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JPH0524600B2 - - Google Patents
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JPH0524600B2 - - Google Patents

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JPH0524600B2
JPH0524600B2 JP60025455A JP2545585A JPH0524600B2 JP H0524600 B2 JPH0524600 B2 JP H0524600B2 JP 60025455 A JP60025455 A JP 60025455A JP 2545585 A JP2545585 A JP 2545585A JP H0524600 B2 JPH0524600 B2 JP H0524600B2
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JP
Japan
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cell
cells
memory cell
test
written
Prior art date
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JP60025455A
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Hajime Masuda
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Read Only Memory (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気的に内容を書き込むことの出来
る読み出し専用メモリ、すなわちプログラマブ
ル・リード・オンリー・メモリに関し、特に試験
用メモリ・セルを有するプログラマブル・リー
ド・オンリー・メモリに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a read-only memory in which contents can be electrically written, that is, a programmable read-only memory, and in particular to a programmable read-only memory having test memory cells. -Relates to read-only memory.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

最近のプログラマブル・リード・オンリー・メ
モリ(以下、P−ROMという)、特にバイボー
ラP−ROMはユーザーが1個毎に自由に記憶さ
せる内容を書き込める融通性のゆえに、極めて広
汎な各種情報処理、制御用途に多様されている。
Recent programmable read-only memories (hereinafter referred to as P-ROMs), especially bibolar P-ROMs, have the flexibility to allow the user to freely write the contents of each memory, so they can be used for extremely wide-ranging information processing and control. It has a variety of uses.

かかるP−ROMのメモリ・セル(以下、セル
という。)としては、第2図に示されるように、
ベース・オープンのトランジスタQ1のエミツタ
をビツト線Bに、コレクタをワード線Wに接続
し、第3図に示される等価回路のように、ダイオ
ードD1,D2を逆方向に直列接続した接合破壊型
のメモリ・セルがある。この接合破壊型のメモ
リ・セルは、書き込まれる前の非導通状態を等価
回路で示されたダイオードD2を短絡することに
より導通させて、第4図に示す如く書き込まれる
ものである。
The memory cell (hereinafter referred to as a cell) of such a P-ROM is as shown in FIG.
The emitter of the base-open transistor Q 1 is connected to the bit line B, the collector is connected to the word line W, and diodes D 1 and D 2 are connected in series in opposite directions as shown in the equivalent circuit shown in Fig. 3. There are destructive memory cells. This junction breakdown type memory cell is written as shown in FIG. 4 by making the non-conductive state before writing conductive by shorting the diode D2 shown in the equivalent circuit.

しかしながら、このようなセルへの論理情報を
書き込むP−ROMにおいては、メーカーは未書
き込み状態にて出荷し、ユーザーに渡って初めて
書き込みが行なわれることから、書き込み歩留り
の問題がある。
However, in such a P-ROM in which logic information is written into cells, the manufacturer ships the product in an unwritten state, and writing is performed for the first time by the user, so there is a problem with the writing yield.

従来の接合破壊型セルは第5図に示すように、
各セルM11,M12,M21,M22にワード線W1,W2
を介して、ワード・ドライバー回路WD1,WD2
が接続されている。ワード・ドライバー回路WD
はワード線をハイレベル又はロウレベルにしてワ
ード線を選択し、書き込み時は書き込み電流を吸
収するようにした回路である。第5図において、
セルM11とM22は書き込まれた状態を示している
が、セルの状態にてまだ書き込まれていないセル
M12に対して書き込みを実施する場合に、ワード
線W2に接続されているワード・ドライバー回路
WD2を選択しオンさせ、セルM12のエミツタ側の
ビツト線B1より書き込み電流(例えば、200mA
を印加すると、セルM12を通じ選択されたワー
ド・ドライバー回路WD2に書き込み電流が流れ
込み、第3図に示すダイオードD2を破壊する。
As shown in Fig. 5, the conventional junction destruction type cell
Word lines W 1 , W 2 for each cell M 11 , M 12 , M 21 , M 22
Through the word driver circuit WD 1 , WD 2
is connected. Word driver circuit WD
This circuit selects a word line by setting the word line to high or low level, and absorbs a write current during writing. In Figure 5,
Cells M 11 and M 22 show the written state, but the cells that have not been written yet in the cell state
Word driver circuit connected to word line W 2 when writing to M 12
Select WD 2 , turn it on, and apply a write current (for example, 200 mA ) from bit line B 1 on the emitter side of cell M 12 .
When , a write current flows into the selected word driver circuit WD 2 through cell M 12 and destroys diode D 2 shown in FIG.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、このセルM12の書き込み時、ビ
ツト線B1から書き込もうとするセルM12を通じ、
選択されているワード・ドライバー回路WD2
電流通路の他に、ビツト線B1から書き込まれて
いるセルM11、まだ書き込まれていないセルM21
のコレクタからエミツタ、書き込まれているセル
M22を通じて選択されているワード・ドライバー
回路WD2への電流通路があることは明らかであ
り、この電流通路のセルM21の逆方向の耐圧(書
き込もうとするセルに印加する電圧とは異なる極
性の電圧を印加したときの耐電圧)が低く、本来
書き込もうとするセルM12を通じた電流通路にて
流れるはずの書き込み電流が、書き込まれている
セルM11、まだ書き込まれていないセルM21のコ
レクタからエミツタ、書き込まれているセルM22
を通じた電流通路にて流れた場合には、書き込み
不良となる。そしてこの書き込み不良は、ユーザ
ーによる書き込みにて発生することから、書き込
み歩留りを低下させるという問題が生じる。
However, when writing to this cell M12 , from the bit line B1 through the cell M12 to be written,
In addition to the current path of the selected word driver circuit WD 2 , the cell M 11 that has been written from bit line B 1 and the cell M 21 that has not yet been written
From the collector of the emitter, the cell being written
It is clear that there is a current path to the selected word driver circuit WD 2 through M 22 , and this current path has a reverse breakdown voltage of cell M 21 (a polarity different from the voltage applied to the cell to be written). (withstanding voltage when applying a voltage of Emitter from collector, written cell M 22
If the current flows through the current path, it will result in a write failure. Since this writing failure occurs during writing by the user, there arises a problem of lowering the writing yield.

従つて、本発明の目的は、かかる問題点を改善
するもので、所望のメモリ・セルが正常に書き込
みが出来るか否か試験機能を有し、高い書込み歩
留りのP−ROMを提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to improve such problems, and to provide a P-ROM having a test function to determine whether or not a desired memory cell can be normally written to, and which has a high write yield. be.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のプログラマブル・リード・オンリー・
メモリは、固定メモリ・セルをベース・オープ
ン・トランジスタで構成し、このベース・オープ
ン・トランジスタのエミツタを列線、コレクタを
行線に接続したN行×M列(N,Mは正の整数)
のマトリクス状に配置されたメモリ・セル・アレ
イを含むプログラマブル・リード・オンリー・メ
モリにおいて、前記N行の行線およびM列の列線
の少なくとも一方に対し設けられ前記固定メモ
リ・セルと同一構成の試験用固定メモリ・セル
が、未書き込み状態でかつこの試験用固定メモ
リ・セルのベース・オープン・トランジスタのエ
ミツタが行線にコレクタが列線に接続されている
構成を有している。
Programmable read-only of the present invention
The memory consists of fixed memory cells with base-open transistors, and the emitters of these base-open transistors are connected to column lines, and the collectors are connected to row lines, in N rows and M columns (N and M are positive integers).
In a programmable read-only memory including a memory cell array arranged in a matrix, the fixed memory cell is provided for at least one of the N row lines and the M column lines and has the same configuration as the fixed memory cell. The test fixed memory cell is in an unwritten state and has a configuration in which the base open transistor of the test fixed memory cell has an emitter connected to a row line and a collector connected to a column line.

〔作用〕[Effect]

本発明の目的を達する為には、第5図を用いて
説明した如く、ビツト線B1から書き込まれてい
るセルM11、まだ書き込まれていないセルM21
コレクタからエミツタ、書き込まれているセル
M22を通じた電流通路が生じるか否かを試験すれ
ばよく、その為には、セルM21書き込み時、第3
図に示す如くダイオードを破壊する瞬間のビツト
線B1の最大電圧をV1、すでに書き込まれれてい
るセルM11,M22の順方向電圧をV2、選択されオ
ンしているワード・ドライバー回路のオンレベル
をV3とすると、まだ書き込まれていないセルM21
のコレクタからエミツタへの耐圧が(V1−2V2
V3)以上あることをテストすればよいことに着
目し、正規のセル・マトリクスの他に、すべて未
書き込み状態、すなわち正規のセルと同一構造の
セルを、正規のセルの第2図に示す様なベース・
オープン・トランジスタのエミツタをビツト線、
コレクタをワード線に接続したのとは逆に、エミ
ツタをワード線、コレクタをビツト線に接続した
試験用セルを、行方向および、あるいは列方向に
設けたものである。
In order to achieve the purpose of the present invention, as explained using FIG . cell
It is only necessary to test whether a current path occurs through M22 , and for that purpose, when writing cell M21 , the third
As shown in the figure, V 1 is the maximum voltage of bit line B 1 at the moment when the diode is destroyed, V 2 is the forward voltage of cells M 11 and M 22 that have already been written, and word driver circuit that is selected and turned on. If the on level of is V 3 , then the cell M 21 which has not been written yet
The withstand voltage from the collector to the emitter is (V 1 −2V 2
V 3 ) Focusing on the fact that it is sufficient to test the above, in addition to the regular cell matrix, all cells in an unwritten state, that is, cells with the same structure as the regular cells, are shown in Figure 2 of the regular cells. various basses,
Connect the emitter of the open transistor to the bit line,
In contrast to the case where the collector is connected to the word line, test cells are provided in the row and/or column directions, with the emitter connected to the word line and the collector connected to the bit line.

P−ROMは、正規のセルに対してデータを直
接書き込んで試験するとができないし、また一般
的に、回路中に組み込まれた回路素子の逆方向の
耐圧(通常動作時の電圧とは異なる極性の電圧が
印加されたときの耐電圧)を確認することは極め
て困難である。
P-ROMs cannot be tested by directly writing data into regular cells, and generally the circuit elements built into the circuit have reverse breakdown voltage (a polarity different from the voltage during normal operation). It is extremely difficult to confirm the withstand voltage when a voltage of

しかし、同一構成の複数のセルを、同一条件、
同一方法で同時に形成した場合、これらセルの諸
特性は一定の範囲内に納まる。
However, when multiple cells with the same configuration are used under the same conditions,
When formed simultaneously using the same method, the various characteristics of these cells fall within a certain range.

そこで本発明においては、正規のセルと同一構
成、同一条件、同一方法で同時に形成された試験
用セルの逆方向の耐圧を試験することにより、正
規のセルの逆方向の耐圧を間接的に試験し保証す
る。
Therefore, in the present invention, the reverse withstand voltage of a regular cell is indirectly tested by testing the reverse withstand voltage of a test cell that is formed simultaneously with the same configuration, the same conditions, and the same method as the regular cell. and guarantee.

かくして、本発明のプログラマブル・リード・
オンリー・メモリは、ユーザーに渡つて初めて書
き込まれる以前、つまりメーカーの出荷段階に
て、本発明による試験用セルが、(V1−2V2
V3)以上の耐圧を有するか否かを試験する。つ
まり、第5図を用いて説明した如く、セルM12
書き込もうとした時、本来書き込もうとしたセル
M12に書き込み電流が流れず、ビツト線B1から書
き込まれているセルM11、まだ書き込まれていな
いセルM21のコレクタからエミツタ、書き込まれ
ているセルM22を通じ書き込み電流が流れるか否
かを試験用セルを試験することにより間接的に試
験出来、書き込み歩留りの高いP−ROMを提供
することが出来る。
Thus, the programmable lead of the present invention
Before the only memory is written to the user for the first time, that is, at the time of shipment from the manufacturer, the test cell according to the present invention has a voltage of (V 1 −2V 2
Test to see if it has a withstand voltage of V 3 ) or higher. In other words, as explained using FIG. 5, when attempting to write to cell M12 , the cell that was originally intended for writing
Does the write current flow from the bit line B1 to the cell M11 that is being written to, the collector to the emitter of the cell M21 that has not yet been written, and the cell M22 that has been written to? This can be indirectly tested by testing the test cells, making it possible to provide a P-ROM with a high write yield.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の実施例について図面を参照して説
明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

第1図において、本実施例は一導電型の半導体
の共通領域に少なくとも電気的に書き込み可能な
セルを複数個有し、この各メモリセルM33
M34,M43,M44が接続されている。さらにセル
M33,M34,M43,M44は、ワード線W3,W4を介
してワード・ドライバー回路WD3,WD4が接続
されている。さらに本発明による未書き込み状態
すなわち正規のセルM33,M34,M43,M44と同
一構造のセルを、正規のセルの第2図に示す様な
ベース・オープン・トランジスタのエミツタをビ
ツト線、コレクタをワード線との接続とは逆に、
エミツタをワード線、コレクタをビツト線に接続
した試験用セルとして、セルM35,M45を行方向
に、セルM53,M54を列方向にそれぞれ接続し、
セルM53,M54はワード線W3,W4を介してワー
ド・ドライバー回路WD3,WD4に接続され、セ
ルM35,M45はワード線W5を介してワード・ドラ
イバー回路WD5に接続されていることからなつ
ている。
In FIG. 1, this embodiment has at least a plurality of electrically writable cells in a common region of a semiconductor of one conductivity type, and each memory cell M 33 ,
M 34 , M 43 , and M 44 are connected. more cells
Word driver circuits WD 3 and WD 4 are connected to M 33 , M 34 , M 43 , and M 44 via word lines W 3 and W 4 . Furthermore, cells with the same structure as the unwritten cells M 33 , M 34 , M 43 , M 44 in the unwritten state according to the present invention are connected to the bit lines by connecting the emitters of the base open transistors of the normal cells as shown in FIG. , as opposed to connecting the collector to the word line,
As a test cell with the emitter connected to the word line and the collector connected to the bit line, cells M 35 and M 45 were connected in the row direction, and cells M 53 and M 54 were connected in the column direction, respectively.
Cells M 53 and M 54 are connected to word driver circuits WD 3 and WD 4 via word lines W 3 and W 4 , and cells M 35 and M 45 are connected to word driver circuit WD 5 via word line W 5 . This is because it is connected to the

本実施例においては、ワード線W5に接続され
ているワード・ドライバー回路WD5をオンさせ、
ビツト線B3又はB4よりセルM35又はM45のコレク
タからエミツタの耐圧が、前記(V1−2V2−V3
以上あるか否かを試験し、さらにワード線W3
接続されているワード・ドライバー回路WD3
オンさせ、ビツト線B5よりセルM53のコレクタと
エミツタの耐圧、及び同じくワード線W4に接続
されているワード・ドライバー回路WD4をオン
させ、ビツト線B5よりセルM54のコレクタとエミ
ツタの耐圧が、(V1−2V2−V3)以上あるか否か
を試験すること、つまり所望のセルを書き込もう
とした時、所望のセルと同一ビツト線にすでに書
き込まれているセルから、この書き込まれている
セルと同一ワード線に未書き込みセルのコレクタ
からエミツタを通じ、さらにこの未書き込みセル
と同一ビツト線と所望のセルのワード線間に書き
込まれているセルを通じて書き込み電流が流れ、
所望のセルが書き込まれなく、書き込み不良が生
じるか否かの問題をメーカーが出荷段階にて間接
的に試験し保証することが出来る。
In this embodiment, the word driver circuit WD 5 connected to the word line W 5 is turned on,
The breakdown voltage from the collector to the emitter of cell M 35 or M 45 from bit line B 3 or B 4 is (V 1 −2V 2 −V 3 )
Further, the word driver circuit WD 3 connected to the word line W 3 is turned on, and the withstand voltage of the collector and emitter of the cell M 53 is detected from the bit line B 5 , as well as the word line W 4 . Turn on word driver circuit WD 4 connected to bit line B 5 and test whether the withstand voltage of the collector and emitter of cell M 54 is at least (V 1 - 2V 2 - V 3 ) from bit line B 5. In other words, when attempting to write to a desired cell, data is transferred from a cell that has already been written to the same bit line as the desired cell, from the collector of the unwritten cell to the same word line as this written cell, and then through the emitter of this unwritten cell. A write current flows through the cell being written between the same bit line as the write cell and the word line of the desired cell.
The manufacturer can indirectly test and guarantee whether or not a desired cell will not be written and a write failure will occur at the shipping stage.

なお、以上の説明においては、ビツト線、ワー
ド線、メモリ・セルの数を限定したが、本発明は
N行×M列のマトリクス状に配置されたメモリ・
セル・アレイを有するメモリに適用される。
In the above description, the number of bit lines, word lines, and memory cells is limited, but the present invention applies to memory cells arranged in a matrix of N rows and M columns.
Applies to memories with cell arrays.

さらに、試験用メモリ・セルは場合により行あ
るいは列のいずれか一方のみに設けられる。
Furthermore, test memory cells may be provided in only one of the rows or columns.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、以上説明した如く、エミツタを列
線、コレクタを行線に接続したベース・オープ
ン・トランジスタを固定メモリセルとして用い、
N行×M列(N,Mは正の整数)のマトリクス状
に配置されたメモリセル・アレイを有するプログ
ラマブル・リード・オンリー・メモリにおいて、
固定メモリ・セルと同一構成でエミツタを行線、
コレクタを列線に接続したベース・オープン・ト
ランジスタを試験用にメモリ・セルとして、行方
向および、あるいは列方向に設け、この試験用メ
モリ・セルのコレクタからエミツタの耐圧を試験
することにより、固定メモリ・セルのコレクタか
らエミツタの耐圧を間接的に試験することが可能
となり、書き込み歩留りを向上させることが出
来、その効果は大である。
As explained above, the present invention uses a base open transistor whose emitter is connected to a column line and whose collector is connected to a row line as a fixed memory cell.
In a programmable read-only memory having a memory cell array arranged in a matrix of N rows and M columns (N and M are positive integers),
Same configuration as fixed memory cells with emitters connected to row lines,
A base open transistor with the collector connected to a column line is installed as a memory cell for testing in the row and/or column direction, and the withstand voltage from the collector to emitter of this test memory cell is tested. It becomes possible to indirectly test the withstand voltage of the emitter from the collector of the memory cell, and the write yield can be improved, which is highly effective.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2
図は、接合破壊型メモリ・セルの構成を示す回路
図、第3図はその等価回路図、第4図はその書き
込み後の等価回路図、第5図は一従来例を示す回
路図である。 B3,B4,B5……ビツト線、M33,M34,M43
M44……メモリ・セル、M35,M45,M53,M54
…試験用メモリ・セル、W3,W4,W5……ワー
ド線、WD3,WD4,WD5……ワード・ドライバ
ー回路。
Figure 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention, Figure 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.
The figure is a circuit diagram showing the structure of a junction destruction type memory cell, FIG. 3 is an equivalent circuit diagram thereof, FIG. 4 is an equivalent circuit diagram after writing, and FIG. 5 is a circuit diagram showing a conventional example. . B 3 , B 4 , B 5 ... bit line, M 33 , M 34 , M 43 ,
M44 ...Memory cell, M35 , M45 , M53 , M54 ...
...Test memory cell, W 3 , W 4 , W 5 ... Word line, WD 3 , WD 4 , WD 5 ... Word driver circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 固定メモリ・セルをベース・オープン・トラ
ンジスタで構成し、このベース・オープン・トラ
ンジスタのエミツタを列線、コレクタを行線に接
続したN行×M列(N,Mは正の整数)のマトリ
クス状に配置されたメモリ・セル・アレイを含む
プログラマブル・リード・オンリー・メモリにお
いて、前記N行の行線およびM列の列線の少なく
とも一方に対し設けられ前記固定メモリ・セルと
同一構成の試験用固定メモリ・セルが、未書き込
み状態でかつこの試験用固定メモリ・セルのベー
ス・オープン・トランジスタのエミツタが行線に
コレクタが列線に接続されていることを特徴とす
るプログラマブル・リード・オンリー・メモリ。
1. A matrix of N rows and M columns (N and M are positive integers) in which fixed memory cells are configured with base-open transistors, and the emitters of these base-open transistors are connected to column lines and the collectors are connected to row lines. In a programmable read-only memory including a memory cell array arranged in a shape, a test having the same configuration as the fixed memory cell is provided for at least one of the N rows of row lines and M columns of column lines. A programmable read-only memory cell characterized in that the test fixed memory cell is in an unwritten state and the emitter of the base-open transistor of the test fixed memory cell is connected to the row line and the collector is connected to the column line. ·memory.
JP60025455A 1985-02-13 1985-02-13 Programmable read-only memory Granted JPS61184799A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60025455A JPS61184799A (en) 1985-02-13 1985-02-13 Programmable read-only memory

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JP60025455A JPS61184799A (en) 1985-02-13 1985-02-13 Programmable read-only memory

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61184799A JPS61184799A (en) 1986-08-18
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ID=12166499

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57117200A (en) * 1980-11-25 1982-07-21 Raytheon Co Programmable read only memory circuit and method of testing the same
JPS57191900A (en) * 1981-05-22 1982-11-25 Hitachi Ltd Method for junction destructive prom test

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JPS61184799A (en) 1986-08-18

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