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JPH0512008B2 - - Google Patents
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JPH0512008B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0512008B2
JPH0512008B2 JP1183579A JP18357989A JPH0512008B2 JP H0512008 B2 JPH0512008 B2 JP H0512008B2 JP 1183579 A JP1183579 A JP 1183579A JP 18357989 A JP18357989 A JP 18357989A JP H0512008 B2 JPH0512008 B2 JP H0512008B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
treated
heater
deodorizing
temperature
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP1183579A
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English (en)
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JPH0352617A (ja
Inventor
Masaki Tojo
Hidetoshi Mineshita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kakoki Kaisha Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Kakoki Kaisha Ltd
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Publication date
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  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、臭気成分を含有するガス中から臭気
成分を吸着除去する乾式脱臭装置の結露防止法に
関するものである。
〔従来の技術〕
従来、し尿や下水等の処理場、製紙工場及び各
種化学工場等から、硫化水素、メルカプタン及び
アンモニア等の臭気成分を含有するガスが発生
し、当該ガス中の臭気成分を脱臭処理するのに、
活性炭やゼオライト等の吸着剤を充填した乾式脱
臭装置(以下脱臭装置という。)が用いられてい
る。上記脱臭装置では、特に冬期等において、被
処理ガス中の水分含量が飽和に近くなるため、水
分が装置内面及び吸着剤表面等で凝縮結露し、吸
着剤の吸着能力低下や寿命の短縮を生起する恐れ
がある。従つて、従来は第3図に示すように、被
処理ガスAをミストセパレータ1に導入してミス
ト等の粒子を除去したのち、ガス加熱器7で直接
加熱し2〜5℃程度昇温して相対湿度を低下さ
せ、フアン2で脱臭塔3へ導入することにより結
露を防止するという対策等がとられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の被処理ガスを加熱器で直接昇温する結露
防止法では、加熱器内が高温・多湿の条件下に晒
されるため、被処理ガスに含有する硫化水素等の
腐食性ガスにより加熱器が腐食されやすく、特に
ヒータエレメントでは、更に高温であるため、ス
テンレス材等の経済的な材質のヒータエレメント
を用いることができず、チタン材等の、耐食性を
考慮した高価な特殊材が用いられているが、それ
でも腐食事故の問題を生じている。本発明は、腐
食問題を起す恐れがなく、且つ被処理ガスを確実
に所定温度迄昇温し結露を防止することができる
脱臭装置の結露防止法を提供しようとするもので
ある。
〔課題を解決するための手段〕
上記事情に鑑みてなされた本発明の要旨は、臭
気成分を含有する被処理ガスを乾式法で脱臭処理
する方法において、前記被処理ガス中に加熱空気
を混入して昇温したのち乾式脱臭装置へ導入する
ことを特徴とする脱臭装置の結露防止法である。
(作用) 腐食の恐れがない空気を空気加熱器で加熱し、
得られた加熱空気を腐食性の臭気成分を含有する
被処理ガス中に混入することにより、腐食原因に
なる被処理ガスを加熱器に通すことなく、被処理
ガスを昇温し、相対湿度を低下させている。又相
対湿度が低下された被処理ガスを脱臭装置に導入
することにより、吸着剤表面等での結露を防止し
て臭気成分を吸着除去している。
(実施例) 以下本発明の方法を図面に基いて詳述する。第
1図は本発明の一実施例の系統図、第2図は他の
実施例の系統図、第3図は従来方法の系統図であ
る。尚各図においては、同一機器には同一符番を
用いている。1は臭気成分を含有する被処理ガス
Aに同伴されたミストや粉塵等を除去するための
ミストセパレータである。2は被処理ガスAを脱
臭塔3へ導入するフアンである。3は活性炭やゼ
オライト等の吸着剤を充填し臭気成分を吸着除去
する脱臭装置である脱臭塔で、通常は吸着剤を層
状に充填した固定床式が用いられ、被処理ガスA
が吸着剤層を上向流にて流れるよう下部に被処理
ガスAの導入口、上部に臭気成分が除去された処
理ガスBの導出口を具備している。尚前記脱臭塔
3は充填した吸着剤が流動化する流動床式でも、
又吸着剤を連続的に供給排出する移動床式等でも
乾式法であれば本発明の適用対象となる。4は空
気Cの加熱器で、ヒータエレメント5を設けた電
熱式の加熱器が温度調節や維持管理等の容易性に
より好ましいが、蒸気等の加熱媒体を用いた熱交
換式であつても、又バーナを用いた加熱であつて
もよい。従来方法に用いられている被処理ガスA
の加熱器7では、主にヒータエレメント5を設け
た電熱式の加熱器が用いられている。6は加熱さ
れた空気Cを被処理ガスA中に混入するブロワで
ある。8は外気温により加熱ラインが冷却され、
水分が結露しないように装置及び配管等を被覆し
た保温材である。
臭気成分を含有する被処理ガスAを脱臭処理す
る方法において、従来は、第3図に記載されてい
るように、ミストセパレータ1でミスト等の粒子
が除去された被処理ガスAを、ガス加熱器7で直
接加熱して2〜5℃程度昇温したのち、フアン2
で脱臭塔3へ導入している。従つて、加熱器7の
内壁面やヒータエレメント5は高温でガス加熱器
7内の多湿雰囲気に晒されるため、被処理ガスA
に含有する臭気成分中の硫化水素等の腐食性ガス
による影響を大きく受け、腐食されやすい。
本発明の実施例を示した第1図においては、空
気加熱器4で加熱された空気Cを、フアン2の前
段の被処理ガスA中へ混入して、被処理ガスAを
加熱しており、又他の実施例の第2図において
は、フアン2の後段の被処理ガスA中へ混入して
いる。従つて加熱器4は、腐食成分と接触せず、
その影響を受けない。尚被処理ガスAの昇温温度
を従来と同様に2〜5℃位に調節するべく、加熱
空気Cの混入量及び温度が制御されるが、通常混
入量は全ガス量の約10vol%程度に調節される。
本発明の実施例において、フアン2の送風量に余
裕がある場合には第1図の実施例を用い、フアン
2に余裕がない場合には、設置面積は大きくなる
が、第2図の実施例を用いるのが好ましい。しか
しそれらに限定されるものではない。
〔発明の効果〕
本発明は、加熱空気の混入により脱臭装置での
処理ガス量も若干増加するが、加熱器の腐食、特
にヒータエレメントの腐食問題が防止され、耐食
性の高価な材料を用いる必要がなく、又空気の混
入希釈によつて湿度が低下されるため、より結露
しにくくなり、確実に脱臭装置内の吸着剤表面等
で結露が防止され、吸着剤寿命を大巾に延ばすこ
とができ、且つ温度制御も容易となる等の大きな
効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の系統図、第2図は
他の実施例の系統図、第3図は従来方法の系統図
である。 1;ミストセパレータ、2;フアン、3;脱臭
塔、4;空気加熱器、5;ヒータエレメント、
6;ブロワ、7;ガス加熱器、8;保温材、A;
被処理ガス、B;処理ガス、C;空気。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 臭気成分を含有する被処理ガスを乾式法で脱
    臭処理する方法において、前記被処理ガスに加熱
    空気を混入して昇温したのち乾式脱臭装置へ導入
    することを特徴とする乾式脱臭装置の結露防止
    法。
JP1183579A 1989-07-18 1989-07-18 乾式脱臭装置の結露防止法 Granted JPH0352617A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1183579A JPH0352617A (ja) 1989-07-18 1989-07-18 乾式脱臭装置の結露防止法

Applications Claiming Priority (1)

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JP1183579A JPH0352617A (ja) 1989-07-18 1989-07-18 乾式脱臭装置の結露防止法

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Publication Number Publication Date
JPH0352617A JPH0352617A (ja) 1991-03-06
JPH0512008B2 true JPH0512008B2 (ja) 1993-02-17

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JP1183579A Granted JPH0352617A (ja) 1989-07-18 1989-07-18 乾式脱臭装置の結露防止法

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JP2709036B2 (ja) * 1995-01-30 1998-02-04 ダイヤテック株式会社 脱臭装置
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ITUD20100179A1 (it) * 2010-10-01 2012-04-02 Danieli Off Mecc Impianto di depolverazione per una macchina trituratrice di rottami e relativo procedimento
JP7133161B2 (ja) * 2017-08-22 2022-09-08 メタウォーター株式会社 脱臭システム

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JPH0352617A (ja) 1991-03-06

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