JPH0520125B2 - - Google Patents
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- JPH0520125B2 JPH0520125B2 JP60108007A JP10800785A JPH0520125B2 JP H0520125 B2 JPH0520125 B2 JP H0520125B2 JP 60108007 A JP60108007 A JP 60108007A JP 10800785 A JP10800785 A JP 10800785A JP H0520125 B2 JPH0520125 B2 JP H0520125B2
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- container
- resist liquid
- resist
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Weting (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造用のレジスト液を濾過す
る装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an apparatus for filtering resist liquid for semiconductor manufacturing.
一般に、例えば、所望の物品上にレジスト液を
滴下するレジスト液滴下装置にレジスト液を収容
する前に、レジスト液を入手した後、少なくとも
一度、このレジスト液中に存するレジスト液のゲ
ル状物や他の異物を除去するために濾過する必要
がある。
Generally, after obtaining the resist solution, for example, before storing the resist solution in a resist solution dropping device that drips the resist solution onto a desired article, at least once the gel-like substance of the resist solution present in the resist solution is removed. It must be filtered to remove other foreign substances.
従来、この濾過をする装置としては、第２図に
示すものがあつた。 Conventionally, there has been a device shown in FIG. 2 that performs this filtration.
すなわち、濾過すべきレジスト液１を収容した
第１容器２と、後記するガス導入管４によつてレ
ジスト液１が加圧されるように前記第１容器２を
密封する加圧器３と、この加圧器３にN2等の不
活性ガスを導入するガス導入管４とを備えてい
る。また、レジスト液１を濾過するためのフイル
タ５と、濾過後のレジスト液１を収容する第２容
器６も備えている。さらに、第１容器２とフイル
タ５、フイルタ５と第２容器６は、それぞれ配管
７、配管８を介して連絡されている。 That is, a first container 2 containing a resist solution 1 to be filtered, a pressurizer 3 that seals the first container 2 so that the resist solution 1 is pressurized by a gas introduction pipe 4, which will be described later. The pressurizer 3 is equipped with a gas introduction pipe 4 for introducing an inert gas such as N 2 . It also includes a filter 5 for filtering the resist solution 1 and a second container 6 for storing the filtered resist solution 1. Further, the first container 2 and the filter 5, and the filter 5 and the second container 6 are connected via a pipe 7 and a pipe 8, respectively.
次に、この装置を用いてレジスト液１を濾過す
る方法を下記に述べる。 Next, a method of filtering the resist liquid 1 using this apparatus will be described below.
先ず、濾過すべきレジスト液１を収容した第１
容器２を、この第１容器２内に配管７を挿入して
加圧器３に内在せしめる。次に、ガス導入管４か
らN2ガスを連続的に導入し、加圧器３内の圧力
を高め、この圧力により第１容器２内のレジスト
液１を配管７を介してフイルタ５に送る。次に、
レジスト液１はフイルタ５により濾過されて配管
８を通つて第２容器６に収容される。なお、この
レジスト液１をフイルタ５で濾過しているとき
は、連続的にN2ガスを導入している。そして、
レジスト液１のほぼ全量が配管７内に移送された
と目視し、判断したときに、N2ガスの導入を止
めて、レジスト液１の濾過を終了する。 First, a first chamber containing the resist solution 1 to be filtered is prepared.
The container 2 is placed inside the pressurizer 3 by inserting the pipe 7 into the first container 2. Next, N 2 gas is continuously introduced from the gas introduction pipe 4 to increase the pressure in the pressurizer 3, and this pressure sends the resist liquid 1 in the first container 2 to the filter 5 via the pipe 7. next,
The resist liquid 1 is filtered by a filter 5 and is stored in a second container 6 through a pipe 8. Note that while the resist solution 1 is being filtered by the filter 5, N2 gas is continuously introduced. and,
When it is visually determined that almost the entire amount of the resist liquid 1 has been transferred into the pipe 7, the introduction of N 2 gas is stopped and the filtration of the resist liquid 1 is completed.
しかしながら、従来の装置は、目視により配管
７内に移送された、と判断するため、その移送後
においても、誤つて加圧器３内にN2ガスを導入
すると、そのガスが配管７又はフイルタ５内に入
つてしまう。フイルタ５内にガスが入ると、フイ
ルタ５内に付着しているレジスト液１を乾燥せし
め、ゲル状の異物を作成してしまう。一方、再度
レジスト液１を濾過するとき、配管７内にガスが
入つていると、そのガスによりフイルタ５が乾燥
されて、ゲル状異物を生じてしまう。したがつ
て、このゲル状異物を含んだフイルタ５を用い
て、レジスト液１を濾過すると、このゲル状異物
が第２容器６内に流れ込み、不清浄なレジスト液
１が第２容器６内に収容されてしまう欠点があつ
た。また、このような欠点を防止するために、一
度濾過に使用したフイルタをその都度交換するこ
とも考えられるが、そのためのコストが増大する
欠点となる。さらに、従来の装置では濾過装置終
了時を判断するために、常時監視を必要とし、生
産条件の悪化を招く欠点があつた。
However, the conventional device judges that the N2 gas has been transferred into the pipe 7 by visual inspection, so if N2 gas is mistakenly introduced into the pressurizer 3 even after the transfer, the gas will be transferred to the pipe 7 or the filter 5. It goes inside. When gas enters the filter 5, it dries the resist liquid 1 adhering to the filter 5 and creates gel-like foreign matter. On the other hand, when the resist liquid 1 is filtered again, if gas is present in the pipe 7, the filter 5 will be dried by the gas and gel-like foreign matter will be generated. Therefore, when the resist liquid 1 is filtered using the filter 5 containing this gel-like foreign substance, the gel-like foreign substance flows into the second container 6, and the unclean resist liquid 1 is poured into the second container 6. It had the disadvantage of being contained. Further, in order to prevent such a drawback, it is conceivable to replace the filter once used for filtration each time, but this has the drawback of increasing costs. Furthermore, conventional devices require constant monitoring to determine when the filtration device is finished, which has the disadvantage of deteriorating production conditions.
また、不活性ガスを導入しているときは、加圧
器３や配管７のそれぞれの内部は大気圧以上にな
つているため、フイルタ５は、配管８方向に押圧
されているが、不活性ガスの導入を停止すると、
加圧器３や配管７のそれぞれの内部が大気圧に戻
る。そうすると、フイルタ５が反発しこの反発力
によつて、フイルタ５が振動し、かつ、配管７，
８内に残存したレジスト液１が逆流することにな
るので、このフイルタ５により捕捉された異物が
脱落・通過してしまう欠点があつた。さらに、こ
の逆流によつて配管８から空気がフイルタ５内に
入つてしまう欠点もあつた。 Furthermore, when inert gas is being introduced, the insides of the pressurizer 3 and piping 7 are at atmospheric pressure or higher, so the filter 5 is pressed in the direction of the piping 8, but the inert gas If you stop installing the
The pressure inside each of the pressurizer 3 and the piping 7 returns to atmospheric pressure. Then, the filter 5 repulses, and due to this repulsive force, the filter 5 vibrates, and the piping 7,
Since the resist liquid 1 remaining in the filter 8 flows back, there is a drawback that foreign matter captured by the filter 5 falls off and passes through. Furthermore, there was also a drawback that air entered the filter 5 from the pipe 8 due to this backflow.
本発明は、前記の事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、濾過終了後、濾過手段の振動や
レジスト液逆流を防止するレジスト液用濾過装置
を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a resist liquid filtration device that prevents vibration of the filtering means and backflow of the resist liquid after filtration is completed.
前述した目的は以下に記す発明によつて達成さ
れた。その発明は、濾過すべきレジスト液を収容
する第１容器と、この第１容器を密封する加圧器
と、この加圧器に不活性ガスを導入する導入管
と、前記レジスト液を濾過するための濾過手段
と、この濾過手段によつて濾過されたレジスト液
を収容する第２容器とを具備したレジスト液用濾
過装置であつて、
前記第１容器又は前記第２容器の下方に重量測
定装置と、前記第１容器と前記濾過手段との間の
前記レジスト液の移送経路にレジスト液移送遮断
手段と、前記導入管に前記不活性ガスの導入を停
止させる不活性ガス導入停止手段と、を設け、さ
らに前記重量測定装置からの指示を受けて前記レ
ジスト液移送遮断手段と前記不活性ガス導入停止
手段とを共に作動させる制御装置を設けたことを
特徴とするレジスト液用濾過装置である。
The above object has been achieved by the invention described below. The invention includes a first container for storing a resist solution to be filtered, a pressurizer for sealing the first container, an introduction pipe for introducing an inert gas into the pressurizer, and a container for filtering the resist solution. A resist liquid filtration device comprising a filtration means and a second container for accommodating the resist liquid filtered by the filtration means, wherein a weight measuring device is provided below the first container or the second container. , a resist liquid transfer blocking means is provided in the resist liquid transfer path between the first container and the filtering means, and an inert gas introduction stopping means for stopping the introduction of the inert gas into the introduction pipe. The resist liquid filtration apparatus further comprises a control device that operates both the resist liquid transfer cutoff means and the inert gas introduction stop means in response to an instruction from the weight measuring device.
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳述す
る。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.
本発明を第１図に基づいて説明する。なお、同
図は本発明を示す概略構成図である。
The present invention will be explained based on FIG. Note that this figure is a schematic configuration diagram showing the present invention.
本例は、従来と同様に、レジスト液１（例え
ば、ポジ型レジストMP−1350（シユプレー社
商品名））を収容した第１容器２と、加圧器３と、
レジスト液１を移送するために加圧器３内部の圧
力を高める不活性ガス（例えば、N2ガス）を導
入するためのガス導入管４と、レジスト液１を濾
過するための四弗化エチレン樹脂からなるフイル
タ５（例えば、メンブランフイルタであり、日本
ミリポア・リミテツド製のフローレツクス）と、
濾過されたレジスト液１を収容する第２容器６と
を具備している。さらに、本例では、ガス導入管
４には、不活性ガスの導入を停止させるための手
段としての三方電磁弁９（例えば、(株)小金井製作
所製の050LE1）を設け、フイルタ５と容器２と
の間のレジスト液１を通す配管１０と配管１１と
の間には、レジスト液１の移送遮断手段としての
エアー駆動型であるダイアフラム式の加圧開型二
方バルブ１２（例えば、メイス テフロン フロ
ーコントロール コンポーネンツ社製の856）を
配置し、また、第２容器６は、重量測定装置１３
（例えば、(株)エーアンドデイ機器社製の重量測定
器）上に載置されている。さらにまた、本例では
重量測定装置１３からの信号を受けて、三方電磁
弁９と二方バルブ１２を閉じるように指示する制
御装置１４が設けられている。 In this example, resist solution 1 (for example, positive resist MP-1350 (Shupray Co., Ltd.)
A first container 2 containing a product name)), a pressurizer 3,
A gas introduction pipe 4 for introducing an inert gas (for example, N 2 gas) to increase the pressure inside the pressurizer 3 to transfer the resist solution 1, and a tetrafluoroethylene resin for filtering the resist solution 1. A filter 5 (for example, a membrane filter, manufactured by Nippon Millipore Limited, Florex),
A second container 6 containing the filtered resist liquid 1 is provided. Furthermore, in this example, the gas introduction pipe 4 is provided with a three-way solenoid valve 9 (for example, 050LE1 manufactured by Koganei Seisakusho Co., Ltd.) as a means for stopping the introduction of inert gas, and the filter 5 and container 2 are Between the piping 10 and the piping 11 through which the resist solution 1 passes, there is an air-driven diaphragm-type pressure-opening two-way valve 12 (for example, mace, Teflon, 856) manufactured by Flow Control Components Co., Ltd. is arranged, and the second container 6 is equipped with a weight measuring device 13.
(for example, a weight measuring device manufactured by A&D Kiki Co., Ltd.). Furthermore, in this example, a control device 14 is provided which receives a signal from the weight measuring device 13 and instructs the three-way solenoid valve 9 and the two-way valve 12 to close.
次に、本例による約１Kgのレジスト液１の濾過
方法を詳述する。 Next, a method for filtering about 1 kg of resist liquid 1 according to this example will be described in detail.
先ず、三方電磁弁９を開いてガス導入管４によ
り加圧器３内にN2ガスを導入し、加圧器３内の
圧力を大気圧より0.4Kg／cm2高くし、第１容器内
の液１を配管１０、二方バルブ１２（通常、レジ
スト液１を濾過するときは開いている。）及び配
管１１を通し、フイルタ５に到達させる。そし
て、このフイルタ５によつて、レジスト液１内の
異物は除去され、配管８を通り第２容器６内に収
容される。このとき、重量測定装置１３の終了値
（上限）として、レジスト液１の濾過工程による
損失分、すなわち、第１容器２内のレジスト液１
のほぼ全量が配管１０，１１，８内に移つて、こ
れ等の配管１０，１１，８内で滞留しているレジ
スト液量（約0.1Kg）を減じた約0.9Kgと第２容器
６の重量とを加えた値にあらかじめセツトしてお
くので、この値になるまで、レジスト液１が濾過
されながら第１容器２から第２容器６に後述する
方法によつて停止するまで連続的に移送される。 First, open the three-way solenoid valve 9 and introduce N 2 gas into the pressurizer 3 through the gas introduction pipe 4 to raise the pressure inside the pressurizer 3 to 0.4 kg/cm 2 higher than atmospheric pressure, and the liquid in the first container 1 through piping 10, two-way valve 12 (usually open when filtering resist liquid 1), and piping 11, and reaches filter 5. Then, foreign matter in the resist liquid 1 is removed by the filter 5 , and the resist liquid 1 is contained in the second container 6 through the pipe 8 . At this time, the end value (upper limit) of the weight measuring device 13 is the loss of the resist liquid 1 due to the filtration process, that is, the resist liquid 1 in the first container 2.
Almost the entire amount of resist liquid is transferred into the pipes 10, 11, 8, and the amount of resist liquid remaining in these pipes 10, 11, 8 (approximately 0.1 kg) is reduced to about 0.9 kg, and the amount of resist liquid in the second container 6 is reduced. The resist liquid 1 is filtered and continuously transferred from the first container 2 to the second container 6 until it is stopped by the method described later. be done.
次に、前記した値を重量測定装置１３が感知す
ると、重量測定装置１３から制御装置１４に対し
て信号が出される（矢印Ａ）。この信号により、
制御装置１４内の三方電磁弁用リレーと二方バル
ブ用リレー（それぞれのリレーは図示せず。）が
共に動作し、三方電磁弁９と二方バルブ１２を閉
じるようにそれぞれ同時に信号を出す（矢印Ｂ、
矢印Ｃ）。すなわち、三方電磁弁９は三方電磁弁
用リレーの信号によつて閉じられてN2ガス導入
が停止し、かつ後記するように、次のレジスト液
１を濾過するために、三方電磁弁９からでている
リーク用管（図示せず。）を用い、加圧器３内を
大気圧にもどすように作用する。一方、二方バル
ブ用リレーからの信号により、二方バルブ１２を
開くために加圧している空気を導くための弁（図
示せず。）が、閉じられ、その結果、二方バルブ
１２は閉じられる。 Next, when the weight measuring device 13 senses the above-mentioned value, a signal is output from the weight measuring device 13 to the control device 14 (arrow A). This signal causes
The three-way solenoid valve relay and the two-way valve relay (respective relays are not shown) in the control device 14 operate together and simultaneously issue signals to close the three-way solenoid valve 9 and the two-way valve 12 ( Arrow B,
Arrow C). That is, the three-way solenoid valve 9 is closed by the signal from the three-way solenoid valve relay to stop the introduction of N2 gas, and as will be described later, in order to filter the next resist solution 1, the three-way solenoid valve 9 is closed. A leak pipe (not shown) is used to return the inside of the pressurizer 3 to atmospheric pressure. On the other hand, a signal from the two-way valve relay closes a valve (not shown) for guiding pressurized air to open the two-way valve 12, and as a result, the two-way valve 12 closes. It will be done.
以上のとおり、レジスト液１のほぼ全量が配管
１０，１１，８に移つた時に三方電磁弁９を閉じ
るので、N2ガスは、配管１０内に入ることもな
く、また二方バルブ１２も同時に閉じられるの
で、加圧器３内の圧力が大気圧にもどつても、配
管１１に残存するレジスト液１の圧力は、レジス
ト液１の移送時の圧力を保持することができるこ
とから、フイルタ５の振動及びレジスト液１の逆
流も防止することができる。さらに、配管１０内
のレジスト液１は、配管１０内に滞留するので、
N2ガスが入ることもない。 As described above, since the three-way solenoid valve 9 is closed when almost the entire amount of the resist liquid 1 has been transferred to the pipes 10, 11, and 8, the N2 gas does not enter the pipe 10, and the two-way valve 12 is also closed at the same time. Since it is closed, even if the pressure inside the pressurizer 3 returns to atmospheric pressure, the pressure of the resist liquid 1 remaining in the piping 11 can maintain the pressure at the time of transfer of the resist liquid 1, so that the vibration of the filter 5 is reduced. Also, backflow of the resist liquid 1 can be prevented. Furthermore, since the resist liquid 1 in the pipe 10 stays in the pipe 10,
There is no need for N2 gas to enter.
また、次のレジスト液１を第１容器にいれて濾
過するときは、先ず、制御装置１４内の三方電磁
弁用リレーをリセツトして、三方電磁弁９を開
き、前述したと同様にN2ガスを導入し、前述し
たと同様に圧力となつたときに、制御装置１４の
二方バルブ用リレーをリセツトして二方バルブ１
２を開き、濾過を開始すればレジスト液１の逆流
を防止することができる。以上述べたように本実
施例のレジスト液用濾過装置はレジスト液の濾過
作業を停止、再開してもレジスト液の逆流が防止
でき、さらに重量測定装置を用いていることより
レジスト液が汚染されにくくフイルタ等の濾過手
段の交換回数も減少させることができる。 When the next resist solution 1 is poured into the first container and filtered, first reset the three-way solenoid valve relay in the control device 14, open the three-way solenoid valve 9, and pour N2 in the same way as described above. When the gas is introduced and reaches the same pressure as described above, the two-way valve relay of the control device 14 is reset and the two-way valve 1 is closed.
2 and start filtration, it is possible to prevent the resist liquid 1 from flowing back. As described above, the resist solution filtration device of this embodiment can prevent the resist solution from flowing back even when the resist solution filtration operation is stopped and restarted.Furthermore, the use of a weight measuring device prevents the resist solution from being contaminated. It is also possible to reduce the number of times filtering means such as filters are replaced.
なお、本実施例において、重量測定装置１３を
第２容器６の下方に配置したが、第１容器２の下
方に配置して、第１容器２の重量を測定してもよ
い。すなわち、重量測定装置１３のセツトされた
終了値を下限にセツトすればよい。 Although the weight measuring device 13 is placed below the second container 6 in this embodiment, it may be placed below the first container 2 to measure the weight of the first container 2. That is, the end value set by the weight measuring device 13 may be set as the lower limit.
本発明は、以上のような構成であるから、レジ
スト液を高能率に濾過することができ、濾過され
たレジスト液の清浄度も高くすることができ、さ
らにフイルタ等の濾過手段の交換も大幅に減少さ
せることもできた。
Since the present invention has the above-described configuration, the resist solution can be filtered with high efficiency, and the cleanliness of the filtered resist solution can also be increased, and the replacement of filtering means such as filters can be greatly reduced. It could also be reduced to
第１図は本発明の一実施例を示す概略構成図で
あり、第２図は従来の装置を示す概略構成図であ
る。
１……レジスト液、２……第１容器、３……加
圧器、４……ガス導入管、５……フイルタ、６…
…第２容器、８，１０，１１……配管、９……三
方電磁弁、１２……二方バルブ、１３……重量測
定装置、１４……制御装置。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram showing a conventional device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Resist liquid, 2... First container, 3... Pressurizer, 4... Gas introduction pipe, 5... Filter, 6...
... Second container, 8, 10, 11 ... Piping, 9 ... Three-way solenoid valve, 12 ... Two-way valve, 13 ... Weight measuring device, 14 ... Control device.
Claims (1)
と、この第１容器を密封する加圧器と、この加圧
器に不活性ガスを導入する導入管と、前記レジス
ト液を濾過するための濾過手段と、この濾過手段
によつて濾過されたレジスト液を収容する第２容
器とを具備したレジスト液用濾過装置であつて、 前記第１容器又は前記第２容器の下方に重量測
定装置と、前記第１容器と前記濾過手段との間の
前記レジスト液の移送経路にレジスト液移送遮断
手段と、前記導入管に前記不活性ガスの導入を停
止させる不活性ガス導入停止手段と、を設け、さ
らに前記重量測定装置からの指示を受けて前記レ
ジスト液移送遮断手段と前記不活性ガス導入停止
手段とを共に作動させる制御装置を設けたことを
特徴とするレジスト液用濾過装置。[Scope of Claims] 1. A first container containing a resist solution to be filtered, a pressurizer for sealing the first container, an introduction pipe for introducing an inert gas into the pressurizer, and a method for filtering the resist solution. A resist liquid filtration device comprising a filtration means for filtering, and a second container for accommodating the resist liquid filtered by the filtration means, wherein a weight is provided below the first container or the second container. a measuring device, a resist liquid transfer blocking means in the resist liquid transfer path between the first container and the filtering means, and an inert gas introduction stopping means for stopping the introduction of the inert gas into the introduction pipe. , and further comprising a control device that operates both the resist liquid transfer cutoff means and the inert gas introduction stop means in response to an instruction from the weight measuring device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60108007A JPS61268311A (en) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | Filter apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60108007A JPS61268311A (en) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | Filter apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61268311A JPS61268311A (en) | 1986-11-27 |
| JPH0520125B2 true JPH0520125B2 (en) | 1993-03-18 |
Family
ID=14473621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60108007A Granted JPS61268311A (en) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | Filter apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61268311A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2726281B2 (en) * | 1988-09-30 | 1998-03-11 | 東京エレクトロン株式会社 | Resist processing equipment |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5161072A (en) * | 1974-11-25 | 1976-05-27 | Nippon Kokan Kk | Kyusokurokakino seigyohoho |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP60108007A patent/JPS61268311A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61268311A (en) | 1986-11-27 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |