JPH047709B2 - - Google Patents
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- JPH047709B2 JPH047709B2 JP15781284A JP15781284A JPH047709B2 JP H047709 B2 JPH047709 B2 JP H047709B2 JP 15781284 A JP15781284 A JP 15781284A JP 15781284 A JP15781284 A JP 15781284A JP H047709 B2 JPH047709 B2 JP H047709B2
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- photosensitive glass
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2/1606—Coating the nozzle area or the ink chamber
-
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- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、液状インクを微小ノズルより吐出さ
せ文字、図形等を記録するインクジエツト記録装
置に関する。
せ文字、図形等を記録するインクジエツト記録装
置に関する。
従来例の構成とその問題点
第１図は本出願人の先行出願に係るインクジエ
ツトでインクノズル１の出口周辺にリング状の突
起２を有する。第１図に示されたような形状の微
小ノズルのもつ利点は、 微小ノズルの出口周辺のインクによるぬれ状
態が均一となり、インクの吐出方向が安定す
る。
ツトでインクノズル１の出口周辺にリング状の突
起２を有する。第１図に示されたような形状の微
小ノズルのもつ利点は、 微小ノズルの出口周辺のインクによるぬれ状
態が均一となり、インクの吐出方向が安定す
る。
静電力により吸引して、インクを吐出させる
方式のインクジエツト記録装置に採用した場合
には、インクのメニスカス形状が安定するた
め、電界がインクのメカニカス先端に集中し易
くなり性能の良いインクジエツト記録装置が実
現できる。
方式のインクジエツト記録装置に採用した場合
には、インクのメニスカス形状が安定するた
め、電界がインクのメカニカス先端に集中し易
くなり性能の良いインクジエツト記録装置が実
現できる。
特開昭57−120452号公報に記載されたような
空気流を使用したインクジェツト記録装置に採
用した場合には、空気流の流出時にも安定した
インクのメニスカスが形成できるため、性能の
安定したインクジエツト記録装置が実現でき
る。
空気流を使用したインクジェツト記録装置に採
用した場合には、空気流の流出時にも安定した
インクのメニスカスが形成できるため、性能の
安定したインクジエツト記録装置が実現でき
る。
等である。
このような微小ノズルを製造する方法の１つに
化学的エツチングを利用する方法がある。中でも
感光性ガラスを使用して製造する方法は、精度あ
るいは形状の点で優れた方法である。
化学的エツチングを利用する方法がある。中でも
感光性ガラスを使用して製造する方法は、精度あ
るいは形状の点で優れた方法である。
以下感光性ガラスを用いた微小ノズル製造方法
に関する従来例について述べる。
に関する従来例について述べる。
第２図は感光性ガラスにより微小ノズルを製造
する一実施例を示す。感光性ガラスは、CeC2、
Ag2Oを含むSiO2−Al2O3−Li2O系ガラスであり、
波長280〜350μｍの紫外光により露光し、熱処理
ほ施すと露光されば部分にLi2O−SiO2結晶が発
生し、この結晶化された部分のみがきわめて酸に
溶解しやすくなる。
する一実施例を示す。感光性ガラスは、CeC2、
Ag2Oを含むSiO2−Al2O3−Li2O系ガラスであり、
波長280〜350μｍの紫外光により露光し、熱処理
ほ施すと露光されば部分にLi2O−SiO2結晶が発
生し、この結晶化された部分のみがきわめて酸に
溶解しやすくなる。
第２図においてａは、リング状の部分３以外の
部分を露光し結晶化された感光性ガラスを示す。
ｂはａの感光性ガラスにレジストパターン４およ
び５を設けたものであり、ｃは、ｂのレジストパ
ターン４の面よりハーフエツチングし、ノズルを
途中まで穿孔したものである。ｄはｃのレジスト
パターン５を除去しｃとは反対側の面よりエツチ
ングし、ノズルを貫通させるとともにリング状の
突起６を形成したものである。
部分を露光し結晶化された感光性ガラスを示す。
ｂはａの感光性ガラスにレジストパターン４およ
び５を設けたものであり、ｃは、ｂのレジストパ
ターン４の面よりハーフエツチングし、ノズルを
途中まで穿孔したものである。ｄはｃのレジスト
パターン５を除去しｃとは反対側の面よりエツチ
ングし、ノズルを貫通させるとともにリング状の
突起６を形成したものである。
第３図は他の実施例でａ、ｂの工程は第２図の
実施例と同一であるが、ｃは、ｂのレジストパタ
ーン８の面よりエツチングしノズル７を貫通させ
たものである。ｄは、ｃの片面のレジストパター
ン８を除去したものであり、ｅはｄをハーフエツ
チングしてリング状突起１０を形成したものであ
る。
実施例と同一であるが、ｃは、ｂのレジストパタ
ーン８の面よりエツチングしノズル７を貫通させ
たものである。ｄは、ｃの片面のレジストパター
ン８を除去したものであり、ｅはｄをハーフエツ
チングしてリング状突起１０を形成したものであ
る。
第４図はさらに他の実施例であり、ａは、露光
結晶化がなされた感光性ガラスの片面をレジスト
１１で被覆したものである。ｂは、ａをハーフエ
ツチングし、リング状突起１２を形成したもので
ある。ｃはレジスト１１を除去し、レジスト１３
および１４を設けたものである。ｄはｃをエチチ
ングしノズル１５を貫通させ、レジスト１３，１
４を除去し、所望の微小ノズルを形成したもので
ある。
結晶化がなされた感光性ガラスの片面をレジスト
１１で被覆したものである。ｂは、ａをハーフエ
ツチングし、リング状突起１２を形成したもので
ある。ｃはレジスト１１を除去し、レジスト１３
および１４を設けたものである。ｄはｃをエチチ
ングしノズル１５を貫通させ、レジスト１３，１
４を除去し、所望の微小ノズルを形成したもので
ある。
以上、第２図乃至第４図の実施例のごとく、感
光性ガラスを使用することによつて、第１図に示
されたようなリング状の突起を有する微小ノズル
が形成できる。感光性ガラスでは、露光、結晶化
されていない部分はほとんどエツチングされない
ので、寸法精度が良く、エツヂの綺麗な微小ノズ
ルが形成される。
光性ガラスを使用することによつて、第１図に示
されたようなリング状の突起を有する微小ノズル
が形成できる。感光性ガラスでは、露光、結晶化
されていない部分はほとんどエツチングされない
ので、寸法精度が良く、エツヂの綺麗な微小ノズ
ルが形成される。
ところで、第２図乃至第４図の工程において、
いずれの場合によレジストパターンを形成しなけ
ればならない。
いずれの場合によレジストパターンを形成しなけ
ればならない。
レジストパターンは、例えば第５図、第６図に
示すように、露光、結晶化された感光性ガラス基
板１８をフオトレジスト１６をコーテイングし、
その上に露光マスク１７を配置し、紫外光により
露光し、現象定着を施して、形成される。すなわ
ちフオトレジスト１６の紫外光が照写されなかつ
た部分はフオトレジストが除去され、除去部２０
が形成される。しかしながら、感光性ガラス基板
１８の結晶化された部分は、不透明に変色してお
り、一部乱反射を起すことがある。このため長時
間紫外光を照写すると、結晶化された部分での乱
反射光がマスクされている除去部２０に相当する
部分のフオトレジストを感光させることがあり、
除去部２０の一部フオトレジストが残存すること
があつた。また、第６図に示すように裏面にリン
グ状突起２１がある場合には、この突起２１での
乱反射の影響があり、パターンを正確に形成させ
ることができなかつた。
示すように、露光、結晶化された感光性ガラス基
板１８をフオトレジスト１６をコーテイングし、
その上に露光マスク１７を配置し、紫外光により
露光し、現象定着を施して、形成される。すなわ
ちフオトレジスト１６の紫外光が照写されなかつ
た部分はフオトレジストが除去され、除去部２０
が形成される。しかしながら、感光性ガラス基板
１８の結晶化された部分は、不透明に変色してお
り、一部乱反射を起すことがある。このため長時
間紫外光を照写すると、結晶化された部分での乱
反射光がマスクされている除去部２０に相当する
部分のフオトレジストを感光させることがあり、
除去部２０の一部フオトレジストが残存すること
があつた。また、第６図に示すように裏面にリン
グ状突起２１がある場合には、この突起２１での
乱反射の影響があり、パターンを正確に形成させ
ることができなかつた。
発明の目的
本発明は、感光性ガラスを用い、乱反射の影響
をなくして微小ノズルを精度よく製作することを
目的としている。
をなくして微小ノズルを精度よく製作することを
目的としている。
発明の構成
本発明は、
感光性ガラスにおいて円柱枠のリング状部とな
るべく部分以外を紫外光で露光し、熱処理して結
晶化する第１の工程と、 前記感光性のガラス表面側をハーフエツチング
し、当該感光性ガラスの表面側に前記リング状部
の突起を形成する第２の工程と、 前記感光性ガラスの裏面側に、紫外光を透過さ
せないしやへいマスクを全面被覆させ、かつその
しやへいマスク上にレジストを全面被覆する第３
の工程と、 前記感光性ガラスの裏面側からの露光、現像に
より、前記リング状部の枠の外縁よりも内側に位
置する前記レジストを除去してリング状のレジス
トパターンを形成する第４の工程と、 前記感光性ガラスのエツチングを行い、前記リ
ング状のレジストパターンにより、当該レジスト
パターンと同様に、前記リング状部の枠の外縁よ
りも内側に位置する前記しやへいマスクを除去し
てリング状のしやへいマスクパターンを形成する
第５の工程と、 前記感光性ガラスのエツチングを行い、前記リ
ング状のしやへいマスクパターンにより、前記リ
ング状部の縁よりも内側の当該感光性ガラスを除
去して貫通させ、微小ノズルを形成する第６の工
程と、 前記感光性ガラスの裏面側に被覆されている前
記レジスト及びしやへいマスクを除去する第７の
工程と から成るインクジエツト用ノズルの製造方法であ
る。
るべく部分以外を紫外光で露光し、熱処理して結
晶化する第１の工程と、 前記感光性のガラス表面側をハーフエツチング
し、当該感光性ガラスの表面側に前記リング状部
の突起を形成する第２の工程と、 前記感光性ガラスの裏面側に、紫外光を透過さ
せないしやへいマスクを全面被覆させ、かつその
しやへいマスク上にレジストを全面被覆する第３
の工程と、 前記感光性ガラスの裏面側からの露光、現像に
より、前記リング状部の枠の外縁よりも内側に位
置する前記レジストを除去してリング状のレジス
トパターンを形成する第４の工程と、 前記感光性ガラスのエツチングを行い、前記リ
ング状のレジストパターンにより、当該レジスト
パターンと同様に、前記リング状部の枠の外縁よ
りも内側に位置する前記しやへいマスクを除去し
てリング状のしやへいマスクパターンを形成する
第５の工程と、 前記感光性ガラスのエツチングを行い、前記リ
ング状のしやへいマスクパターンにより、前記リ
ング状部の縁よりも内側の当該感光性ガラスを除
去して貫通させ、微小ノズルを形成する第６の工
程と、 前記感光性ガラスの裏面側に被覆されている前
記レジスト及びしやへいマスクを除去する第７の
工程と から成るインクジエツト用ノズルの製造方法であ
る。
実施例の説明
第７図は本発明の一実施例を示す。まずａに示
すように、リング状部３１を残して感光性ガラス
基板２２を露光結晶化させ、その片面をレジスト
３２で被覆する。つぎに、ｂに示すよううに感光
性ガラス２２をハーフエツチングし、リング状の
突起３３を形成する。ここまでは第４図ａ，ｂと
同様である。つぎに第７図ｃのように感光性ガラ
ス基板２２の片面に、しやへいマスク２３を形成
し、その上にフオトレジスト２４を被覆する。し
やへいマスク２３は紫外光を透過させない材料
で、また後に述べる沸酸使用にも耐える耐沸酸性
材料、たとえば金を用い、金を蒸着により厚さ１
〜2μｍに被覆する。その上に露光マスク２５を
設置し、紫外光を照写する。この場合、紫外光は
しやへいマスク２３面で完全に反射し、感光性ガ
ラス２２内には紫外光は入射しない。したがつ
て、従来感光性ガラス２２の結晶化された部分、
あるいは裏面の突起物３２等による乱反射は完全
に防止できる。しやへいマスク２３で反射した紫
外光は平行光でありもとの光路をたどるため、露
光マスク２５の非透過部分２６の下部にあたるフ
オトレジストに紫外光が入ることはなくなる。し
たがつて、第７図ｄに示すように非透過部分２６
に正確に対応したパターンが実現できる。次に第
７図ｅではしやへいマスク２３の非透過部分２６
に対応するパターン部分の除去を示すが、しやへ
いマスク２３の材料が金であるため王水を使用し
た。次に第７図ｆでは感光性ガラス基板２２の裏
面にレジスト２７を被覆させその後第７図ｇに示
すように、沸酸によるエツチングによつて、微小
ノズル２８が貫通し加工される。その後、フオト
レジスト２４、しやへいマスク２３、レジスト２
７を各々除去して第７図ｈに示すような微小ノズ
ルが完成する。
すように、リング状部３１を残して感光性ガラス
基板２２を露光結晶化させ、その片面をレジスト
３２で被覆する。つぎに、ｂに示すよううに感光
性ガラス２２をハーフエツチングし、リング状の
突起３３を形成する。ここまでは第４図ａ，ｂと
同様である。つぎに第７図ｃのように感光性ガラ
ス基板２２の片面に、しやへいマスク２３を形成
し、その上にフオトレジスト２４を被覆する。し
やへいマスク２３は紫外光を透過させない材料
で、また後に述べる沸酸使用にも耐える耐沸酸性
材料、たとえば金を用い、金を蒸着により厚さ１
〜2μｍに被覆する。その上に露光マスク２５を
設置し、紫外光を照写する。この場合、紫外光は
しやへいマスク２３面で完全に反射し、感光性ガ
ラス２２内には紫外光は入射しない。したがつ
て、従来感光性ガラス２２の結晶化された部分、
あるいは裏面の突起物３２等による乱反射は完全
に防止できる。しやへいマスク２３で反射した紫
外光は平行光でありもとの光路をたどるため、露
光マスク２５の非透過部分２６の下部にあたるフ
オトレジストに紫外光が入ることはなくなる。し
たがつて、第７図ｄに示すように非透過部分２６
に正確に対応したパターンが実現できる。次に第
７図ｅではしやへいマスク２３の非透過部分２６
に対応するパターン部分の除去を示すが、しやへ
いマスク２３の材料が金であるため王水を使用し
た。次に第７図ｆでは感光性ガラス基板２２の裏
面にレジスト２７を被覆させその後第７図ｇに示
すように、沸酸によるエツチングによつて、微小
ノズル２８が貫通し加工される。その後、フオト
レジスト２４、しやへいマスク２３、レジスト２
７を各々除去して第７図ｈに示すような微小ノズ
ルが完成する。
発明の効果
以上のように、本発明は所定のパターンに露
光、結晶化された感光性ガラスの一方の面の紫外
光を透過させないしやへいマスクを形成し、その
上にレジストパターンを形成してエツチングする
ようにしたインクジエツト用ノズルの製造方法
で、感光性ガラスの紫外光の乱反射が発生しない
ため精度の高いレジストパターンが形成できる。
したがつて、高精度の微小ノズルの加工が実現で
きる。
光、結晶化された感光性ガラスの一方の面の紫外
光を透過させないしやへいマスクを形成し、その
上にレジストパターンを形成してエツチングする
ようにしたインクジエツト用ノズルの製造方法
で、感光性ガラスの紫外光の乱反射が発生しない
ため精度の高いレジストパターンが形成できる。
したがつて、高精度の微小ノズルの加工が実現で
きる。
第１図は、本発明により作製されるノズルの一
実施例を示す断面図、第２図乃至第４図は従来の
ノズル加工の工程を示す断面図、第５図及び第６
図は、従来のレジストパターン作成法を示す断面
図、第７図は本発明によるインクジエツト用ノズ
ル製造工程の一実施例を示す断面図を示す。 １……微小ノズル、２……リング状突起、２２
……感光性ガラス基板、２３……しやへいマス
ク、２４……フオトレジスト、２５……露光マス
ク、２７，３２……レジスト、２８……微小ノズ
ル、３３……突起。
実施例を示す断面図、第２図乃至第４図は従来の
ノズル加工の工程を示す断面図、第５図及び第６
図は、従来のレジストパターン作成法を示す断面
図、第７図は本発明によるインクジエツト用ノズ
ル製造工程の一実施例を示す断面図を示す。 １……微小ノズル、２……リング状突起、２２
……感光性ガラス基板、２３……しやへいマス
ク、２４……フオトレジスト、２５……露光マス
ク、２７，３２……レジスト、２８……微小ノズ
ル、３３……突起。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 感光性ガラスにおいて円柱枠のリング状部と
なるべく部分以外を紫外光で露光し、熱処理して
結晶化する第１の工程と、 前記感光性ガラスの表面側をハーフエツチング
し、当該感光性ガラスの表面側に前記リング状部
の突起を形成する第２の工程と、 前記感光性ガラス裏面側に、紫外光を透過させ
ないしやへいマスクを全面被覆させ、かつそのし
やへいマスク上にレジストを全面被覆する第３の
工程と、 前記感光性ガラスの裏面側からの露光、現像に
より、前記リング状部の枠の外縁よりも内側に位
置する前記レジストを除去してリング状のレジス
トパターンを形成する第４の工程と、 前記感光性ガラスのエツチングを行い、前記リ
ング状のレジストパターンにより、当該レジスト
パターンと同様に、前記リング状部の枠の外縁よ
りも内側に位置する前記しやへいマスクを除去し
てリング状のしやへいマスクパターンを形成する
第５の工程と、 前記感光性ガラスのエツチングを行い、前記リ
ング状のしやへいマスクパターンにより、前記リ
ング状部の縁よりも内側の当該感光性ガラスを除
去して貫通させ、微小ノズルを形成する第６の工
程と、 前記感光性ガラスの裏面側に被覆されている前
記レジスト及びしやへいマスクを除去する第７の
工程と から成ることを特徴とするインクジエツト用ノズ
ルの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59157812A JPS6135256A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | インクジェット用ノズルの製造方法 |
| US06/781,058 US4728392A (en) | 1984-04-20 | 1985-09-27 | Ink jet printer and method for fabricating a nozzle member |
| US07/074,305 US4801954A (en) | 1984-04-20 | 1987-07-15 | Ink jet printer |
| US07/074,306 US4801955A (en) | 1984-04-20 | 1987-07-15 | Ink jet printer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59157812A JPS6135256A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | インクジェット用ノズルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6135256A JPS6135256A (ja) | 1986-02-19 |
| JPH047709B2 true JPH047709B2 (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15657828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59157812A Granted JPS6135256A (ja) | 1984-04-20 | 1984-07-27 | インクジェット用ノズルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6135256A (ja) |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP59157812A patent/JPS6135256A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6135256A (ja) | 1986-02-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |