路、１４……フエライト製コア、１４ｃ，１４ｄ
……永久磁石、１５……矩形電極ホルダー、１６
……巻線、１７，１９……可変抵抗、１８……電
流源、２０……スイツチ。
て、一部を断面で示してあり、第２図は装置の等
価回路図であり、第３図は若干の電流パルスの波
形図であり、そして第４図乃至第７図は装置内に
用いられる磁気回路の若干の実施例を示す斜視図
である。 １……枠構造、２……タンク、３……テーブ
ル、４……加工片、５……加工ヘツド、６……工
具電極、７……台、８……電極ホルダー、８ａ…
…ホルダーの円筒形部分、９……絶縁物、１０…
…発生器、１１，１２……導体、１３……磁気回
路、１４……フエライト製コア、１４ｃ，１４ｄ
……永久磁石、１５……矩形電極ホルダー、１６
……巻線、１７，１９……可変抵抗、１８……電
流源、２０……スイツチ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加工片の表面を精細に仕上げるために所定の
波形の低エネルギ電流パルスを発生する発生器、
及び枠構造から絶縁されておりそのため枠構造と
の間に加工片の表面の加工状態を劣化せしめるよ
うに作用する寄生容量を持つ工具電極ホルダーを
具備し、工具電極によつて加工片電極を浸食放電
加工するための放電加工装置において、 工具電極ホルダーを包囲して取り外せるように
取りつけられている高透磁性磁気回路を具備し、
それによつて低エネルギの放電によつて加工片の
表面を仕上げ加工するときに加工ヘツド、枠構
造、両電極から成る寄生容量の充放電回路にイン
ダクタンスを挿入することを特徴とした放電加工
装置。 ２ 高透磁性磁気回路にンダクタンスを変化させ
る手段を設けた特許請求の範囲第１項に記載の放
電加工装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/645,310 US4571561A (en) | 1983-07-28 | 1984-08-29 | Noise reduction filter |
| DE19843432670 DE3432670A1 (de) | 1983-07-28 | 1984-09-05 | Rauschunterdrueckungsfilter |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH4742/826 | 1982-08-06 | ||
| CH4742/82A CH649024A5 (fr) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | Machine pour usiner par decharges electriques erosives. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942222A JPS5942222A (ja) | 1984-03-08 |
| JPH04765B2 true JPH04765B2 (ja) | 1992-01-08 |
Family
ID=4281724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58138656A Granted JPS5942222A (ja) | 1982-08-06 | 1983-07-28 | 放電加工装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4617443A (ja) |
| JP (1) | JPS5942222A (ja) |
| CH (1) | CH649024A5 (ja) |
| DE (1) | DE3326582A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5149931A (en) * | 1989-04-11 | 1992-09-22 | Mitsubishi Denki K.K. | Power source for electric discharge machining |
| US5399825A (en) * | 1991-03-01 | 1995-03-21 | Creare, Inc. | Inductor-charged electric discharge machining power supply |
| JP3731279B2 (ja) * | 1997-03-12 | 2006-01-05 | 三菱電機株式会社 | 放電加工機 |
| JP5153209B2 (ja) * | 2007-05-17 | 2013-02-27 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置 |
| DE112012007069B4 (de) * | 2012-10-30 | 2020-03-12 | Mitsubishi Electric Corporation | Elektroentladungsbearbeitungsvorrichtung |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3283116A (en) * | 1962-05-04 | 1966-11-01 | Gen Motors Corp | Electrical discharge machining method and apparatus |
| FR2082732A5 (ja) * | 1970-03-25 | 1971-12-10 | Carel Fouche Languepin | |
| JPS5852034Y2 (ja) * | 1977-04-27 | 1983-11-28 | 株式会社井上ジャパックス研究所 | 電気加工機 |
| JPS55164428A (en) * | 1979-06-06 | 1980-12-22 | Inoue Japax Res Inc | System for electric discharge machining |
| US4335294A (en) * | 1979-07-25 | 1982-06-15 | Inoue-Japax Research Incorporated | EDM Method and apparatus having a gap discharge circuit constructed with limited stray capacitances |
| US4441005A (en) * | 1980-05-06 | 1984-04-03 | Sodick Co., Ltd. | EDM Pulse generator with a variable output inductor for producing pulse with gradually rising edges |
-
1982
- 1982-08-06 CH CH4742/82A patent/CH649024A5/fr not_active IP Right Cessation
-
1983
- 1983-07-23 DE DE19833326582 patent/DE3326582A1/de active Granted
- 1983-07-28 JP JP58138656A patent/JPS5942222A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-25 US US06/715,537 patent/US4617443A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH649024A5 (fr) | 1985-04-30 |
| DE3326582A1 (de) | 1984-02-09 |
| DE3326582C2 (ja) | 1987-10-22 |
| JPS5942222A (ja) | 1984-03-08 |
| US4617443A (en) | 1986-10-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2983139B2 (ja) | 放電加工用電源回路及び放電加工装置 | |
| US5585014A (en) | Method and apparatus for electrical discharge machining using variable capacitance and variable inductance | |
| US5750951A (en) | Power supply system for an electric discharge machine | |
| KR960005579B1 (ko) | 펄스레이저장치 | |
| JPH08132321A (ja) | 放電励起パルスレーザ装置 | |
| JPH04765B2 (ja) | ||
| US3033971A (en) | Electric circuits adapted to equip a machine for machining by sparks | |
| GB782443A (en) | Improvements in electrical spark machining devices | |
| US4635265A (en) | Power switching circuit for a pulsed laser | |
| JPH08174336A (ja) | 放電仕上げ加工用電源装置 | |
| CN104066540B (zh) | 放电加工装置 | |
| US4335294A (en) | EDM Method and apparatus having a gap discharge circuit constructed with limited stray capacitances | |
| US4661674A (en) | Minimum-impedance conductor assembly for EDM | |
| JPH0431805B2 (ja) | ||
| US4644123A (en) | Rotary balancing apparatus | |
| JPS5973226A (ja) | 放電加工装置の加工用電源 | |
| JPS63154B2 (ja) | ||
| KR100322324B1 (ko) | 전기방전가공기용전원시스템 | |
| KR100417141B1 (ko) | 방전펄스 발생장치 | |
| SU545437A1 (ru) | Генератор импульсов дл электроэрозионной обработки | |
| RU1816580C (ru) | Генератор импульсов технологического тока дл электроэрозионных станков | |
| JPH04315521A (ja) | 放電加工装置 | |
| JPH06143041A (ja) | ワイヤ放電加工装置 | |
| Ihara et al. | Spatial Current Distribution Inside the Switch Region of a Plasma Opening Switch with Coaxial Configuration | |
| HK1008817B (en) | Power supply system for an electric discharge machine |