JPH0526866B2 - - Google Patents
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- JPH0526866B2 JPH0526866B2 JP24043184A JP24043184A JPH0526866B2 JP H0526866 B2 JPH0526866 B2 JP H0526866B2 JP 24043184 A JP24043184 A JP 24043184A JP 24043184 A JP24043184 A JP 24043184A JP H0526866 B2 JPH0526866 B2 JP H0526866B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空蒸着装置、特に走行する金属ス
トリツプにメツキ材を蒸着する連続式真空蒸発装
置における該ストリツプへの金属蒸気付着量の検
出方法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for detecting the amount of metal vapor deposited on a moving metal strip in a vacuum evaporation apparatus, particularly a continuous vacuum evaporation apparatus for depositing a plating material onto a moving metal strip. Regarding.
たとえば、特願昭59−106396号明細書によれ
ば、第３図あるいは第４図のような連続式真空蒸
発装置の蒸発槽構成例が提案されている。第３図
において、金属の蒸発は、浴槽２の溶融金属１の
表面から起こる。蒸発した金属蒸気は、開口面積
を変えることのできる蒸気流通口１９、ダクト
（チヤンネル）６を通り、その開口部に接近して
通過するストリツプ（この場合は、薄鋼板）７に
付着する。溶融金属１への加熱は、ヒータ（図示
省略）により行なう。３９は付着量検出器、１５
はシヤツタで、付着量検出値が所定値になるよう
にヒータとシヤツタ１５の開度を操作して制御す
る。なお、１３はシヤツタ駆動用軸、１４はヒー
タ（蒸気付着防止用）である。
For example, Japanese Patent Application No. 59-106396 proposes an evaporator tank configuration of a continuous vacuum evaporator as shown in FIG. 3 or 4. In FIG. 3, evaporation of metal occurs from the surface of molten metal 1 in bath 2. In FIG. The evaporated metal vapor passes through a vapor flow opening 19 whose opening area can be changed, a duct (channel) 6, and adheres to a strip (in this case, a thin steel plate) 7 which passes close to the opening. The molten metal 1 is heated by a heater (not shown). 39 is a coating amount detector, 15
A shutter is controlled by operating the heater and the opening degree of the shutter 15 so that the detected value of adhesion becomes a predetermined value. Note that 13 is a shaft for driving the shutter, and 14 is a heater (for preventing vapor deposition).
また、第４図は、連続式真空蒸発装置の蒸発槽
の別の構成例である。第４図において、ストリツ
プ７は、裏面の金属蒸気付着防止のため、シエル
部をヒータ（図示省略）で加熱された加熱ロール
３７にかけ回されており、ストリツプ７の他の片
面に金属蒸気を付着させる。３３はシヤツタ駆動
機、３５はシヤツタ、３８はシヤツタ駆動装置、
４０に排気ダクトである。 Further, FIG. 4 shows another example of the configuration of the evaporator of the continuous vacuum evaporator. In FIG. 4, the shell of the strip 7 is passed around a heating roll 37 heated by a heater (not shown) to prevent metal vapor from adhering to the other side of the strip 7. let 33 is a shutter drive machine, 35 is a shutter, 38 is a shutter drive device,
40 is an exhaust duct.
ところが、上記従来装置で用いられている付着
量検出器３９は、非常に高価であるという欠点を
有する。 However, the adhesion amount detector 39 used in the conventional apparatus described above has the drawback of being very expensive.
本発明の目的は、上記高価な付着量検出器を用
いなくても、安価でかつ十分な精度の付着量検出
が可能な検出方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a detection method that is inexpensive and capable of detecting the amount of adhesion with sufficient accuracy without using the expensive adhesion amount detector described above.
本発明は、(1)連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト
前面を走行するストリツプに付着する金属付着量
を検出する方法において、蒸気ダクト前後の走行
ストリツプの温度を検出し、次式によりストリツ
プに付着する金属付着量を求めることを特徴とす
る検出方法、
Qd＝〔γs×ｄ×Cs
×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ
但し、上式において、
Qd：付着量 （Kg／m2）
γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3）
Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃）
ｄ：板厚 （ｍ）
Ts out：出口ストリツプ温度 （℃）
Ts in：入口ストリツプ温度 （℃）
Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg）
及び、(2)連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト前面
に設けた加熱ロール上を走行するストリツプに付
着する金属付着量を検出する方法において、蒸気
ダクト前後の走行ストリツプの温度を検出し、次
式によりストリツプに付着する金属付着量を求め
ることを特徴とする検出方法である。
The present invention provides (1) a method for detecting the amount of metal adhering to a strip running in front of a steam duct of a continuous vacuum evaporation apparatus, in which the temperature of the running strip before and after the steam duct is detected, and the amount of metal adhering to the strip is determined by the following formula. A detection method characterized by determining the amount of metal deposited, Qd=[γs×d×Cs×(Ts out−Ts in)]/H However, in the above equation, Qd: deposited amount (Kg/m 2 ) γs : Strip specific weight (Kg/ m3 ) Cs: Strip specific heat (Kcal/Kg℃) d: Plate thickness (m) Ts out: Outlet strip temperature (℃) Ts in: Inlet strip temperature (℃) H: Vapor deposition latent heat ( (Kcal/Kg) and (2) detecting the temperature of the running strip before and after the steam duct in a method of detecting the amount of metal adhering to the strip running on the heating roll installed in front of the steam duct of a continuous vacuum evaporation device. This detection method is characterized in that the amount of metal attached to the strip is determined by the following equation.
Qd＝〔γs×ｄ×Cs×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ−
〔Aα（TR−Ts）〕／vwH
但し、上式において、
Qd：付着量 （Kg／m2）
γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3）
Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃）
ｄ：板厚 （ｍ）
Ts out：出口ストリツプ温度 （℃）
Ts in：入口ストリツプ温度 （℃）
Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg）
Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2）
α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率
（Kcal／m2ｈ℃）
TR：加熱ロールシエル温度 （℃）
Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃）
ｖ：ストリツプ速度 （ｍ／ｈ）
ｗ：板幅 （ｍ）
〔作用〕
以下に、本発明に係る金属蒸気付着量検出の原
理を説明する。Qd=[γs×d×Cs×(Ts out−Ts in)]/H−
[Aα(T R −Ts)]/vwH However, in the above formula, Qd: Coating amount (Kg/m 2 ) γs: Strip specific weight (Kg/m 3 ) Cs: Strip specific heat (Kcal/Kg℃) d: Plate thickness (m) Ts out: Outlet strip temperature (°C) Ts in: Inlet strip temperature (°C) H: Latent heat of deposition (Kcal/Kg) A: Contact area between heating roll and strip (m 2 ) α: Strip and heating Heat transfer coefficient between rolls (Kcal/m 2 h℃) T R : Heating roll shell temperature (℃) Ts: (Ts in + Ts out)/2 (℃) v: Stripping speed (m/h) w: Strip width ( m) [Operation] The principle of detecting the amount of metal vapor deposited according to the present invention will be explained below.
第３図に示すストリツプ７への金属蒸気付着部
（ダクト６の開口部）において、蒸気もれは非常
に少ないので、式(1)の熱バランス式が成り立つ。 Since there is very little steam leakage at the part where the metal vapor is attached to the strip 7 (the opening of the duct 6) shown in FIG. 3, the heat balance equation (1) holds true.
γs×υ×ｄ×ｗ×Cs×（Ts out
−Ts in）＝Qd×υ×ｗ×Ｈ (1)
ここで、
υ：ストリツプ速度 ｍ／ｈ
ｄ：板厚 ｍ
ｗ：板幅 ｍ
Cs：ストリツプ比熱 Kcal／Kg℃
Ts in：入口ストリツプ温度 ℃
Ts out：出口ストリツプ温度 ℃
Qd：付着量 Kg／m2
Ｈ：蒸着潜熱 Kcal／Kg
γs：ストリツプ比重量 Kg／m3
式(1)において、左辺はストリツプの被加熱量
で、右辺は蒸着潜熱による加熱量である。なお、
式(1)で、付着量の単位は、Kg／m2で表わしたが、
付着量検出器の信号のように、膜厚（mm）で表わ
すには、金属の比重量で割ればよい。γs×υ×d×w×Cs×(Ts out −Ts in)=Qd×υ×w×H (1) Here, υ: Strip speed m/h d: Plate thickness m w: Plate width m Cs: Strip specific heat Kcal/Kg°C Ts in: Inlet strip temperature °C Ts out: Outlet strip temperature °C Qd: Deposition amount Kg/m 2 H: Latent heat of deposition Kcal/Kg γs: Strip specific weight Kg/m In equation 3 (1), The left side is the amount of heating of the strip, and the right side is the amount of heating due to the latent heat of vapor deposition. In addition,
In formula (1), the unit of adhesion amount is expressed in Kg/ m2 ,
To express the film thickness (mm) like the signal from a coating amount detector, divide it by the specific weight of the metal.
式(1)を書き直せば式(2)を得る。 If we rewrite equation (1), we get equation (2).
Qd＝〔γs×ｄ×Cs
×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ (2)
すなわち、板厚ｄ、金属蒸気付着部の入口ａと
出口ｂのストリツプ温度Ts in、Ts outがわかれ
ば、式(2)を用いて付着量Qdを得ることができる。
ストリツプ温度検出器は付着部の入口ａと出口ｂ
に２台必要であるが、付着量検出器１台よりもは
るかに安価であるし、十分な精度を得ることがで
きる。Qd = [γs × d × Cs × (Ts out - Ts in)] / H (2) In other words, if the plate thickness d and the strip temperatures Ts in and Ts out at the inlet a and outlet b of the metal vapor deposition area are known, The adhesion amount Qd can be obtained using equation (2).
The strip temperature sensor is installed at the inlet a and outlet b of the attachment part.
However, it is much cheaper than one adhesion amount detector and provides sufficient accuracy.
第１図のＡ，Ｂは、本発明の一実施態様であ
る。図中、４１，４２はストリツプ温度検出器、
４３は式(2)を演算する演算装置である。 A and B in FIG. 1 are one embodiment of the present invention. In the figure, 41 and 42 are strip temperature detectors,
43 is an arithmetic device that computes equation (2).
また、従来例の第４図の場合には、ストリツプ
７は、加熱ロール３７からも接触熱伝達によつて
加熱されるので、式(3)の熱バランス式が成り立
つ。 In the case of the conventional example shown in FIG. 4, the strip 7 is also heated by the heating roll 37 by contact heat transfer, so the heat balance equation (3) holds true.
γs×υ×ｄ×ｗ×Cs×（Ts out−Ts in）＝Qd×
υ×ｗ×Ｈ＋Ａ×α×（TR−Ts） (3)
ここで、
Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃）
TR：加熱ロールシエル温度 （℃）
α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率
（Kcal／m2ｈ℃）
Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2）
式(3)の右辺第２項は、加熱ロール３７による加
熱量である。式(3)を式(2)のように書き直せば式(4)
が得られる。γs×υ×d×w×Cs×(Ts out−Ts in)=Qd×
υ×w×H+A×α×(T R −Ts) (3) Here, Ts: (Ts in+Ts out)/2 (℃) T R : Heating roll shell temperature (℃) α: Between the strip and the heating roll Heat transfer coefficient (Kcal/m 2 h°C) A: Contact area between the heating roll and the strip (m 2 ) The second term on the right side of equation (3) is the amount of heating by the heating roll 37. If we rewrite equation (3) as equation (2), we get equation (4)
is obtained.
Qd＝〔γs×ｄ×Cs×（Ts out
−Ts in）〕／Ｈ−〔Ａ×α×（TR
−Ts）〕／υ×ｗ×Ｈ (4)
式(4)は式(2)に加熱ロールに関する項を附加した
ものであり、加熱ロールを使用しない第１図の場
合は、Ａ＝０とすれば、式(4)が適用できる。した
がつて、式(4)を用いて、付着量Qdを求めればよ
い。Qd=[γs×d×Cs×(Ts out −Ts in)]/H−[A×α×(T R −Ts)]/υ×w×H (4) Equation (4) is replaced by Equation (2) In the case of FIG. 1 where no heating roll is used, equation (4) can be applied by setting A=0. Therefore, the adhesion amount Qd may be determined using equation (4).
第２図のＡ，Ｂは、第４図のような構成例にお
ける本発明の他の実施態様である。第２図では、
上記式(3)の右辺第２項を求めるため、ロールシエ
ル温度検出器４５を設置している。演算装置４６
は、入口と出口のストリツプ温度検出器４１，４
２や、ロールシエル温度検出器４５からの信号
と、ストリツプの生産量（ストリツプ速度×板厚
×板幅）から式(3)を用いて、付着量Qdを演算す
る演算装置である。これは、たとえば簡単なマイ
コンで十分安価にて実現できる。 A and B in FIG. 2 are other embodiments of the present invention in the configuration example shown in FIG. 4. In Figure 2,
In order to obtain the second term on the right side of the above equation (3), a roll shell temperature detector 45 is installed. Arithmetic device 46
are the inlet and outlet strip temperature detectors 41, 4.
This is an arithmetic device that calculates the adhesion amount Qd using equation (3) from signals from 2 and the roll shell temperature detector 45 and the production amount of strip (strip speed x plate thickness x plate width). This can be realized at a sufficiently low cost using, for example, a simple microcontroller.
本発明によれば、非常に高価な付着量検出器を
使うことなく安価で十分な精度を持つた金属蒸気
付着量の検出が可能である。
According to the present invention, it is possible to detect the amount of metal vapor adhesion at low cost and with sufficient accuracy without using a very expensive adhesion amount detector.
第１図は、本発明方法の付着量検出装置の構成
例、第２図は、従来の第４図の構成の蒸発槽に本
発明方法を適用した例を示す。第３図は、従来使
われている付着量検出器を用いた連続式真空蒸発
装置の蒸発槽の構成例、第４図は、従来使われて
いる付着量検出器を用いた連続式真空蒸発装置の
蒸発槽の別の構成例を示す。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a coating amount detection apparatus according to the method of the present invention, and FIG. 2 shows an example in which the method of the present invention is applied to a conventional evaporation tank having the configuration shown in FIG. Figure 3 shows an example of the configuration of a continuous vacuum evaporator using a conventionally used deposition amount detector, and Figure 4 shows a continuous vacuum evaporator using a conventionally used deposition amount detector. Another configuration example of the evaporation tank of the device is shown.
Claims (1)
するストリツプに付着する金属付着量を検出する
方法において、蒸気ダクト前後の走行ストリツプ
の温度を検出し、次式によりストリツプに付着す
る金属付着量を求めることを特徴とする検出方
法。 Qd＝〔γs×ｄ×Cs ×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） ２ 連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト前面に設け
た加熱ロール上を走行するストリツプに付着する
金属付着量を検出する方法において、蒸気ダクト
前後の走行ストリツプの温度を検出し、次式によ
りストリツプに付着する金属付着量を求めること
を特徴とする検出方法。 Qd＝〔γs×ｄ×Cs×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ−
〔Ａ×α×（TR−Ts）〕／υ×ｗ×Ｈ 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2） α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率 （Kcal／m2ｈ℃） TR：加熱ロールシエル温度 （℃） Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃） υ：ストリツプ速度 （ｍ／ｈ） ｗ：板幅 （ｍ）[Claims] 1. In a method for detecting the amount of metal adhering to a strip running in front of a steam duct of a continuous vacuum evaporation apparatus, the temperature of the running strip before and after the steam duct is detected, and the amount of metal adhering to the strip is determined by the following formula. A detection method characterized by determining the amount of metal deposited. Qd=[γs×d×Cs×(Ts out−Ts in)]/H However, in the above formula, Qd: Coating amount (Kg/m 2 ) γs: Strip specific weight (Kg/m 3 ) d: Plate thickness (m) Ts out: Outlet strip temperature (℃) Ts in: Inlet strip temperature (℃) H: Vapor deposition latent heat (Kcal/Kg) 2 Strip running on heating roll installed in front of steam duct of continuous vacuum evaporation equipment 1. A method for detecting the amount of metal adhering to a steam duct, the method comprising detecting the temperature of a running strip before and after a steam duct, and determining the amount of metal adhering to the strip using the following equation. Qd=[γs×d×Cs×(Ts out−Ts in)]/H−
[A×α×(T R −Ts)]/υ×w×H However, in the above formula, Qd: Coating amount (Kg/m 2 ) γs: Strip specific weight (Kg/m 3 ) Cs: Strip specific heat ( Kcal/Kg℃) d: Plate thickness (m) Ts out: Outlet strip temperature (℃) Ts in: Inlet strip temperature (℃) H: Latent heat of deposition (Kcal/Kg) A: Contact area between heating roll and strip (m 2 ) α: Heat transfer coefficient between the strip and heating roll (Kcal/ m2 h℃) T R : Heating roll shell temperature (℃) Ts: (Ts in + Ts out)/2 (℃) υ: Strip speed (m/ h) w: Plate width (m)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24043184A JPS61119671A (en) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | Detection of quantity of metallic vapor to be stuck for vacuum evaporation device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24043184A JPS61119671A (en) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | Detection of quantity of metallic vapor to be stuck for vacuum evaporation device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61119671A JPS61119671A (en) | 1986-06-06 |
| JPH0526866B2 true JPH0526866B2 (en) | 1993-04-19 |
Family
ID=17059384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24043184A Granted JPS61119671A (en) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | Detection of quantity of metallic vapor to be stuck for vacuum evaporation device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61119671A (en) |
-
1984
- 1984-11-16 JP JP24043184A patent/JPS61119671A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61119671A (en) | 1986-06-06 |
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