JPH0518185B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0518185B2 JPH0518185B2 JP60207987A JP20798785A JPH0518185B2 JP H0518185 B2 JPH0518185 B2 JP H0518185B2 JP 60207987 A JP60207987 A JP 60207987A JP 20798785 A JP20798785 A JP 20798785A JP H0518185 B2 JPH0518185 B2 JP H0518185B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- current source
- output
- semiconductor laser
- current
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 23
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 4
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
<技術分野>
本発明は半導体レーザから出た光を光記録媒体
に照射することで情報の記録・再生・消去等を実
行する光学的記録再生装置において利用される半
導体レーザの光量制御装置に関する。
に照射することで情報の記録・再生・消去等を実
行する光学的記録再生装置において利用される半
導体レーザの光量制御装置に関する。
<従来技術>
従来の光学的記録再生装置において利用される
半導体レーザの光量制御装置を、光学的記録再生
装置として光磁気デイスクシステムを例に挙げて
説明する。
半導体レーザの光量制御装置を、光学的記録再生
装置として光磁気デイスクシステムを例に挙げて
説明する。
光磁気デイスクの既に公知な構造は、ガラス基
板等の基体上に希土類−鉄合金の非晶質薄膜をス
パツタリングにて成膜して膜面に垂直な方向に磁
化容易軸を有する磁性膜を被覆して構成されるも
のであり、この光磁気デイスクに対面させて半導
体レーザビームを照射する光学ヘツドを配置する
ことで情報の記録・再生・消去を行なう光磁気デ
イスクシステムが構成される。
板等の基体上に希土類−鉄合金の非晶質薄膜をス
パツタリングにて成膜して膜面に垂直な方向に磁
化容易軸を有する磁性膜を被覆して構成されるも
のであり、この光磁気デイスクに対面させて半導
体レーザビームを照射する光学ヘツドを配置する
ことで情報の記録・再生・消去を行なう光磁気デ
イスクシステムが構成される。
この光磁気デイスクシステムにおいて情報の記
録はレーザビームを約1μmφ程度に集光したも
のを上記磁性膜面に照射して該磁性膜の温度を局
所的に上昇させてその温度上昇部分の保持力を減
少させ同時に外部より補助磁場を印加することで
磁化の向きを反転させて行なう(消去も同様の方
法で可能である。)。又、記録された情報の再生は
記録された磁性膜面に記録時より弱い光量の半導
体レーザによる直線偏光を照射してその反射した
光の磁場の影響による偏光面の傾きを利用して光
の強弱に変え、それを光検出器で検出して行な
う。
録はレーザビームを約1μmφ程度に集光したも
のを上記磁性膜面に照射して該磁性膜の温度を局
所的に上昇させてその温度上昇部分の保持力を減
少させ同時に外部より補助磁場を印加することで
磁化の向きを反転させて行なう(消去も同様の方
法で可能である。)。又、記録された情報の再生は
記録された磁性膜面に記録時より弱い光量の半導
体レーザによる直線偏光を照射してその反射した
光の磁場の影響による偏光面の傾きを利用して光
の強弱に変え、それを光検出器で検出して行な
う。
以上の構造から、半導体レーザには記録時に高
出力のレーザ光を、再生時に低出力のレーザ光を
射出する構成が必要となり、これらの2つのレベ
ルの出力を速やかなる手段により切換えること
が、その駆動装置に要求される。
出力のレーザ光を、再生時に低出力のレーザ光を
射出する構成が必要となり、これらの2つのレベ
ルの出力を速やかなる手段により切換えること
が、その駆動装置に要求される。
また半導体レーザの光出力は温度特性を有し、
周囲温度によりそのしきい値電流値及びしきい値
以上の線型部分における傾きが変動するため、温
度により駆動電流値に対するレーザ発振の出力強
度が変化する。その為記録時のレーザの高出力発
振時に出力光強度が変動し、記録媒体に対して情
報の書き込み不足や過多を生じさせ、システム全
体の情報処理の誤り率が劣化した。この事は再生
時のレーザの低出力発振時(情報の再生時)にお
いても同様で、出力光強度が変動すればそれは再
生信号のS/N比の劣化として現われてくる。
周囲温度によりそのしきい値電流値及びしきい値
以上の線型部分における傾きが変動するため、温
度により駆動電流値に対するレーザ発振の出力強
度が変化する。その為記録時のレーザの高出力発
振時に出力光強度が変動し、記録媒体に対して情
報の書き込み不足や過多を生じさせ、システム全
体の情報処理の誤り率が劣化した。この事は再生
時のレーザの低出力発振時(情報の再生時)にお
いても同様で、出力光強度が変動すればそれは再
生信号のS/N比の劣化として現われてくる。
以上の理由で高・低の両出力レベルにおいてレ
ーザ光を安定発振させることが必要不可欠である
ことが明白である。
ーザ光を安定発振させることが必要不可欠である
ことが明白である。
以上の点に鑑みて、半導体レーザの光量制御装
置として、第4図に示す如き構成のものが既に提
案された。同図の装置は半導体レーザに駆動電流
を供給する2つの電流源が設けられ、記録媒体か
ら情報を再生する場合は低出力分電流源1による
駆動電流I1のみにより半導体レーザ4を駆動する
ものである。また記録媒体に情報を記録する際に
は、もう1つの電流源である高出力分電流源2か
らの駆動電流I2を駆動電流I1に付加することによ
り高出力のレーザ光を得るものである。
置として、第4図に示す如き構成のものが既に提
案された。同図の装置は半導体レーザに駆動電流
を供給する2つの電流源が設けられ、記録媒体か
ら情報を再生する場合は低出力分電流源1による
駆動電流I1のみにより半導体レーザ4を駆動する
ものである。また記録媒体に情報を記録する際に
は、もう1つの電流源である高出力分電流源2か
らの駆動電流I2を駆動電流I1に付加することによ
り高出力のレーザ光を得るものである。
ここで低出力分電流源1に対しては半導体レー
ザ4の出力光の強度を光検知器5により検出し、
プリアンプ6を通してサンプルホールド回路7に
導入する。サンプルホールド回路7はホールドタ
イミング信号S4がハイレベルの時はデータを保持
し、ローレベルではデータをそのまま通過させ
る。このデータを基準電圧源9と比較器8におい
て比較し、ローパスフイルタ10を通過後の低域
周波数成分をパワーアンプ11に入力し、低出力
分電流源1の出力電流I1を制御する。ホールドタ
イミング信号S4が常時ローレベルであれば、この
制御により低出力光強度は半導体レーザの温度特
性に関係なく常に一定に保持されることになる。
尚、この様な一定強度の出力光を得るための自動
光出力制御をAPCと呼ぶ。
ザ4の出力光の強度を光検知器5により検出し、
プリアンプ6を通してサンプルホールド回路7に
導入する。サンプルホールド回路7はホールドタ
イミング信号S4がハイレベルの時はデータを保持
し、ローレベルではデータをそのまま通過させ
る。このデータを基準電圧源9と比較器8におい
て比較し、ローパスフイルタ10を通過後の低域
周波数成分をパワーアンプ11に入力し、低出力
分電流源1の出力電流I1を制御する。ホールドタ
イミング信号S4が常時ローレベルであれば、この
制御により低出力光強度は半導体レーザの温度特
性に関係なく常に一定に保持されることになる。
尚、この様な一定強度の出力光を得るための自動
光出力制御をAPCと呼ぶ。
次に高出力発振時(情報記録時)にはまずホー
ルドタイミング信号S4をハイレベルにして、デー
タを保持する。即ちAPCを凍結させる。アンド
ゲート20においてホールドタイミング信号S4を
利用して、記録時のみ記録データ信号SDをスイツ
チング回路19に送る。記録データ信号SDに従つ
て、高出力分電流(記録電流)I2が低出力分電流
I1に付加され、媒体への記録が行なわれる。APC
を凍結させるのは高出力発振に応答して出力強度
を下げてしまうのを避けるためである。凍結時間
を半導体レーザの温度特性の変化の時間と比べて
十分小さくすることによつてAPCは実用上差し
仕えなく作動する。
ルドタイミング信号S4をハイレベルにして、デー
タを保持する。即ちAPCを凍結させる。アンド
ゲート20においてホールドタイミング信号S4を
利用して、記録時のみ記録データ信号SDをスイツ
チング回路19に送る。記録データ信号SDに従つ
て、高出力分電流(記録電流)I2が低出力分電流
I1に付加され、媒体への記録が行なわれる。APC
を凍結させるのは高出力発振に応答して出力強度
を下げてしまうのを避けるためである。凍結時間
を半導体レーザの温度特性の変化の時間と比べて
十分小さくすることによつてAPCは実用上差し
仕えなく作動する。
さて以上の光量制御装置における情報記録時の
発振動作制御の特徴は、半導体レーザの温度特性
において発振しきい値のみが変動し、半導体レー
ザの駆動電流−光出力カーブにおけるしきい値以
上の線型部分の傾きは変化しない、という前提条
件の下で制御している点である。
発振動作制御の特徴は、半導体レーザの温度特性
において発振しきい値のみが変動し、半導体レー
ザの駆動電流−光出力カーブにおけるしきい値以
上の線型部分の傾きは変化しない、という前提条
件の下で制御している点である。
このことを第5図を用いて以下に説明する。同
図で周囲温度の違いにより、状態AとBの2つの
光出力カーブが存在するものと考える。まず状態
Aでは低出力光強度P1に対して低出力分電流源
より駆動電流I1Aが出力される。周囲温度が変化
してしきい値のみが変化し状態Aから状態Bへ移
つたとする。するとAPCにより低出力光強度P1
を一定に保とうとする制御が働き、低出力分電流
源からの駆動電流はI1AからI1Bに変化する。そ
こで記録時に高出力分電流源より定電流源I2を付
加すれば、しきい値以上の線型部分の傾きが一定
であるから状態Aにおいても状態Bにおいても一
定の高出力光強度P1+P2が得られる。即ち低出
力光強度のAPCを行えば、高出力光強度に対す
るAPCも同時に疑似的に実現されるはずである。
図で周囲温度の違いにより、状態AとBの2つの
光出力カーブが存在するものと考える。まず状態
Aでは低出力光強度P1に対して低出力分電流源
より駆動電流I1Aが出力される。周囲温度が変化
してしきい値のみが変化し状態Aから状態Bへ移
つたとする。するとAPCにより低出力光強度P1
を一定に保とうとする制御が働き、低出力分電流
源からの駆動電流はI1AからI1Bに変化する。そ
こで記録時に高出力分電流源より定電流源I2を付
加すれば、しきい値以上の線型部分の傾きが一定
であるから状態Aにおいても状態Bにおいても一
定の高出力光強度P1+P2が得られる。即ち低出
力光強度のAPCを行えば、高出力光強度に対す
るAPCも同時に疑似的に実現されるはずである。
しかし上記の従来の光量制御装置では高出力強
度を一定に保つことができない。なぜならば半導
体レーザの駆動電流−光出力におけるしきい値以
上の線型部分における傾きはレーザの経時変化及
び周囲温度によつて変化してしまうからである。
即ち高出力分の第2の電流源2による一定電流I2
のみの付加では、上記の理由により高出力光強度
P2は変化してしまい、結果的に良好な記録(消
去)特性を得ることはできない。
度を一定に保つことができない。なぜならば半導
体レーザの駆動電流−光出力におけるしきい値以
上の線型部分における傾きはレーザの経時変化及
び周囲温度によつて変化してしまうからである。
即ち高出力分の第2の電流源2による一定電流I2
のみの付加では、上記の理由により高出力光強度
P2は変化してしまい、結果的に良好な記録(消
去)特性を得ることはできない。
従つて所定の高出力光強度を得るために高出力
分電流源2の出力電流値I2を、低出力分電流源と
は別個に制御する必要がある。またこの制御の方
法も低出力光強度のAPCと同様、半導体レーザ
の温度特性変化よりも十分小さい時間間隔で常時
制御すれば、高出力発振から次の高出力発振まで
の時間間隔が温度特性変化を招くぐらい長くと
も、瞬時に安定した高出力発振が得られることに
なり好ましい。
分電流源2の出力電流値I2を、低出力分電流源と
は別個に制御する必要がある。またこの制御の方
法も低出力光強度のAPCと同様、半導体レーザ
の温度特性変化よりも十分小さい時間間隔で常時
制御すれば、高出力発振から次の高出力発振まで
の時間間隔が温度特性変化を招くぐらい長くと
も、瞬時に安定した高出力発振が得られることに
なり好ましい。
<発明の目的>
本発明の目的は上述の従来技術における問題点
に鑑み、安定した低出力光及び高出力光の夫々を
必要に応じて瞬時に得ることが可能な半導体レー
ザの光量制御装置を提供することにある。
に鑑み、安定した低出力光及び高出力光の夫々を
必要に応じて瞬時に得ることが可能な半導体レー
ザの光量制御装置を提供することにある。
<実施例>
以下、本発明に係る半導体レーザの光量制御装
置を光磁気デイスク装置に適用した場合を例に挙
げて詳細に説明する。
置を光磁気デイスク装置に適用した場合を例に挙
げて詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例による光量制御装置
を示すブロツク図である。第2図は第1図の装置
の動作のための駆動電流−光出力カーブ及び波形
図である。第3図は第1図の装置に必要なタイミ
ング波形を示している。
を示すブロツク図である。第2図は第1図の装置
の動作のための駆動電流−光出力カーブ及び波形
図である。第3図は第1図の装置に必要なタイミ
ング波形を示している。
第1図において半導体レーザ4は記録(消去)、
再生の動作に関して低出力分電流源1と高出力分
電流源2により駆動されるが、高出力光強度の制
御のために、試射を行なう試射分電流源3が新た
に設けられる。つまり記録媒体から情報を再生す
る場合は低出力分電流源1の出力電流I1のみを流
し、情報を記録する場合は高出力分電流源2の出
力電流I2を、試射を行なう場合は試射分電流源3
の出力電流I3を、それぞれ低出力分電流I1に付加
して半導体レーザを駆動する。尚、第4図に示し
た従来の光量制御装置と比較すると、高出力分電
流源2の出力電流I2を制御するループが新たに加
えられている。
再生の動作に関して低出力分電流源1と高出力分
電流源2により駆動されるが、高出力光強度の制
御のために、試射を行なう試射分電流源3が新た
に設けられる。つまり記録媒体から情報を再生す
る場合は低出力分電流源1の出力電流I1のみを流
し、情報を記録する場合は高出力分電流源2の出
力電流I2を、試射を行なう場合は試射分電流源3
の出力電流I3を、それぞれ低出力分電流I1に付加
して半導体レーザを駆動する。尚、第4図に示し
た従来の光量制御装置と比較すると、高出力分電
流源2の出力電流I2を制御するループが新たに加
えられている。
第1図の光量制御装置において低出力発振時の
低出力分電流源1に対するAPCは以下のように
して実現される。まず半導体レーザ4の出力光の
強度は光検知器5により検出され、この検出出力
はプリアンプ6を通してサンプルホールド回路7
に導入される。ここでサンプルホールド回路7及
び13はホールドタイミング信号S1,S4及びS3が
ハイレベルの時データを保持し、ローレベルの時
はデータをそのまま通過させる。次にサンプルホ
ールド回路7の出力は基準電圧源9の基準電圧
V1と比較器8において比較され、ローパスフイ
ルタ10を通過して直接パワーアンプ11に導入
され、この出力によつて低出力分電流源1の出力
電流I1は制御される。この制御により低出力光強
度は半導体レーザの温度特性に関係なく一定に保
持される。
低出力分電流源1に対するAPCは以下のように
して実現される。まず半導体レーザ4の出力光の
強度は光検知器5により検出され、この検出出力
はプリアンプ6を通してサンプルホールド回路7
に導入される。ここでサンプルホールド回路7及
び13はホールドタイミング信号S1,S4及びS3が
ハイレベルの時データを保持し、ローレベルの時
はデータをそのまま通過させる。次にサンプルホ
ールド回路7の出力は基準電圧源9の基準電圧
V1と比較器8において比較され、ローパスフイ
ルタ10を通過して直接パワーアンプ11に導入
され、この出力によつて低出力分電流源1の出力
電流I1は制御される。この制御により低出力光強
度は半導体レーザの温度特性に関係なく一定に保
持される。
一方高出力発振時の高出力電流源2に対する
APCは以下の様にして実現される。まずホール
ドタイミング信号S1をハイレベルにして低出力発
振時のAPC(サンプルホールド回路7)を凍結さ
せる。次に試射分電流源3の出力電流I3がスイツ
チング回路12に加わる試射信号S2のタイミング
で低出力分電流I1に付加され、この付加後の電流
によつて駆動され、半導体レーザ4の試射が行な
われる。そしてこの試射出力の光強度を光検知器
5で検知しプリアンプ6を通してサンプルホール
ド回路13に入力する。ここでホールドタイミン
グ信号S3によつてデータが保持され、この出力
V3と試射分電流I3から割算器14によつて、半導
体レーザのしきい値からの駆動電流−光出力カー
ブの傾きと等価なV3/I3が出力される。次に割算
器15においてこの値と基準電圧源16の出力
V2を用いて駆動電流と等価なV2/(V3/I3)が
算出されローパスフイルタ17を通してパワーア
ンプ18に入力され、このパワーアンプ18の出
力を用いて高出力分電流源2の出力電流値I2を制
御する。
APCは以下の様にして実現される。まずホール
ドタイミング信号S1をハイレベルにして低出力発
振時のAPC(サンプルホールド回路7)を凍結さ
せる。次に試射分電流源3の出力電流I3がスイツ
チング回路12に加わる試射信号S2のタイミング
で低出力分電流I1に付加され、この付加後の電流
によつて駆動され、半導体レーザ4の試射が行な
われる。そしてこの試射出力の光強度を光検知器
5で検知しプリアンプ6を通してサンプルホール
ド回路13に入力する。ここでホールドタイミン
グ信号S3によつてデータが保持され、この出力
V3と試射分電流I3から割算器14によつて、半導
体レーザのしきい値からの駆動電流−光出力カー
ブの傾きと等価なV3/I3が出力される。次に割算
器15においてこの値と基準電圧源16の出力
V2を用いて駆動電流と等価なV2/(V3/I3)が
算出されローパスフイルタ17を通してパワーア
ンプ18に入力され、このパワーアンプ18の出
力を用いて高出力分電流源2の出力電流値I2を制
御する。
以上の様に高出力発振のためのAPCが実現さ
れた後、アンドゲーム20において、ホールドタ
イミング信号S4を記録可能信号として併用し、記
録データ信号SDとを用いてスイツチング回路19
を動作させ高出力分電流I2を低出力分電流I1に付
加する。
れた後、アンドゲーム20において、ホールドタ
イミング信号S4を記録可能信号として併用し、記
録データ信号SDとを用いてスイツチング回路19
を動作させ高出力分電流I2を低出力分電流I1に付
加する。
ここで以上の光量制御装置の駆動電流の制御に
ついて第2図を用いて説明する。
ついて第2図を用いて説明する。
第2図において曲線A,Bで示すように半導体
レーザのしきい値及びしきい値からの駆動電流−
光出力カーブの傾きは半導体レーザの温度特性及
び経時変化によつて変化する。低出力発振時には
APCの作用で出力光強度P1を常に保持しようと
するので、状態Aでの駆動電流はI1Aであり、状
態BではI1Bとなる。また高出力発振時には低出
力光強度P1へ付加される高出力光強度P2を一定
に保持すればよい。即ち高出力光強度P2を実現
するために高出力分電流源2の出力電流値は状態
AではI2Aであるが、状態BではI2Bとなる。
レーザのしきい値及びしきい値からの駆動電流−
光出力カーブの傾きは半導体レーザの温度特性及
び経時変化によつて変化する。低出力発振時には
APCの作用で出力光強度P1を常に保持しようと
するので、状態Aでの駆動電流はI1Aであり、状
態BではI1Bとなる。また高出力発振時には低出
力光強度P1へ付加される高出力光強度P2を一定
に保持すればよい。即ち高出力光強度P2を実現
するために高出力分電流源2の出力電流値は状態
AではI2Aであるが、状態BではI2Bとなる。
このように低出力発振時及び高出力発振時の光
強度を一定に保つためには、低出力電流源の出力
電流I1A,I1B及び高出力電流源の出力電流I2A,
I2Bをそれぞれ制御する必要がある。
強度を一定に保つためには、低出力電流源の出力
電流I1A,I1B及び高出力電流源の出力電流I2A,
I2Bをそれぞれ制御する必要がある。
次に高出力電流源2の出力電流の制御について
状態Aのみについて以下に説明する。状態Bでも
同様である。まず試射分電流源3の出力電流I3A
を低出力分電流I1Aに付加することによつて試射
分の出力光強度P3Aが光検知器5で検知される。
これによりしきい値からの駆動電流−光出力カー
ブの傾きP3A/I3Aが判明する。高出力光強度P2
を得るためには次の条件を満足する高出力分電流
I2Aを低出力分電流I1Aに付加すればよい。
状態Aのみについて以下に説明する。状態Bでも
同様である。まず試射分電流源3の出力電流I3A
を低出力分電流I1Aに付加することによつて試射
分の出力光強度P3Aが光検知器5で検知される。
これによりしきい値からの駆動電流−光出力カー
ブの傾きP3A/I3Aが判明する。高出力光強度P2
を得るためには次の条件を満足する高出力分電流
I2Aを低出力分電流I1Aに付加すればよい。
P2=P3A/I3AI2A ……(1)
高出力分光強度P2と試射出力分光強度P3Aに対
する光検知器5の出力をそれぞれV2,V3Aとす
ると、(1)式は次のように書き換えられる。
する光検知器5の出力をそれぞれV2,V3Aとす
ると、(1)式は次のように書き換えられる。
V2=V3A/I3AI2A ……(2)
従つて高出力分電流源2の出力電流値I2Aは(2)
式より I2A=V2/V3A/I3A ……(3) 同様に状態Bでは、 I2B=V2/V3A/I3A ……(4) (3)式、(4)式で示されたように基準電圧V2と駆
動電流−光出力カーブの傾きV3A/I3A,
(V3B/I3B)のみによつて高出力発振時の駆動電
流I2A(I2B)を制御することができる。
式より I2A=V2/V3A/I3A ……(3) 同様に状態Bでは、 I2B=V2/V3A/I3A ……(4) (3)式、(4)式で示されたように基準電圧V2と駆
動電流−光出力カーブの傾きV3A/I3A,
(V3B/I3B)のみによつて高出力発振時の駆動電
流I2A(I2B)を制御することができる。
このように構成された本発明による半導体レー
ザの光量制御装置の動作タイミングについて以下
に説明する。第3図aにおいて光磁気デイスク円
板22上の1トラツク当りに複数のヘツダー部2
3が存在する。ヘツダー部23へは情報の記録は
行なわれない。試射はデータ部24とデータ部2
4にはさまれたこのヘツダー部23ごとに行なわ
れる。まず試射によつて低出力分電流源のAPC
が応答しないように、ヘツダー部23では第3図
bに示すようにホールド信号S1の発生により低出
力分電流源1のAPCを凍結させる。この凍結の
間に試射信号S2により試射を行ない、この時の出
力光強度のデータをホールドタイミング信号S3で
保持する。以上のタイミングによつて常時高出力
分電流源2の出力電流を制御することができる。
情報記録時は高出力発振が低出力分電流源の
APCに応答しないように、記録可能信号S4がホ
ールドタイミング信号S1と共にサンプルホールド
回路7に加えられる。そして記録データ信号SDに
よつて情報が書き込まれる。
ザの光量制御装置の動作タイミングについて以下
に説明する。第3図aにおいて光磁気デイスク円
板22上の1トラツク当りに複数のヘツダー部2
3が存在する。ヘツダー部23へは情報の記録は
行なわれない。試射はデータ部24とデータ部2
4にはさまれたこのヘツダー部23ごとに行なわ
れる。まず試射によつて低出力分電流源のAPC
が応答しないように、ヘツダー部23では第3図
bに示すようにホールド信号S1の発生により低出
力分電流源1のAPCを凍結させる。この凍結の
間に試射信号S2により試射を行ない、この時の出
力光強度のデータをホールドタイミング信号S3で
保持する。以上のタイミングによつて常時高出力
分電流源2の出力電流を制御することができる。
情報記録時は高出力発振が低出力分電流源の
APCに応答しないように、記録可能信号S4がホ
ールドタイミング信号S1と共にサンプルホールド
回路7に加えられる。そして記録データ信号SDに
よつて情報が書き込まれる。
以上の構成の半導体レーザの光量制御装置で
は、試射による高出力分電流源のAPCがヘツダ
ー部23ごとに行なわれるので、高出力発振(情
報記録)時には瞬時にして安定した光出力光強度
の制御が行なわれる。
は、試射による高出力分電流源のAPCがヘツダ
ー部23ごとに行なわれるので、高出力発振(情
報記録)時には瞬時にして安定した光出力光強度
の制御が行なわれる。
以上の構成において試射分電流源3を半導体レ
ーザ4に対する第3の電流源として設けたが、こ
の試射分電流源3を別個に設けず、高出力分電流
源2を一時的に試射分電流源として用いることで
部品点数の減少化を計ることも可能である。
ーザ4に対する第3の電流源として設けたが、こ
の試射分電流源3を別個に設けず、高出力分電流
源2を一時的に試射分電流源として用いることで
部品点数の減少化を計ることも可能である。
<発明の効果>
以上の本発明においては、試射によつて絶えず
高出力発振時のAPCが実現でき、加えて高出力
発振時には低出力発振のAPCを凍結することに
よつて高出力のレーザ光強度を安定化することが
できる。従つて光磁気デイスク等を記録媒体とし
て使用した情報記録再生装置に良好な特性の半導
体レーザ光量制御装置を得ることができる。
高出力発振時のAPCが実現でき、加えて高出力
発振時には低出力発振のAPCを凍結することに
よつて高出力のレーザ光強度を安定化することが
できる。従つて光磁気デイスク等を記録媒体とし
て使用した情報記録再生装置に良好な特性の半導
体レーザ光量制御装置を得ることができる。
第1図は本発明の一実施例による光量制御装置
を示すブロツク図、第2図は第1図の装置の動作
を説明するための駆動電流−光出力カーブ及び波
形図、第3図aはデイスク構成図、第3図bは第
1図の装置の動作に必要なタイミング波形図、第
4図は従来の半導体レーザの光量制御装置のブロ
ツク図、第5図は第4図の装置の動作を説明する
ための駆動電流−光出力カーブ及び波形図であ
る。 図中、1……低出力分電流源、2……高出力分
電流源、3……試射分電流源、4……半導体レー
ザ、5……光検知器、6……プリアンプ、7……
サンプルホールド回路、8……比較器、9……基
準電圧源、10……ローパスフイルタ、11……
パワーアンプ、12……スイツチング回路、13
……サンプルホールド回路、14,15……割算
器、16……基準電圧源、17……ローパスフイ
ルタ、18……パワーアンプ、19……スイツチ
ング回路、20……アンドゲート、21……オア
ゲート、22……デイスク、23……ヘツダー
部、24……データ部、31……第1の制御回
路、32……第2の制御回路。
を示すブロツク図、第2図は第1図の装置の動作
を説明するための駆動電流−光出力カーブ及び波
形図、第3図aはデイスク構成図、第3図bは第
1図の装置の動作に必要なタイミング波形図、第
4図は従来の半導体レーザの光量制御装置のブロ
ツク図、第5図は第4図の装置の動作を説明する
ための駆動電流−光出力カーブ及び波形図であ
る。 図中、1……低出力分電流源、2……高出力分
電流源、3……試射分電流源、4……半導体レー
ザ、5……光検知器、6……プリアンプ、7……
サンプルホールド回路、8……比較器、9……基
準電圧源、10……ローパスフイルタ、11……
パワーアンプ、12……スイツチング回路、13
……サンプルホールド回路、14,15……割算
器、16……基準電圧源、17……ローパスフイ
ルタ、18……パワーアンプ、19……スイツチ
ング回路、20……アンドゲート、21……オア
ゲート、22……デイスク、23……ヘツダー
部、24……データ部、31……第1の制御回
路、32……第2の制御回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光学的記録再生装置に組み込まれる半導体レ
ーザ4の光量制御装置であつて、 記録媒体から情報を再生するのに必要なレベル
まで半導体レーザ4を発振するための第1の電流
源1と、 第1の電流源1に対する電流付加によつて記録
媒体に情報を記録又は消去するのに必要なレベル
まで半導体レーザ4を発振するための第2の電流
源2と、 第1の電流源1に対する電流付加によつて第2
の電流源2を制御するための試射に必要なレベル
まで半導体レーザ4を発振せしめる第3の電流源
3と、 半導体レーザ4の出力光強度を検出する検出器
5と、 再生時の検出器5の検出結果に応じて第1の電
流源1の出力電流値を制御する第1の制御回路3
1と、 記録媒体への情報の記録又は消去時及び試射時
に、第1の電流源1によつて駆動される半導体レ
ーザ4の出力光強度を検出した検出器5の検出結
果を保持する第1の保持回路21と、 第3の電流源3によつて駆動される試射時の半
導体レーザ4の出力光強度を検出した検出器5の
検出結果を保持する第2の保持回路13と、 第2の保持回路13の保持データから付加電流
に対する半導体レーザ4の出力光強度の比を算出
する割算回路14と、 割算回路14によつて算出された比の値に応じ
て情報の記録又は消去時における第2の電流源2
の出力電流を制御する第2の制御回路32とを具
備したことを特徴とする光量制御装置。 2 特許請求の範囲第1項において、 第3の電流源を第2の電流源にて兼用したこと
を特徴とする光量制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60207987A JPS6266424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 光量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60207987A JPS6266424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 光量制御装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6057155A Division JP2524479B2 (ja) | 1994-03-28 | 1994-03-28 | 光記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6266424A JPS6266424A (ja) | 1987-03-25 |
| JPH0518185B2 true JPH0518185B2 (ja) | 1993-03-11 |
Family
ID=16548804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60207987A Granted JPS6266424A (ja) | 1985-09-18 | 1985-09-18 | 光量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6266424A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2838890B2 (ja) * | 1987-11-27 | 1998-12-16 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学式情報記録再生装置 |
| JPH0218722A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-23 | Sony Corp | レーザ発光強度制御回路 |
| US5034334A (en) * | 1989-10-13 | 1991-07-23 | At&T Bell Laboratories | Method of producing a semiconductor laser adapted for use in an analog optical communications system |
| JP2525943B2 (ja) * | 1990-08-02 | 1996-08-21 | 富士通株式会社 | 光学記録再生装置のレ―ザダイオ―ド制御方式 |
| JP2835250B2 (ja) * | 1992-08-10 | 1998-12-14 | シャープ株式会社 | 光ディスク記録再生装置における光量制御装置 |
| TW525157B (en) * | 2000-10-13 | 2003-03-21 | Sony Corp | Current generation circuit and method |
| JP5207559B2 (ja) | 2010-12-15 | 2013-06-12 | パナソニック株式会社 | 光情報記録再生装置 |
-
1985
- 1985-09-18 JP JP60207987A patent/JPS6266424A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6266424A (ja) | 1987-03-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4935915A (en) | Beam controller for magneto-optical disc memory system | |
| KR950013701B1 (ko) | 광디스크의 기록재생장치 | |
| JPS63103447A (ja) | 光学的情報記録再生装置のレ−ザコントロ−ル回路 | |
| JPH0518185B2 (ja) | ||
| JP2557830B2 (ja) | 光学的記録再生装置における光量制御装置 | |
| EP0292733A2 (en) | Magneto-optical disk reproduction apparatus | |
| JPS58179904A (ja) | 情報記録方式 | |
| JP2706262B2 (ja) | 半導体レーザ駆動装置 | |
| JPS58158051A (ja) | 光学的記録再生装置 | |
| JPH079710B2 (ja) | 半導体レ−ザの光量制御装置 | |
| JP2524479B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2561235B2 (ja) | 半導体レ−ザ駆動装置 | |
| KR100312493B1 (ko) | 광자기기록매체상의기록방법및장치 | |
| JPS60239925A (ja) | 半導体レ−ザ駆動回路 | |
| JPS61192043A (ja) | 半導体レ−ザ駆動装置 | |
| JP2648084B2 (ja) | 半導体レーザ駆動装置 | |
| JPS62129943A (ja) | サンプルホ−ルド回路 | |
| JP2561235C (ja) | ||
| JPH03116554A (ja) | ディスク装置 | |
| JP3297790B2 (ja) | 光ディスク記録再生装置 | |
| JPS61294645A (ja) | 情報記録再生装置 | |
| JPS63263784A (ja) | 半導体レ−ザ駆動装置 | |
| JPH038133A (ja) | 光学式データ記憶再生装置 | |
| JPS63234419A (ja) | 半導体レ−ザの出力制御装置 | |
| JPH07114023B2 (ja) | 光記録再正装置 |