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JPH0526678B2 - - Google Patents
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JPH0526678B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0526678B2
JPH0526678B2 JP58088936A JP8893683A JPH0526678B2 JP H0526678 B2 JPH0526678 B2 JP H0526678B2 JP 58088936 A JP58088936 A JP 58088936A JP 8893683 A JP8893683 A JP 8893683A JP H0526678 B2 JPH0526678 B2 JP H0526678B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
water
treatment
acid
aluminum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58088936A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59214651A (en
Inventor
Akira Nishioka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP8893683A priority Critical patent/JPS59214651A/en
Publication of JPS59214651A publication Critical patent/JPS59214651A/en
Publication of JPH0526678B2 publication Critical patent/JPH0526678B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、感光性平版印刷版(以下、PS版と
称す。)を用いた製版方法に関するものであり、
更に詳しくは、PS版を順に画像露光、現像、ガ
ム引きし、しかる後に不必要な画像部分を消去液
で消去し、水洗後、ガム引きを行なうことなく印
刷に供せられる製版方法関するものである。 従来PS版、特にポジ型PS版を使用して平版印
刷版を作成する場合、透明原画とPS版の感光層
とを真空焼枠に密着させて露光後、現像液にて現
像し、水洗した後に不必要な画像部分(フイルム
のゴミつきによるもの、フイルムエツジ、レジス
ターマーク等)を消去液で消去、水洗し、しかる
後ガム引きを行なつて印刷を行なつていた。 所で、近年低コスト、低公害性の目的で、現像
後水洗工程を省いたシステムが開発されている。 たとえば特開昭54−8002号公報には画像露光さ
れたPS版を現像し、水洗することなく直ちにガ
ム引きする製版方法が開示されている。更に、特
開昭55−115045号公報には画像露光されたPS版
を現像し、水洗せずに直ちに界面活性剤を含む水
溶液で処理したのち、消去液を塗布し、水洗し、
次いでガム引きする製版方法が開示されている。 しかし乍ら、これらの製版方法のいずれにおい
ても、印刷に供する前工程としてガム引きをしな
ければならず、これが製版処理の低コスト化およ
び劣力化の大きな障害となつていた。 従つて本発明の目的は消去−水洗後のガム引き
を必要としない低コストで省力化された製版方法
を提供することである。 本発明等は種々検討を重ねた結果、PS版を画
像露光後、現像、ガム引きを行ないしかる後に不
必要な画像部分に消去液を塗布し、次いで水洗し
た場合には、その後工程としてガム引きをしなく
とも印刷に供することが出来ることを発見した。 以下本発明による製版方法について順を追つて
詳細に説明する。 本発明に使用されるPS版は、親水性表面を有
する支持体上に感光層を設けてなるものである
が、好ましくはアルミニウム板を陽極酸化し、次
いで親水化処理した支持体上に感光層が設けられ
ものであり、特に必然的に消去部分が多くなるポ
ジ型感光層を有するものが適している。 使用されるアルミニウム板には純アルミニウム
及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウ
ム合金としては種々のものが使用でき、例えばけ
い素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜
鉛、鉛、ビスマス、ニツケルなどの金属とアルミ
ニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、
いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し
得る程度の量の不純物をも含むものである。 アルミニウム板は砂目立てされていることが好
ましいが、それに先立つて、必要に応じて表面の
圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面
を表出させるためにその表面の前処理が施され
る。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面
活性剤等が用いられている。又後者のためには水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・
エツチング剤を用いる方法が広く用いられてい
る。砂目立て方法としては機械的砂目立て方法、
化学的砂目立て方法および電気化学的砂目立て方
法(所謂、電解エツチング方法)などが用いられ
る。 砂目立てされたアルミニウム板は、必要に応じ
て水洗された後、必要に応じて化学的にエツチン
グを行なう。 用いられるエツチング処理液は通常アルミニウ
ムを溶解する塩基あるいは酸の水酸液より選ばれ
る。この場合、エツチングされた表面がアルミニ
ウムあるいはエツチング液成分から誘導されるア
ルミニウムと異なる被膜が形成されないものでな
ければならない。好ましいエツチング剤を例示す
れば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナ
トリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム
等;酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩
酸及びその塩等である。 エツチングは上記エツチング液にアルミニウム
板を浸漬したり、該アルミニウム板にエツチング
液を塗布すること等により行われ、エツチング量
が0.5〜10g/m2の範囲となるように処理されるこ
とが好ましい。 上記エツチングは、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマツトが生成するので、通
常デスマツト処理される。デスマツト処理に使用
される酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふ
つ酸、ほうふつ化水素酸等が用いられる。 エツチング処理されたアルミニウム板は、必要
により水洗されたのち、陽極酸化される。陽極酸
化は、この分野で従来より行なわれている方法で
行なうことができる。具体的には、硫酸、りん
酸、クロム酸、蓚酸、スルフアミン酸、ベンゼン
スルホン酸等あるいはこれらの二種類以上を組み
合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直
流または交流の電流を流すと、アルミニウム支持
体表面に陽極酸化被膜を形成させることができ
る。 陽極酸化の処理条件は使用される電解液によつ
て種々変化するので一概には決定され得ないが一
般的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜
70℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1
〜100V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当であ
る。 これらの陽極酸化処理の内でも、特に英国特許
第1412768号明細書に記載されている発明で使用
されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する
方法および米国特許第3511661号明細書に記載さ
れている燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が
好ましい。 このような処理を行なつたアルミニウム支持体
は親水性化処理される。好ましい親水性化処理の
1つは、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸お
よび(または)その塩の少なくとも1種の基を含
む水溶液で処理するものである。具体的な化合物
としてはアラビアガム、カルボキシメチルセルロ
ース、カルボキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルヒドロキシエチルセルロース、アルギン
酸、ポリアクリル酸およびアクリル酸誘導体、ビ
ニルメチルエーテルと無水マレイン酸との共重合
体、酢酸ビニルと無水マレイン酸との共重合体、
ポリビニルスルホン酸およびこれらの塩である。
これらの化合物は2種以上の組合せて用いてもよ
く、必要によりその他の化合物たとえば米国特許
第3860426号明細書に記載されているような水溶
性金属塩(例えば酢酸亜鉛)、もしくはシリカ、
二酸化チタンなどの微粒子、またはハレーシヨン
防止を目的とした染料などを含んでいてもよい。 これらの化合物は水に溶解した後必要に応じて
有機溶媒を添加し、これを公知の方法たとえばデ
イツプ方式、ロールコート方式、バーコート方式
等によつてアルミニウム板の陽極酸化皮膜上に塗
布、乾燥後さらに必要により過剰分を水洗除去す
るか、または加熱水溶液に浸漬後水洗、乾燥を行
なうことにより、上述のような化合物で構成され
た薄層が形成される。 塗布液濃度は約0.001ないし1重量%、乾燥後
の塗布重量として約1ないし1000mg/m2が好まし
い。 さらにまた他の好ましい親水性化処理の1つと
しては無機塩の水溶液で処理する方法である。無
機塩としては米国特許第2714066号および同第
3181461号の各明細書に記されている様にアルカ
リ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウムの他、
フツ化ジルコン酸塩などがあり、処理後の重量と
して約1ないし100mg/m2が好ましい。 このように処理された平版印刷版用支持体の上
には感光性層を設けるが、特にポジ型PS版の感
光層として、従来より知られている感光層を設け
るのが特に本発明の実施において適している。 ポジ型感光性層としてはo−キノンジアジド化
合物とフエノール性樹脂からなるものが好まし
い。 本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物
は、少なくとも1つのo−キノンジアジド基を有
する化合物で、活性光照射によりアルカリ可溶性
を増すものであり、極めて種々の構造の化合物を
用いることができる。かかるo−キノンジアジド
化合物に関しては、J.コーサー著「ライト−セン
シテイブ・システムズ」(John Wiley&Sons、
Inc.)第339〜352頁に詳細に記載されており、こ
れらは本発明に使用され得る。特に種々の芳香族
ポリヒドロキシ化合物あるいはアミン類と反応さ
せたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又
はスルホンアミドが好適である。 本発明に使用されるo−キノンジアジド化合物
のうち、特公昭43−28403号公報に記載されてい
るような、ベンゾキノン(1,2)−ジアジドス
ルホン酸クロライドとポリヒドロキシフエニルと
のエステルまたはナフトキノン−(1,2)−ジア
ジドスルホン酸クロライドとピロガロール−アセ
トン樹脂とのエステルが最も好ましい。その他の
好適なo−キノンジアジド化合物としては、米国
特許第3046120号および同第3188210号明細書中に
記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジ
ドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドとフエ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
る。 その他の有用なo−キノンジアジド化合物とし
ては、数多くの特許に報告され、知られている。
たとえば、特開昭47−5303号、同昭48−63802号、
同昭48−63803号、同昭48−96575号、同昭49−
38701号、同昭48−13354号、特公昭41−11222号、
同昭45−9610号、同昭49−17481号公報、米国特
許第2797213号、同第3454400号、同第3544323号、
同第3573917号、同第3674495号、同第3785825号、
英国特許第1227602号、同第1251345号、同第
1267005号、同第1329888号、同第1330932号、ド
イツ特許第854890号などの各明細書中に記載され
ているものをあげることができる。 本発明において使用されるフエノール性樹脂と
はノボラツク樹脂およびフエノール性水酸基を有
するポリビニル化合物を指し、ノボラツク樹脂と
はフエノール類とホルムアルデヒド類を酸性触媒
の存在下に縮合させて得られたもので、その他キ
シレンやメシチレンで変性されたものも含む。こ
のようなノボラツク樹脂としては、フエノール−
ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂、p−tert−ブチルフエノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、フエノール変性キシレン樹脂
などを代表例としてあげることができる。 またフエノール性水酸基を有するポリビニル化
合物としてはポリヒドロキシスチレン重合体およ
びその共重合体、ハロゲン化ポリヒドロキシスチ
レン重合体および共重合体をあげることができ
る。 全組成物中のo−キノンジアジド化合物の量は
10〜50重量%で、より好ましくは20〜40重量%で
ある。そしてフエノール性樹脂の配合量は全組成
物中の45〜79重量%で、好ましくは50〜70重量%
である。 本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布される。ここで使用す
る溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルセロソ
ルブアセテート、トルエン、酢酸エチルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用す
る。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜
50重量%が適当である。また、塗布量としては感
光性平版印刷版の場合、一般的に固形分として
0.5〜3.0g/m2が適量である。 このようにして作成されたポジ型PS版を使用
して以下の処理によつて平版印刷版とされる。 PS版の感光層と原画フイルムと完全に密着さ
せた後紫外線光源により露光を行なう。 露光を行なつたポジ型PS版は通常ポジPS版用
現像液として市販されている現像液又は、ケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン
酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ
ケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニ
ア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノー
ルアミン又はジエタールアミンなどのような有機
アルカリ剤の水溶液で現像を行なう。 現像は現像−ガム部両方をもつ自現機および水
洗部をもつ通常の自現機または皿現像、手現像で
もよい。現像をした版材はガム引きを行なう。ガ
ムは市販されているガム液又はアラビアガム、デ
キストリン化エデンプン、水溶性セルロース等不
感脂化作用のある有機物およびリン酸等を含む水
溶液などが使用できる。ガム引きは現像−ガム部
両方をもつ自現機、ガムコーターまたはスポンジ
等による手盛りによつて行なうことが出来る。 ガム引きを行なつた版材は、ゴミつき、フイル
ムエツジ、レジスターマーク等の不必要画像を消
去液で消去する。使用される消去液としては市販
されている消去液が使用できるが、画像を溶解す
る溶剤およびリン酸またはフツ化水素酸等を含む
消去液など使用できる。消去方法としては、消去
液を筆で不必要画像の上に塗布するか、消去ペン
によつて同様に塗布するが、消去終了後水洗を行
なう。 水洗はシヤワーで流すか、水を含ませたスポン
ジ、布でふきとられる。水洗は版面全体を行なつ
てもよいし、消去部分の消去液をぬぐい去るだけ
でもよい。 このようにして処理された平版印刷版はこの後
ガム引きを行なうことなく印刷することができ、
従来法同様に汚れが発生することなく、良好な印
刷物を得ることができる。 次に、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説
明する。なお、下記実施例における「%」は、と
くにことわらない限り、すべて重量%である。 実施例1、厚み0.3ミリのアルミニウム板(材
質1050)をトリクレン洗滌して脱脂した後、ナイ
ロンブラシと400メツシユのパミス−水懸濁液を
用いこの表面を砂目立てし、よく水で洗滌した。
この板を、45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に
9秒間浸漬してエツチングを行ない水洗後、更に
20%硝酸に20秒間浸漬して水洗した。この時の砂
目立て表面のエツチング量は約3g/m2であつた。
次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度
15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた
後、水洗乾燥した。この次にこのアルミニウム板
に次の親水性化合物を0.35%水溶液にてロールコ
ーター塗布後自然乾燥をした。乾燥塗布後の固形
分量はそれぞれ約15mg/m2であつた。 ) アラビアガム ) セロゲン7A(第一工業(株)製カルボキシメチ
ルセルロース) ) アルギン酸ソーダ ) 比較例 中間層なし これらの中間層を設けたアルミニウム板に次の
感光液を塗布し、100℃2分間乾燥をしてポジ型
PS版)〜)(実施例)及び)(比較例)を
得た。乾燥後の塗布量はすべて2.4〜2.5g/m2
あつた。 感光液 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ニルクロライドとピロガロール−アセテート樹
脂とのエステル化合物(注) …0.90g クレゾールーホルムアルデヒド樹脂 …2.00g t−ブチルフエノール−ホルムアルデヒド樹脂
(注) …0.05g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホ
ン酸クロライド …0.03g オイルブルー#603(オリエント化学工業株式会
社製) …0.03g メチルエチルケトン …8g 2−メトキシエチルアセテート …15g 注 米国特許第3635709号明細書中、実施例
1に記載されているもの 注米国特許第4123279号明細書に記載されて
いるもの これらのポジ型PS版をフイルム原画と密着さ
せた状態で30アンペアのカーボンアーク灯で70cm
の距離から露光した。その後 処理A) 実施例 富士写真株式会社製自動現像機800Eにて同社
ポジ用現像液DP−3を水で1対6に希釈し25℃
40秒にて現像処理した。 さらにガム部に同社ガム液FPを水で1:1に
希釈して、現像後ただちにガム引き−乾燥を行な
つた。しかる後ゴミ付き、フイルムエツジトンボ
マーク等不必要な画像を同社製消去液RP−1を
筆で塗布することによつて消去を行なつた後水道
シヤワーで版面をぬらせながら水をふくませたス
ポンジで版面を水洗して消去液を除去した。 処理B) 比較例 富士写真株式会社製自動現像機800Uにて同社
現像液DP−3(1:6)25℃40秒で現像−水洗を
行なつた後、不必要画像をRP−1にて消去水洗
後、同社製ガムコーターG800にて同社製ポジプ
レート用ガムGPを水で1:1に希釈してガム引
きを行なつた。 処理C) 比較例 処理A)においてガム部にFPのかわりに同社
製リンス液FRを水で1:7に希釈したものを入
れ消去後処理B)と同様にガム引きを行なつた。 処理D) 比較例 処理B)または処理C)において消去−水洗後
のガム引きを行なわなかつたもの。 このようにして処理を行なつて得た印刷版を製
版して数日後印刷したところ次のような結果を得
た。
The present invention relates to a plate-making method using a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as PS plate),
More specifically, it relates to a plate-making method in which a PS plate is sequentially image-exposed, developed, and gummed, then unnecessary image areas are erased with an erasing liquid, and after washing with water, it can be used for printing without gumming. be. Conventionally, when creating a lithographic printing plate using a PS plate, especially a positive PS plate, the transparent original image and the photosensitive layer of the PS plate were brought into close contact with a vacuum printing frame, and after exposure, they were developed with a developer and washed with water. Afterwards, unnecessary image parts (those due to dust on the film, film edges, register marks, etc.) are erased with an erasing liquid, washed with water, and then gummed and printed. Incidentally, in recent years, systems that omit the post-development washing step have been developed for the purpose of low cost and low pollution. For example, JP-A-54-8002 discloses a plate-making method in which an image-exposed PS plate is developed and gummed immediately without washing with water. Furthermore, JP-A No. 55-115045 discloses that the image-exposed PS plate is developed, immediately treated with an aqueous solution containing a surfactant without washing with water, and then an erasing solution is applied and washed with water.
A plate-making method is disclosed in which the paper is then gummed. However, in all of these plate-making methods, gumming must be performed as a pre-process for printing, and this has been a major obstacle to lowering the cost and reducing the performance of the plate-making process. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a low-cost and labor-saving plate-making method that does not require gumming after erasing and washing. As a result of various studies, the present invention and others have found that after image exposure, development and gumming are performed on the PS plate, after which an erasing liquid is applied to unnecessary image areas, and then washing with water is performed. We discovered that it is possible to print without any additional steps. The plate making method according to the present invention will be explained in detail below. The PS plate used in the present invention is formed by providing a photosensitive layer on a support having a hydrophilic surface. Preferably, an aluminum plate is anodized, and then a photosensitive layer is provided on the hydrophilic support. In particular, a photosensitive layer having a positive type photosensitive layer, which inevitably has a large number of erased areas, is suitable. The aluminum plates used include pure aluminum and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used; for example, alloys of aluminum and metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel are used. These compositions are
In addition to some iron and titanium, it also contains negligible amounts of other impurities. The aluminum plate is preferably grained, but before that, if necessary, the surface is pretreated to remove rolling oil from the surface and expose a clean aluminum surface. For the former, solvents such as trichlene, surfactants, etc. are used. For the latter, alkalis such as sodium hydroxide and potassium hydroxide can be used.
A method using an etching agent is widely used. The graining method is mechanical graining method,
Chemical graining methods and electrochemical graining methods (so-called electrolytic etching methods) are used. The grained aluminum plate is washed with water if necessary, and then chemically etched if necessary. The etching solution used is usually selected from a base or acid hydroxide solution that dissolves aluminum. In this case, the etched surface must not be coated with aluminum or a film different from aluminum derived from the etching solution components. Examples of preferred etching agents include basic substances such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, and dipotassium phosphate; acidic substances such as sulfuric acid and persulfuric acid. , phosphoric acid, hydrochloric acid and their salts. Etching is carried out by immersing the aluminum plate in the above-mentioned etching solution or applying the etching solution to the aluminum plate, and the etching amount is preferably in the range of 0.5 to 10 g/m 2 . For the above-mentioned etching, it is desirable to use an aqueous base solution because of its high etching speed. In this case, since smut is generated, desmut processing is normally performed. The acids used in the desmut treatment include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and hydrofluoric acid. The etched aluminum plate is washed with water if necessary, and then anodized. Anodic oxidation can be performed by methods conventionally practiced in this field. Specifically, when a direct or alternating current is passed through aluminum in an aqueous or non-aqueous solution containing sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc. or a combination of two or more of these, aluminum supports An anodic oxide film can be formed on the body surface. The processing conditions for anodic oxidation vary depending on the electrolyte used, so they cannot be determined unconditionally, but in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, and the temperature of the solution is 5 to 80%.
70℃, current density 0.5 to 60 ampere/dm 2 , voltage 1
A range of ~100V and electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes is appropriate. Among these anodizing processes, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid used in the invention described in British Patent No. 1,412,768 and the method described in US Pat. No. 3,511,661 Preferred is the method of anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath. The aluminum support subjected to such treatment is treated to make it hydrophilic. One preferred hydrophilic treatment is treatment with an aqueous solution containing at least one group of carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid and/or salts thereof. Specific compounds include gum arabic, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, carboxymethylhydroxyethylcellulose, alginic acid, polyacrylic acid and acrylic acid derivatives, copolymers of vinyl methyl ether and maleic anhydride, vinyl acetate and maleic anhydride, and copolymer of
Polyvinylsulfonic acid and salts thereof.
These compounds may be used in combination of two or more, and if necessary, other compounds such as water-soluble metal salts (e.g. zinc acetate) as described in US Pat. No. 3,860,426, or silica,
It may contain fine particles such as titanium dioxide or a dye for the purpose of preventing halation. After these compounds are dissolved in water, an organic solvent is added if necessary, and this is applied onto the anodic oxide film of an aluminum plate by a known method such as a dip method, a roll coating method, a bar coating method, etc., and then dried. Thereafter, if necessary, an excess amount is removed by washing with water, or by immersion in a heated aqueous solution followed by washing and drying, a thin layer composed of the above-mentioned compound is formed. The coating solution concentration is preferably about 0.001 to 1% by weight, and the coating weight after drying is about 1 to 1000 mg/m 2 . Yet another preferred hydrophilic treatment is treatment with an aqueous solution of an inorganic salt. Inorganic salts include US Pat. No. 2,714,066 and US Pat.
As described in the specifications of No. 3181461, in addition to alkali metal silicates, such as sodium silicate,
Examples include fluorinated zirconate, and the weight after treatment is preferably about 1 to 100 mg/m 2 . A photosensitive layer is provided on the lithographic printing plate support treated in this way, and in particular, in the practice of the present invention, a conventionally known photosensitive layer is provided as a photosensitive layer for a positive-working PS plate. It is suitable for The positive photosensitive layer is preferably made of an o-quinonediazide compound and a phenolic resin. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases its alkali solubility by irradiation with actinic light, and compounds having a wide variety of structures can be used. Regarding such o-quinonediazide compounds, see "Light-Sensitive Systems" by J. Koser, John Wiley & Sons,
Inc.) pages 339-352, which can be used in the present invention. In particular, sulfonic acid esters or sulfonamides of o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or amines are suitable. Among the o-quinonediazide compounds used in the present invention, esters of benzoquinone (1,2)-diazide sulfonic acid chloride and polyhydroxyphenyl, such as those described in Japanese Patent Publication No. 43-28403, or naphthoquinone Most preferred are esters of -(1,2)-diazidosulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin. Other suitable o-quinonediazide compounds include benzoquinone-(1,2)-diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone-
There are esters of (1,2)-diazide sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resins. Other useful o-quinonediazide compounds are known and reported in numerous patents.
For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802,
No. 63803, No. 96575, No. 96575, No. 49-
No. 38701, No. 13354, Special Publication No. 11222, No. 41-1973,
US Patent No. 45-9610, US Patent No. 17481, US Patent No. 2797213, US Patent No. 3454400, US Patent No. 3544323,
Same No. 3573917, Same No. 3674495, Same No. 3785825,
British Patent No. 1227602, British Patent No. 1251345, British Patent No.
Examples include those described in specifications such as German Patent No. 1267005, German Patent No. 1329888, German Patent No. 1330932, and German Patent No. 854890. The phenolic resin used in the present invention refers to a novolac resin and a polyvinyl compound having a phenolic hydroxyl group, and the novolac resin is one obtained by condensing phenols and formaldehyde in the presence of an acidic catalyst. Also includes those modified with xylene or mesitylene. Such novolak resins include phenol-
Representative examples include formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, p-tert-butylphenol-formaldehyde resin, and phenol-modified xylene resin. Examples of the polyvinyl compound having a phenolic hydroxyl group include polyhydroxystyrene polymers and copolymers thereof, and halogenated polyhydroxystyrene polymers and copolymers. The amount of o-quinonediazide compound in the total composition is
It is 10 to 50% by weight, more preferably 20 to 40% by weight. The amount of phenolic resin blended is 45 to 79% by weight, preferably 50 to 70% by weight of the total composition.
It is. The composition of the present invention is applied onto a support after being dissolved in a solvent that dissolves each of the above components. Examples of the solvent used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve acetate, toluene, and ethyl acetate, and these solvents may be used alone or in combination. The concentration of solid content in the coating solution is 2-
50% by weight is suitable. In addition, in the case of photosensitive planographic printing plates, the coating amount is generally
A suitable amount is 0.5-3.0g/ m2 . The positive PS plate thus prepared is used to produce a lithographic printing plate through the following process. After the photosensitive layer of the PS plate is brought into complete contact with the original film, exposure is performed using an ultraviolet light source. The exposed positive PS plate is usually prepared using a commercially available developer for positive PS plates, or sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or triphosphoric acid. Inorganic alkaline agents such as sodium, dibasic sodium phosphate, tertiary ammonium phosphate, diammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. and organic agents such as monoethanolamine or diethalamine, etc. Develop with an aqueous alkaline solution. The development may be carried out by an automatic developing machine having both a developing and gum section, a conventional automatic developing machine having a water washing section, a dish developing machine, or a manual developing machine. The developed plate material is gummed. As the gum, a commercially available gum liquid or an aqueous solution containing an organic substance having a desensitizing effect such as gum arabic, dextrinized edemarch, water-soluble cellulose, phosphoric acid, etc. can be used. Gumming can be carried out by an automatic developing machine having both a developing and a gum section, a gum coater, or manual coating using a sponge or the like. On the gummed plate material, unnecessary images such as dust, film edges, register marks, etc. are erased with an erasing liquid. As the erasing liquid, a commercially available erasing liquid can be used, and an erasing liquid containing a solvent that dissolves the image, phosphoric acid, hydrofluoric acid, or the like can be used. As for the erasing method, an erasing liquid is applied onto the unnecessary image with a brush or similarly applied with an erasing pen, and after erasing is completed, the image is washed with water. Washing can be done by showering or wiping with a damp sponge or cloth. The entire plate surface may be washed with water, or the eraser may be simply wiped off from the erased areas. A lithographic printing plate treated in this way can be printed without subsequent gumming,
Similar to the conventional method, good printed matter can be obtained without staining. Next, the present invention will be explained in more detail by giving Examples. In addition, all "%" in the following examples are weight % unless otherwise specified. Example 1 An aluminum plate (material: 1050) having a thickness of 0.3 mm was degreased by washing with Triclean, and then the surface was grained using a nylon brush and a 400 mesh pumice-water suspension, and the plate was thoroughly washed with water.
This plate was etched by immersing it in a 25% sodium hydroxide aqueous solution at 45℃ for 9 seconds, and after washing with water, it was further etched.
It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. The amount of etching on the grained surface at this time was approximately 3 g/m 2 .
Next, this plate was heated at a current density of 7% sulfuric acid as an electrolyte.
After providing a DC anodic oxide film of 3 g/m 2 at 15 A/dm 2 , it was washed with water and dried. Next, the aluminum plate was coated with a 0.35% aqueous solution of the following hydrophilic compound using a roll coater, and then air-dried. The solid content after dry application was approximately 15 mg/m 2 in each case. ) Gum arabic) Celogen 7A (carboxymethyl cellulose manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) ) Sodium alginate) Comparative example No intermediate layer The following photosensitive solution was applied to the aluminum plate provided with these intermediate layers and dried at 100°C for 2 minutes. positive type
PS versions) to ) (Example) and ) (Comparative Example) were obtained. The coating amount after drying was 2.4 to 2.5 g/m 2 in all cases. Photosensitive liquid Ester compound of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetate resin (Note)...0.90g Cresol-formaldehyde resin...2.00g t-Butylphenol-formaldehyde resin (Note)...0.05g Naphthoquinone -1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride...0.03g Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.)...0.03g Methyl ethyl ketone...8g 2-methoxyethyl acetate...15g Note In the specification of U.S. Patent No. 3635709, What is described in Example 1 Note: What is described in US Patent No. 4,123,279 These positive PS plates were placed in close contact with the film original for 70 cm using a 30 ampere carbon arc lamp.
exposed from a distance of Post-processing A) Example Using an automatic processor 800E manufactured by Fuji Photo Co., Ltd., the company's positive developer DP-3 was diluted with water at a ratio of 1:6 and heated at 25°C.
It was developed for 40 seconds. Further, the company's gum liquid FP was diluted 1:1 with water in the gum area, and immediately after development, gumming and drying were performed. After that, unnecessary images such as dust and film edge marks were erased by applying the same company's erasing liquid RP-1 with a brush, and then the plate was wetted with water using a tap shower. The eraser was removed by washing the plate surface with water using a sponge. Processing B) Comparative example Developed with Fuji Photo Co., Ltd.'s automatic processor 800U using the company's developer solution DP-3 (1:6) at 25°C for 40 seconds and washed with water, then removed unnecessary images with RP-1. After erasing and washing with water, gumming was performed using Gum Coater G800 manufactured by the same company by diluting Gum GP for positive plates with water at a ratio of 1:1. Treatment C) Comparative Example In treatment A), instead of FP, a rinsing liquid FR made by the same company diluted with water at a ratio of 1:7 was added to the gum part, and gumming was performed in the same manner as in post-erasing treatment B). Treatment D) Comparative Example Treatment B) or Treatment C) without gumming after erasing and washing with water. When the printing plate obtained by the above treatment was plate-made and printed several days later, the following results were obtained.

【表】 ○……汚れのない良好な印刷物を得た
×……消去部消去不良および/または非画像部指紋跡
等汚れ発生
本発明の実施形態は版材)))を処理
A)で処理を行なつて印刷版を得るものである
が、従来法版材)を処理B)またはC)で処理
したものと同様汚れの発生しない良好な印刷物を
得た。これと比較して現像後水洗又はリンス処理
をしたものは消去後ガス引きを行なう必要があつ
た。 又、中間層のないもの(iv)は、処理A)のケース
でも汚れが発生した。 実施例 2 実施例1と同様にアルミニウム支持体を処理し
た後セロゲン7A0.2%、酢酸亜鉛0.2%を含む水溶
液をロールコーターで塗布乾燥して中間層を設け
た。乾燥後の固形分量は約20mg/m2であつた。 この中間層を設けたアルミニウム支持体を実施
例1と同様の感光層を塗布した後実施例1の処理
A)と同様の処理を行なつた後印刷をしたところ
汚れのない良好な印刷物を得た。 実施例 3 実施例2で得た版材をDP−3(1:6)で皿現
像(25℃1分間)した後水洗し、富士フイルム株
式会社製ガムGUを水で1:1に希釈してスポン
ジで全面に塗布後バフドライ乾燥をした。これを
消去後、ぬれたウエスで消去部分だけふきとり消
去液をぬぐい去つた後印刷したところ良好な結果
を得た。 実施例 4 実施例1と同様に処理したアルミニウム支持体
を0.2%のポリビニルホスホン酸水溶液に60℃で
4分間浸漬した。ポリビニルホスホン酸の分子量
は約100000である。次に板を水で洗浄し乾燥後実
施例1と同様の感光層を塗布後処理A)と同様の
処理を行なつたところ印刷において良好な結果を
得た。 実施例 5 厚み0.24mmのJIS1050アルミニウムシートをパ
ミスー水懸濁液を研摩剤として、回転ナイロンブ
ラシで表面を粗面化した。表面粗さ(中心線平均
粗さ)は0.5μであつた。水洗後、10%苛性ソーダ
水溶液を70℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミ
ニウム表面の溶解量が6g/m2になるようにエツ
チングした。水洗後、30%硝酸水溶液中に1分間
浸漬し、0.7%硝酸水溶液中で、陽極時電圧13ボ
ルト、陰極時電圧6ボルトの短形波交番波形を用
いて(特開昭52−77702号公報実施例に記載され
ている電源波形)20秒間電解粗面化を行ない、30
%硫酸の50℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した
後、水洗した。 さらに20%硫酸水溶液中で、陽極酸化皮膜重量
が3.0g/m2となるように直流を用いて陽極酸化処
理を施して水洗、乾燥後、JIS規格3号ケイ酸ナ
トリウム(SiO2/Na2O=3.1〜3.3(モル比))の
4%水溶液(液温70℃)中に15秒間浸漬した。 水洗、乾燥後、実施例1と同様の感光層を塗布
後処理A)と同様の処理を行なつたところ印刷に
おいて良好な結果を得た。
[Table] ○... Good printed matter with no stains was obtained. ×... Poor erasing in the erased area and/or stains such as fingerprints in the non-image area. In the embodiment of the present invention, the plate material))) is processed by processing A) A printing plate was obtained by carrying out this process, and a good printed matter without staining was obtained, similar to that obtained by treating the conventional plate material) with treatment B) or C). In comparison, those that were washed with water or rinsed after development required degassing after erasing. In addition, in the case (iv) without an intermediate layer, stains occurred even in the case of treatment A). Example 2 After an aluminum support was treated in the same manner as in Example 1, an aqueous solution containing 0.2% of 7A cerogen and 0.2% of zinc acetate was coated with a roll coater and dried to form an intermediate layer. The solid content after drying was approximately 20 mg/m 2 . The aluminum support provided with this intermediate layer was coated with a photosensitive layer similar to that in Example 1, and then subjected to the same treatment as in Example 1 (A) and then printed, resulting in good prints without stains. Ta. Example 3 The plate material obtained in Example 2 was plate developed with DP-3 (1:6) (25°C for 1 minute), washed with water, and Gum GU manufactured by Fujifilm Corporation was diluted with water to a ratio of 1:1. After applying it to the entire surface with a sponge, I buff-dried it. After erasing this, I wiped off only the erased area with a wet cloth to wipe off the erasing liquid, and then printed, and a good result was obtained. Example 4 An aluminum support treated in the same manner as in Example 1 was immersed in a 0.2% polyvinylphosphonic acid aqueous solution at 60° C. for 4 minutes. The molecular weight of polyvinylphosphonic acid is approximately 100,000. Next, the plate was washed with water, dried, and then coated with the same photosensitive layer as in Example 1. When the same treatment as A) was carried out, good results were obtained in printing. Example 5 The surface of a JIS1050 aluminum sheet having a thickness of 0.24 mm was roughened using a rotating nylon brush using a pumice water suspension as an abrasive. The surface roughness (center line average roughness) was 0.5μ. After washing with water, it was immersed in a 10% aqueous solution of caustic soda heated to 70°C to etch the aluminum surface so that the amount of dissolved aluminum was 6 g/m 2 . After washing with water, immerse in a 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute, and use a rectangular wave alternating waveform with an anode voltage of 13 volts and a cathode voltage of 6 volts in a 0.7% nitric acid aqueous solution. Power supply waveform described in the example) Perform electrolytic roughening for 20 seconds,
After cleaning the surface by immersing it in a 50°C solution of sulfuric acid, it was washed with water. Furthermore, anodization treatment was performed using direct current in a 20% sulfuric acid aqueous solution so that the weight of the anodic oxide film was 3.0 g/m 2 , washed with water, and after drying, JIS standard No. 3 sodium silicate (SiO 2 /Na 2 It was immersed for 15 seconds in a 4% aqueous solution (liquid temperature: 70°C) of O = 3.1 to 3.3 (molar ratio). After washing with water and drying, the same photosensitive layer as in Example 1 was subjected to the same treatment as post-coating treatment A), and good results were obtained in printing.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 親水性表面を有する支持体上に感光層を有す
る感光性平版印刷版を、順に、画像露光し、現像
して該感光層の非画像部を除去して該支持体の親
水性表面を露呈させ、ガム引きし、不必要な画像
部に消去液を塗布し、最後に水洗することにより
平版印刷版を得る製版方法であつて、該水洗後の
工程にガム引きを含まないことを特徴とする製版
方法。 2 該親水性表面を有する支持体が、アルミニウ
ム板を陽極酸化し、次いで親水化処理されたもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の製版方法。 3 該親水化処理が、カルボン酸基、スルホン酸
基、ホスホン酸基またはその塩の基を含む化合物
もしくは無機塩の水溶液による処理であることを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の製版方
法。
[Scope of Claims] 1. A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer on a support having a hydrophilic surface is sequentially imagewise exposed and developed to remove the non-image area of the photosensitive layer. A plate-making method in which a lithographic printing plate is obtained by exposing the hydrophilic surface, gumming it, applying an erasing liquid to unnecessary image areas, and finally washing with water, in which gumming is performed in the step after washing with water. A plate-making method characterized in that it does not contain 2. The plate-making method according to claim 1, wherein the support having a hydrophilic surface is an aluminum plate that is anodized and then subjected to hydrophilic treatment. 3. Plate making according to claim 2, wherein the hydrophilic treatment is treatment with an aqueous solution of a compound or inorganic salt containing a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, or a salt group thereof. Method.
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