JPH0525152B2 - - Google Patents
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- JPH0525152B2 JPH0525152B2 JP59135780A JP13578084A JPH0525152B2 JP H0525152 B2 JPH0525152 B2 JP H0525152B2 JP 59135780 A JP59135780 A JP 59135780A JP 13578084 A JP13578084 A JP 13578084A JP H0525152 B2 JPH0525152 B2 JP H0525152B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory
- row
- card
- reference line
- memory cell
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カード型のメモリに関し、特に、光
の反射率の高低によりデイジタル値を記憶する記
憶セルを多数配列してなるメモリ層を、カード型
の基板上に設けて成るメモリに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a card-type memory, and in particular to a memory layer comprising a large number of memory cells arranged to store digital values depending on the level of reflectance of light. The present invention relates to a memory provided on a card-type substrate.
近年、コンピユータ・オンラインシステムの発
達に伴なつて、金融、個人識別等の情報を記憶さ
せた磁気カードが用いられている。この磁気カー
ドは、名刺程度の大きさのプラスチツク製の基板
に、所定の情報を記憶させた帯状の磁気メモリ片
を貼着して成るものである。磁気カードは、その
携帯容易性および取扱い容易性から、様々の分野
で使用されつつある。
In recent years, with the development of computer online systems, magnetic cards that store financial, personal identification, and other information have come into use. This magnetic card consists of a strip-shaped magnetic memory piece that stores predetermined information attached to a plastic substrate about the size of a business card. Magnetic cards are being used in various fields because of their portability and ease of handling.
しかし、この磁気カードは、記憶できる情報量
が少ないため、その用途が限られている。例え
ば、金融カードの場合、過去の入出金、残高等の
明細、貸付残高、返済等の明細などを通帳のよう
に記録できることの実現を望まれているが、記憶
容量が足りず実現できていない。 However, this magnetic card can only store a small amount of information, so its uses are limited. For example, in the case of financial cards, it is hoped that past deposits and withdrawals, balance details, loan balances, repayment details, etc. can be recorded like a passbook, but this has not been possible due to insufficient storage capacity. .
これに対して、最近、光メモリが注目されてい
る。光メモリには、種々の方式があるが、カード
型のメモリに適したものとしては、光の反射率の
高低によりデイジタル値を記憶する記憶セルを多
数配列してメモリ層を形成し、該メモリ層をカー
ド型の基板上に貼着して成るメモリがある。 In contrast, optical memories have recently attracted attention. There are various types of optical memory, but one suitable for card-type memory is one in which a memory layer is formed by arranging a large number of memory cells that store digital values depending on the level of reflectance of light. There is a type of memory that is made by pasting on a card-type substrate.
このメモリは、記憶セルを高密度で配列してあ
るので、記憶容量が数キロバイト〜数メガバイト
程度の大容量となる。そのため、上述した用途の
ほか、医療用カルテ、教育用の各種印刷物の収納
などの利用が考えられている。 Since this memory has memory cells arranged at high density, it has a large storage capacity of several kilobytes to several megabytes. Therefore, in addition to the above-mentioned uses, storage of medical charts and various printed matter for educational purposes is being considered.
ところが、この光メモリには次のような問題点
があり、この実用化が遅れている。即ち、高密度
記憶であるため、情報の書込み、読出しの際、書
込みまたは読出しヘツドの位置決めが容易でな
い、という問題がある。 However, this optical memory has the following problems, and its practical application has been delayed. That is, because of the high-density storage, there is a problem in that it is not easy to position the write or read head when writing or reading information.
従来の磁気カードであれば、磁気メモリ片を基
板に貼着する際、多少の誤差があつても、書込み
読出しに支障がないので、カードの基板の端面等
の物理的形態を利用して位置決めを行なうことが
できる。しかし、光メモリは、高密度記録である
ため、僅かの位置ずれや角度変位があつても、書
込み、読取り誤差を生ずる。そのため、基板の端
面等を位置決めの基準に利用するには、メモリ層
を基板の特定位置に正確に配置しなければならな
い。これは、生産技術上、極めて困難であつて、
実現が容易でない。仮に、技術的に可能であると
しても、カードがコスト高となり、実用性がなく
なる。 With conventional magnetic cards, even if there is a slight error when attaching the magnetic memory piece to the board, there is no problem with writing and reading, so positioning can be done using the physical form of the edge of the card's board. can be done. However, since optical memory uses high-density recording, even a slight positional shift or angular displacement causes writing and reading errors. Therefore, in order to use the end surface of the substrate as a reference for positioning, the memory layer must be accurately placed at a specific position on the substrate. This is extremely difficult in terms of production technology,
It is not easy to realize. Even if it were technically possible, the cost of the card would be high and it would be impractical.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもの
で、カードの生産コストを上昇させることなく、
位置決めのための基準を精度よく形成でき、書込
みや読取りの際の位置ずれ、角度変位をできる限
り小さく抑えて、高密度記録情報を精度よく記録
または再生できる光メモリカードを提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and does not increase the production cost of cards.
The purpose of the present invention is to provide an optical memory card that can accurately form a reference for positioning, suppress positional deviation and angular displacement during writing and reading to as small as possible, and can accurately record or reproduce high-density recorded information. .
上記目的を達成すべく本発明の構成は、
光の反射率の高低によりデイジタル値を記憶す
る記憶セルを多数配列してなるメモリ層を、カー
ド型の基板上に設けて成り、かつ、光ビームを照
射し、その反射光を検出することにより記憶情報
を読取る形式の光メモリカードにおいて、
上記メモリ層の記憶セルをマトリクス状に配列
し、かつ、該記憶セルマトリクスの列方向の一辺
に、記憶セル列の位置決めの基準となる列基準線
を設け、さらに、上記記憶セルマトリクスの行方
向の行間に、行の位置決めの基準となる行基準線
を設けてなり、該行基準線のうち、上記記憶セル
マトリクスの列方向中央に位置し上記列基準線の
中央部とT字形状に直交する1本を、他の行基準
線とは幅の異なる行基準母線としてなることを特
徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention has a structure in which a memory layer consisting of a large number of memory cells arranged to store digital values based on the level of light reflectance is provided on a card-type substrate, and a light beam is In an optical memory card of a type in which stored information is read by irradiating light and detecting the reflected light, the memory cells of the memory layer are arranged in a matrix, and the memory cells are arranged on one side in the column direction of the memory cell matrix. A column reference line is provided as a reference for column positioning, and a row reference line is provided between the rows in the row direction of the memory cell matrix, and among the row reference lines, the memory The cell matrix is characterized in that one line located at the center in the column direction of the cell matrix and orthogonal to the central part of the column reference line in a T-shape serves as a row reference generatrix having a width different from that of the other row reference lines.
このような構成によれば、列基準線および行基
準線が記憶セルマトリクスの行および列に対応し
て設定されるので、書込み、読出しの際、ヘツド
の位置決めを、これらの基準線を基準として行な
うことができる。これらの基準線は、記憶セルマ
トリクスの形成を同時に行なうことができる。そ
のため、各基準線とマトリクスを構成する各記憶
セルとの相対位置関係を高精度に保持し得る。
According to such a configuration, the column reference line and the row reference line are set corresponding to the rows and columns of the memory cell matrix, so that when writing or reading, the head positioning is performed using these reference lines as a reference. can be done. These reference lines can be used simultaneously to form the storage cell matrix. Therefore, the relative positional relationship between each reference line and each memory cell forming the matrix can be maintained with high precision.
また、このような構成であるから、基板の端部
等を、位置決めの基準として使用しないので、メ
モリ層と基板との相対位置関係を、特別に高精度
とする必要がない。そのため、この点で、メモリ
カードがコスト高となることが抑えられる。 Furthermore, with this configuration, the edge of the substrate or the like is not used as a reference for positioning, so there is no need to make the relative positional relationship between the memory layer and the substrate particularly highly accurate. Therefore, in this respect, the increase in cost of the memory card can be suppressed.
本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<実施例の構成>
第1図〜第4図に示す本発明光メモリカードの
一実施例は、例えば名刺程度の大きさのプラスチ
ツク製の基板1上に、帯状のデータバンド3を多
数並設してなるメモリ層2と、該メモリ層2の列
方向に沿つて設けられている列基準線6と、該メ
モリ層2の行方向に沿つて設けられている行基板
母線70および行基準線71とを有して成る。<Configuration of Embodiment> An embodiment of the optical memory card of the present invention shown in FIGS. 1 to 4 has a large number of strip-shaped data bands 3 arranged side by side on a plastic substrate 1, which is about the size of a business card, for example. A memory layer 2 consisting of a memory layer 2, a column reference line 6 provided along the column direction of the memory layer 2, and a row substrate bus line 70 and a row reference line 71 provided along the row direction of the memory layer 2. It consists of
メモリ層2は、基板1の略中央に位置してお
り、32本のデータバンド3を平行にかつ全体とし
て長方形状に配列されるように設けてある、メモ
リ層2の列方向の一辺(本実施例では左端の辺)
に列基準線6が設けてある。データバンド3は、
メモリ層2の中央部で上側16本、下側16本に二分
されており、その二分割の境界部分には、上記列
基準線6の中央部とT字形状に直交する行基準線
母線70が設けてある。また、各データバンド3
間および外側のデータバンド3の辺には、各々長
手方向に沿つて行基準線71が設けてある。 The memory layer 2 is located approximately at the center of the substrate 1, and is provided so that 32 data bands 3 are arranged in parallel and in a rectangular shape as a whole. In the example, the leftmost side)
A column reference line 6 is provided at . Data band 3 is
The memory layer 2 is divided into 16 upper and 16 lower lines at the center, and at the boundary between the two, there is a row reference line generatrix 70 that is perpendicular to the center of the column reference line 6 and the T-shape. is provided. Also, each data band 3
A row reference line 71 is provided along the longitudinal direction on each side of the data band 3 between and outside.
データバンド3は、デイジタルデータの1ビツ
トを記憶する記憶セル5を多数設けて構成され
る。この記憶セル5は、データバンド3の幅方向
に1列に並んでトラツク4を構成し、このトラツ
ク4がデータバンド3の長手方向に多数並設さ
れ、第3図に示すように、長手方向に長い帯状の
マトリクスを形成する。もつとも、同図では、記
憶セル5を格子状に表示してあるが、これは、説
明の便宜のためであつて、現実に格子状に線が設
けてある訳ではない。 The data band 3 is constructed by providing a large number of memory cells 5 for storing one bit of digital data. The memory cells 5 are lined up in a row in the width direction of the data band 3 to form a track 4, and a large number of these tracks 4 are arranged in parallel in the longitudinal direction of the data band 3, as shown in FIG. form a long strip-like matrix. Although the memory cells 5 are shown in a grid pattern in the figure, this is for convenience of explanation, and lines are not actually provided in a grid pattern.
この記憶セル5は、本実施例の場合、30μm×
32μm程度の大きさである。また、本実施例の場
合、データバンド3は、その幅方向に、この記憶
セル5が32個並んでいる。 In this embodiment, this memory cell 5 is 30 μm×
The size is about 32 μm. Furthermore, in the case of this embodiment, the data band 3 has 32 memory cells 5 lined up in its width direction.
上記各トラツク4は、各々他のデータバンド3
の対応するトラツク4と同一直線上に並ぶように
設定してある。従つて、メモリ層2は、その上の
全ての記憶セル5により記憶セルマトリクスが構
成されている。 Each of the above tracks 4 corresponds to each other data band 3.
It is set so that it is aligned on the same straight line as the corresponding track 4. Therefore, in the memory layer 2, all the memory cells 5 thereon constitute a memory cell matrix.
上記メモリ層2は、具体的には第4図に示すよ
うに構成される。即ち、ポリエステル等のフイル
ムベース21上に、下地層22、反射層23およ
び透明封止層24を、この順に積層して形成して
ある。そして、フイルムベース21を基板1に貼
付してメモリカードが構成される。 The memory layer 2 is specifically constructed as shown in FIG. That is, a base layer 22, a reflective layer 23, and a transparent sealing layer 24 are laminated in this order on a film base 21 made of polyester or the like. Then, the film base 21 is attached to the substrate 1 to form a memory card.
上記記憶セル5におけるデータの記憶は、反射
層23に小穴51を形成し、この小穴51の有無
を、“1”,“0”に対応させて行なう。即ち、小
穴51の有る状態を、“1”,“0”のいずれかに
対応させる。 Data is stored in the memory cell 5 by forming a small hole 51 in the reflective layer 23, and making the presence or absence of the small hole 51 correspond to "1" and "0". That is, the state in which the small hole 51 is present is made to correspond to either "1" or "0".
この小穴51は、例えば、レーザービームL
を、小穴を設けるべき記憶セルの領域に照射し、
反射層23を形成する物質の融点近傍の温度で加
熱し、該反射層23を溶融して形成する。また、
読出し専用のメモリカードの場合には、反射層2
3を形成する際に、フオトエツチング技術によ
り、格納すべきデイジタル情報に従つて、上記小
穴51を形成する。この小穴の大きさは、例え
ば、直径数+ミクロン程度である。 This small hole 51 is, for example, a laser beam L.
irradiate the area of the memory cell where the small hole is to be provided,
The reflective layer 23 is formed by heating at a temperature near the melting point of the substance forming the reflective layer 23 to melt the reflective layer 23. Also,
In the case of a read-only memory card, the reflective layer 2
3, the small holes 51 are formed by photoetching according to the digital information to be stored. The size of this small hole is, for example, approximately several diameters plus microns.
列基準線6は、隣接するトラツク4の反射層と
光学的に区別できればよく、例えば、反射層23
を、形成すべき列基準線6の形状に剥離して形成
する。勿論、反射層23に代えて、或いは、反射
層23上に、該反射層とは反射率の異なる物質の
層を被着して形成してもよい。 The column reference line 6 only needs to be optically distinguishable from the reflective layer of the adjacent track 4, for example, the reflective layer 23.
is peeled off and formed in the shape of the column reference line 6 to be formed. Of course, instead of the reflective layer 23, or on the reflective layer 23, a layer of a substance having a different reflectance from that of the reflective layer may be deposited.
一方、行基準母線70と行基準線71とは、例
えば、各データバンド3間にある反射層23を、
剥離し、この部分に、該反射層とは反射率の異な
る物質の層を被着して形成される。この物質は、
上記列基準線6を形成したものと同じものを用い
てもよい。 On the other hand, the row reference bus line 70 and the row reference line 71, for example,
The reflective layer is peeled off, and a layer of a substance having a different reflectance from that of the reflective layer is applied to this part. This substance is
The same material used to form the column reference line 6 may be used.
なお、行基準母線70と行基準線71とは、図
示のように相互には幅を変えて形成される。これ
によつて、データバンク3の位置決めの際、行基
準母線70を行基準線71と明確に区別し、正確
に検出することができる。 Note that the row reference generatrix 70 and the row reference line 71 are formed with different widths from each other as shown in the figure. Thereby, when positioning the data bank 3, the row reference bus line 70 can be clearly distinguished from the row reference line 71 and can be detected accurately.
上記列基準線6、行基準母線70および行基準
線71は、メモリ層2のデータバンド3を形成す
る際に、一連の工程により形成することができ
る。このように、一連の工程で形成すれば、これ
らの基準線と各記憶セルとの位置関係を高精度で
設定することができる。 The column reference line 6, row reference bus line 70, and row reference line 71 can be formed by a series of steps when forming the data band 3 of the memory layer 2. By forming in a series of steps in this manner, the positional relationship between these reference lines and each memory cell can be set with high precision.
<実施例の作用>
上記実施例の光メモリカードの動作について説
明する。<Operation of the embodiment> The operation of the optical memory card of the above embodiment will be explained.
上述したように構成される本実施例のカード
は、各記憶セル5の小穴51の有無により、デイ
ジタルデータの1ビツト、即ち、“1”,“0”を
記憶するので、記憶させるべき情報をデイジタル
データに変換し、上述した方法により、記憶セル
5に書込む。 The card of this embodiment configured as described above stores one bit of digital data, that is, "1" or "0", depending on the presence or absence of the small hole 51 in each memory cell 5, so that the information to be stored is The data is converted into digital data and written into the memory cell 5 using the method described above.
データは、データバンド単位に格納される。従
つて、まず、データを書込むべきデータバンドを
選択する。データバンドの選択は、未書込みのカ
ードであれば、任意に行なうことができる。一
方、既に、データが書込まれたカードの場合に
は、書込み可能エリヤを検出して、書込み可能の
データバンド3に書込みヘツド(図示せず。)を
送る。なお、各データバンド3の最先頭トラツク
4に、書込み禁止信号を格納する構成とすれば、
上記書込み可能エリヤの検出が容易となる。 Data is stored in data bands. Therefore, first, a data band in which data is to be written is selected. The data band can be selected arbitrarily as long as the card has not been written to. On the other hand, in the case of a card on which data has already been written, a writable area is detected and a write head (not shown) is sent to the writable data band 3. Note that if the configuration is such that a write inhibit signal is stored in the top track 4 of each data band 3,
The above-mentioned writable area can be easily detected.
データを書込む順序は、列方向、即ち、同一デ
ータバンドのトラツクを順次シリアルに辿つて行
なわれ、トラツク4について、上から順にデータ
を書込む。1列のトラツクにデータが書込まれる
と、隣接するトラツクの最上部に移り、データを
書込む。このようにして、そのデータバンド3の
左端のトラツク4から順次右側のトラツクに移動
して、データを書込む。勿論、複数個の記憶セル
または1トラツク全部を一時に読む構成としても
よい。 The data is written in the column direction, that is, by serially tracing the tracks of the same data band, and data is written in track 4 in order from the top. When data is written to one column of tracks, the next track is moved to the top and data is written thereto. In this way, data is written by sequentially moving from the leftmost track 4 of the data band 3 to the rightmost track. Of course, a configuration may also be used in which a plurality of memory cells or all one track are read at one time.
書込まれたデータの読出しは、読出しヘツドに
て行なわれ、読出すべき記憶セルに、レーザービ
ーム等の光を照射し、反射光をホトダイオード等
の受光素子にて検出することにより行なわれる。
この時、記憶セル5に小穴51が存在すれば、反
射率が小さいので、受光素子の検出レベルが小さ
く、一方、記憶セル5に小穴51が存在しなけれ
ば、反射層23により照射光が高レベルで反射さ
れ、受光素子の検出レベルが大きくなる。この検
出レベルの大小を、デイジタル値に対応させるこ
とにより、情報を読出す。 Reading of written data is performed by a read head, by irradiating the memory cell to be read with light such as a laser beam and detecting the reflected light with a light receiving element such as a photodiode.
At this time, if the small hole 51 exists in the memory cell 5, the detection level of the light-receiving element is low because the reflectance is small, whereas if the small hole 51 does not exist in the memory cell 5, the irradiated light is high due to the reflective layer 23. The light is reflected by the light receiving element, and the detection level of the light receiving element increases. Information is read by associating the magnitude of this detection level with a digital value.
上記書込みおよび読出しにおいて、情報を書込
み或いは読出すべきデータバンド3、トラツク4
および記憶セル5の位置を決めるには、例えば、
次のように行なう。 In the above writing and reading, data band 3 and track 4 to which information is to be written or read.
and to determine the location of the storage cell 5, for example:
Do it as follows.
トラツクについては、列基準線6と最左端にあ
るトラツク4との境界を、専用の光電検出器また
は読出し用の受光素子を用いて検出する。一方、
データバンド3の位置は、行基準母線70を上記
と同様の方法によつて、検出し、かつ、これを基
準として、行基準線71を検知し、その行基準線
71が行基準母線70から何本目かを検知するこ
とにより検出する。 Regarding the track, the boundary between the column reference line 6 and the leftmost track 4 is detected using a dedicated photoelectric detector or a readout light receiving element. on the other hand,
The position of the data band 3 is determined by detecting the row reference bus line 70 in the same manner as described above, and using this as a reference, detecting the row reference line 71, so that the row reference line 71 is separated from the row reference bus line 70. Detection is done by detecting the number of pieces.
このデータを用いて、書込み或いは読出しヘツ
ドを所定距離送ることにより、列基準線6からn
番目のトラツク4および行基準母線70から上に
m番目のデータバンド3にある記憶セル5から情
報の書込み或いは読出しを行なう。もつとも、情
報の読出しを、ランダムではなく、常に、メモリ
層2の先頭位置からシリアルに行なう方式であれ
ば、先頭の記憶セルの位置を上記列基準線6の位
置と行基準母線70および行基準線71の位置と
を計測して検出し、ヘツドを列方向および行方向
に正確に送ればよい。 Using this data, by moving the write or read head a predetermined distance, the column reference line 6 to n
Information is written or read from the memory cells 5 in the mth data band 3 above the track 4 and the row reference bus 70. However, if the method is such that information is always read serially from the top position of the memory layer 2 instead of at random, then the position of the top memory cell is set to the position of the column reference line 6, the row reference bus 70, and the row reference. The position of the line 71 can be measured and detected, and the head can be accurately sent in the column and row directions.
<上記実施例の変形>
上記実施例では、データバンドをカードの長手
方向に設けているが、幅方向としてもよい。<Modification of the above embodiment> In the above embodiment, the data band is provided in the longitudinal direction of the card, but it may also be provided in the width direction.
さらに、上記実施例では、複数本のデータバン
ドを設けているが、1本であつてもよい。この場
合、行基準線は、記憶セルマトリクスの行方向の
一辺に1本設ければよい。 Further, in the above embodiment, a plurality of data bands are provided, but there may be only one data band. In this case, one row reference line may be provided on one side of the storage cell matrix in the row direction.
以上説明したように本発明は、大容量の光メモ
リカードにおいて、記憶セルをマトリクス状に配
設してメモリ層を形成すると共に、該記憶セルマ
トリクスの列方向の一辺に列基準線を設け、上記
記憶セルマトリクスの行方向の一辺または行間
に、行基準線を設けてなり、該行基準線のうち、
上記記憶セルマトリクスの列方向中央に位置し上
記列基準線の中央部とT字形状に直交する1本
を、他の行基準線とは幅の異なる行基準母線とし
てなる構成としたことにより、カードの生産コス
トを上昇させて、位置決めのための基準を精度よ
く形成でき、また、書込みや読取りの際の位置ず
れ、角度変位をできる限り小さく抑えて、高密度
記録情報を精度よく記録または再生できるばかり
でなく、データバンドの位置決めの際、まず行基
準母線を検出し、該基準母線を基準として目的の
トラツクの行基準線を検知すれば良いため、最大
でも、トラツク数の半分だけを走査すれば良く、
アクセスタイムの短縮を図ることができるという
効果がある。
As explained above, the present invention provides a large-capacity optical memory card in which memory cells are arranged in a matrix to form a memory layer, and a column reference line is provided on one side of the memory cell matrix in the column direction. A row reference line is provided on one side of the memory cell matrix in the row direction or between the rows, and among the row reference lines,
By configuring one line located at the center in the column direction of the storage cell matrix and perpendicular to the center part of the column reference line in a T-shape as a row reference generatrix having a width different from that of the other row reference lines, It is possible to increase the production cost of the card, form the reference for positioning with high accuracy, and to keep positional deviation and angular displacement during writing and reading as small as possible to accurately record or reproduce high-density recorded information. Not only is this possible, but when positioning the data band, it is sufficient to first detect the row reference bus line, and then use that reference bus line as a reference to detect the row reference line of the target track. At most, only half of the number of tracks can be scanned. All you have to do is
This has the effect of reducing access time.
第1図は本発明光メモリカードの一実施例を示
す平面図、第2図は上記実施例の部分拡大平面
図、第3図は上記第1図におけるA矢視部拡大平
面図、第4図は上記実施例の光メモリカードの要
部拡大断面図である。
1……基板、2……メモリ層、21……フイルム
ベース、22……下地層、23……反射層、24……透
明封止層、3……データバンド、4……トラツ
ク、5……記憶セル、6……列基準線、70……行
基準母線、71……行基準線。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the optical memory card of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the above embodiment, FIG. 3 is an enlarged plan view of a portion viewed from arrow A in FIG. 1, and FIG. 1 is an enlarged sectional view of a main part of the optical memory card of the above embodiment. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Substrate, 2...Memory layer, 21...Film base, 22...Underlayer, 23...Reflection layer, 24...Transparent sealing layer, 3...Data band, 4...Track, 5... ...Storage cell, 6...Column reference line, 70...Row reference bus line, 71...Row reference line.
Claims (1)
する記憶セルを多数配列してなるメモリ層を、カ
ード型の基板上に設けて成り、かつ、光ビームを
照射し、その反射光を検出することにより記憶情
報を読取る形式の光メモリカードにおいて、 上記メモリ層の記憶セルをマトリクス状に配列
し、かつ、該記憶セルマトリクスの列方向の一辺
に、記憶セル列の位置決めの基準となる列基準線
を設け、さらに、上記記憶セルマトリクスの行方
向の行間に、行の位置決めの基準となる行基準線
を設けてなり、該行基準線のうち、上記記憶セル
マトリクスの列方向中央に位置し上記列基準線の
中央部とT字形状に直交する1本を、他の行基準
線とは幅の異なる行基準母線としてなることを特
徴とする光メモリカード。[Scope of Claims] 1. A memory layer consisting of a large number of memory cells arranged to store digital values depending on the level of reflectance of light is provided on a card-shaped substrate, and the memory layer is formed by irradiating a light beam to In an optical memory card of a type in which stored information is read by detecting reflected light, the memory cells of the memory layer are arranged in a matrix, and a reference for positioning the memory cell row is set on one side of the memory cell matrix in the column direction. Further, a row reference line is provided between the rows in the row direction of the memory cell matrix to serve as a reference for row positioning, and among the row reference lines, a row reference line is provided between the rows in the row direction of the memory cell matrix. An optical memory card characterized in that one line located at the center and perpendicular to the central part of the column reference line and the T-shape serves as a row reference generatrix having a width different from that of the other row reference lines.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59135780A JPS6115290A (en) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | Optical memory card |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59135780A JPS6115290A (en) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | Optical memory card |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115290A JPS6115290A (en) | 1986-01-23 |
| JPH0525152B2 true JPH0525152B2 (en) | 1993-04-12 |
Family
ID=15159679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59135780A Granted JPS6115290A (en) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | Optical memory card |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115290A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2533439B2 (en) * | 1992-09-14 | 1996-09-11 | 帝菱産業株式会社 | Identification code paper |
| JPH06176211A (en) * | 1992-09-14 | 1994-06-24 | Teiriyou Sangyo Kk | Identification code paper |
| JP2539745B2 (en) * | 1993-06-25 | 1996-10-02 | 帝菱産業株式会社 | Optically readable binary code |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6057108B2 (en) * | 1978-08-11 | 1985-12-13 | 日本電信電話株式会社 | Mark sheet reading method by facsimile |
| JPS58125075U (en) * | 1982-02-18 | 1983-08-25 | 株式会社リコー | ledger |
| JPS6062166U (en) * | 1983-10-05 | 1985-05-01 | 大日本印刷株式会社 | Information recording card with optically detectable grid-like recording |
| JPS6062165U (en) * | 1983-10-05 | 1985-05-01 | 大日本印刷株式会社 | Information recording card with optical detection mark |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP59135780A patent/JPS6115290A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6115290A (en) | 1986-01-23 |
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