Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH047754B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH047754B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH047754B2
JPH047754B2 JP59093062A JP9306284A JPH047754B2 JP H047754 B2 JPH047754 B2 JP H047754B2 JP 59093062 A JP59093062 A JP 59093062A JP 9306284 A JP9306284 A JP 9306284A JP H047754 B2 JPH047754 B2 JP H047754B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
butyl
tris
carbon atoms
trioxatriphosphorinane
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59093062A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59212497A (ja
Inventor
Uiriamu Chaasaa Dowaito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Goodrich Corp
Original Assignee
BF Goodrich Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BF Goodrich Corp filed Critical BF Goodrich Corp
Publication of JPS59212497A publication Critical patent/JPS59212497A/ja
Publication of JPH047754B2 publication Critical patent/JPH047754B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/527—Cyclic esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/32—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing two or more of boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C09K15/322—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing two or more of boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing only phosphorus

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
発明の背景 広範囲の研究が、安定剤としての有機ホスフイ
ツト化合物の製造及び評価に向けられてきた。ポ
リマー用の多数の芳香族リン含有安定剤が、知ら
れている。これらのうちのいくつかは、ポリマー
の熱劣化に対して有効であり、それらのうちのい
くつかは、同一もしくは相異した機能のために他
の安定剤と組み合わされた使用を見い出されてい
る。これらのうちのいくつかは商業的に入手され
ているが、これらのうちの多くは、それらの一般
的な用途を制限する欠点のために、用途が限定さ
れてきた。多くのこれらのリン含有材料は、高価
であり、他の安定剤と組み合せた場合に、効果の
度合が変化する。さらに、最も効果的な材料のい
くつかは、加水分解安定度の欠乏等のようないく
らかの欠点を有している。効果的な抗酸化剤で、
容易にかつ安価で製造でき、特にヒドロキシフエ
ニルイソシアヌレート化合物及び他のヒンダード
もしくは一部ヒンダードフエノール化合物と組み
合せた場合に、熱及び酸素に対して高められたポ
リマー保護を示す、新規なホスフイツト化合物
が、望まれている。 発明の要旨 劣化を受けやすい有機材料用の新規安定剤であ
る、置換フエニルホスホロジクロリダイト、水及
びアミンの反応によつて製造された２，４，６−
トリス（置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，
６−トリオキサトリホスホリナンは、特にヒンダ
ードフエノール化合物、特にヒドロキシフエニル
アルキレンイソシアヌレートと効果的な安定剤の
組み合せを形成する。 詳細な説明 ２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ンは構造式(1) （式中、Ｒは
【式】である） 又は(2) 〔式中、＋はｔ−ブチルもしくはｔ−フエニル
であり、R1は水素；メチル、エチル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、アミル、ｔ−ア
ミル、ヘキシル、ヘプチル、２−メチルヘキシ
ル、２−エチルヘキシル、オクチル、イソオクチ
ル等のような１〜９個の炭素原子を含む第一、第
二及び第三アルキル基；３〜６個の炭素原子を含
むシクロアルキル基；ハロゲン；Ｃ≡Ｎ；メトキ
シ、エトキキシ、ブトキシ等のような１〜８個の
炭素原子を含むアルコキシ基；フエニル；
COOR2（R2は１〜８個の炭素原子を含むアルコキ
シ基である）；−CH2CH2COOR3（R3は、１〜18
個の炭素原子を含むアルキル基である）及び−Ｃ
（CH3）2CON（R4）2（R4は１〜９個の炭素原子を有
するアルキル基である）である〕 によつて表わされ得る。 好ましくは＋はｔ−ブチルであり、R4は水素、
１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、１〜４個
の炭素原子を含むアルコキシ基、−COOR2，−
CH2CH2COOR3及び−Ｃ（CH3）2CON（R4）2基
（ここでR3は１〜４個の炭素原子を含むアルキル
基であり、R2は１〜４個の炭素原子を含むアル
キル基であり、R4は１〜４個の炭素原子を含む
アルキル基である）である。 代表的な２，４，６−トリス（置換フエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナンは、２，４，６−トリス（２，６−
ジ−ｔ−ブチルフエノキシ）−１，３，５，２，
４，６−トリオキサトリホスホリナン及び２，
４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−ト
リオキサトリホスホリナン（ここで４位に置換さ
れた基は、前記のものである）である。代表的な
化合物は、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ
−ブチル−４−メチルフエノキシ）−１，３，５，
２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，
４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
エチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−
トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−トリ
ス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−プロピルフエ
ノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサ
トリホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６
−ジ−ｔ−ブチル−４−イソプロピルフエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−ジ
−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフエノキシ）−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ン、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−イソアミルフエノキシ）−１，３，５，
２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，
４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
メトキシフエノキシ）−１，３，５，２，４，６
−トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−ト
リス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エトキシフ
エノキシ）１，３，５，２，４，６−トリオキサ
トリホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６
−ジ−ｔ−ブチル−４−カルボメトキシフエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナン、２，４，６−トリス（２，４，６
−トリ−ｔ−ブチルフエノキシ）−１，３，５，
２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，
４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
（２−カルボエトキシエチル）フエノキシ〕−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ン、２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−（１−メチル−１−ジエチルカルバモイ
ルエチル）フエノキシ〕−１，３，５，２，４，
６−トリオキサトリホスホリナン、及び２，４，
６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（２
−カルボオクタデシルオキシエチル）フエノキ
シ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナンである。 ２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ンを製造する方法は、複雑ではないが、新規であ
る。置換されたフエニルホスホロジクロリダイト
を低温で短時間、非プロトン性溶媒中で、水及び
アミンと反応させ、得られた２，４，６−トリス
（置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−ト
リオキサトリホスホリナンを、その反応混合物を
濾過し、濾液を蒸発させ、未精製の生成物を洗浄
することによつて得る。 本発明の方法において用いられる置換されたフ
エニルホスホロジクロリダイトは、フエニル基上
において２，６−及び２，４，６−の位に置換さ
れれたものを含む。２−及び６−位は、ｔ−ブチ
ル基で置換され、一方、４−位は、アルキル、ア
ルコキシ、カルボキシエステル及び前記
【式】基に示したような基で置換さ れてよい。 代表的な反応体には、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メチルフエニルホスホロジクロリダイト、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフエニルホ
スホロジクロリダイト、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−プロピルフエニルホスホロジクロリダイ
ト、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフ
エニルホスホロジクロリダイト、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−４−ｔ−ブチルフエニルホスホロジク
ロリダイト、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メト
キシフエニルホスホロジクロリダイト、２，６−
ジ−ｔ−ブチル−４−エトキシフエニルホロジク
ロリダイト、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−カル
ボメトキシフエニルホスホロジクロリダイト、
２，６−ジ−ｔ−ブチルフエニルホスホロジクロ
リダイト、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（１−
メチル−１−ジエチルカルバモイルエチル）フエ
ニルホスホロジクロリダイト及び２，６−ジ−ｔ
−ブチル−４−（２−カルボエトキシエチル）フ
エニルホスホロジクロリダイト等が含まれる。 アミンはどのようなアミンであつてもよいが、
より好ましくはトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリプロピルアミンを含むトリアルキルア
ミンのようなアルキルアミン（ここでアルキル基
は１〜８個の炭素原子を含む）、ピリジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン等である。 溶媒は有機の非プロトン性溶媒、すなわち、ア
ルコールによつて表わされるヒドロキシルのよう
な基を含まない溶媒である。これらの溶媒は、溶
媒中における反応体の少なくとも一部の溶解性に
よつて特徴づけられる。代表的に有用な溶剤に
は、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、クロ
ロホルム酢酸エチルのようなエステル、ジオキサ
ンのようなエーテル、そしてさらにトルエンのよ
うな炭化水素溶剤等が含まれる。 一般に使用される反応体のモル比は、約１モル
の置換されたフエニルホスホロジクロリダイト、
１モルの水及び２モルのアミンである。これらの
比は約１：0.8〜2.0：0.5〜10の範囲内で変化させ
てもよいが、より良好な収率は、１：１：２のモ
ル比が一般に認められる場合に、得られる。もち
ろん過剰量の反応体を使用してもよいが、収率は
少なくとも１モル水及び１モルのアミンが存在す
ることに依存するであろう。 反応は極めて迅速であり、反応温度は約−10℃
〜25℃まで変化させてもよいが、通常反応速度を
コントロールするために約０℃で行なわれる。こ
の方法に従つて製造された反応生成物は、一般
に、反応生成物が溶媒中に溶解するので濾過する
必要があり、溶媒を蒸発させて、得られた乾燥生
成物を、例えば緩アルカリ水溶液で洗浄し、次い
で水で洗浄して乾燥させる。 本発明の２，４，６−トリス（置換フエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナンの構造は、赤外及び核磁気共鳴スペ
クトルによつて確認した。分子量は、フイールド
デイソープシヨン質量スペクトル（FD／MS）
及び高速原子衝撃質量スペクトル（FAB／MS）
又は蒸気相浸透（VPO）によつて決定し、確認
した。いくつかの場合において、炭素、水素及び
リンに対する元素分析を行なつたところ、検出さ
れた量は、その物質の式と一致した。 例 ２，４，６−トリス（２，４，６−トリ−ｔ−
ブチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６
−トリオキサトリホスホリナン 6.0ｇ（0.017モル）の２，４，６−トリ−ｔ−
ブチルフエニルホスホロジクロリダイト及び3.34
ｇ（0.033モル）のトリエチルアミンを100mlのテ
トラヒドロフラン中に溶解させ、その溶液を０〜
５℃に冷却した。0.30ｇ（0.017モル）の水をそ
の溶液に添加し、その混合物を0.5時間撹拌した。
得られた反応混合物を濾過し、濾液を乾燥した白
色のガラス状になるまで蒸発させた。そのガラス
状生成物を10分間飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
と共に３回撹拌し、次いで各々を濾過し、水で洗
浄し、風乾して、約70％収率の白色固体生成物を
得た。酢酸エチルからの２回の再結晶によつて、
m.p.226〜244℃、密度1.14の結晶が得られた。 C18H29PO2に対する計算値：
Ｃ，70.10；Ｈ，9.48；Ｐ，10.04。 測定値： Ｃ，69.83；Ｈ，9.45；Ｐ，10.0。 VPO分子量（45℃でCHCl3中）：960（実測値925，
206）。 FD／MS：質量数308
【式】 261
【式】IR（ヌジヨール）960cm-1 （Ｐ−Ｏ），820〜840cm-1。1H NMR（CDCl3）：
δ1.28（Ｓ，9H），1.32（Ｓ，18H），1.35（Ｓ，
18H），1.49（Ｓ，36H），7.29（Ｓ，2H），7.33（Ｓ，
4H）。31 P NMR（CDCl3）：δ11.94（ｄ，Ｊ＝10〜11，
2P），128.1（ｔ，Ｊ＝10〜11，1P）。 例 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メチルフエノキシ）−１，３，５，２，
４，６−トリオキサトリホスホリナン 6.0ｇ（0.019モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メチルフエニル−ホスホロジクロリダイト
及び3.78ｇ（0.037モル）のトリエチルアミンを
100mlのテトラヒドロフラン中に溶解させ、その
溶液を０〜５℃に冷却した。0.34ｇ（0.019モル）
の水をその溶液に添加し、その混合物を0.5時間
撹拌した。得られた反応混合物を濾過し、濾液を
乾燥した白色ガラス状になるまで蒸発させた。そ
の乾燥生成物を10分間飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液と共に２回撹拌し、濾過し、水で洗浄し、風
乾して白色固体（4.04ｇ）を得た。メタノール中
で洗浄した後、その固体は170〜184℃のmpを有
していた。 C15H23O2Pに対する計算値：Ｃ，67.65；Ｈ，
8.71；Ｐ，11.63。測定値：Ｃ，67.7；Ｈ，8.68；
Ｐ，11.53。 FD／MS：799（実測値798.96），266
【式】 219
【式】FAB／MS：799。IR （ヌジヨール）950，930（Ｐ−Ｏ），848，820cm-1。
1H NMR（CDCl3）：δ1.35（Ｓ，18H），1.47（Ｓ，
36H）2.26（Ｓ，3H），2.29（Ｓ，6H），7.07（Ｓ，
2H），7.11（Ｓ，4H）。31 P NMR（CDCl3）：δ12.00（ｄ，Ｊ＝10，2P），
127.9（ｔ，Ｊ＝10，1P）。 例 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリ
オキサトリホスホリナン 2.3ｇ（0.0075モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチ
ルフエニルホスホロジクロリダイト及び1.52ｇ
（0.015モル）のトリエチルアミンを50mlのテトラ
ヒドロフラン中に溶解させ、その溶液を０〜５℃
に冷却した。0.13ｇ（0.0075モル）の水を撹拌さ
れている溶液に添加し、その混合物を0.5時間撹
拌した。得られた反応混合物を濾過し、濾液を黄
色ガラス状になるまで蒸発させた。そのガラス状
生成物を10分間飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と
共に２回撹拌し、次いで濾過し、水で洗浄し、風
乾して、約60％の収率でオフホワイトの固体生成
物（mp115〜132℃）を得た。 C14H21O2Pに対する計算値：Ｃ，66.65；Ｈ，
8.39；Ｐ，12.28。測定値：Ｃ，66.36；Ｈ，
8.46；Ｐ，12.23。 FD／MS：758（実測値757）。IR（ヌジヨール）
955，932（Ｐ−Ｏ），848，820cm-1。1H NMR
（CDCl3）：δ1.36（Ｓ，18H），1.49（Ｓ，36H），
7.02（ｍ，3H），7.30（ｍ，6H）。31P NMR
（CDCl3）：119.7（ｄ，Ｊ＝10，2P），127.5（ｔ，
Ｊ＝10，1P）。 例 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフエノキシ）−１，３，５，２，
４，６−トリオキサトリホスホリナン 2.0ｇ（0.006モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフエニルホスホロジクロリダイト及
び1.21ｇ（0.012モル）のトリエチルアミンを50
mlの乾燥テトラヒドロフラン中に溶解させ、その
溶液を０〜５℃に冷却した。0.11ｇ（0.006モル）
の水をその溶液に添加し、その混合物を0.5時間
撹拌した。 得られた反応混合物を澣過し、濾液を乾燥した
白色のガラス状になるまで蒸発させた。その乾燥
生成物をクロロホルム中に溶解させ、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液で洗浄し、濾過し、水で洗浄
し乾燥させて、オフホワイト固体（0.8ｇ）を得
た。融点はアセトニトリルから149〜155℃であつ
た。分析による測定値：Ｃ−67.62，Ｈ−8.88及
びＰ−10.91，C16H25O2Pからの計算値：Ｃ−
68.53，Ｈ−8.99及びＰ−11.05。1H NMR
（CDCl3）：1.20（ｔ，Ｊ＝7.60）及び1.23（ｔ，Ｊ
＝7.60），9H；1.35（Ｓ，18H）；1.48（Ｓ，36H）；
2.56（ｑ，Ｊ＝7.60）及び2.59（ｑ，Ｊ＝7.60），
6H；7.09（Ｓ，2H）；7.13（Ｓ，4H）。 例 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−ｎ−ブチルフエノキシ）−１，３，５，
２，４，６−トリオキサトリホスホリナン 11.75ｇ（0.032モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフエニルホスホロジクロリダ
イト及び6.59ｇ（0.0647モル）のトリエチルアミ
ンを100mlのテトラヒドロフラン（THF）中に溶
解させ、その溶液を０〜５℃に冷却した。10mlの
THF中の0.58ｇ（0.032モル）の水を撹拌されて
いる溶液に滴下し、その混合物を0.5時間撹拌し
た。得られた反応混合物を濾過し、濾液をオフホ
ワイトのガラス状になるまで蒸発させた。そのガ
ラス状生成物を0.5時間、アセトニトリル中で撹
拌し、次いで濾過し、乾燥させて、137〜146℃の
融点を有する白色固体生成物を得た。C18H29O2P
における計算値：Ｃ−70.10，Ｈ−9.48，Ｐ−
10.04。 測定値：Ｃ−70.17，Ｈ−9.44，Ｐ−9.75。1H
NMR（CDCl3）：0.93及び0.94（ｔ，Ｊ＝7.2，
9H），1.34（Ｓ，18H），1.48（Ｓ，36H），1.12〜
1.63（ｍ，12H），2.51及び2.55（ｔ−＝7.4，6H），
7.07（Ｓ，2H），7.11（Ｓ，4H）。 例 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−カルボメトキシフエノキシ）−１，３，
５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン 8.0ｇ（0.022モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−カルボメトキシフエニルホスホロジクロリ
ダイト及び4.43ｇ（0.044モル）のトリエチルア
ミンを100mlのテトラヒドロフラン中に溶解させ、
その溶液を０〜５℃に冷却した。10mlのTHF中
の0.39ｇ（0.022モル）の水をその溶液に滴下し、
その混合物を0.5時間撹拌した。得られた反応混
合物を濾過し、濾液を淡黄色固体になるまで蒸発
させた。その乾燥生成物を酢酸エチルと共に撹拌
し、濾過し、乾燥させて、185〜200℃の融点を有
する白色固体を得た。 例 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−（２−カルボエトキシエチル）フエノキ
シ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
リホスホリナン 5.5ｇ（0.013モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−（２−カルボエトキシエチルフエニルホス
ホロジクロリダイト及び2.73ｇ（0.027モル）の
トリエチルアミン50mlのテトラヒドロフラン中に
溶解させ、その溶液を０〜５℃に冷却した。10ml
のTHF中の0.24ｇ（0.013モル）の水を撹拌され
ている溶液に添加し、その混合物を0.5時間撹拌
した。得られた反応混合物を濾過し、濾液を黄色
のオイルになるまで蒸発させた。IR（純）1728cm
-1（Ｃ＝Ｏ）、930cm-1（Ｐ−Ｏ），820cm-1。 例 ２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−（１−メチル−１−ジエチルカルバモイ
ルエチル）−フエノキシ〕−１，３，５，２，
４，６−トリオキサトリホスホリナン 2.0ｇ（0.004モル）の２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−（１−メチル−１−ジエチルカルバモイル
エチル）フエニルホスホロジクロリダイト及び
0.9ｇ（0.009モル）のトリエチルアミンを45mlの
テトラヒドロフラン中に溶解させ、その溶液を０
〜５℃に冷却した。THF中の0.08ｇ（0.004モル）
の水をその溶液に滴下し、その混合物を0.5時間
撹拌した。得られた反応混合物を濾過し、濾液を
乾燥した白色ガラス状になるまで蒸発させた。 IR（純）1640cm-1（Ｃ＝Ｏ）、930cm-1（Ｐ−Ｏ）、
818cm-1。NMRスペクトルは提案された構造と
一致した。 ポリプロピレン中の２，４，６−トリス（置換
フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
キサトリホスホリナンの試料は、カム−ヘツド
（混練室）を備えたブラベンダープラスチコーダ
ーにおいて、安定剤化合物をポリプロピレンと混
合させることによつて製造した。ポリプロピレン
をまず190℃で１ 1/2分間混練した。次いで安定
剤を添加し、次いでさらに３分間混合させた。そ
の素材を取り出し、20ミルの厚さのシートにプレ
スした。これらのシートから1″×1″のプラツクを
オーブン老化用に切削した。 熱／酸化安定性（オーブン老化）試験は、三通
りの試料を125℃で空気循環炉において老化させ
ることから構成した。プラツクの突発的破砕（故
障）までの時間を測定し、破壊までの日数として
記録した。 各試料には、100重量部のポリプロピレンに対
して、0.1重量部の２，４，６−トリス（置換フ
エノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキ
サトリホスホリナンが含まれていた。次の結果が
得られた。 ２，４，６−トリス（２，，４，６−トリ−ｔ
−ブチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６
−トリオキサトリホスホリナン………10 1/3日 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，
６−トリオキサトリホスホリナン………９ 1/3日 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリ
オキサトリホスホリナン………12 2/3日 ２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ンは、ヒンダードもしくは一部ヒンダードフエノ
ールと共に特に有用な安定剤の組み合せを形成す
る。そのようなフエノールの代表的なものは、以
後詳述する対称トリス（３，５−ジ−ｔ−アルキ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート
のようなヒドロキシフエニルアルキレンルイソシ
アヌレート；テトラキス〔メチレン３−（3′，
5′−ジ−ｔ−ブチル−4′−ヒドロキシフエニル）
プロパノエート〕メタンのような、アルキル基が
１〜８個の炭素原子を含む、テトラキス〔メチレ
ン３−（3′，5′−ジアルキル−4′−ヒドロキシフエ
ニル）プロパノエート〕メタン；オクタデシル３
−（3′，5′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
エニル）プロピオネートのような、アルキル基が
１〜18個の炭素原子を含む、アルキル−３−（3′，
5′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）
プロピオネート；１，３，５−トリメチル−２，
４，６−トリス〔３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル〕ベンゼンのような、アルキ
ル基が１〜５個の炭素原子を含む、１，３，５−
トリメチル−２，４，６−トリス〔３，５−ジア
ルキル−４−ヒドロキシベンジル〕ベンゼン；
１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナモイルエチル）−
ｓ−トリアジン−２，４，６（1H，3H，5H）−
トリオン；２，2′−メチレンビス（４，６−ジ−
ｔ−ブチルフエノール）、２，2′−エチリデンビ
ス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフエノール）及び
２，2′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブ
チル−フエノール）のような、アルキル基が１〜
８個の炭素原子を含む、２，2′−アルキリデンビ
ス（４，６−ジアルキルフエノール）；等である。 本発明の２，４，６−トリス（置換フエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナンと組み合せて使用されるヒドロキシ
フエニルアルキレンイルイソシアヌレート化合物
は、式 〔式中、R′は式 （式中、ｍは１〜４であり、r1は１〜18個の炭
素原子を有するアルキル基であり、環上のヒドロ
キシ基のすぐ隣に位置し；r2，r3及びr4は、水素
もしくは１〜18個の炭素原子を含むアルキル基で
ある） を有するヒドロキシフエニルアルキレンイル基で
あり、R″及びＲは水素、１〜18個の炭素原子
含むアルキル基であるかもしくはR′と同一であ
る〕 を有する。より好ましい化合物は、R″及びＲ
がR′に等しい場合、すなわちすべてのＲ基がヒ
ドロキシフエニルアルキレンイル基であり、r1が
４〜約12個の炭素原子を含むｔ−アルキル基であ
り、r2が４〜約12個の炭素原子を含むｔ−アルキ
ル基であり、r3及びr4が水素であり、そしてｍ＝
１である場合である。 さらにより好ましいものは、式 （式中、ｎは４〜８である） を有する対称トリス（３，５−ジ−ｔ−アルキル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートで
ある。 ４−ヒドロキシベンジルイソシアヌレート化合
物の例は、トリス−（３−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス−
（３−セチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシ
アヌレート、トリス（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス−
（３−メチル−５−イソプロピル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、トリス−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、トリス−（３−ｔ−ブチル−
５−ｔ−アミル−４−ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレート、トリス−〔３，５−ジ−（１−メチ
ル−１−エチルプロピル）−４−ヒドロキシベン
ジル〕イソシアヌレート、トリス−〔３，５−ジ
−（１，１，２，２−テトラメチルプロピル）−４
−ヒドロキシベンジル〕イソシアヌレート、ビス
−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、（３−メチル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、（３−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート
等である。本発明によつて包囲されているイソシ
アヌレート化合物を開示している米国特許第
351483号が参考にされる。この特許の開示は、参
考資料としてここに引用される。 使用される２，４，６−トリス（置換フエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナンの量は、安定化されるべき100重量
部の材料に対して、約0.01〜10重量部まで変化さ
せることができる。より通常には、約0.1〜5.0部
が、ヒドロキシフエニルアルキレンイルイソシア
ヌレートのようなヒンダードフエノールとの混合
物のために使用される。ヒンダードフエノール、
すなわちヒドロキシフエニルアルキレンイソシア
ヌレート化合物は、100重量部の有機材料に対し
て約0.01重量部〜約５重量部の量で、より好まし
くは約0.05重量部〜約３重量部の量で使用され
る。２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ン化合物は、同じ量、すなわち、100重量部の有
機材料に対して約0.01重量部〜５重量部、好まし
くは約0.05重量部〜約３重量部で使用される。従
つて、化合物の組み合せた重量は、一般に100重
量部の有機材料に対して、約0.02重量部〜約10重
量部、より好ましは約0.05重量部〜約５重量部で
ある。ヒドロキシフエニルアルキレンイルイソシ
アヌレートは、約10：１〜１：10の重量比のイソ
シアヌレート化合物対２，４，６−トリス（置換
フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
キサトリホスホリナンで使用することができる。
優れた結果は、約３：１〜１：３の重量比で得ら
れる。１：１重量比の化合物は、有機材料の効果
的な安定化を与える。 本発明の２，４，６−トリス（置換フエノキ
シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
ホスホリナンがヒドロキシフエニルアルキレンイ
ルイソシアヌレートと組み合せられる場合に、得
られる予期されない抗酸化剤活性の相剰効果を示
すために、以下に記載された各々0.05重量部のト
リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート及び２，４，６−ト
リス（置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，
６−トリオキサトリホスホリナンを有するポリプ
ロピレンの試験材料を製造し、破壊するまでエア
オーブンにおいて試験した。得られた結果は次の
とおりであつた。 ２，４，６−トリス（２，４，６−トリ−ｔ−
ブチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−
トリオキサトリホスホリナン………112日 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−メチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，
６−トリオキサトリホスホリナン………128日 ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル
フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
キサトリホスホリナン………90日 0.1重量部のトリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートを
含むポリプロピレンの試料は、ほんの約25 1/3日
後に破壊した。これは0.05重量部の２，４，６−
トリス（置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，
６−トリオキサトリホスホリナンと組みわせたほ
んの0.05重量部のトリス（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート
が、100日より多くの期間の間破壊しなかつた相
剰的な組み合せに対して比較されるべきである。
これらの値は市販のリン含有安定剤と対比される
べきである。0.1重量部２，４−ジ−ｔ−ブチル
フエニルペンタエリスリトールジホスフイツトで
は、12日の値が得られ、各0.05重量部のこのジホ
スフイツト及びイソシアヌレートでは、試料は49
日後で劣化を示し始め、62日で全体の劣化が観測
された。0.1重量部のジステアリルペンタエリス
リトールジホスフイツトの場合には、ほんの３
１／３日の値が得られた。各0.05重量部のジホスフ
イツト及びイソシアヌレートでは、劣化は63日後
に観察され、全体の劣化は75日で生じた。対照的
に、本発明の材料は、各0.05重量部の量でイソシ
アヌレートと組み合せた場合に、100日後に劣化
の何の徴候も示さなかつた。 ここに規定されたようなイソシアヌレート化合
物と２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，
３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
ン化合物との組み合せは、ポリオレフインポリマ
ーに対して並はずれた熱安定性を与える。その組
み合せは、α−モノオレフインホモポリマー及び
コポリマー（ここでα−モノオレフインは、２〜
約８個の炭素原子を含む）の安定化に対して特に
有用である。高及び低密度ポリエチレン、アイソ
タクチツク及びアタクチツクポリプロピレン、ポ
リイソブチレン並びにポリ（４−メチル−１−ペ
ンテン）は、本発明の組み合せで安定化された場
合に、熱及び酸素に対して優れた抵抗性を有す
る。例えば、１，４−ヘキサジエン、ジメチル−
１，４，９−デカトリエン、ジシクロペンタジエ
ン、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネ
ン等によつて与えられた多数の不飽和を含む、約
10重量％より少ない１種もしくはそれより多くの
モノマーを一般に含む、エチレン−プロピレンコ
ポリマー及びエチレン−プロピレンターポリマー
は、またその組み合せを用いて優れた耐老化性を
与える。 本発明に従つて安定化させることのできる他の
有機材料は、天然及び合成ポリマーの両方を含
む。例えば、安定剤はセルロース材料；天然ゴ
ム、ハロゲン化ゴム、例えばポリブタジエンのよ
うな共役ジエンポリマー、ブタンジエンとスチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸、アルキルア
クリレートもしくはメタアクリレート、メチルビ
ニルケトン、ビニルピリジン等とのコポリマー；
ポリイソプレン、ポリクロロブレン等；ポリ（ビ
ニルクロリド）、ポリ（ビニリデンクロリド）、ビ
ニルクロリドとビニリデンクロリド、ポリビニル
アセテートとのコポリマー、ビニルハリドとブタ
ジエン、スチレン、ビニルエステル、α，β−不
飽和ケトン及びアルデヒドとのコポリマー等のよ
うなビニルポリマー；アクリル酸、メタアクリル
酸、メチルアクリレート、メチルメタアクリレー
ト、エチルアクリレート、３−エチルヘシルアク
リレート、アクリルアミド、メタアクリルアミ
ド、Ｎ−メチロール−アクリルアミド、ハロアク
リレート、アクリロニトリル、メタアアクリロニ
トリル、ハロアクリレート等のようなアクリルモ
ノマーのホモポリマー及びコポリマー；ポリエー
テルもしくはポリオール誘導ポリウレタン；アセ
タールのホモポリマー及びコポリマー；ポリカー
ボネート；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、
もしくはテレフタル酸の無水物から誘導されたよ
うなポリエステル；例えば、ポリエチレンテレフ
タレート；ヘキサーメチレンジアミンとアジピン
酸もしくはセバシン酸との反応から誘導されたよ
うなポリアミド；エピクロロヒドリンとビスフエ
ノールとの縮合によつて得られたようなエポキシ
樹脂；開環されたオレフインポリマー等の安定化
に対して有用である。ポリマーブレンド、すなわ
ち２種もしくはそれより多くのポリマーの物理的
混合物、もまた本発明に従つて安定化することが
できる。 ポリマー材料に加えて、本化合物は広範囲の他
の有機材料を安定化することができる。そのよう
な化合物には、ワツクス、合成及び石油から誘導
された潤滑油及びグリース；例えば脂肪、牛脂、
ラード、タラ油、まつこうくじら油のような動物
油；ヒマシ油、アマニ油、ピーナツツ油、パーム
油、綿実油等のような植物油；燃料油；ジーゼル
油、ガソリン等が含まれる。 化合物は、液体、分散体、溶液及び固体形状で
それらを材料と共に溶解もしくは分散させること
によつて、特許されるべき材料の中へ容易に導入
される。材料が固体、特にゴムもしくはプラスチ
ツクのような重合体固体であるならば、その化合
物は常法に従つて、バンバリー、押出機、二本ロ
ールミル等のようなミキサーを用いて混合するこ
とができる。プラスチツク材料中に化合物を分散
させる一つの方法は、溶媒もしくは稀釈剤中にそ
の化合物を溶解もしくは懸濁させ、その混合物を
プラスチツクと粉末もしくは溶液形態で混合し、
次いで溶剤を蒸発させることである。 化合物の新規な組み合せを含む組成物は、ま
た、カーボンブラツク、シリカ、金属の炭酸塩、
タルク等のような充填剤；顔料及び着色剤；硫黄
及び過酸化物のような硬化剤及び加硫促進剤；殺
カビ剤；加工助剤、強化剤及びその分野で知られ
た標準成分のような他の既知の配合成分も含むこ
とができる。紫外線、熱及び／又は酸化安定剤と
して、当分野に公知の他の成分も安定化された組
成物において使用することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 構造式 〔式中、Ｒは （式中、＋はｔ−ブチルもしくはｔ−ペンチル
    であり、R1は水素、１〜９個の炭素原子を含む
    第一、第二、第三アルキル基、３〜６個の炭素原
    子を含むシクロアルキル基、ハロゲン、シアノ、
    １〜８個の炭素原子を含むアルコキシ基、フエニ
    ル、−COOR2エステル（ここでR2は１〜８個の炭
    素原子を含むアルキル基である）、−CH2CH2
    COOR3（ここでR3は１〜18個の炭素原子を含むア
    ルキル基である）及び−Ｃ（CH3）2CON（R4）2（こ
    こでR4は１〜９個の炭素原子を含むアルキル基
    である）である）である〕 を有する、２，４，６−トリス（置換フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン。 ２ ＋がｔ−ブチルであり、R1が水素、１〜４
    個の炭素原子を含むアルキル基、１〜４個の炭素
    原子を含むアルコキシ基、−COOR2，−CH2CH2
    COOR3及び−Ｃ（CH3）2CON（R4）2基（ここで
    R2，R3及びR4は１〜４個の炭素原子を含むアル
    キル基である）である、特許請求の範囲第１項記
    載の２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン。 ３ ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−メチルフエノキシ）−１，３，５，２，
    ４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，
    ６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチ
    ルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリ
    オキサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−プロピルフエノ
    キシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
    リホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−
    ジ−ｔ−ブチル−４−イソプロピルフエノキシ）
    −１，３，５，２，４，６−トリオキサトリホス
    ホリナン、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ
    −ブチル−４−ｎ−ブチルフエノキシ）−１，３，
    ５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、
    ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−イソ−アミルフエノキシ）−１，３，５，２，
    ４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，
    ６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メト
    キシフエノキシ−１，３，５，２，４，６−トリ
    オキサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エトキシフエノ
    キシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
    リホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−
    ジ−ｔ−ブチル−４−カルボメトキシフエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、２，４，６−トリス（２，４，６
    −トリ−ｔ−ブチルフエノキシ−１，３，５，
    ２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，
    ４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
    （２−カルボエトキシルエチル）フエノキシ〕−
    １，３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホ
    リナン、２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−
    ブチル−４−（１−メチル−１−ジエチルカルバ
    モイルエチル）フエノキシ〕−１，３，５，２，
    ４，６−トリオキサトリホスホリナン、及び２，
    ４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
    （２−カルボオクタデシルオキシエチル）フエノ
    キシ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
    リホスホリナンからなる群から選ばれた、特許請
    求の範囲第２項記載の２，４，６−トリス（置換
    フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナン。 ４ 劣化を受けやすい有機材料と、安定化量の、
    構造式 〔式中、Ｒは （式中、＋はｔ−ブチルもしくはｔ−ペンチル
    であり、R1は水素、１〜９個の炭素原子を含む
    第一、第二、第三アルキル基、３〜６個の炭素原
    子を含むシクロアルキル基、ハロゲン、シアノ、
    １〜８個の炭素原子を含むアルコキシ基、フエニ
    ル、COOR2エステル（ここでR2は１〜８個の炭
    素原子を含むアルキル基である）、−
    CH2CH2COOR3（ここでR3は１〜18個の炭素原子
    を含むアルキル基である）及び−Ｃ（CH3）2CON
    （R4）2（ここでR4は１〜９個の炭素原子を含むア
    ルキル基である）である）である〕 を有する、２，４，６−トリス（置換フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナンとを含んで成る組成物。 ５ ＋がｔ−ブチルであり、R1が水素、１〜４
    個の炭素原子を含むアルキル基、１〜４個の炭素
    原子を含むアルコキシ基、並びに−COOR2、−
    CH2CH2COOR3及び−Ｃ（CH3）2CON（R4）2基
    （ここでR2，R3及びR4のアルキル基は１〜４個の
    炭素原子を含む）である、特許請求の範囲第４項
    記載の組成物。 ６ 前記有機材料がポリマーであり、２，４，６
    −トリス（置換フエノキシ）−１，３，５，２，
    ４，６−トリオキサトリホスホリナンが、２，
    ４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
    メチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−
    トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−トリ
    ス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフエノ
    キシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
    リホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−
    ジ−ｔ−ブチル−４−プロピルフエノキシ）−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−イソプロピルフエノキシ）−１，３，５，
    ２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，
    ４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
    ｎ−ブチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，
    ６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−
    トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソアミ
    ルフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリ
    オキサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフエノ
    キシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
    リホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−
    ジ−ｔ−ブチル−４−エトキシフエノキシ）−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−カルボメトキシフエノキシ）−１，３，
    ５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、
    ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−カルボメトキシフエノキシ）−１，３，５，
    ２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，
    ４，６−トリス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチル
    フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（２−カルボエト
    キシエチル）フエノキシ〕−１，３，５，２，４，
    ６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−
    トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（１−メ
    チル−１−ジエチルカルバモイルエチル）フエノ
    キシ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキサト
    リホスホリナン、及び２，４，６−トリス〔２，
    ６−ジ−ｔ−ブチル−４−（２−カルボオクタデ
    シルオキシエチル）フエノキシ〕−１，３，５，
    ２，４，６−トリオキサトリホスホリナンからな
    る群から選ばれた、特許請求の範囲第５項記載の
    組成物。 ７ 有機材料用の安定剤組成物であつて； (1) 構造式 〔式中、Ｒは （式中、＋はｔ−ブチルもしくはｔ−ペンチル
    であり、R1は水素、１〜９個の炭素原子を含む
    第一、第二、及び第三アルキル基、３〜６個の炭
    素原子を含むシクロアルキル基、ハロゲン、シア
    ノ、１〜８個の炭素原子を含むアルコキシ基、フ
    エニル、COOR2エステル（ここでR2は１〜８個
    の炭素原子を含むアルキル基である）、 −CH2CH2COOR3（ここでR3は１〜18個の炭素
    原子を含むアルキル基である）及び −Ｃ（CH3）2CON（R4）2（ここでR4は１〜９個の
    炭素原子を含むアルキル基である）である）であ
    る〕を有する２，４，６−トリス（置換フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、並びに(2)ヒドロキシフエニルアル
    キレンイルイソシアヌレート、テトラキス〔メチ
    レン３−（3′，5′−ジアルキル−4′−ヒドロキシフ
    エニル）プロパノエート〕メタン（ここでアルキ
    ル基は１〜８個の炭素原子含む）、アルキル３−
    （3′，5′−ジ−ｔ−ブチル−4′−ヒドロキシフエニ
    ル）プロピオネート（ここでアルキル基は１〜18
    個の炭素原子を含む）、１，３，５−トリメチル
    −２，４，６−トリス〔３，５−ジアルキル−４
    −ヒドロキシベンジル〕ベンゼン（ここでアルキ
    ル基は１〜５個の炭素原子を含む）、１，３，５
    −トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
    キシ−ヒドロシンナモイルオキシエチル）−ｓ−
    トリアジン−２，４，６（1H，3H，5H）−トリ
    オン及び２，2′−アルキリデンビス（４，６−ジ
    アルキルフエノール）（ここでアルキル基は１〜
    ８個の炭素原子を含む）からなる群から選ばれた
    ヒンダードもしくは一部ヒンダードフエノール、
    を含んで成る、安定剤組成物。 ８ (1)において、＋がｔ−ブチルであり、R1が水
    素、１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、１〜
    ４個の炭素原子を含むアルコキシ基、及び−
    COOR2、−CH2CH2COOR3，−Ｃ（CH3）2CON
    （R4）2基（ここで前記R2，R3及びR4アルキル基
    は、１〜４個の炭素原子を含む）であり、かつ、
    (2)が、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブ
    チル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
    ト、テトラキス〔メチレン３−（3′，5′−ジ−ｔ
    −ブチル−4′−ヒドロキシフエニル）プロパノエ
    ート〕メタン、オクタデシル３−（3′，5′−ジ−
    ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオ
    ネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−
    トリス〔３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
    シベンジル〕ベンゼン；１，３，５−トリス
    （３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒ
    ドロシンナモイルオキシエチル）−ｓ−トリアジ
    ン−２，４，６−（1H，3H，5H）−トリオン、
    ２，2′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル
    フエノール）、２，2′−エチリデンビス（４，６
    −ジ−ｔ−ブチルフエノール）、及び２，2′−メ
    チレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフエノ
    ール）からなる群から選ばれた、特許請求の範囲
    第７項記載の安定剤組成物。 ９ (2)において、ヒドロキシフエニルアルキレン
    イルイソシアヌレートが、式 〔式中、R′は式 （式中、ｍは１〜４であり；r1は１〜18個の炭
    素原子を有するアルキル基であり、環上のヒドロ
    キシ基のすぐ隣に位置し；r2，r3及びr4は、水素
    もしくは１〜18個の炭素原子を含むアルキル基で
    ある）を有するヒドロキシフエニルアルキレンイ
    ル基であり、 R″及びＲは水素、１〜18個の炭素原子を含
    むアルキル基であるか、もしくはR′と同一であ
    る〕を有する、特許請求の範囲第７項記載の安定
    剤組成物。 １０ (1)において、＋がｔ−ブチルであり、R1が
    水素、１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、１
    〜４個の炭素原子を含むアルコキシ基、及び−
    COOR2、−CH2CH2COOR3，−Ｃ（CH3）2CON
    （R4）2基（ここで前記R2，R3及びR4のアルキル基
    は１〜４個の炭素原子を含む）であり、(2)におい
    て、R″及びＲがR′に等しく、r1が４〜約12個
    の炭素原子を含むｔ−アルキル基であり、r2が４
    〜約12個の炭素原子を含むｔ−アルキル基であ
    り、r3及びr4が水素であり、ｍが１である、特許
    請求の範囲第９項記載の安定剤組成物。 １１ (2)が式 （式中、ｎは４〜８である） を有する、特許請求の範囲第１０項記載の安定剤
    組成物。 １２ (1)が、２，４，６−トリス（２，６−ジ−
    ｔ−ブチル−４−メチルフエノキシ）−１，３，
    ５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、
    ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−エチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，
    ６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−
    トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−プロピル
    フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソプロピルフ
    エノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキ
    サトリホスホリナン、２，４，６−トリス（２，
    ６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチル−フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−ジ
    −ｔ−ブチル−４−イソアミルフエノキシ）−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−メトキシフエノキシ）−１，３，５，２，
    ４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，
    ６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エト
    キシフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−ト
    リオキサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−カルボメトキシ
    フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフエノキシ−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン、２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−（２−カルボエトキシエチル）フエノキ
    シ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、２，４，６−トリス〔２，６−ジ
    −ｔ−ブチル−４−（１−メチル−１−ジエチル
    カルバモイルエチル）フエノキシ〕−１，３，５，
    ２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、及び
    ２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−（２−カルボオクタデシルオキシエチル）フ
    エノキシ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキ
    サトリホスホリナンからなる群から選ばれた、特
    許請求の範囲第１０項記載の安定剤組成物。 １３ (2)が、１，３，５−トリス（３，５−ジ−
    ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシア
    ヌレートである、特許請求の範囲第１２項記載の
    組成物。 １４ 劣化を受けやすい有機材料と、安定化量
    の、(1)構造式 〔式中、Ｒは （式中、＋はｔ−ブチルもしくはｔ−ペンチル
    であり、R1は水素、１〜９個の炭素原子を含む
    第一、第二、第三アルキル基、３〜６個の炭素原
    子を含むシクロアルキル基、ハロゲン、シアノ、
    １〜８個の炭素原子を含むアルコキシ基、フエニ
    ル、COOR2エステル（ここでR2は１〜８個の炭
    素原子を含むアルキル基である）、−
    CH2CH2COOR3（ここでR3は１〜18個の炭素原子
    を含むアルキル基である）及び−Ｃ（CH3）2CON
    （R4）2（ここでR4は１〜９個の炭素原子を含むア
    ルキル基である）である）である〕 を有する、２，４，６−トリス（置換フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、並びに(2)ヒドロキシフエニルアル
    キレンイルイソシアヌレート、テトラキス〔メチ
    レン−３−（3′，5′−ジアルキル−4′−ヒドロキシ
    フエニル）プロパノエート〕メタン（ここでアル
    キル基は１〜８個の炭素原子を含む）、アルキル
    −３−（3′，5′−ジ−ｔ−ブチル−4′−ヒドロキシ
    フエニル）プロピオネート（ここでアルキル基は
    １〜18個の炭素原子を含む）、１，３，５−トリ
    メチル−２，４，６−トリス〔３，５−ジアルキ
    ル−４−ヒドロキシベンジル〕ベンゼン（ここで
    アルキル基は、１〜５個の炭素原子を含む）、１，
    ３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
    ヒドロキシ−ヒドロシンナモイルオキシエチル）
    −ｓ−トリアジン−２，４，６（1H，3H，5H）
    −トリオン及び２，2′−アルキリデンビス（４，
    ６−ジアルキルフエノール）（ここでアルキル基
    は１〜８個の炭素原子を含む）からなる群から選
    ばれたヒンダードもしくは一部ヒンダードフエノ
    ール、を含んで成る組成物。 １５ (1)において、＋がｔ−ブチルであり、R1が
    水素、１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、及
    び−COOR2，−CH2CH2COOR3，−Ｃ
    （CH3）2CON（R4）2（ここでR2，R3及びR4は、１
    〜４個の炭素原子を含むアルキル基である）であ
    り、(2)が、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ
    −ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌ
    レート、テトラキス〔メチレン３−（3′，5′−ジ
    −ｔ−ブチル−4′−ヒドロキシフエニル）プロパ
    ノエート〕メタン、オクタデシル３−（3′，5′−
    ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロ
    ピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，
    ６−トリス〔３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
    ロキシベンジル〕ベンゼン、１，３，５−トリス
    （３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒ
    ドロシンナモイルオキシエチル）−ｓ−トリアジ
    ン−２，４−６（1H，3H，5H）−トリオン、２，
    2′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフエ
    ノール）、２，2′−エチリデンビス（４，６−ジ
    −ｔ−ブチルフエノール）、及び２，2′−メチレ
    ンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフエノー
    ル）からなる群から選ばれた、特許請求の範囲第
    １４項記載の組成物。 １６ (2)において、ヒドロキシフエニルアルキレ
    ンイルイソシアヌレートが、式 〔式中、R′は式 （式中、ｍは１〜４であり；r1は１〜18個の炭
    素原子を有するアルキル基であり、環上のヒドロ
    キシ基のすぐ隣りに位置しており；r2，r3及びr4
    は水素もしくは１〜18個の炭素原子を含むアルキ
    ル基である） を有するヒドロキシフエニルアルキレンイル基で
    あり、R″及びＲは水素、１〜18個の炭素原子
    を含むアルキル基であるかもしくはR′と同一で
    ある〕 を有する、特許請求の範囲第１４項記載の組成
    物。 １７ 前記有機材料がポリマーであり、(1)におい
    て、＋がｔ−ブチルであり、R1が水素、１〜４個
    の炭素原子を含むアルキル基、１〜４個の炭素原
    子を含むアルコキシ基、−COOR2，−
    CH2CH2COOR3及びＣ（CH3）2CON（R4）2基（こ
    こでR2，R3及びR4アルキル基は１〜４個の炭素
    原子を含む）であり、(2)において、R″及びＲ
    がR′に等しく、r1が４〜12個の炭素原子を含む第
    三アルキル基であり、r2が４〜12個の炭素原子を
    含むｔ−アルキル基であり、r3及びr4が水素であ
    り、そしてｍが１である、特許請求の範囲第１６
    項記載の組成物。 １８ (2)が式 （式中、ｎは４〜８である） を有する、特許請求の範囲第１７項記載の組成
    物。 １９ (2)が、１，３，５−トリス（３，５−ジ−
    ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシア
    ヌレートである、特許請求の範囲第１８項記載の
    組成物。 ２０ (1)が、２，４，６−トリス（２，６−ジ−
    ｔ−ブチル−４−メチルフエノキシ）−１，３，
    ５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、
    ２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−エチルフエノキシ）−１，３，５，２，４，
    ６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，６−
    トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−プロピル
    フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソプロピルフ
    エノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキ
    サトリホスホリナン、２，４，６−トリス（２，
    ６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチル−フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、２，４，６−トリス（２，６−ジ
    −ｔ−ブチル−４−イソアミルフエノキシ）−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン、２，４，６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−メトキシフエノキシ）−１，３，５，２，
    ４，６−トリオキサトリホスホリナン、２，４，
    ６−トリス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エト
    キシフエノキシ）−１，３，５，２，４，６−ト
    リオキサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−カルボメトキシ
    フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナン、２，４，６−トリス
    （２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフエノキシ−１，
    ３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナ
    ン、２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチ
    ル−４−（２−カルボエトキシエチル）フエノキ
    シ〕−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナン、２，４，６−トリス〔２，６−ジ
    −ｔ−ブチル−４−（１−メチル−１−ジエチル
    カルバモイルエチル）フエノキシ〕−１，３，５，
    ２，４，６−トリオキサトリホスホリナン、及び
    ２，４，６−トリス〔２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−（２−カルボオクタデシルオキシ−エチル）
    フエノキシ〕−１，３，５，２，４，６−トリオ
    キサトリホスホリナンからなる群から選ばれた、
    特許請求の範囲第１９項記載の組成物。 ２１ ２，６−ジ−ｔ−ブチルフエニルホスホロ
    ジクロリダイト、又は２，６−ジ−ｔ−ブチル−
    ４−置換フエニルホスホロジクロリダイト〔ここ
    で、４位の置換は、１〜９個の炭素原子を含む第
    一、第二もしくは第三アルキル基、３〜６個の炭
    素原子を含むシクロアルキル基、ハロゲン基、シ
    アノ基、１〜８個の炭素原子を含むアルコキシ
    基、フエニル、−COOR2，−CH2CH2COOR3及び
    −Ｃ（CH3）2CON（R4）2基（ここでR2及びR3は１
    〜８個の炭素原子を含むアルキル基であり、R4
    は１〜９個の炭素原子を含むアルキル基である）
    である〕を水及びアミンと共に反応させることを
    含んでなる、２，４，６−トリス（置換フエノキ
    シ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリ
    ホスホリナンを製造する方法。 ２２ ホスホロジクロリダイトにおいて、４位の
    置換が、１〜４個の炭素原子を含むアルキル基、
    １〜４個の炭素原子を含むアルコキシ基、−
    COOR2，−CH2CH2COOR3基（ここでR2及びR3
    はメチルもしくはエチルである）及びＣ
    （CH3）2CON（R4）2（ここでR4はエチルである）で
    あり、アミンがトリアルキルアミンであり、かつ
    反応体の比が約１モルのホスホロジクロリダイ
    ト、約１モルの水と約２モルのアミンである、特
    許請求の範囲第２１項記載の方法。 ２３ トリアルキルアミンのアルキル基が、１〜
    ４個の炭素原子を含み、反応が約０℃で行なわれ
    る、特許請求の範囲第２２項記載の方法。
JP59093062A 1983-05-12 1984-05-11 ２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン Granted JPS59212497A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US493894 1983-05-12
US06/493,894 US4507416A (en) 1983-05-12 1983-05-12 2,4,6-Tris(substituted phenoxy)-1,3,5,2,4,6-trioxatriphosphorinanes as stabilizers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59212497A JPS59212497A (ja) 1984-12-01
JPH047754B2 true JPH047754B2 (ja) 1992-02-12

Family

ID=23962145

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59093062A Granted JPS59212497A (ja) 1983-05-12 1984-05-11 ２，４，６−トリス（置換フエノキシ）−１，３，５，２，４，６−トリオキサトリホスホリナン

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4507416A (ja)
EP (1) EP0128368B1 (ja)
JP (1) JPS59212497A (ja)
BR (1) BR8402189A (ja)
CA (1) CA1219276A (ja)
DE (1) DE3465311D1 (ja)
ZA (1) ZA843290B (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4590017A (en) * 1985-02-19 1986-05-20 The B. F. Goodrich Company 2,4-bis-(2,6-di-t-alkyl-4-substituted-phenoxy)-1,3,2,4-dioxadiphosphetanes
US5000917A (en) * 1988-02-29 1991-03-19 Phillips Petroleum Company Corrosion inhibition of polymethylphenthene
US5066460A (en) * 1988-02-29 1991-11-19 Phillips Petroleum Company Corrosion inhibition of polymethylpentene
US4968736A (en) * 1988-02-29 1990-11-06 Willcox Kenneth W Corrosion inhibition of polymethylpentene
JPH02163148A (ja) * 1988-09-15 1990-06-22 Ausimont Usa Inc 改良した安定化したハロ重合体組成物
EP0463994B1 (de) * 1990-06-26 1995-11-08 Ciba-Geigy Ag Dioxaphosphorinanverbindungen als Stabilisatoren für organische Materialien
US5454193A (en) * 1993-04-15 1995-10-03 Hrifko; Harold H. Window glass for automobiles, recreation vehicles or buildings
DE102011077927A1 (de) * 2011-06-21 2012-12-27 Tesa Se Verfahren zur reversiblen kovalenten Vernetzung von Klebemassen

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3531483A (en) * 1968-10-25 1970-09-29 Goodrich Co B F Hydroxyphenylalkyleneyl isocyanurates
US4025486A (en) * 1973-10-15 1977-05-24 The B. F. Goodrich Company Hydroxyphenylalkyleneyl isocyanurate/pentaerythritol phosphite combinations as ultraviolet light stabilizers for polyolefins

Also Published As

Publication number Publication date
US4507416A (en) 1985-03-26
DE3465311D1 (en) 1987-09-17
JPS59212497A (ja) 1984-12-01
CA1219276A (en) 1987-03-17
EP0128368A1 (en) 1984-12-19
EP0128368B1 (en) 1987-08-12
ZA843290B (en) 1985-07-31
BR8402189A (pt) 1984-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SU917698A3 (ru) Способ получени пентаэритрит-бис-2,4-ди-трет.бутилфенилфосфита
TWI330188B (en) Process for manufacture of pentaerythritol diphosphites
US4529533A (en) Substituted 2-(2,6-di-t-butly-4-alkylphenoxy) 4H-1,3,2-benzodioxaphosphorins and compositions thereof
JPH0655750B2 (ja) ペンタエリスリトールジホスフイツト類、その製造方法及びその安定化剤としての使用
JPH047754B2 (ja)
US5298541A (en) Aryl phosphonites, a process for their production and their use for stabilizing plastics
US4929654A (en) Cyclic phosphites and stabilized polymeric compositions
US4584146A (en) Tetrakis(2,6-di-t-butyl-4-substituted phenyl)4,4'-bisphenyl diphosphites
JPS59108795A (ja) 立体障害を有するフエニルビス（ナフチル）ホスフアイトとその組成物
US4308218A (en) Aryl phosphonites and thiophosphonites useful as antioxidants
US4293464A (en) Phosphine oxide flame retarded, rubber-modified, polyphenylene ether resin compositions
US5169885A (en) Bis[2-tert-butyl-4-(2-octadecyloxycarbonylethyl)-6-methylphenyl]phosphite useful as a stabilizing agent
US4439564A (en) 5-Membered cyclic phosphonates and compositions thereof
US4205176A (en) Ester substituted oxazolines
JPH0212235B2 (ja)
JP2662509B2 (ja) ６−アリール−６Ｈ−ジベンゾ−〔ｃ，ｅ〕〔１，２〕−オキサホスホリンの製造方法
US5077424A (en) Phosphite compounds
US5281640A (en) Diarylphosphinous acid aryl esters, a process for their preparation and their use for stabilizing plastics
US4288361A (en) Substituted oxazolines as stabilizers
SK1393A3 (en) Novel cycloalkyliden-bisphenol-phosphite
JP3268471B2 (ja) ジフェニル酢酸誘導体
JPS62273967A (ja) イソシアヌル酸誘導体及び該化合物からなる安定剤
CA2058762C (en) Arylesters of phosphonous acid, process for preparing them and their use to stabilize plastics, in particular polyolefin moulding materials
JPH04266949A (ja) ポリオレフィン加工用の立体障害オキシム系着色改善剤
EP0110820B1 (de) Aminosubstituierte Dibenzodioxaphosphepine und Dioxaphosphocine