JPH05290993A - Laser plasma x-ray source - Google Patents
Laser plasma x-ray sourceInfo
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- JPH05290993A JPH05290993A JP4092829A JP9282992A JPH05290993A JP H05290993 A JPH05290993 A JP H05290993A JP 4092829 A JP4092829 A JP 4092829A JP 9282992 A JP9282992 A JP 9282992A JP H05290993 A JPH05290993 A JP H05290993A
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- plasma
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザプラズマX線源において、標的物質の
交換回数を減らして長時間の使用を可能にする。
【構成】 標的物質1を帯状に形成してこれを任意の方
向に巻き取ることが可能な巻取り手段2、3、4、5
と、標的物質1を巻取り方向と直交に移動させる移動手
段7とを設けた。そして、レーザ光8の照射位置に対し
て1つの標的物質1を複数回往復移動させてX線を発生
させるようにした。
(57) [Abstract] [Purpose] In a laser plasma X-ray source, the number of times a target substance is exchanged is reduced to enable long-term use. [Structure] Winding means 2, 3, 4, 5 capable of winding the target substance 1 in a strip shape and winding the target substance 1 in an arbitrary direction.
And a moving means 7 for moving the target substance 1 in a direction orthogonal to the winding direction. Then, one target substance 1 was reciprocated a plurality of times with respect to the irradiation position of the laser light 8 to generate X-rays.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、X線顕微鏡、X線露光
装置およびX線分析装置等で用いられるX線源に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray source used in an X-ray microscope, an X-ray exposure apparatus, an X-ray analysis apparatus and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来からX線源として、レーザプラズマ
X線源が知られている。このレーザプラズマX線源は、
真空容器内に設置された標的物質にレーザ光(一般には
パルスレーザ光)を照射してこの標的物質をプラズマ化
し、このプラズマからX線を発生させる構成となってい
る。ところで、レーザ光が照射された標的物質はプラズ
マを発生させるとともに材料自身が飛散するため、標的
物質の同一箇所に何回もレーザ光を照射すると該標的物
質に穴が開いてしまう。そこで、この標的物質を帯状に
形成して巻取り可能とし、2つのリールの一方から他方
へ巻き取ることで順次標的物質におけるレーザ光の照射
位置を変化させることが可能なレーザプラズマX線源が
提案されている。2. Description of the Related Art A laser plasma X-ray source has been known as an X-ray source. This laser plasma X-ray source
The target substance placed in the vacuum container is irradiated with laser light (generally pulsed laser light) to turn this target substance into plasma, and X-rays are generated from this plasma. By the way, since the target substance irradiated with the laser light generates plasma and the material itself scatters, if the same position of the target substance is irradiated with the laser light many times, the target substance has a hole. Therefore, there is provided a laser plasma X-ray source capable of forming the target substance in a band shape and winding the target substance, and sequentially changing the irradiation position of the laser light on the target substance by winding the target substance from one of the two reels to the other. Proposed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】レーザプラズマX線源
においては、発明したX線が大気(特に窒素)に吸収さ
れるのを防ぐため、標的物質を真空中に設置してX線を
発生させていた。従って、使いきった標的物質を交換す
る際は、一旦真空容器内を大気に開放させて標的物質を
交換した後、再びこの真空容器内を真空に排気する必要
があった。しかし、この作業は真空にするための排気に
時間を要するため効率が悪かった。また、標的物質の交
換作業中は発生したX線を使用するシステム(例えば、
X線露光装置やX線分析装置など)全体が停止してしま
う。そのため、レーザプラズマX線源においては、標的
物質を交換する頻度が少ない方が望ましい。ところが、
前述の帯状の標的物質を巻取り可能に構成したレーザプ
ラズマX線源においては、標的物質の巻取り方向が一方
向のみに設定されていた。そのため、この標的物質の交
換回数を減らそうとすると、標的物質を長く形成させる
ことになるが、この場合、リールに巻き取られた標的物
質の径が大きくなってしまうため装置全体が大型化して
しまうという問題が生じる。In a laser plasma X-ray source, in order to prevent the invented X-ray from being absorbed by the atmosphere (particularly nitrogen), the target substance is placed in a vacuum to generate the X-ray. Was there. Therefore, when exchanging the used target substance, it was necessary to once open the inside of the vacuum container to the atmosphere to exchange the target substance and then to evacuate the inside of the vacuum container again. However, this work was inefficient because it took time to evacuate to vacuum. In addition, a system that uses the X-rays generated during the target substance replacement work (for example,
The entire X-ray exposure apparatus, X-ray analysis apparatus, etc. will stop. Therefore, in the laser plasma X-ray source, it is desirable that the target substance is exchanged less frequently. However,
In the above-described laser plasma X-ray source configured to be able to wind the band-shaped target substance, the winding direction of the target substance is set to only one direction. Therefore, if it is attempted to reduce the number of times this target substance is exchanged, the target substance will be formed longer, but in this case, the diameter of the target substance wound on the reel will be large, and the overall size of the device will increase. There is a problem that it will end up.
【0004】本発明は、このような問題を解決すること
を目的とする。The present invention aims to solve such problems.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的のために、本発
明では、レーザ光を標的物質上に照射して該標的物質を
プラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザ
プラズマX線源において、帯状に形成された標的物質、
該標的物質を任意の方向に巻き取ることができる巻取り
手段、および前記標的物質を該標的面内において巻取り
方向とほぼ直交に移動させる移動手段とを備えるように
した。To achieve the above object, in the present invention, a laser plasma X-ray source for irradiating a laser beam onto a target substance to turn the target substance into plasma and generating X-rays from the plasma is provided. , The target substance formed into a strip,
A winding means capable of winding the target substance in an arbitrary direction and a moving means for moving the target substance in the target plane substantially orthogonal to the winding direction are provided.
【0006】[0006]
【作用】本発明では、帯状に形成された標的物質の幅を
十分広く(例えば3mm程度以上)し、この標的物質を一
方のリールに巻取りながらレーザ光を照射してX線を発
生させていく。そして、標的物質の巻取りが完了した時
は、巻取り方向に垂直な方向にこの標的物質を移動させ
た後、それまでと逆方向に巻き取りながら前述と同様に
レーザ光を照射してX線を発生させる。従って、1つの
標的物質を複数回往復移動させて使用することができる
ため、標的物質の交換頻度は減少する。In the present invention, the width of the band-shaped target substance is made sufficiently wide (for example, about 3 mm or more), and the target substance is wound on one reel and irradiated with laser light to generate X-rays. Go Then, when the winding of the target substance is completed, the target substance is moved in a direction perpendicular to the winding direction, and then, while being wound in the opposite direction, the laser beam is irradiated in the same manner as described above and X is applied. Generate a line. Therefore, one target substance can be used by reciprocating a plurality of times, so that the frequency of exchanging the target substance is reduced.
【0007】[0007]
【実施例】図1は、本発明の一実施例を示す概略構成図
である。帯状に形成された標的物質からなる帯状標的1
は、2つのリール2、3にそれぞれ一端が固定されてい
るとともに、これらリール2、3に巻取り可能な状態で
設置されている。帯状標的1の幅は3mm程度以上とし
た。リール2、3にはそれぞれモータ4、5が接続され
ており、これらのモータでリールを回転させることで帯
状標的1を巻き取ることができる。帯状標的1は矢印U
で示すように、リール2からリール3、またはリール3
からリール2、のどちらの方向に対しても巻き取ること
ができるように構成され、リール2からリール3(また
はリール3からリール2)に巻き取られる途中で、図示
していない光源から出射したレーザ光8を照射されるよ
うになっている。リール2とリール3は、基板6上に設
置されている。また、基板6は、帯状標的1の巻取り方
向と直交する方向(図中矢印Sで示す)に移動できるよ
うに構成された移動手段7に取り付けられている。さら
に、帯状標的1にレーザ光が照射される位置が常に所望
の位置となるように、帯状標的1を案内する押さえ板
9、10を備えている。ここで、この押さえ板9、10
について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a schematic block diagram showing an embodiment of the present invention. Band-shaped target 1 consisting of a band-shaped target substance
Has one end fixed to each of the two reels 2 and 3 and is installed in a state in which the reels 2 and 3 can be wound. The width of the band-shaped target 1 was set to about 3 mm or more. Motors 4 and 5 are connected to the reels 2 and 3, respectively, and the belt-shaped target 1 can be wound by rotating the reels with these motors. Band-shaped target 1 is arrow U
As shown by, reel 2 to reel 3, or reel 3
The reel 2 is configured so that it can be wound in either direction, and is emitted from a light source (not shown) while being wound from the reel 2 to the reel 3 (or the reel 3 to the reel 2). The laser light 8 is irradiated. The reels 2 and 3 are installed on the substrate 6. Further, the substrate 6 is attached to a moving means 7 configured to be movable in a direction (indicated by an arrow S in the figure) orthogonal to the winding direction of the belt-shaped target 1. Further, the pressing plates 9 and 10 for guiding the band-shaped target 1 are provided so that the position where the band-shaped target 1 is irradiated with the laser beam is always at a desired position. Here, the pressing plates 9, 10
Will be described.
【0008】レーザプラズマX線源では、一般に標的物
質に照射されるレーザ光の強度によって発生するX線の
波長およびレーザ光からX線への変換効率が異なるた
め、あらかじめ所望するX線の波長に応じて標的物質上
でのレーザ光強度を設定しておくことが望ましい。レー
ザ光は集光されて帯状標的1に照射されるが、その時の
レーザ光の強度はその光軸方向で異なる。そこで、本実
施例においては所望の波長または波長域を有するX線を
最も効率よく発生させることができる帯状標的1上での
レーザ光8の強度と、その時のレーザ光8が照射される
帯状標的1の位置とを設定して最適レーザ光照射条件と
した。そして、押さえ板9、10によって、帯状標的1
が前記最適レーザ光照射条件を満たす位置からずれない
ように(例えば、帯状標的1が常にレーザ光8の集光点
上に位置するようにする)した。図2は、帯状標的1に
レーザ光8が照射される状態を示す概略断面図である。
帯状標的1は、レーザ光8が通過するためのスリット9
aを有する押さえ板9と、前記標的1から飛散した飛散
粒子13を通過させるためのスリット10aを有する押
さえ板10とで挟み込まれている。スリット9aおよび
10aは、帯状標的1の全幅をカバーするように形成し
ておく。押さえ板10は、基板6に設置された支持部材
12に支持されているバネ等の弾性部材11により、矢
印U方向への標的1の移動に影響を与えないように適当
な圧力で押さえ板9に押し付けられている。その結果、
帯状標的1の矢印T方向に対する位置は、押さえ板9、
10の位置によって決定されるため、帯状標的1を交換
してもずれる恐れがない。従って、常に最適レーザ光照
射条件の下でX線を発生させることができる。交換時
は、弾性部材11を支持部材12側に押し付けること
で、帯状標的1を着脱すればよい。なお、これら押さえ
板9、10の位置を矢印T方向に移動させる手段を設け
て、これにより標的1上でのレーザ光8の強度を変化さ
せるようにしてもよい。また、スリット10aを設けて
飛散粒子13をレーザ光8の入射側とは反対の方向に飛
散できるようにしてあるので、レーザ光8の入射側に飛
散する粒子13の量を少なくできる。そのため、飛散粒
子13によるX線光学系の汚れを抑えることが可能とな
る。また、この飛散粒子13を溜めておくフィルタ等を
押さえ板10の後方に設置して、帯状標的1を交換する
際に同時に交換するようにしてもよい。この場合、標的
やリールに飛散粒子13が付着するのを防ぐことができ
る。In the laser plasma X-ray source, since the wavelength of the X-rays generated and the conversion efficiency from the laser light to the X-rays generally differ depending on the intensity of the laser light with which the target substance is irradiated, the wavelength of the X-rays desired in advance is changed. It is desirable to set the laser light intensity on the target substance accordingly. The laser light is condensed and applied to the band-shaped target 1, but the intensity of the laser light at that time differs depending on the optical axis direction. Therefore, in this embodiment, the intensity of the laser beam 8 on the band-shaped target 1 that can most efficiently generate X-rays having a desired wavelength or wavelength range, and the band-shaped target to which the laser beam 8 is irradiated at that time The position 1 was set as the optimum laser light irradiation condition. Then, by the pressing plates 9 and 10, the band-shaped target 1
Is not displaced from the position satisfying the optimum laser light irradiation condition (for example, the strip-shaped target 1 is always positioned on the converging point of the laser light 8). FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the belt-shaped target 1 is irradiated with the laser light 8.
The strip-shaped target 1 has a slit 9 through which the laser light 8 passes.
It is sandwiched between a pressing plate 9 having a and a pressing plate 10 having a slit 10a for passing the scattered particles 13 scattered from the target 1. The slits 9a and 10a are formed so as to cover the entire width of the band-shaped target 1. The pressing plate 10 is pressed by an elastic member 11 such as a spring supported by a supporting member 12 installed on the substrate 6 with an appropriate pressure so as not to affect the movement of the target 1 in the arrow U direction. Is pressed against. as a result,
The position of the band-shaped target 1 with respect to the arrow T direction is determined by the pressing plate 9,
Since it is determined by the position of 10, there is no risk of displacement even if the band-shaped target 1 is replaced. Therefore, X-rays can always be generated under optimum laser light irradiation conditions. At the time of replacement, the band-shaped target 1 may be attached or detached by pressing the elastic member 11 against the support member 12 side. It should be noted that a means for moving the positions of the pressing plates 9 and 10 in the direction of the arrow T may be provided to change the intensity of the laser light 8 on the target 1. Further, since the slit 10a is provided so that the scattered particles 13 can be scattered in the direction opposite to the incident side of the laser light 8, the amount of the particles 13 scattered on the incident side of the laser light 8 can be reduced. Therefore, it is possible to prevent the X-ray optical system from being contaminated by the scattered particles 13. Further, a filter or the like for accumulating the scattered particles 13 may be installed behind the pressing plate 10 so that the band-shaped target 1 can be replaced at the same time. In this case, it is possible to prevent the scattered particles 13 from adhering to the target or the reel.
【0009】次に、本実施例によりX線を発生させる過
程を説明する。一方のリール(ここではリール2とす
る)に巻き取られている帯状標的1は、モータ5を駆動
してリール3を回転させることにより、このリール3に
連続して巻き取られていく。この時、モータ4は、標的
1を送り出す方向にリール2を回転させるように駆動し
てもよいし、駆動させずに単にリール2の回転に任せる
ようにしてもよい。標的1は巻き取られていく途中で押
さえ板9、10の間を通過していく。この時、スリット
9aを通過したレーザ光8が帯状標的1を照射してプラ
ズマを生成し、このプラズマからX線を発生させる。発
生したX線はX線光学系(図示せず)によって取り出さ
れ使用される。Next, the process of generating X-rays according to this embodiment will be described. The belt-shaped target 1 wound on one reel (here, reel 2) is continuously wound on this reel 3 by driving the motor 5 to rotate the reel 3. At this time, the motor 4 may be driven so as to rotate the reel 2 in the direction in which the target 1 is sent out, or may be allowed to simply rotate the reel 2 without being driven. The target 1 passes between the pressing plates 9 and 10 while being wound up. At this time, the laser beam 8 that has passed through the slit 9a irradiates the band-shaped target 1 to generate plasma, and X-rays are generated from this plasma. The generated X-rays are extracted and used by an X-ray optical system (not shown).
【0010】帯状標的1がリール3に全て巻き取られた
ならば、移動手段7により、基板6とこの基板6に設置
されたリール2、3およびモータ4、5とを、少なくと
もレーザ光8の照射によって形成された穴を避ける程度
矢印S方向に移動させる。この移動が済むと、今度はモ
ータ4を駆動してリール3からリール2に帯状標的1を
巻き取っていく。この時、モータ5は、標的1を送り出
す方向に駆動してもよいし、駆動させずに単にリール3
の回転に任せるようにしてもよい。帯状標的1は、巻き
取られていく途中で前述のようにレーザ光8を照射され
てプラズマを生成し、このプラズマからX線を発生させ
る。以下、このような往復動作を帯状標的1の幅を使い
きるまで繰り返す。When the belt-shaped target 1 is completely wound up on the reel 3, the moving means 7 moves the substrate 6 and the reels 2 and 3 and the motors 4 and 5 installed on the substrate 6 at least by applying the laser light 8. The hole is moved in the direction of arrow S to avoid the hole formed by irradiation. After this movement is completed, the belt target 1 is wound from the reel 3 to the reel 2 by driving the motor 4 this time. At this time, the motor 5 may be driven in the direction to send out the target 1, or may be simply driven without being driven.
You may leave it to the rotation of. The belt-shaped target 1 is irradiated with the laser beam 8 as described above while being wound up to generate plasma, and X-rays are generated from this plasma. Hereinafter, such a reciprocating operation is repeated until the width of the band-shaped target 1 is used up.
【0011】なお、レーザ光8はパルス状に照射しても
よいし、連続して照射してもよい。また、帯状標的1の
巻取りも、ステップ状に行ってもよいし、前述のように
連続して巻き取ってもよい。例えば、レーザ光8をパル
ス状に照射し、この照射と同期させてモータを回転させ
て標的1を巻き取るようにしてもよい。この場合、レー
ザ光8を照射した後、この照射よって形成された穴を避
ける程度帯状標的1を巻き取り、この巻き取り後停止し
ている帯状標的1にレーザ光8を照射してX線を発生さ
せる。そして、以下この動作を繰り返していく。The laser light 8 may be applied in a pulsed manner or continuously. Further, the winding of the band-shaped target 1 may be performed in steps, or may be continuously wound as described above. For example, the target 1 may be wound by irradiating the laser light 8 in pulses and rotating the motor in synchronization with this irradiation. In this case, after irradiating the laser beam 8, the band-shaped target 1 is wound to such an extent as to avoid the hole formed by this irradiation, and the band-shaped target 1 stopped after the winding is irradiated with the laser beam 8 to emit X-rays. generate. Then, this operation is repeated thereafter.
【0012】また、レーザ光を1回照射しただけでは帯
状標的1に穴が形成されなければ、数回(穴が開くま
で)照射した後この標的1を巻き取るようにしてもよ
い。なお、帯状標的1は、標的物質自身で形成しなくと
も、別の帯状の基材を用意してこの基材の表面に標的物
質からなる薄膜を成膜することで形成させてもよい。こ
のような薄膜は、蒸着またはスパッタリング等の周知の
方法により成膜することができる。If a hole is not formed in the band-shaped target 1 by irradiating the laser beam only once, the target 1 may be wound after irradiating it several times (until the hole is opened). The strip-shaped target 1 may be formed by preparing another strip-shaped base material and forming a thin film of the target substance on the surface of the base material, instead of forming the target material itself. Such a thin film can be formed by a known method such as vapor deposition or sputtering.
【0013】また、2つのリールをケースに一括収納し
てカセット状としてもよい。この場合、交換時の取扱い
が容易になるという利点がある。Alternatively, the two reels may be collectively housed in a case to form a cassette. In this case, there is an advantage that handling at the time of replacement becomes easy.
【0014】[0014]
【発明の効果】本発明によれば、1つの標的物質をX線
源に設置したまま長時間使用することができるため、標
的物質の交換回数を減らすことができる。その結果、標
的物質の交換作業に伴う、X線を使用するシステムの停
止回数を減らすことができる。また、帯状に形成された
標的物質を、レーザ光が透過可能なスリットを有する部
材と、標的物質から飛散する粒子が通過可能なスリット
を有する部材とで挟み込むことで標的物質交換時に標的
の位置がずれるのを防止できる。その結果、常に最適レ
ーザ光照射条件の下でX線を発生させることができ、所
望の波長または波長域のX線を発生させることができ
る。さらに、この部材に標的物質から飛散する粒子が通
過可能なスリットを設けることで、標的から前方(レー
ザ光が照射される側)に飛散する粒子の量を減らすこと
が可能となる。According to the present invention, one target substance can be used for a long time while being installed in the X-ray source, so that the number of times of exchanging the target substance can be reduced. As a result, it is possible to reduce the number of times the system using X-rays is stopped due to the work of exchanging the target substance. Further, the target substance formed in a band shape is sandwiched between a member having a slit through which laser light can pass and a member having a slit through which particles scattered from the target substance can pass, so that the target position at the time of target substance exchange can be improved. It can prevent slipping. As a result, X-rays can always be generated under optimum laser light irradiation conditions, and X-rays of a desired wavelength or wavelength range can be generated. Further, by providing this member with a slit through which particles scattered from the target substance can pass, it is possible to reduce the amount of particles scattered from the target to the front side (the side irradiated with the laser light).
【図1】は、本発明の一実施例を示す概略構成図であ
る。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention.
【図2】は、図1における押さえ板付近の断面図であ
る。FIG. 2 is a cross-sectional view of the vicinity of the pressing plate in FIG.
【符号の説明】 1 帯状標的(標的物質) 2 リール(巻取り手段) 3 リール(巻取り手段) 4 モータ(巻取り手段) 5 モータ(巻取り手段) 6 基板 7 移動手段 8 レーザ光 9 押さえ板 10 押さえ板 11 弾性部材 12 支持部材 13 飛散粒子[Explanation of Codes] 1 band-shaped target (target substance) 2 reel (winding means) 3 reel (winding means) 4 motor (winding means) 5 motor (winding means) 6 substrate 7 moving means 8 laser light 9 pressing Plate 10 pressing plate 11 elastic member 12 support member 13 scattered particles
Claims (3)
物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させる
レーザプラズマX線源において、 帯状に形成された標的物質、該標的物質を任意の方向に
巻き取ることができる巻取り手段、および前記標的物質
を該標的面内において巻取り方向とほぼ直交に移動させ
る移動手段とを備えたことを特徴とするレーザプラズマ
X線源。1. A laser plasma X-ray source for irradiating a laser beam onto a target substance to turn the target substance into a plasma, and generating X-rays from the plasma, wherein the target substance formed in a band shape and the target substance are arbitrary. And a moving means for moving the target substance in the target plane substantially orthogonally to the winding direction, the laser plasma X-ray source.
れる位置近傍に該標的物質を挟み込む手段を設けたこと
を特徴とする請求項1記載のレーザプラズマX線源。2. The laser plasma X-ray source according to claim 1, further comprising means for sandwiching the target substance near a position of the target substance irradiated with the laser beam.
的物質のレーザ光照射側に設けられた第1の押さえ部材
と、該第1の押さえ部材と標的物質を介して対向する位
置に設けられるとともに、レーザ光照射時に標的物質か
ら放出される飛散粒子を飛散させるためのスリットを有
する第2の押さえ部材とからなることを特徴とする請求
項2記載のレーザプラズマX線源。3. A means for sandwiching the target substance is provided at a position facing the first holding member provided on the laser light irradiation side of the target substance and facing the first holding member with the target substance interposed therebetween. 3. The laser plasma X-ray source according to claim 2, further comprising a second pressing member having a slit for scattering scattered particles emitted from the target substance at the time of laser light irradiation.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09282992A JP3371442B2 (en) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | Laser plasma X-ray source, X-ray generation method, and X-ray exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09282992A JP3371442B2 (en) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | Laser plasma X-ray source, X-ray generation method, and X-ray exposure apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290993A true JPH05290993A (en) | 1993-11-05 |
| JP3371442B2 JP3371442B2 (en) | 2003-01-27 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP09282992A Expired - Lifetime JP3371442B2 (en) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | Laser plasma X-ray source, X-ray generation method, and X-ray exposure apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3371442B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06283407A (en) * | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Nikon Corp | X-ray source for laser plasma |
| JPH09245992A (en) * | 1996-03-12 | 1997-09-19 | Nikon Corp | X-ray generator |
| WO2014143694A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Tribogenics, Inc. | Continuous contact x-ray source |
| WO2024201456A1 (en) * | 2023-03-27 | 2024-10-03 | L2X-Labs Ltd | Short-wave systems and methods and suitable targets thereof |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62145790A (en) * | 1985-12-20 | 1987-06-29 | Toshiba Corp | Short wavelength radiation light system |
| JPS646349A (en) * | 1986-09-11 | 1989-01-10 | Hoya Corp | Laser plasma x-ray generator and x-ray ejection port opening/closing mechanism |
| JPH03263893A (en) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Hitachi Ltd | X-rays laser device |
-
1992
- 1992-04-13 JP JP09282992A patent/JP3371442B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62145790A (en) * | 1985-12-20 | 1987-06-29 | Toshiba Corp | Short wavelength radiation light system |
| JPS646349A (en) * | 1986-09-11 | 1989-01-10 | Hoya Corp | Laser plasma x-ray generator and x-ray ejection port opening/closing mechanism |
| JPH03263893A (en) * | 1990-03-14 | 1991-11-25 | Hitachi Ltd | X-rays laser device |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06283407A (en) * | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Nikon Corp | X-ray source for laser plasma |
| JPH09245992A (en) * | 1996-03-12 | 1997-09-19 | Nikon Corp | X-ray generator |
| WO2014143694A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Tribogenics, Inc. | Continuous contact x-ray source |
| US9008277B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-04-14 | Tribogenics, Inc. | Continuous contact X-ray source |
| RU2624733C2 (en) * | 2013-03-15 | 2017-07-06 | Трайбодженикс, Инк. | Continuous contact x-ray source |
| US9728368B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-08-08 | Tribogenics, Inc. | Continuous contact X-ray source |
| US9991084B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-06-05 | Tribo Labs | Continuous contact x-ray source |
| US10361056B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-07-23 | Tribo Labs | Continuous contact x-ray source |
| WO2024201456A1 (en) * | 2023-03-27 | 2024-10-03 | L2X-Labs Ltd | Short-wave systems and methods and suitable targets thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3371442B2 (en) | 2003-01-27 |
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