JPH0520417B2 - - Google Patents
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- JPH0520417B2 JPH0520417B2 JP5474783A JP5474783A JPH0520417B2 JP H0520417 B2 JPH0520417 B2 JP H0520417B2 JP 5474783 A JP5474783 A JP 5474783A JP 5474783 A JP5474783 A JP 5474783A JP H0520417 B2 JPH0520417 B2 JP H0520417B2
- Authority
- JP
- Japan
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- compound
- general formula
- octadecene
- ether
- acid
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- Fats And Perfumes (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なオクタデセン誘導体及びその製
造方法に関する。
造方法に関する。
本発明のオクタデセン誘導体は、文献未記載の
新規化合物であり、下記一般式〔〕で表わされ
る7S,8R−体及びその鏡像体(エナンシオマー)
である7R,8S−体の両者を包含する。
新規化合物であり、下記一般式〔〕で表わされ
る7S,8R−体及びその鏡像体(エナンシオマー)
である7R,8S−体の両者を包含する。
〔式中R1は水素原子又は低級アルキルカルボ
ニル基及びR2は水素原子、低級アルキルカルボ
ニル基又はエトキシエチル基を示す。〕 上記一般式〔〕中R1及びR2で示される低級
アルキルカルボニル基としては、炭素数1〜4の
アルカノイル基、例えばアセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル基等を例示できる。
ニル基及びR2は水素原子、低級アルキルカルボ
ニル基又はエトキシエチル基を示す。〕 上記一般式〔〕中R1及びR2で示される低級
アルキルカルボニル基としては、炭素数1〜4の
アルカノイル基、例えばアセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル基等を例示できる。
本発明の上記一般式〔〕で表わされるオクタ
デセン誘導体及びそのエナンシオマーは、蚊(例
えばCulex pipiens fatigensなど)の産卵誘引フ
エロモンである(5S,6R)−(+)−及び(5R,
6S)−(−)−6−アセトキシ−5−ヘキサデカノ
ライドの合成中間体として有用であり、またそれ
自体香料乃至はその製造原料として有用である。
特に本発明オクタデセン誘導体(7S−8R−体及
び7R,8S−体)は、これを経由して上記蚊の産
卵誘引フエロモンを製造する場合、ジアステレオ
マー等の副生が見られず、その分離等を必要とせ
ず、立体選択的に所望のエナンシオマーを収得で
き、その光学純度も非常に優れており(通常約98
%以上)、また公知の方法に比し、より短縮され
た工程数で容易にしかも総収率でもかなり高収率
(約10%以上にも及ぶ)で、目的物を収得できる
利点がある。
デセン誘導体及びそのエナンシオマーは、蚊(例
えばCulex pipiens fatigensなど)の産卵誘引フ
エロモンである(5S,6R)−(+)−及び(5R,
6S)−(−)−6−アセトキシ−5−ヘキサデカノ
ライドの合成中間体として有用であり、またそれ
自体香料乃至はその製造原料として有用である。
特に本発明オクタデセン誘導体(7S−8R−体及
び7R,8S−体)は、これを経由して上記蚊の産
卵誘引フエロモンを製造する場合、ジアステレオ
マー等の副生が見られず、その分離等を必要とせ
ず、立体選択的に所望のエナンシオマーを収得で
き、その光学純度も非常に優れており(通常約98
%以上)、また公知の方法に比し、より短縮され
た工程数で容易にしかも総収率でもかなり高収率
(約10%以上にも及ぶ)で、目的物を収得できる
利点がある。
以下本発明誘導体中一般式〔〕で表わされる
7S,8R−体を例にとり、その製造及び該7S,8R
−体からの上記(5S,6R)−(+)−6−アセトキ
シ−5−ヘキサデカノライドの製造につき、反応
工程式を挙げ、更に詳細に説明する。
7S,8R−体を例にとり、その製造及び該7S,8R
−体からの上記(5S,6R)−(+)−6−アセトキ
シ−5−ヘキサデカノライドの製造につき、反応
工程式を挙げ、更に詳細に説明する。
〔各式中R1及びR2は上記に同じ。R2′は水素原
子又はエトキシエチル基を、またR2″は水素原子
又は低級アルキルカルボニル基を示す。〕 即ち一般式〔〕中R1が水素原子でR2がエト
キシエチル基である本発明の7S,8R−体は、式
〔〕で表わされる(±)−1−トリデセン−3−
オールを出発原料として、これにD−(−)−酒石
酸ジイソプロピルを反応させてR2′が水素原子で
ある一般式〔〕の化合物を得、次いで該化合物
にエチルビニルエーテルを反応させてR2′基をエ
トキシエチル基で保護し、かくして得られる1,
2−エポキシ−3−トリデカノールエトキシエチ
ルエーテルと4−メチル−3−ペンテニルマグネ
シウムハライドとをグリニヤール反応させること
により収得される。
子又はエトキシエチル基を、またR2″は水素原子
又は低級アルキルカルボニル基を示す。〕 即ち一般式〔〕中R1が水素原子でR2がエト
キシエチル基である本発明の7S,8R−体は、式
〔〕で表わされる(±)−1−トリデセン−3−
オールを出発原料として、これにD−(−)−酒石
酸ジイソプロピルを反応させてR2′が水素原子で
ある一般式〔〕の化合物を得、次いで該化合物
にエチルビニルエーテルを反応させてR2′基をエ
トキシエチル基で保護し、かくして得られる1,
2−エポキシ−3−トリデカノールエトキシエチ
ルエーテルと4−メチル−3−ペンテニルマグネ
シウムハライドとをグリニヤール反応させること
により収得される。
上記において出発原料とする式〔〕の化合物
は、公知であり、例えばウンデカナールとエチレ
ンマグネシウムブロマイド等のグリニヤール試薬
とを反応させることにより容易に収得できる。
は、公知であり、例えばウンデカナールとエチレ
ンマグネシウムブロマイド等のグリニヤール試薬
とを反応させることにより容易に収得できる。
該化合物〔〕と酒石酸ジイソプロピルとの反
応は、シヤープレスら(K.B.Sharpless et al)
の方法〔J.Am.Chem.Soc.,103,6237(1981)〕
に従つて行なうことができる。該反応の好ましい
一例としては、例えば適当な容器に各原料化合物
を入れ、ジクロロメタン等の溶媒中、t−ブチル
ヒドロペルオキシド等のヒドロペルオキシド及び
チタン酸テトライソプロピル等のチタン酸エステ
ルの存在下に、0℃以下、好ましくは−20℃前後
で撹拌する方法を挙げることができる。原料化合
物及び他の試薬の使用割合は、適宜に決定され、
特に制限されないが、好ましくは化合物〔〕に
対して酒石酸ジイソプロピルを少なくとも当量、
通常1〜1.5倍当量、ヒドロペルオキシドを約2
倍前後、及びチタン酸エステルを当量程度とする
のがよい。
応は、シヤープレスら(K.B.Sharpless et al)
の方法〔J.Am.Chem.Soc.,103,6237(1981)〕
に従つて行なうことができる。該反応の好ましい
一例としては、例えば適当な容器に各原料化合物
を入れ、ジクロロメタン等の溶媒中、t−ブチル
ヒドロペルオキシド等のヒドロペルオキシド及び
チタン酸テトライソプロピル等のチタン酸エステ
ルの存在下に、0℃以下、好ましくは−20℃前後
で撹拌する方法を挙げることができる。原料化合
物及び他の試薬の使用割合は、適宜に決定され、
特に制限されないが、好ましくは化合物〔〕に
対して酒石酸ジイソプロピルを少なくとも当量、
通常1〜1.5倍当量、ヒドロペルオキシドを約2
倍前後、及びチタン酸エステルを当量程度とする
のがよい。
かくして一般式〔〕(R2′=H)の化合物
(1,2−エポキシ−3−トリデカノール)を得
る。殊に上記反応では原料とする酒石酸ジイソプ
ロピルの立体特異性に従つて、D−(−)−体を用
いれば2S,3R−体が、またL−(+)−体を用い
れば2R,3S−体が選択的にしかも高収率で合成
できる。得られる目的物の光学純度は対応するα
−メトキシ−α−トリフルオロメチルフエニルア
セテートのHPLC分析(カラム;パーテイシル
5,25×4.6mm、溶媒;n−ヘキサン:ジクロロ
エタン=2:1、30Kg/cm2、検出;217nm)によ
り測定され、通常約90%もしくはそれ以上であ
る。
(1,2−エポキシ−3−トリデカノール)を得
る。殊に上記反応では原料とする酒石酸ジイソプ
ロピルの立体特異性に従つて、D−(−)−体を用
いれば2S,3R−体が、またL−(+)−体を用い
れば2R,3S−体が選択的にしかも高収率で合成
できる。得られる目的物の光学純度は対応するα
−メトキシ−α−トリフルオロメチルフエニルア
セテートのHPLC分析(カラム;パーテイシル
5,25×4.6mm、溶媒;n−ヘキサン:ジクロロ
エタン=2:1、30Kg/cm2、検出;217nm)によ
り測定され、通常約90%もしくはそれ以上であ
る。
上記で得られる一般式〔〕(R2′=H)の化合
物とエチルビニルエーテルとの反応は、好ましく
は一般式〔〕(R2′=H)の化合物の乾燥エチル
エーテル溶液中に、該化合物に対して約4〜10倍
当量のエチルビニルエーテル及び約2モル%前後
のp−トルエンスルホン酸を加え、約0〜5℃下
に数時間撹拌することにより行なわれ、これによ
り上記R2′基がエトキシエチル基(EE)基で保護
された一般式〔〕(R2′=EE)の化合物を収得
できる。
物とエチルビニルエーテルとの反応は、好ましく
は一般式〔〕(R2′=H)の化合物の乾燥エチル
エーテル溶液中に、該化合物に対して約4〜10倍
当量のエチルビニルエーテル及び約2モル%前後
のp−トルエンスルホン酸を加え、約0〜5℃下
に数時間撹拌することにより行なわれ、これによ
り上記R2′基がエトキシエチル基(EE)基で保護
された一般式〔〕(R2′=EE)の化合物を収得
できる。
本発明の一般式〔〕(R1=H,R2=EE)の
化合物は、上記により得られる一般式〔〕
(R2′=EE)の化合物に、4−メチル−3−ペン
テニルマグネシウムハライド、好ましくはブロマ
イドを反応させて炭素鎖延長を行なうことにより
製造される。該炭素鎖延長反応は、例えばリンス
トラメールら(G.Linstrumelle et al)による文
献〔テトラヘドロン レターズ(Tetrahedron
Lett.,1503(1979)〕に記載の方法に準じて実施
することができる。該方法は好適には、例えばテ
トラヒドロフラン等の適当な溶媒中、臭化銅
(Cu2Br2)の存在下に、約−30℃〜室温付近の温
度条件下約1〜2時間を要して行なわれる。一般
式〔〕(R2′=EE)の化合物に対する4−メチ
ル−3−ペンテニルマグネシウムハライドの使用
量は、通常好ましくは約3.0倍当量とされ、また
臭化銅は通常約0.3倍当量前後とするのがよい。
上記炭素鎖延長反応は、原料化合物〔〕の立体
特異性に何ら影響を与えるものではなく、従つて
該化合物〔〕として2S,3R−体を用いる場合
は、目的化合物〔〕として7S,8R−体が、
2R,3S−体を用いる場合は、7R,8S−体が選択
的に収得される。
化合物は、上記により得られる一般式〔〕
(R2′=EE)の化合物に、4−メチル−3−ペン
テニルマグネシウムハライド、好ましくはブロマ
イドを反応させて炭素鎖延長を行なうことにより
製造される。該炭素鎖延長反応は、例えばリンス
トラメールら(G.Linstrumelle et al)による文
献〔テトラヘドロン レターズ(Tetrahedron
Lett.,1503(1979)〕に記載の方法に準じて実施
することができる。該方法は好適には、例えばテ
トラヒドロフラン等の適当な溶媒中、臭化銅
(Cu2Br2)の存在下に、約−30℃〜室温付近の温
度条件下約1〜2時間を要して行なわれる。一般
式〔〕(R2′=EE)の化合物に対する4−メチ
ル−3−ペンテニルマグネシウムハライドの使用
量は、通常好ましくは約3.0倍当量とされ、また
臭化銅は通常約0.3倍当量前後とするのがよい。
上記炭素鎖延長反応は、原料化合物〔〕の立体
特異性に何ら影響を与えるものではなく、従つて
該化合物〔〕として2S,3R−体を用いる場合
は、目的化合物〔〕として7S,8R−体が、
2R,3S−体を用いる場合は、7R,8S−体が選択
的に収得される。
一般式〔〕中R1及びR2が共に水素原子であ
る本発明化合物及びそのエナンシオマーは、上記
により得られる一般式〔〕(R1=H,R2=EE)
の化合物(7S,8R−体)又はそのエナンシオマ
ー(7R,8S−体)の夫々より、8位のEE基を通
常の方法に従い、例えば塩酸等の適当な酸を用い
て脱離させることにより製造できる。該脱離反応
は通常テトラヒドロフラン等の溶媒中、約0℃前
後で1時間程度を要して行なわれる。
る本発明化合物及びそのエナンシオマーは、上記
により得られる一般式〔〕(R1=H,R2=EE)
の化合物(7S,8R−体)又はそのエナンシオマ
ー(7R,8S−体)の夫々より、8位のEE基を通
常の方法に従い、例えば塩酸等の適当な酸を用い
て脱離させることにより製造できる。該脱離反応
は通常テトラヒドロフラン等の溶媒中、約0℃前
後で1時間程度を要して行なわれる。
一般式〔〕KR1及びR2の少なくとも一方が
低級アルキルカルボニル基である本発明化合物及
びそのエナンシオマーは、上記EE基の脱離反応
により得られるジオールに低級アルキルカルボン
酸もしくはその官能基誘導体例えば酸無水物又は
酸ハライド等をエステル化反応させることにより
収得される。このエステル化反応は常法に従つて
実施される。好ましくは例えば無水酢酸等の酸無
水物を利用し、ピリジン等の溶媒中、0℃〜室温
下に約2〜12時間程度撹拌することにより行なわ
れる。上記において低級アルキルカルボン酸もし
くはその官能基誘導体の使用量は、任意に決定で
き、これに応じてR1及びR2の両者もしくはいず
れか一方がエステル化された本発明化合物を収得
できる。またR1が低級アルキルカルボニル基及
びR2が水素原子である本発明化合物は、一般式
〔〕(R1=H,R2=EE)の化合物又はそのエナ
ンシオマーに、先ず上記エステル化反応を行な
い、R1が低級アルキルカルボニル基及びR2がEE
基である一般式〔〕の化合物又はそのエナンシ
オマーを得、次いでこれを脱EE反応させること
によつても収得できる。
低級アルキルカルボニル基である本発明化合物及
びそのエナンシオマーは、上記EE基の脱離反応
により得られるジオールに低級アルキルカルボン
酸もしくはその官能基誘導体例えば酸無水物又は
酸ハライド等をエステル化反応させることにより
収得される。このエステル化反応は常法に従つて
実施される。好ましくは例えば無水酢酸等の酸無
水物を利用し、ピリジン等の溶媒中、0℃〜室温
下に約2〜12時間程度撹拌することにより行なわ
れる。上記において低級アルキルカルボン酸もし
くはその官能基誘導体の使用量は、任意に決定で
き、これに応じてR1及びR2の両者もしくはいず
れか一方がエステル化された本発明化合物を収得
できる。またR1が低級アルキルカルボニル基及
びR2が水素原子である本発明化合物は、一般式
〔〕(R1=H,R2=EE)の化合物又はそのエナ
ンシオマーに、先ず上記エステル化反応を行な
い、R1が低級アルキルカルボニル基及びR2がEE
基である一般式〔〕の化合物又はそのエナンシ
オマーを得、次いでこれを脱EE反応させること
によつても収得できる。
上記により得られる本発明化合物は、通常の分
離手段により単離精製することができる。該分離
手段としては抽出法、蒸留法、再結晶法、カラム
クロマトグラフイー、之等の組み合せ等を例示す
ることができる。
離手段により単離精製することができる。該分離
手段としては抽出法、蒸留法、再結晶法、カラム
クロマトグラフイー、之等の組み合せ等を例示す
ることができる。
以下本発明化合物からの蚊の産卵誘引フエロモ
ンの合成例につき詳述する。
ンの合成例につき詳述する。
まず本発明化合物〔〕(R1=R2=低級アルキ
ルカルボニル)を酸化してその二重結合を切断す
る。この酸化反応は一般的方法に従い実施できる
が、好ましくはシヤープレスら(K.B.Sharpless
et al)により接触RuO4酸化〔J.Org.Chem.,46,
3936(1981)〕に準じて行なわれる。該接触RuO4
酸化は、過沃素酸ナトリウム等の酸化剤の存在
下、四塩化炭素、アセトニトリル及び水溶媒中、
塩化ルテニウム(RuCl3)触媒を用いて室温撹拌
下に行なわれる。該反応により一般式〔〕(R1
=R2″=低級アルキルカルボニル基)であるカル
ボン酸を得る。
ルカルボニル)を酸化してその二重結合を切断す
る。この酸化反応は一般的方法に従い実施できる
が、好ましくはシヤープレスら(K.B.Sharpless
et al)により接触RuO4酸化〔J.Org.Chem.,46,
3936(1981)〕に準じて行なわれる。該接触RuO4
酸化は、過沃素酸ナトリウム等の酸化剤の存在
下、四塩化炭素、アセトニトリル及び水溶媒中、
塩化ルテニウム(RuCl3)触媒を用いて室温撹拌
下に行なわれる。該反応により一般式〔〕(R1
=R2″=低級アルキルカルボニル基)であるカル
ボン酸を得る。
次いで上記カルボン酸を加水分解して一般式
〔〕(R1=R2″=OH)のジヒドロキシ酸とする。
この反応は通常の加水分解反応条件下に行なわれ
る。好ましくは炭酸カリウム等の塩基性化合物を
用いて、メタノール等の適当な溶媒中で行なわれ
る。
〔〕(R1=R2″=OH)のジヒドロキシ酸とする。
この反応は通常の加水分解反応条件下に行なわれ
る。好ましくは炭酸カリウム等の塩基性化合物を
用いて、メタノール等の適当な溶媒中で行なわれ
る。
得られるジヒドロキシ酸を、次いで加熱環化
(ラクトン化)させることにより、一般式〔〕
(R2′=OH)のヒドロキシラクトンが得られ、こ
れをアセチル化することにより、目的とする6−
アセトキシ−5−ヘキサデカノライド〔〕
(R2′=アセチル基)を収得できる。上記ラクトン
化及びアセチル化は、いずれも通常の方法に従つ
て行なわれる。好ましくは上記ラクトン化は約
150〜170℃で約10〜30分間加熱することにより、
またアセチル化は、過剰量の無水酢酸を用いて、
ピリジン中、約0℃〜室温下に一夜撹拌すること
により行なわれる。
(ラクトン化)させることにより、一般式〔〕
(R2′=OH)のヒドロキシラクトンが得られ、こ
れをアセチル化することにより、目的とする6−
アセトキシ−5−ヘキサデカノライド〔〕
(R2′=アセチル基)を収得できる。上記ラクトン
化及びアセチル化は、いずれも通常の方法に従つ
て行なわれる。好ましくは上記ラクトン化は約
150〜170℃で約10〜30分間加熱することにより、
またアセチル化は、過剰量の無水酢酸を用いて、
ピリジン中、約0℃〜室温下に一夜撹拌すること
により行なわれる。
上記各反応工程ではいずれも原料化合物の立体
特性は損なわれず、従つて一般式〔〕の本発明
化合物即ち7S,8R−体からは、一般式〔〕の
5S,6R−体を経て、一般式〔〕の目的物即ち
5S,6R−体が非常に高い光学純度で、しかも高
収率で収得できる。また一般式〔〕の本発明化
合物のエナンシオマー即ち7R,8S−体からは、
同様にして目的とする5R,6S−体が略々同様に
極めて高い光学純度及び収率をもつて製造でき
る。
特性は損なわれず、従つて一般式〔〕の本発明
化合物即ち7S,8R−体からは、一般式〔〕の
5S,6R−体を経て、一般式〔〕の目的物即ち
5S,6R−体が非常に高い光学純度で、しかも高
収率で収得できる。また一般式〔〕の本発明化
合物のエナンシオマー即ち7R,8S−体からは、
同様にして目的とする5R,6S−体が略々同様に
極めて高い光学純度及び収率をもつて製造でき
る。
得られる6−アセトキシ−5−ヘキサデカノラ
イドは、反応系より常法に従い、クロマトグラフ
イー、再結晶等により単離精製され、(5S,6R)
−(+)−体及び(5R,6S)−(−)−体のいずれも
蚊の産卵誘引フエロモンとして活性を有し、特に
(−)−体は(+)一体に比しその活性が約6倍高
く、誘引剤として例えば害虫駆除分野において有
用なものである。
イドは、反応系より常法に従い、クロマトグラフ
イー、再結晶等により単離精製され、(5S,6R)
−(+)−体及び(5R,6S)−(−)−体のいずれも
蚊の産卵誘引フエロモンとして活性を有し、特に
(−)−体は(+)一体に比しその活性が約6倍高
く、誘引剤として例えば害虫駆除分野において有
用なものである。
以下本発明を更に詳しく説明するため、本発明
化合物の製造例を実施例として挙げ、引き続き該
化合物からの6−アセトキシ−5−ヘキデカノラ
イドの製造例を参考例として挙げる。尚各例にお
いて赤外線吸収スペクトル(IR)は油状物の場
合フイルムとして、結晶の場合ヌジヨールとし
て、ジヤスコ(Jasco)A−102スペクトロメー
ターで測定した。核磁気共鳴スペクトル
(NMR)は、特に断わらない限り、60MHzで、
TMSを内部標準試薬として、日立R−24Aスペ
クトロメーターで測定した。旋光度はジヤスコ
(Jasco)DIP−140旋光度計により測定した。
HPLC分析は島津LC−2クロマトグラフにより
測定した。
化合物の製造例を実施例として挙げ、引き続き該
化合物からの6−アセトキシ−5−ヘキデカノラ
イドの製造例を参考例として挙げる。尚各例にお
いて赤外線吸収スペクトル(IR)は油状物の場
合フイルムとして、結晶の場合ヌジヨールとし
て、ジヤスコ(Jasco)A−102スペクトロメー
ターで測定した。核磁気共鳴スペクトル
(NMR)は、特に断わらない限り、60MHzで、
TMSを内部標準試薬として、日立R−24Aスペ
クトロメーターで測定した。旋光度はジヤスコ
(Jasco)DIP−140旋光度計により測定した。
HPLC分析は島津LC−2クロマトグラフにより
測定した。
実施例 1
1,2−エポキシ−3−トリデカノールの合
成 (a) (2S,3R)−異性体 Ti(i−PrO4)414.9ml及びジイソプロピルD−
(−)−酒石酸エステル12.5mlを、冷却した乾燥
CH2Cl2500ml中にアルゴン雰囲気下、撹拌下に、
−23℃(ドライアイス及びCCl4)に冷却しつつ
加えた。混合物を5分撹拌し、引き続き(±)−
1−トリデセン−3−オールの9.92g及び
CH2Cl2の7.32M(13.7ml)に溶かしたt−
BuOOHを、撹拌冷却混合物に加えた。添加後、
反応混合物をデイープフリーザー内で、−20℃で
17時間放置した。フラスコを次いで再度撹拌下に
−23℃に冷却した。撹拌され、冷却された混合物
に、10%L−(+)−酒石酸のH20 225ml溶液を加
えた。撹拌を−23℃で30分、次いで室温で1.5時
間続けた。有機溶液を分離し、水洗し、Na2SO4
で乾燥して真空下に濃縮した。残渣をエーテル
375mlで希釈し、撹拌下に0〜5℃に冷却した。
これを1N−NaOHの150mlと混合し、混合物を0
〜5℃で30分撹拌した。エーテル溶液をNaCl水
溶液で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、真空下に濃縮
した。残渣をクロマトグラフイ(SiO2)により
精製し、蒸留して、2.99g(収率55.7%)の
(2S,3R)−1,2−エポキシ−3−トリデカノ
ールを得た。
成 (a) (2S,3R)−異性体 Ti(i−PrO4)414.9ml及びジイソプロピルD−
(−)−酒石酸エステル12.5mlを、冷却した乾燥
CH2Cl2500ml中にアルゴン雰囲気下、撹拌下に、
−23℃(ドライアイス及びCCl4)に冷却しつつ
加えた。混合物を5分撹拌し、引き続き(±)−
1−トリデセン−3−オールの9.92g及び
CH2Cl2の7.32M(13.7ml)に溶かしたt−
BuOOHを、撹拌冷却混合物に加えた。添加後、
反応混合物をデイープフリーザー内で、−20℃で
17時間放置した。フラスコを次いで再度撹拌下に
−23℃に冷却した。撹拌され、冷却された混合物
に、10%L−(+)−酒石酸のH20 225ml溶液を加
えた。撹拌を−23℃で30分、次いで室温で1.5時
間続けた。有機溶液を分離し、水洗し、Na2SO4
で乾燥して真空下に濃縮した。残渣をエーテル
375mlで希釈し、撹拌下に0〜5℃に冷却した。
これを1N−NaOHの150mlと混合し、混合物を0
〜5℃で30分撹拌した。エーテル溶液をNaCl水
溶液で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、真空下に濃縮
した。残渣をクロマトグラフイ(SiO2)により
精製し、蒸留して、2.99g(収率55.7%)の
(2S,3R)−1,2−エポキシ−3−トリデカノ
ールを得た。
b.p.112〜113℃/0.35mmHg
m.p.25〜26℃
〔α〕20 D=−16.6゜(c=1.12,CHCl3)
νnax=3400(s),1065(m),850(m),835(m)cm-1
δ(CDCl3)=0.89(3H,deformed t,J=7
Hz) 1.0〜1.7(18H,br.) 2.02(1H,br.) 2.60〜3.08(3H,m) 3.80(1H,m) 実測値:C=72.78;H=12.22% C13H26O2としての計算値: C=72.84;H=12.23% 上記で得た(2S,3R)−1,2−エポキシ−3
−トリデカノール(〔α〕20 D=−16.1゜(C=2.48,
CHCl3))試料の光学純度を、対応する(S)−α−
メトキシ−α−トリフルオロメチルフエニルアセ
テート(MTPAエステル)のHPLC分析(カラ
ム;パーテイシル5,24×4.6mm、溶媒;n−ヘ
キサン:ClCH2CH2Cl=2:1混液、30Kg/cm2、
217nm検出)により測定した。
Hz) 1.0〜1.7(18H,br.) 2.02(1H,br.) 2.60〜3.08(3H,m) 3.80(1H,m) 実測値:C=72.78;H=12.22% C13H26O2としての計算値: C=72.84;H=12.23% 上記で得た(2S,3R)−1,2−エポキシ−3
−トリデカノール(〔α〕20 D=−16.1゜(C=2.48,
CHCl3))試料の光学純度を、対応する(S)−α−
メトキシ−α−トリフルオロメチルフエニルアセ
テート(MTPAエステル)のHPLC分析(カラ
ム;パーテイシル5,24×4.6mm、溶媒;n−ヘ
キサン:ClCH2CH2Cl=2:1混液、30Kg/cm2、
217nm検出)により測定した。
その結果該試料の光学純度は92.1%であつた。
(b) (2R,3S)−異性体
ジイソプロピルL−(+)−酒石酸を用い、上記
と同様にして(3R,3S)−1.2−エポキシ−3−
トリデカノールの2.70g(収率50.2%)を得た。
と同様にして(3R,3S)−1.2−エポキシ−3−
トリデカノールの2.70g(収率50.2%)を得た。
b.p.=109〜110℃/0.25mmHg
m.p.25〜26℃
〔α〕20 D=+16.2゜(c=1.01,CHCl3)
実測値:C=72.79;H=12.20%
C13H26O2としての計算値:
C=72.84;H=12.23%
上記(2R,3S)−1,2−エポキシ−3−トリ
デカノール(〔α〕20 D=+15.7゜(C=2.09,CHCl3)
)
の光学純度を、上記(a)と同条件下に測定した。そ
の結果光学純度は86.6%であつた。
デカノール(〔α〕20 D=+15.7゜(C=2.09,CHCl3)
)
の光学純度を、上記(a)と同条件下に測定した。そ
の結果光学純度は86.6%であつた。
1,2−エポキシ−3−トリデカノール エ
トキシエチル(EE)エーテルの合成 (a) (2S,3R)−異性体 エチルビニルエーテル13ml及びp−トルエンス
ルホン酸30mgを、撹拌され、且つ冷却された
(2S,3R)−1,2−エポキシ−3−トリデカノ
ールの2.99gの乾燥エーテル4ml溶液中に加え
た。撹拌を0〜5℃で4時間、次いで室温で1時
間続けた。混合物をNaHCO3溶液及びNaCl水溶
液で洗浄し、MgSO4で乾燥し、真空下に濃縮し
た。残渣をクロマトグラフイ(SiO2)で精製し、
蒸留して(2S,3R)−1,2−エポキシ−3−ト
リデカノールEEエーテルの3.68g(収率85.1%)
を得た。
トキシエチル(EE)エーテルの合成 (a) (2S,3R)−異性体 エチルビニルエーテル13ml及びp−トルエンス
ルホン酸30mgを、撹拌され、且つ冷却された
(2S,3R)−1,2−エポキシ−3−トリデカノ
ールの2.99gの乾燥エーテル4ml溶液中に加え
た。撹拌を0〜5℃で4時間、次いで室温で1時
間続けた。混合物をNaHCO3溶液及びNaCl水溶
液で洗浄し、MgSO4で乾燥し、真空下に濃縮し
た。残渣をクロマトグラフイ(SiO2)で精製し、
蒸留して(2S,3R)−1,2−エポキシ−3−ト
リデカノールEEエーテルの3.68g(収率85.1%)
を得た。
b.p.107〜112℃/0.35mmHg
n21.5 D=1.4359
νnax=1130(m),1090(m),1060(m)cm-1
δ(CCl4)=2.5〜2.8(3H,m)
3.0〜3.7(3H,m)
4.62(1H,m)
実測値:C=71.58;H=12.06%
計算値 C17H34O3として
C=71.28;H=11.96%
(b) (2R,3S)−異性体
上記−(a)と同様にして(3R,3S)−1,2−
エポキシ−3−トリデカノールの2.70gより
(2R,3S)−1,2−エポキシ−3−トリデカノ
ール EEエーテルの3.33g(収率85.3%)を得
た。
エポキシ−3−トリデカノールの2.70gより
(2R,3S)−1,2−エポキシ−3−トリデカノ
ール EEエーテルの3.33g(収率85.3%)を得
た。
b.p.107〜112゜/0.35mmHg
n21.5 D=1.4359
実測値:C=71.29;H=12.14
計算値(C17H34O3として):
C=71.28;H=11.96%
2−メチル−2−オクタデセン−7.8−ジオ
ール 8−エトキシエチル(EE)エーテルの
合成 (a) (7S,8R)−異性体 Me2C=CH(CH2)2MgBrの乾燥THF(1.23M,
33ml)溶液を、撹拌され且つ冷却(ドライアイス
及びジエチルケトン)されたCu2Br2550gの乾燥
THF8ml懸濁液中に、アルゴン雰囲気下、−30℃
で滴下した。撹拌を10分間続けた。(2S,3R)−
1,2−エポキシ−3−トリデカノールEEエー
テルの3.68gの乾燥THF(5ml)溶液を、撹拌さ
れ且つ冷却された混合物に、−30℃で滴下した。
撹拌を一夜続け、温度を0℃に徐々に戻した。混
合物を飽和NH4Cl溶液150ml中に注ぎ、n−ヘキ
サン600mlで抽出した。抽出物をMgSO4で乾燥
し、真空下濃縮した。残渣をクロマトグラフイ
(SiO2)により精製して、(7S,8R)−2−メチル
−2−オクタデセン−7,8−ジオール 8−
EEエーテルの4.47g(収率94.5%)を得た。
ール 8−エトキシエチル(EE)エーテルの
合成 (a) (7S,8R)−異性体 Me2C=CH(CH2)2MgBrの乾燥THF(1.23M,
33ml)溶液を、撹拌され且つ冷却(ドライアイス
及びジエチルケトン)されたCu2Br2550gの乾燥
THF8ml懸濁液中に、アルゴン雰囲気下、−30℃
で滴下した。撹拌を10分間続けた。(2S,3R)−
1,2−エポキシ−3−トリデカノールEEエー
テルの3.68gの乾燥THF(5ml)溶液を、撹拌さ
れ且つ冷却された混合物に、−30℃で滴下した。
撹拌を一夜続け、温度を0℃に徐々に戻した。混
合物を飽和NH4Cl溶液150ml中に注ぎ、n−ヘキ
サン600mlで抽出した。抽出物をMgSO4で乾燥
し、真空下濃縮した。残渣をクロマトグラフイ
(SiO2)により精製して、(7S,8R)−2−メチル
−2−オクタデセン−7,8−ジオール 8−
EEエーテルの4.47g(収率94.5%)を得た。
(b) (7R,8S)−異性体
上記と同様にして、(3R,3S)−1,2−エポ
キシ−3−トリデカノールEEエーテルの3.33g
から、(7R,8S)−2−メチル−2−オクタデセ
ン−7,8−ジオール EEエーテルの4.16g
(収率96.4%)を得た。
キシ−3−トリデカノールEEエーテルの3.33g
から、(7R,8S)−2−メチル−2−オクタデセ
ン−7,8−ジオール EEエーテルの4.16g
(収率96.4%)を得た。
実施例 2
2−メチル−2−オクタデセン−7,8−ジオ
ールの合成 (a) (7S,8R)−異性体 (7S,8R)−2−メチル−2−オクタデセン−
7,8−ジオール EEエーテル4.47gのTHF20
ml及び0.5NHCl4ml溶液を0℃で1時間、次いで
室温で1時間撹拌した。該液を次いで飽和
NaHCO3溶液で中和し、エーテル抽出した。エ
ーテル溶液をMgSO4で乾燥し、真空濃縮して、
結晶形態の(7S,8R)−2−メチル−2−オクタ
デセン−7,8−ジオールの3.40g(収率94.4
%)を得た。分析用試料をn−ヘキサンから再結
晶した。
ールの合成 (a) (7S,8R)−異性体 (7S,8R)−2−メチル−2−オクタデセン−
7,8−ジオール EEエーテル4.47gのTHF20
ml及び0.5NHCl4ml溶液を0℃で1時間、次いで
室温で1時間撹拌した。該液を次いで飽和
NaHCO3溶液で中和し、エーテル抽出した。エ
ーテル溶液をMgSO4で乾燥し、真空濃縮して、
結晶形態の(7S,8R)−2−メチル−2−オクタ
デセン−7,8−ジオールの3.40g(収率94.4
%)を得た。分析用試料をn−ヘキサンから再結
晶した。
m.p.87〜88℃
〔α〕20.8 D−1.07゜(c=0.80,CHCl3)
νnax=3320(s),3230(s),1070(s),cm-1
δ(100MHz,CDCl3)0.84(3H,deformedt,
J=7Hz)、1.0〜1.5(−22H)、1.56(3H,
s)、1.60(3H,s)、1.7〜2.3(2H)、1.96
(2H,s)、3.40(2H,m)、4.85(1H,m) MS:m/z298.2890(計算値C19H23O2として
298.2872) (b) (7R,8S)−異性体 上記と同様にして、(7R,8S)−2−メチル−
2−オクタデセン−7,8−ジオール EEエー
テル4.16gから(7R,8S)−2−メチル−2−オ
クタデセン−7,8−ジオールの3.28g(収率
97.9%)を得た。
J=7Hz)、1.0〜1.5(−22H)、1.56(3H,
s)、1.60(3H,s)、1.7〜2.3(2H)、1.96
(2H,s)、3.40(2H,m)、4.85(1H,m) MS:m/z298.2890(計算値C19H23O2として
298.2872) (b) (7R,8S)−異性体 上記と同様にして、(7R,8S)−2−メチル−
2−オクタデセン−7,8−ジオール EEエー
テル4.16gから(7R,8S)−2−メチル−2−オ
クタデセン−7,8−ジオールの3.28g(収率
97.9%)を得た。
m.p.87〜88℃
〔α〕21.5 D=+1.08゜(c=1.02,CHCl3)
MS:m/z=298.2838(計算値C19H38O2
として:298.2871) 実施例 3 2−メチル−2−オクタデセン−7,8−ジオ
ール ジアセテートの合成 (a) (7S,8R)−異性体 無水酢酸8mlを(7S,8R)−2−メチル−2−
オクタデセン−7,8−ジオール3.21gのピリジ
ン25ml溶液中に撹拌下添加した。室温で4時間撹
拌後、4−N,N−ジメチルアミノピリジン
(DMAP、微量)を混合物に加え、撹拌を30分続
けた。混合物を次いでエーテル200mlで希釈し、
1N−HCl溶液、CuSO4溶液、飽和NaHCO3溶液、
水及びNaCl水溶液で順次洗浄し、MgSO4で乾燥
し、真空濃縮した。残渣をクロマトグラフイー
(SiO2)で精製し、蒸留して(7S,8R)−2−メ
チル−2−オクタデセン−7,8−ジオール ジ
アセテートの2.28g(収率55.5%)を得た。
として:298.2871) 実施例 3 2−メチル−2−オクタデセン−7,8−ジオ
ール ジアセテートの合成 (a) (7S,8R)−異性体 無水酢酸8mlを(7S,8R)−2−メチル−2−
オクタデセン−7,8−ジオール3.21gのピリジ
ン25ml溶液中に撹拌下添加した。室温で4時間撹
拌後、4−N,N−ジメチルアミノピリジン
(DMAP、微量)を混合物に加え、撹拌を30分続
けた。混合物を次いでエーテル200mlで希釈し、
1N−HCl溶液、CuSO4溶液、飽和NaHCO3溶液、
水及びNaCl水溶液で順次洗浄し、MgSO4で乾燥
し、真空濃縮した。残渣をクロマトグラフイー
(SiO2)で精製し、蒸留して(7S,8R)−2−メ
チル−2−オクタデセン−7,8−ジオール ジ
アセテートの2.28g(収率55.5%)を得た。
b.p.142〜145゜/0.08mmHg
n21.5 D=1.4479
〔α〕21.5 D=+1.26゜(c=1.19,CHCl3)
νnax=1743(s)、1368(m)、1242(s)、1225(s)、1020
(m)cm-1 δ(CCl4)=0.88(3H,deformed t,J=7
Hz)、1.1〜1.5(〜22H)、1.58(3H,s)、1.66
(3H,s)、1.98(3H,s)、1.85〜2.20(2H)、
4.7〜5.3(3H,m) 実測値:C=72.38;H=11.16% 計算値 C23H42O4として: C=72.20;H=11.07% (b) (7R,8S)−異性体 上記と同様にして、(7R,8S)−2−メチル−
2−オクタデセン−7,8−ジオール3.21gから
(7R,8S)−2−メチル−2−オクタデセン−7,
8−ジオール ジアセテートの2.93g(収率71
%)を得た。
(m)cm-1 δ(CCl4)=0.88(3H,deformed t,J=7
Hz)、1.1〜1.5(〜22H)、1.58(3H,s)、1.66
(3H,s)、1.98(3H,s)、1.85〜2.20(2H)、
4.7〜5.3(3H,m) 実測値:C=72.38;H=11.16% 計算値 C23H42O4として: C=72.20;H=11.07% (b) (7R,8S)−異性体 上記と同様にして、(7R,8S)−2−メチル−
2−オクタデセン−7,8−ジオール3.21gから
(7R,8S)−2−メチル−2−オクタデセン−7,
8−ジオール ジアセテートの2.93g(収率71
%)を得た。
b.p.144〜146℃/0.12mmHg
n21.1 D=1.4477
〔α〕20.8 D=−1.28゜(c=1.09,CHCl3)
実測値:C=72.34;H=11.10%
計算値 C23H24O4として:
C=72.20;H=11.07%
参考例 1
5,6−ジアセトキシヘキサデカン酸の合成
(a) (5S,6R)−異性体
(7S,8R)−2−メチル−2−オクタデセン−
7,8−ジオール ジアセテート1.16g及び
NaIO42.63gのCCl46ml−MeCN6ml−H2O9ml溶
液に、激しい撹拌下に、RuCl3・(H2O)oの16mg
を添加した。撹拌を4.5時間続けた。混合物を次
いでCH2Cl240ml及びH2O15mlで希釈し、有機層
を分離し、水層をCH2Cl2で抽出した。有機溶液
を集め、MgSO4で乾燥し、真空濃縮した。残渣
をエーテル60mlで希釈し、セライト過した。エ
ーテル溶液をMgSO4で乾燥し、真空濃縮して暗
色油状の(5S,6R)−5,6−ジアセトキシヘキ
サデカン酸1.09g(収率96.6%)を得た。これは
更に精製することなく次工程に用いた。
7,8−ジオール ジアセテート1.16g及び
NaIO42.63gのCCl46ml−MeCN6ml−H2O9ml溶
液に、激しい撹拌下に、RuCl3・(H2O)oの16mg
を添加した。撹拌を4.5時間続けた。混合物を次
いでCH2Cl240ml及びH2O15mlで希釈し、有機層
を分離し、水層をCH2Cl2で抽出した。有機溶液
を集め、MgSO4で乾燥し、真空濃縮した。残渣
をエーテル60mlで希釈し、セライト過した。エ
ーテル溶液をMgSO4で乾燥し、真空濃縮して暗
色油状の(5S,6R)−5,6−ジアセトキシヘキ
サデカン酸1.09g(収率96.6%)を得た。これは
更に精製することなく次工程に用いた。
(b) (5R,6S)−異性体
上記と同様にして(7R,8S)−2−メチル−2
−オクタデセン−7,8−ジオール ジアセテー
ト1.15gから(5R,6S)−5,6−ジアセトキシ
ヘキサデカン酸1.09g(収率97.3%)を得た。
−オクタデセン−7,8−ジオール ジアセテー
ト1.15gから(5R,6S)−5,6−ジアセトキシ
ヘキサデカン酸1.09g(収率97.3%)を得た。
5,6−ジヒドロキシヘキサデカン酸の合成
(a) (5S,6R)−異性体
K2CO31.0gを、(5S,6R)−5,6−ジアセト
キシヘキサデカン酸1.09gのメタノール15ml溶液
に添加した。混合物を室温下2時間撹拌し、
H2O100mlで希釈し、1N−HClでPH2に酸性化
し、エーテル抽出した。エーテル溶液をMgSO4
で乾燥し、真空濃縮して(5S,6R)−5,6−ジ
ヒドロキシヘキサデカン酸固体950mg(定量的)
を得た。その一部500mgをEtOH−石油エーテル
から2回再結晶化して純粋な(5S,6R)−5,6
−ジヒドロキシヘキサデカン酸169.4mgを得た。
キシヘキサデカン酸1.09gのメタノール15ml溶液
に添加した。混合物を室温下2時間撹拌し、
H2O100mlで希釈し、1N−HClでPH2に酸性化
し、エーテル抽出した。エーテル溶液をMgSO4
で乾燥し、真空濃縮して(5S,6R)−5,6−ジ
ヒドロキシヘキサデカン酸固体950mg(定量的)
を得た。その一部500mgをEtOH−石油エーテル
から2回再結晶化して純粋な(5S,6R)−5,6
−ジヒドロキシヘキサデカン酸169.4mgを得た。
m.p.135〜138℃
〔α〕20 D=+2.36゜(c=0.51,MeOH)
νnax=3260(s)、3160(s)、1710(s)、1695(s)、1070
(s)、1035(m)、935(m)cm-1 δ(C5D5N)=0.86(3H,deformed t,J=7
Hz)、3.90(2H,br)、8.20(3H,br) 実測値:C=66.83;H=11.03% 計算値 C16H32O4として: C=66.63;H=11.18% (b) (5R,6S)−異性体 上記と同様にして(5R,6S)−5,6−ジアセ
トキシヘキサデカン酸の1.09gから粗製(5R,
6S)−5,6−ジヒドロキシヘキサデカン酸860
mg(定量的)を得た。その一部500mgを2回再結
晶化して(5R,6S)−5,6−ジヒドロキシヘキ
サデカン酸板状晶140.3mgを得た。
(s)、1035(m)、935(m)cm-1 δ(C5D5N)=0.86(3H,deformed t,J=7
Hz)、3.90(2H,br)、8.20(3H,br) 実測値:C=66.83;H=11.03% 計算値 C16H32O4として: C=66.63;H=11.18% (b) (5R,6S)−異性体 上記と同様にして(5R,6S)−5,6−ジアセ
トキシヘキサデカン酸の1.09gから粗製(5R,
6S)−5,6−ジヒドロキシヘキサデカン酸860
mg(定量的)を得た。その一部500mgを2回再結
晶化して(5R,6S)−5,6−ジヒドロキシヘキ
サデカン酸板状晶140.3mgを得た。
m.p.136.5〜138℃
〔α〕20 D=−2.39゜(c=0.55,MeOH)
実測値:C=66.65;H=11.33%
計算値 C16H32O4として:
C=66.63;H=11.18%
エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデカ
ノライドの合成 (a) (5S,6R)−異性体 (5S,6R)−5,6−ジヒドロキシヘキサデカ
ン酸34.6mgを減圧下に160℃で20分加熱した。残
渣をTLCで精製して(5S,6R)−エリスロ−6
−ヒドロキシ−5−ヘキサデカノライド28.3mg
(収率87.3%)を得た。この粗製ラクトンの39.1
mgをn−ヘキサンから再結晶して純粋な(5S,
6R)−エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデ
カノライド28.3mgを得た。
ノライドの合成 (a) (5S,6R)−異性体 (5S,6R)−5,6−ジヒドロキシヘキサデカ
ン酸34.6mgを減圧下に160℃で20分加熱した。残
渣をTLCで精製して(5S,6R)−エリスロ−6
−ヒドロキシ−5−ヘキサデカノライド28.3mg
(収率87.3%)を得た。この粗製ラクトンの39.1
mgをn−ヘキサンから再結晶して純粋な(5S,
6R)−エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデ
カノライド28.3mgを得た。
m.p.66.5〜68℃
〔α〕20 D=+12.7゜(c=0.96,CHCl3)
νnax(KBr)=3440(m)、2920(s)、2850(m)、1751
(s)、1265(m)1055(m)cm-1 δ(400MHz,CDCl3)=0.88(3H,t,J=7
Hz)、1.26(16H,br s)、1.42〜1.56(2H,
m)、1.73〜1.90(3H,m)、1.94〜2.01(1H,
m)、2.03(1H,d,J=6Hz)、2.40〜2.50
(1H,m)、2.57〜2.66(1H,m)、3.82(1H,
m)、4.25(1H,dt,J1=12.J2=8Hz) 実測値:C=71.33;H=11.08% 計算値 C16H30O3として: C=71.07;H=11.18% 上記で得た(5S,6R)−エリスロ−6−ヒドロ
キシ−5−ヘキサデカノライドの光学純度を、対
応する(R)−MTPAエステルのNMRスペクトル分
析(400MHz)により測定した所、該エステルは、
(5R,6S)−エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘ
キサデカノライドの(R)−MTPAを含んでいない
ことが確認された。
(s)、1265(m)1055(m)cm-1 δ(400MHz,CDCl3)=0.88(3H,t,J=7
Hz)、1.26(16H,br s)、1.42〜1.56(2H,
m)、1.73〜1.90(3H,m)、1.94〜2.01(1H,
m)、2.03(1H,d,J=6Hz)、2.40〜2.50
(1H,m)、2.57〜2.66(1H,m)、3.82(1H,
m)、4.25(1H,dt,J1=12.J2=8Hz) 実測値:C=71.33;H=11.08% 計算値 C16H30O3として: C=71.07;H=11.18% 上記で得た(5S,6R)−エリスロ−6−ヒドロ
キシ−5−ヘキサデカノライドの光学純度を、対
応する(R)−MTPAエステルのNMRスペクトル分
析(400MHz)により測定した所、該エステルは、
(5R,6S)−エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘ
キサデカノライドの(R)−MTPAを含んでいない
ことが確認された。
δ(400MHz,CDCl3)=0.89(3H,t,J=7
Hz)、〜1.25(16H,br.)、1.51〜1.96(6H,
m)、2.31(1H,dq,J1=14,J2=8Hz)、
2.54〜2.63(1H,m)、3.508(3H,s,
OMe)、4.45(1H,dt,J1=14.J2=5Hz)、
5.32(1H,m)、7.40(3H,m)、7.54(2H,
m) (b) (5R,6S)−異性体 上記と同様にして(5R,6S)−5,6−ジヒド
ロキシヘキサデカン酸26.5mgから(5R,6S)−エ
リスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデカノライ
ド24.9mg(収率〜100%)を得た。
Hz)、〜1.25(16H,br.)、1.51〜1.96(6H,
m)、2.31(1H,dq,J1=14,J2=8Hz)、
2.54〜2.63(1H,m)、3.508(3H,s,
OMe)、4.45(1H,dt,J1=14.J2=5Hz)、
5.32(1H,m)、7.40(3H,m)、7.54(2H,
m) (b) (5R,6S)−異性体 上記と同様にして(5R,6S)−5,6−ジヒド
ロキシヘキサデカン酸26.5mgから(5R,6S)−エ
リスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデカノライ
ド24.9mg(収率〜100%)を得た。
m.p.67〜68℃
〔α〕20 D−12.5゜(c=0.54,CHCl3)
実測値:C=70.86;H=11.02%
計算値 C16H30O3として:
C=71.07;H=11.18%
得られた(5R,6S)−エリスロ−6−ヒドロキ
シ−5−ヘキサデカノライドを対応する(R)−
MTPAエステルに変換し、そのNMR分析を行な
つた。
シ−5−ヘキサデカノライドを対応する(R)−
MTPAエステルに変換し、そのNMR分析を行な
つた。
δ(400MHz,CDCl3)=0.885(3H,t,J=7
Hz)、〜1.25(16H,br)、1.45〜1.90(6H,
m)、2.20(1H,dq,J1=14.J2=8Hz)、2.47
〜2.56(1H,m)、3.508(0.03H,s,−
0Me)、3.570(2.97H,s,−OMe)、4.35
(1H,dt,J1=14,J2=5Hz)、5.35(1H,
dt,J1=J2=5Hz)、7.39(3H,m)、7.54
(2H,m) 上記より(5R,6S)−エリスロ−6−ヒドロキ
シ−5−ヘキサデカノライドの光学純度は98%以
上と測定された。
Hz)、〜1.25(16H,br)、1.45〜1.90(6H,
m)、2.20(1H,dq,J1=14.J2=8Hz)、2.47
〜2.56(1H,m)、3.508(0.03H,s,−
0Me)、3.570(2.97H,s,−OMe)、4.35
(1H,dt,J1=14,J2=5Hz)、5.35(1H,
dt,J1=J2=5Hz)、7.39(3H,m)、7.54
(2H,m) 上記より(5R,6S)−エリスロ−6−ヒドロキ
シ−5−ヘキサデカノライドの光学純度は98%以
上と測定された。
エリスロ−6−アセトキシ−5−ヘキサデカ
ノライドの合成 再結晶ラクトン(5S,6R)−エリスロ−6−ヒ
ドロキシ−5−ヘキサデカノライドの34mgを、無
水酢酸の0.1ml及びピリジンの1mlと混合した。
溶液を室温下1夜放置して、(5S,6R)−エリス
ロ−6−アセトキシ−5−ヘキサデカノライド
35.5mg(収率90%)を得た。
ノライドの合成 再結晶ラクトン(5S,6R)−エリスロ−6−ヒ
ドロキシ−5−ヘキサデカノライドの34mgを、無
水酢酸の0.1ml及びピリジンの1mlと混合した。
溶液を室温下1夜放置して、(5S,6R)−エリス
ロ−6−アセトキシ−5−ヘキサデカノライド
35.5mg(収率90%)を得た。
〔α〕D=+38.8゜(c=1.21,CHCl3)
また(5S,6R)−5,6−ジヒドロキシヘキサ
デカン酸55.0mgをピリジン3.1mlに溶かした液に
無水酢酸の0.65mlを、撹拌下0〜5℃下に加え
た。撹拌を3時間続けた。混合物を次いでエーテ
ル20mlで希釈した。エーテル溶液を2N−HCl、
H2O、CuSO4溶液、H2O、飽和NaHCO3溶液及
びNaCl水溶液で順次洗浄し、MgSO4で乾燥し真
空濃縮した。残渣をプレパラテイブTLCで精製
して(5S,6R)−エリスロ−6−アセトキシ−5
−ヘキサデカノライド43.4mg(収率80.1%)を得
た。
デカン酸55.0mgをピリジン3.1mlに溶かした液に
無水酢酸の0.65mlを、撹拌下0〜5℃下に加え
た。撹拌を3時間続けた。混合物を次いでエーテ
ル20mlで希釈した。エーテル溶液を2N−HCl、
H2O、CuSO4溶液、H2O、飽和NaHCO3溶液及
びNaCl水溶液で順次洗浄し、MgSO4で乾燥し真
空濃縮した。残渣をプレパラテイブTLCで精製
して(5S,6R)−エリスロ−6−アセトキシ−5
−ヘキサデカノライド43.4mg(収率80.1%)を得
た。
〔α〕21 D=+38.4゜(c=1.41,CHCl3)
νnax=2930(s),2850(m),1745(us)、1460(w)、
1370(m)、1225(s)、1190(w)、1160(w)、1050(m)、
1015(w)、950(w)、925(o)cm-1 δ(400MHz,CDCl3)=0.88(3H,t,J=7
Hz)、1.26(16H,br.s)、1.58〜1.70(3H,
m)、1.75〜1.88(1H,m)、1.88〜2.01(2H,
m)、2.08(3H,s)、2.40〜2.50(1H,m)、
2.56〜2.65(1H,m)、3.69(0.07H,m)、
4.35(0.93H,m)、4.86(0.07H,m)、4.95〜
5.01(0.93H,m) この試料は、エリスロ−6−アセトキシ−5−
ヘキサデカノライドのスレオ−6−アセトキシ−
5−ヘキサデカノライド7%を含んでいた。
1370(m)、1225(s)、1190(w)、1160(w)、1050(m)、
1015(w)、950(w)、925(o)cm-1 δ(400MHz,CDCl3)=0.88(3H,t,J=7
Hz)、1.26(16H,br.s)、1.58〜1.70(3H,
m)、1.75〜1.88(1H,m)、1.88〜2.01(2H,
m)、2.08(3H,s)、2.40〜2.50(1H,m)、
2.56〜2.65(1H,m)、3.69(0.07H,m)、
4.35(0.93H,m)、4.86(0.07H,m)、4.95〜
5.01(0.93H,m) この試料は、エリスロ−6−アセトキシ−5−
ヘキサデカノライドのスレオ−6−アセトキシ−
5−ヘキサデカノライド7%を含んでいた。
実測値:C=69.02;H=10.30%
計算値 C18H32O4として:
C=69.19;H=10.32%
(b) (5R,6S)−異性体
上記と同様にして、再結晶された(5R,6S)−
エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデカノラ
イド19.2mgを、無水酢酸0.1ml及びピリジンの1
mlで処理して、(5R,6S)−エリスロ−6−アセ
トキシ−5−ヘキサデカノライド16.4mg(収率72
%)を得た。
エリスロ−6−ヒドロキシ−5−ヘキサデカノラ
イド19.2mgを、無水酢酸0.1ml及びピリジンの1
mlで処理して、(5R,6S)−エリスロ−6−アセ
トキシ−5−ヘキサデカノライド16.4mg(収率72
%)を得た。
〔α〕D=−38.5゜(c=0.51(CHCl3)
これはスレオ−異性体を含んでいないことが確
認された。
認された。
また(6R,6S)−5,6−ジヒドロキシヘキサ
デカン酸50mgから(5R,6S)−エリスロ−6−ア
セトキシ−5−ヘキサデカノライド49.7mg(収率
83.4%)を得た。
デカン酸50mgから(5R,6S)−エリスロ−6−ア
セトキシ−5−ヘキサデカノライド49.7mg(収率
83.4%)を得た。
〔α〕21 D=−36.2゜(c=1.39,CHCl3)
この試料は、その400MHzでのNMRスペクト
ル分析よりスレオ−異性体14〜15%を含んてい
た。
ル分析よりスレオ−異性体14〜15%を含んてい
た。
δ(400MHz,CDCl3)=3.69(0.15H,m)、4.32
〜4.39(0.85H,m)、4.86(0.14H,m)、4.95
〜5.01(0.86H,m)、 実測値:C=69.34;H=10.17% 計算値 C18H32O4として: C=69.19;H=10.32%
〜4.39(0.85H,m)、4.86(0.14H,m)、4.95
〜5.01(0.86H,m)、 実測値:C=69.34;H=10.17% 計算値 C18H32O4として: C=69.19;H=10.32%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1は水素原子又は低級アルキルカルボ
ニル基及びR2は水素原子、低級アルキルカルボ
ニル基又はエトキシエチル基を示す。〕 で表わされるオクタデセン誘導体及びその鏡像
体。 2 式 で表わされるる1,2−エトキシ−3−トリデカ
ノールエトキシエチルエステル又はその鏡像体と
4−メチル−3−ペンテニルマグネシウムハライ
ドとをグリニヤール反応させ、次いで必要に応じ
て脱エトキシエチル化及び(又は)低級アルキル
カルボン酸もしくはその官能基誘導体によるエス
テル化反応を行なうことを特徴とする一般式 〔式中R1は水素原子又は低級アルキルカルボ
ニル基及びR2は水素原子、低級アルキルカルボ
ニル基又はエトキシエチル基を示す。〕 で表わされるオクタデセン誘導体又はその鏡像体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5474783A JPS59181229A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | オクタデセン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5474783A JPS59181229A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | オクタデセン誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59181229A JPS59181229A (ja) | 1984-10-15 |
| JPH0520417B2 true JPH0520417B2 (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=12979358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5474783A Granted JPS59181229A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | オクタデセン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59181229A (ja) |
-
1983
- 1983-03-29 JP JP5474783A patent/JPS59181229A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59181229A (ja) | 1984-10-15 |
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