JPH053153B2 - - Google Patents
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- JPH053153B2 JPH053153B2 JP18861987A JP18861987A JPH053153B2 JP H053153 B2 JPH053153 B2 JP H053153B2 JP 18861987 A JP18861987 A JP 18861987A JP 18861987 A JP18861987 A JP 18861987A JP H053153 B2 JPH053153 B2 JP H053153B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
Landscapes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、紫外域で高効率高出力発振の可能な
パルスレーザ、さらに詳しく言えばレーザ発振時
付随して放射される高周波雑音の発生を抑圧する
ことができる構造のパルスレーザ管に関する。
パルスレーザ、さらに詳しく言えばレーザ発振時
付随して放射される高周波雑音の発生を抑圧する
ことができる構造のパルスレーザ管に関する。
(従来の技術)
エキシマレーザは紫外域で高効率高出力発振の
可能なパルスレーザとして知られている。
可能なパルスレーザとして知られている。
このエキシマレーザは、少量のハロゲンガスと
希ガス、バツフアガスの混合体をレーザ物質とし
て使用する。
希ガス、バツフアガスの混合体をレーザ物質とし
て使用する。
例えば波長308nmの出力を得るXeClを用いる
エキシマレーザの場合には、圧力比0.1%位の
HCl,1%位のXeをHeのバツフアガスに混合し
て全圧3気圧位の混合ガスで使用する。
エキシマレーザの場合には、圧力比0.1%位の
HCl,1%位のXeをHeのバツフアガスに混合し
て全圧3気圧位の混合ガスで使用する。
エキシマレーザ光を得るには、このガス体の励
起方法として、 ○特に高出力光が要求されるときには高エネルギ
ー電子ビームを入力エネルギー源とする電子ビー
ム励起方式と、 ○通常もつぱら使われる高繰り返し励起の可能な
放電励起によるものがある。
起方法として、 ○特に高出力光が要求されるときには高エネルギ
ー電子ビームを入力エネルギー源とする電子ビー
ム励起方式と、 ○通常もつぱら使われる高繰り返し励起の可能な
放電励起によるものがある。
後者の放電励起のエキシマレーザは、キヤパシ
タに高エネルギーで充電された電荷をスイツチを
通してレーザ管内のアノード(陽極)、カソード
(陰極)間のガス体に急速に注入して、エキシマ
分子生成に必要な条件を成立させて、放電させ
る。
タに高エネルギーで充電された電荷をスイツチを
通してレーザ管内のアノード(陽極)、カソード
(陰極)間のガス体に急速に注入して、エキシマ
分子生成に必要な条件を成立させて、放電させ
る。
この放電は立上がりの速いパルス放電であるた
めに高周波(100MHz位)成分を持つ電磁波が発
生し、かつ放電エネルギーも大きいので、発生す
る電磁波も必然的に高エネルギーのものとなる。
この高周波成分を持つ電磁波の放射の機構を従来
の放電励起によるエキシマレーザ装置の動作とと
もに説明する。
めに高周波(100MHz位)成分を持つ電磁波が発
生し、かつ放電エネルギーも大きいので、発生す
る電磁波も必然的に高エネルギーのものとなる。
この高周波成分を持つ電磁波の放射の機構を従来
の放電励起によるエキシマレーザ装置の動作とと
もに説明する。
第5図は従来の放電励起によるエキシマレーザ
装置の動作を説明するための略図である。
装置の動作を説明するための略図である。
エキシマレーザ管内には、圧力比0.1%位の
HCl,1%位のXeをHeのバツフアガスに混合し
て全圧3気圧程度の混合ガスが封入されている。
HCl,1%位のXeをHeのバツフアガスに混合し
て全圧3気圧程度の混合ガスが封入されている。
棒状のアノード(A)12、カソード(K)1
3はそれぞれ紙面に垂直方向の管軸に沿つて配置
されている。
3はそれぞれ紙面に垂直方向の管軸に沿つて配置
されている。
キヤパシタ(C1)3は、直流電源(Vo)1か
ら抵抗(R)2、充電コイル(L)8を介して供
給される電流により充電される。
ら抵抗(R)2、充電コイル(L)8を介して供
給される電流により充電される。
キヤパシタ(C1)3の抵抗側の極は正に、充
電コイル(L)8側の極は負に充電される。サイ
ラトロンスイツチ4のカソード7に約−1KVの
パルスが印加されると、サイラトロンスイツチ4
は通電するが、常時は非導通状態に保たれる。
電コイル(L)8側の極は負に充電される。サイ
ラトロンスイツチ4のカソード7に約−1KVの
パルスが印加されると、サイラトロンスイツチ4
は通電するが、常時は非導通状態に保たれる。
サイラトロンスイツチ4のカソード7に−
1KVのパルスが印加されると、キヤパシタ(C1)
3の正電荷はの経路の様にサイラトロンスイツ
チ4のグリツド6を通してレーザ管9内のスパー
クギヤツプ11を通過してレーザ管9内に配置し
たキヤパシタ10の一方の電極を充電する。
1KVのパルスが印加されると、キヤパシタ(C1)
3の正電荷はの経路の様にサイラトロンスイツ
チ4のグリツド6を通してレーザ管9内のスパー
クギヤツプ11を通過してレーザ管9内に配置し
たキヤパシタ10の一方の電極を充電する。
レーザ管9はガラスのような絶縁体か、外部回
路から通電する部分以外は、少なくとも絶縁体で
作られている。
路から通電する部分以外は、少なくとも絶縁体で
作られている。
一方キヤパシタ3の負電荷は′の経路をたど
りキヤパシタ(C2)10の他方の電極を充電す
る。キヤパシタ(C2)10の充電による両極間
の電圧がある値[スパークギヤツプ11とアノー
ド(A)12、カソード(K)13間の放電ギヤ
ツプで決まる放電開始電圧]になると、,′
の経路を通してアノード(A)12、カソード
(K)13間で放電される。スパークギヤツプ1
1とキヤパシタ(C2)10は管軸方向に棒状に
伸びたアノード(A)12、カソード(K)13
に沿つて複数個配置されており、正電荷が11を
通過する時にガス体を放電させ、予備電離放電を
させる。この予備電離放電時に紫外線が発生し、
これはアノード(A)12とカソード(K)13
間のガスをイオン化する。
りキヤパシタ(C2)10の他方の電極を充電す
る。キヤパシタ(C2)10の充電による両極間
の電圧がある値[スパークギヤツプ11とアノー
ド(A)12、カソード(K)13間の放電ギヤ
ツプで決まる放電開始電圧]になると、,′
の経路を通してアノード(A)12、カソード
(K)13間で放電される。スパークギヤツプ1
1とキヤパシタ(C2)10は管軸方向に棒状に
伸びたアノード(A)12、カソード(K)13
に沿つて複数個配置されており、正電荷が11を
通過する時にガス体を放電させ、予備電離放電を
させる。この予備電離放電時に紫外線が発生し、
これはアノード(A)12とカソード(K)13
間のガスをイオン化する。
経路,′によつてアノードとカソード間で
主放電が開始させられる前に、ガス体はイオン化
されているために主放電は空間的に一様なグロー
放電となり、その結果出力の大きなエキシマレー
ザ光が得られる。
主放電が開始させられる前に、ガス体はイオン化
されているために主放電は空間的に一様なグロー
放電となり、その結果出力の大きなエキシマレー
ザ光が得られる。
大きなノイズは,の経路でスパークギヤツ
プ11を電荷が通過して予備電離放電する時に発
生する。
プ11を電荷が通過して予備電離放電する時に発
生する。
スパークギヤツプ11は、管軸に沿つて複数個
配置され、ここでの放電は本質的にアーク放電と
なるので、電流が大きくなり、大きなノイズ発生
となる。
配置され、ここでの放電は本質的にアーク放電と
なるので、電流が大きくなり、大きなノイズ発生
となる。
(発明が解決しようとする問題点)
前述したように、従来のエキシマレーザ装置で
は、エキシマレーザの発振時に、高エネルギーの
レーザ光が得られるのと同時に、高エネルギーの
電磁波が発生し、これはノイズとなる。
は、エキシマレーザの発振時に、高エネルギーの
レーザ光が得られるのと同時に、高エネルギーの
電磁波が発生し、これはノイズとなる。
このノイズは無視できず、エキシマレーザ装置
の制御系の電子回路を乱したり、ひどい時にはレ
ーザ周辺のコンピユータの記憶内容を壊すことす
らあり、問題となつている。
の制御系の電子回路を乱したり、ひどい時にはレ
ーザ周辺のコンピユータの記憶内容を壊すことす
らあり、問題となつている。
本発明の目的は、前述したようなパルスレーザ
管において、放電励起に発生する不要な電磁波ノ
イズの発生を極力少なくすることができるパルス
レーザ管を提供することにある。
管において、放電励起に発生する不要な電磁波ノ
イズの発生を極力少なくすることができるパルス
レーザ管を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
前記目的を達成するために、本発明による、パ
ルスレーザ管は、キヤパシタに充電された電荷を
スイツチ素子を介してレーザ管内のスパークギヤ
ツプを通して放電励起用の他のキヤパシタを充電
し、その電荷を前記スパークギヤツプ通してアノ
ード、カソード間で放電させることによりレーザ
発振を行うパルスレーザにおいて、アノード、カ
ソード、スパークギヤツプ、他のキヤパシタから
なる第1および第2の放電組立を所持し、少なく
とも、前記第1の組立のアノード、カソードの放
電方向と第2の組立のアノード、カソードの放電
方向が反対方向になるかまたは前記第1の組立の
スパークギヤツプの放電方向と前記第2の組立の
スパークギヤツプの放電方向が反対になり、各組
立は同時に動作させられるように構成されてい
る。
ルスレーザ管は、キヤパシタに充電された電荷を
スイツチ素子を介してレーザ管内のスパークギヤ
ツプを通して放電励起用の他のキヤパシタを充電
し、その電荷を前記スパークギヤツプ通してアノ
ード、カソード間で放電させることによりレーザ
発振を行うパルスレーザにおいて、アノード、カ
ソード、スパークギヤツプ、他のキヤパシタから
なる第1および第2の放電組立を所持し、少なく
とも、前記第1の組立のアノード、カソードの放
電方向と第2の組立のアノード、カソードの放電
方向が反対方向になるかまたは前記第1の組立の
スパークギヤツプの放電方向と前記第2の組立の
スパークギヤツプの放電方向が反対になり、各組
立は同時に動作させられるように構成されてい
る。
前記スイツチ素子としてサイラトロンが適して
いる。
いる。
前記各組の他のキヤパシタは、管内外のいずれ
に配置しても良い。
に配置しても良い。
前記各組立のアノード、カソードの放電方向は
反対でありかつスパークギヤツプの方向も反対と
するとアノード、カソードの放電による電磁波の
発生はそれぞれ相互に、スパークギヤツプ間の放
電による電磁波の発生はそれぞれ相互に相殺され
る。
反対でありかつスパークギヤツプの方向も反対と
するとアノード、カソードの放電による電磁波の
発生はそれぞれ相互に、スパークギヤツプ間の放
電による電磁波の発生はそれぞれ相互に相殺され
る。
(実施例)
以下、図面等を参照して本発明をさらに詳しく
説明する。
説明する。
第1図は、本発明によるパルスレーザ管の実施
例を原理的に示した断面図である。
例を原理的に示した断面図である。
電源(Vo)21、サイラトロンスイツチ24、
キヤパシタ(C1)23の充電用抵抗22、コイ
ル28等の基本的な機能は、従来例で説明したと
おりである。
キヤパシタ(C1)23の充電用抵抗22、コイ
ル28等の基本的な機能は、従来例で説明したと
おりである。
レーザ管29の内部には第1の主放電間隙を形
成するアノード(A)32、カソード(K)3
3、キヤパシタ(C2)30、スパークギヤツプ
31からなる第1の放電組立()と、第2の主
放電間隙を形成するアノード(A)37、カソー
ド(K)38、キヤパシタ(C2)35、スパー
クギヤツプ36からなる第2の放電組立()が
設けられている。
成するアノード(A)32、カソード(K)3
3、キヤパシタ(C2)30、スパークギヤツプ
31からなる第1の放電組立()と、第2の主
放電間隙を形成するアノード(A)37、カソー
ド(K)38、キヤパシタ(C2)35、スパー
クギヤツプ36からなる第2の放電組立()が
設けられている。
サイラトロンスイツチ24をONした時、キヤ
パシタ(C1)23に充電されている正電荷は
の示す経路でキヤパシタ(C2)30および35
の一方の極を充電する。負の電荷は′の示す経
路でスパークギヤツプ31,36を通つてガス体
を予備電離放電しながらキヤパシタ(C2)30,
35の他の極を充電する。
パシタ(C1)23に充電されている正電荷は
の示す経路でキヤパシタ(C2)30および35
の一方の極を充電する。負の電荷は′の示す経
路でスパークギヤツプ31,36を通つてガス体
を予備電離放電しながらキヤパシタ(C2)30,
35の他の極を充電する。
キヤパシタ(C2)30および35の充電が進
みそれぞれのキヤパシタの両極間の電圧がある値
(スパークギヤツプ及びアノード−カソード間の
放電ギヤツプで決まる放電開始電圧)になると、
今度はキヤパシタ(C2)30,35に蓄えられ
た電荷は,′の経路で移動し、結局第1およ
び第2の放電組立のアノード、カソード間で主放
電が得られ、この時レーザ光が発生する。
みそれぞれのキヤパシタの両極間の電圧がある値
(スパークギヤツプ及びアノード−カソード間の
放電ギヤツプで決まる放電開始電圧)になると、
今度はキヤパシタ(C2)30,35に蓄えられ
た電荷は,′の経路で移動し、結局第1およ
び第2の放電組立のアノード、カソード間で主放
電が得られ、この時レーザ光が発生する。
ここでスパークギヤツプ31,36を通過する
電荷の流れ′,′は31と36では逆方向とな
るので、大電流でアーク放電しても発生する電磁
波は両者で打ち消され、ノイズは発生しない。
電荷の流れ′,′は31と36では逆方向とな
るので、大電流でアーク放電しても発生する電磁
波は両者で打ち消され、ノイズは発生しない。
同様に第1および第2の放電組立の主放電にお
いても,′の方向は各組立では互いに逆方向
となるので主放電によつて発生する電磁波も打ち
消される。
いても,′の方向は各組立では互いに逆方向
となるので主放電によつて発生する電磁波も打ち
消される。
結局本発明によれば従来大きなノイズ発生を伴
なつていたエキシマレーザのノイズが低減される
ことになる。
なつていたエキシマレーザのノイズが低減される
ことになる。
実際にはレーザ管29の外部の回路から発生す
るノイズも存するので皆無とはならないが、本発
明により従来悩まされていた大きなノイズの発生
は押さえられる。
るノイズも存するので皆無とはならないが、本発
明により従来悩まされていた大きなノイズの発生
は押さえられる。
なお、第1図に示した例では第1の組立と第2
の組立のキヤパシタ(C2)30,35とスパー
クギヤツプ31,36は図において上下関係が互
い違いになつているが、同じ配置、すなわちキヤ
パシタ(C2)30,35を下に、スパークギヤ
ツプ31,36を上にしても動作原理に変化は無
い。
の組立のキヤパシタ(C2)30,35とスパー
クギヤツプ31,36は図において上下関係が互
い違いになつているが、同じ配置、すなわちキヤ
パシタ(C2)30,35を下に、スパークギヤ
ツプ31,36を上にしても動作原理に変化は無
い。
同様にスパークギヤツプ31,36を下にして
キヤパシタ30,35を上に配置しても第1およ
び第2の放電組立で発生する電磁波は打ち消され
るので低ノイズとなることには変わりはない。
キヤパシタ30,35を上に配置しても第1およ
び第2の放電組立で発生する電磁波は打ち消され
るので低ノイズとなることには変わりはない。
第2図、第3図は、本発明によるパルスレーザ
管のより詳細な実施例を示す断面図である。
管のより詳細な実施例を示す断面図である。
第2図は光軸に直交する平面で、第3図は光軸
を含む平面(第2図のA,A′面)で切断して示
した図である。
を含む平面(第2図のA,A′面)で切断して示
した図である。
レーザ管(レーザガス容器)29は、金属ある
いは絶縁体の枠51の上下に絶縁体の板39,4
0で蓋をした形状としている。
いは絶縁体の枠51の上下に絶縁体の板39,4
0で蓋をした形状としている。
板39はゴムのパツキング45A,45Bを介
して、適当個数のねじ59,60により枠51
に、同様に板40は、ゴムのパツキング46A,
46Bを介して、ねじ61,62により枠51に
固定されている。
して、適当個数のねじ59,60により枠51
に、同様に板40は、ゴムのパツキング46A,
46Bを介して、ねじ61,62により枠51に
固定されている。
第2図および第3図に示されているように、第
1の放電組立()を形成するアノード32,カ
ソード33はレーザガス容器29の第1の光軸に
平行に設けられている。第2の放電組立()を
形成するアノード37,カソード38はレーザガ
ス容器29の第2の光軸に平行に設けられてい
る。第1の放電組立を形成するアノード32に沿
つて板40の周辺部には、第3図に示すように、
適当個数(複数個)のキヤパシタ30が設けられ
ている。
1の放電組立()を形成するアノード32,カ
ソード33はレーザガス容器29の第1の光軸に
平行に設けられている。第2の放電組立()を
形成するアノード37,カソード38はレーザガ
ス容器29の第2の光軸に平行に設けられてい
る。第1の放電組立を形成するアノード32に沿
つて板40の周辺部には、第3図に示すように、
適当個数(複数個)のキヤパシタ30が設けられ
ている。
キヤパシタ30はねじ68で金属板57に取り
付けられている(第2図参照)。第1の放電組立
()のアノード(A)32も、複数個のねじ6
5で取り付けられている。
付けられている(第2図参照)。第1の放電組立
()のアノード(A)32も、複数個のねじ6
5で取り付けられている。
金属板55には、光軸方向に長く伸びた棒状の
カソード(K)33が複数個のねじ63で取り付
けられており、このカソード(K)33に沿つ
て、棒54が複数個配列される。
カソード(K)33が複数個のねじ63で取り付
けられており、このカソード(K)33に沿つ
て、棒54が複数個配列される。
金属板55,57は複数個の導電体のフイード
スルー41、複数個の導電体のフイードスルー4
3をネジ込んで絶縁板39,40に取り付けら
れ、カソード(K)33とアノード(A)32が
対向し、棒54の先端とキヤパシタ30に固定さ
れた金属頭部70が対向するように支持してい
る。
スルー41、複数個の導電体のフイードスルー4
3をネジ込んで絶縁板39,40に取り付けら
れ、カソード(K)33とアノード(A)32が
対向し、棒54の先端とキヤパシタ30に固定さ
れた金属頭部70が対向するように支持してい
る。
Oリング材47によりそれぞれのフイードスル
ー41と板39、Oリング材49によりフイード
スルー43と板40の間の気密性が保たれてい
る。
ー41と板39、Oリング材49によりフイード
スルー43と板40の間の気密性が保たれてい
る。
第2の放電組立()のアノード37に沿つて
板39の周辺部には、第2図に示すように、適当
個数(複数個)のキヤパシタ35が設けられてい
る。
板39の周辺部には、第2図に示すように、適当
個数(複数個)のキヤパシタ35が設けられてい
る。
キヤパシタ35はねじ67で金属板56に取り
付けられる。第2の放電組立()のアノード
(A)37も、複数個のねじ64で同様に金属板
56に取り付けられている。
付けられる。第2の放電組立()のアノード
(A)37も、複数個のねじ64で同様に金属板
56に取り付けられている。
金属板58には、光軸方向に長く伸びた棒状の
カソード(K)38が複数個のねじ66で取り付
けられており、このカソード(K)38に沿つ
て、棒54Bが複数個配列されている。
カソード(K)38が複数個のねじ66で取り付
けられており、このカソード(K)38に沿つ
て、棒54Bが複数個配列されている。
また金属板58は複数個のフイードスルー44
により絶縁板40にカソード(K)38とアノー
ド(A)37が対向し、棒54Bの先端とキヤパ
シタ35に固定された金属頭部69に対向するよ
うに支持している。
により絶縁板40にカソード(K)38とアノー
ド(A)37が対向し、棒54Bの先端とキヤパ
シタ35に固定された金属頭部69に対向するよ
うに支持している。
Oリング材48によりそれぞれのフイードスル
ー42と板39,Oリング材50によりフイード
スルー44と板40の間の気密性が保たれてい
る。枠51にあけられた長方形の孔52、および
枠51にあけられた長方形の孔53はレーザガス
をレーザ管内に流通させるときのガス入口と出口
である。
ー42と板39,Oリング材50によりフイード
スルー44と板40の間の気密性が保たれてい
る。枠51にあけられた長方形の孔52、および
枠51にあけられた長方形の孔53はレーザガス
をレーザ管内に流通させるときのガス入口と出口
である。
図には示してないが、外部のガス循環器、ガス
冷却器等と接続して、光パルス繰り返し発生時の
レーザ発振特性を低下させないように内部のガス
の状態を最適に保つている。
冷却器等と接続して、光パルス繰り返し発生時の
レーザ発振特性を低下させないように内部のガス
の状態を最適に保つている。
次に第3図を参照して光路を説明する。
第3図に現れている30……30は第1の放電
組立()のキヤパシタ、32は第1の放電組立
()のアノード(A)で前述したように板57
に固定されている。70……70は第1の放電組
立()のスパークギヤツプ31……31の一方
を形成する導体である。
組立()のキヤパシタ、32は第1の放電組立
()のアノード(A)で前述したように板57
に固定されている。70……70は第1の放電組
立()のスパークギヤツプ31……31の一方
を形成する導体である。
同様に54B……54Bは第2の放電組立
()のスパークギヤツプ36……36の一方を
形成する導体であり、カソード(K)38ととも
に金属板58に固定されている。
()のスパークギヤツプ36……36の一方を
形成する導体であり、カソード(K)38ととも
に金属板58に固定されている。
枠51のレーザ光通路となる部分に4個の孔8
0,81,82,83が設けられており、孔80
に対応して全反射鏡84が取り付けられ、他の孔
81,82,83には石英の窓板85,86,8
7が取り付けられる。
0,81,82,83が設けられており、孔80
に対応して全反射鏡84が取り付けられ、他の孔
81,82,83には石英の窓板85,86,8
7が取り付けられる。
全反射鏡84は反射鏡を収容するケース88に
気密性を保つためのゴムのOリング93を介し
て、石英の窓板85,86,87は、窓板を収容
するケース89,90,91に気密性を保つため
のゴムのOリング95,97,99を介してそれ
ぞれ支持されている。
気密性を保つためのゴムのOリング93を介し
て、石英の窓板85,86,87は、窓板を収容
するケース89,90,91に気密性を保つため
のゴムのOリング95,97,99を介してそれ
ぞれ支持されている。
100,101,102,103は反射鏡、窓
板をケース88,89,90,91に固定するた
めのリングである。
板をケース88,89,90,91に固定するた
めのリングである。
各ケース88,89,90,91はそれぞれ気
密性を保つためのゴムのOリング92,94,9
6,98を介して、ボルト104,105,10
6,107を用いて枠51に固定されている。
密性を保つためのゴムのOリング92,94,9
6,98を介して、ボルト104,105,10
6,107を用いて枠51に固定されている。
全反射鏡108,109は、反射鏡84と窓板
87で共振器を形成し、内部でレーザ発振させ、
窓板87を通して外部にレーザ光として放出させ
る。この第3図に示した実施例では、2組のアノ
ード−カソード間の放電によつて発生する光が1
本のレーザ光ビームとして取り出される。
87で共振器を形成し、内部でレーザ発振させ、
窓板87を通して外部にレーザ光として放出させ
る。この第3図に示した実施例では、2組のアノ
ード−カソード間の放電によつて発生する光が1
本のレーザ光ビームとして取り出される。
なお、全反射鏡108,109を取り外して、
86,87のどちらか一方を全反射鏡に、他方を
石英板にすれば、2本の平行なレーザ光を同一方
向に、あるいは反対方向に取り出すことができ
る。
86,87のどちらか一方を全反射鏡に、他方を
石英板にすれば、2本の平行なレーザ光を同一方
向に、あるいは反対方向に取り出すことができ
る。
なお、実際のレーザ管の使用(運転動作)には
第1図に示した結線法に従つて外部回路と内部構
造をフイードスルー41,42,43,44をつ
ないで動作させる。
第1図に示した結線法に従つて外部回路と内部構
造をフイードスルー41,42,43,44をつ
ないで動作させる。
第4図は本発明によるパルスレーザ管のさらに
他の実施例を示す接続図である。
他の実施例を示す接続図である。
電源(Vo)21,サイラトロンスイツチ24、
キヤパシタ(C1)23の充電用抵抗22、コイ
ル28等の基本的な機能は、先に第1図を参照し
て説明した実施例と同じである。
キヤパシタ(C1)23の充電用抵抗22、コイ
ル28等の基本的な機能は、先に第1図を参照し
て説明した実施例と同じである。
レーザ管29の内部には第1の主放電間隙を形
成するアノード(A)32、カソード(K)3
3、スパークギヤツプ31からなる第1の放電組
立()と、第2の主放電間隙を形成するアノー
ド(A)37、カソード(K)38スパークギヤ
ツプ39からなる第2の放電組立()が設けら
れている点および動作原理等も先に第1図を参照
して説明した実施例と同じである。
成するアノード(A)32、カソード(K)3
3、スパークギヤツプ31からなる第1の放電組
立()と、第2の主放電間隙を形成するアノー
ド(A)37、カソード(K)38スパークギヤ
ツプ39からなる第2の放電組立()が設けら
れている点および動作原理等も先に第1図を参照
して説明した実施例と同じである。
ただし、前記実施例と、第1の放電組立()
のキヤパシタ(C2)30と第2の放電組立()
のキヤパシタ(C2)35をレーザ管29の外部
に配置している点のみが異なる。
のキヤパシタ(C2)30と第2の放電組立()
のキヤパシタ(C2)35をレーザ管29の外部
に配置している点のみが異なる。
キヤパシタ(C2)30,35を管外に配置す
ることによりアノード、カソード、スパークギヤ
ツプ、キヤパシタによつて作られる主放電の放電
回路長が大となつて放電の立上がり時間が長くな
り、レーザ発振効率が悪くなるという問題があ
る。
ることによりアノード、カソード、スパークギヤ
ツプ、キヤパシタによつて作られる主放電の放電
回路長が大となつて放電の立上がり時間が長くな
り、レーザ発振効率が悪くなるという問題があ
る。
しかし、レーザガスの汚れを低減したり、キヤ
パシタによるガス流のさえぎりが無くなるのでガ
ス流速が大となり、レーザパルス発光の繰り返し
特性を向上させることができる。
パシタによるガス流のさえぎりが無くなるのでガ
ス流速が大となり、レーザパルス発光の繰り返し
特性を向上させることができる。
(変形例)
以上本発明をエキシマレーザを実施例として詳
細に説明した。
細に説明した。
エキシマレーザと同様の放電型式をとるもの、
すなわち予備電離が必要な大気圧放電を利用する
炭素ガスレーザ、窒素レーザ等にも有効である。
すなわち予備電離が必要な大気圧放電を利用する
炭素ガスレーザ、窒素レーザ等にも有効である。
(発明の効果)
以上詳しく説明したように、本発明によるパル
スレーザは、励起放電形のパルスレーザにおい
て、アノード、カソード、スパークギヤツプ、他
のキヤパシタからなる第1および第2の放電組立
(),()を、少なくとも、前記第1の組立の
アノード、カソードの放電方向と第2の組立のア
ノード、カソードの放電方向が反対方向になるか
または前記第1の組立のスパークギヤツプの放電
方向と前記第2の組立のスパークギヤツプの放電
方向が反対になり、各組立は同時に動作させられ
るように構成してある。
スレーザは、励起放電形のパルスレーザにおい
て、アノード、カソード、スパークギヤツプ、他
のキヤパシタからなる第1および第2の放電組立
(),()を、少なくとも、前記第1の組立の
アノード、カソードの放電方向と第2の組立のア
ノード、カソードの放電方向が反対方向になるか
または前記第1の組立のスパークギヤツプの放電
方向と前記第2の組立のスパークギヤツプの放電
方向が反対になり、各組立は同時に動作させられ
るように構成してある。
したがつて、各組立のアノード、カソード間の
放電により発生する電磁波は相互に、また各スパ
ークギヤツプ間の放電により発生する電磁波も相
互に相殺される。
放電により発生する電磁波は相互に、また各スパ
ークギヤツプ間の放電により発生する電磁波も相
互に相殺される。
前記各組立のアノード、カソードの放電方向は
反対でありかつスパークギヤツプの方向も反対と
すれば、両方の電磁波が相殺される。
反対でありかつスパークギヤツプの方向も反対と
すれば、両方の電磁波が相殺される。
本発明によれば、低ノイズのエキシマパルスレ
ーザを実現できる。
ーザを実現できる。
このレーザは低ノイズを必要とするエキシマレ
ーザ利用分野、例えば、微弱信号を生体に応用す
ることの多い医療現場、コンピユータ制御の機械
が運転されている生産現場等、で広く利用でき
る。
ーザ利用分野、例えば、微弱信号を生体に応用す
ることの多い医療現場、コンピユータ制御の機械
が運転されている生産現場等、で広く利用でき
る。
第1図は、本発明によるパルスレーザ管の原理
を説明するための略図である。第2図は、本発明
によるパルスレーザ管のより詳細な実施例を示す
断面図であつて、光軸に直交する平面で切断して
示されている。第3図は、本発明によるパルスレ
ーザ管のより詳細な実施例を示す断面図であつ
て、第2図のA,A′面で切断して示した図であ
る。第4図は、本発明によるさらに他のパルスレ
ーザ管の実施例を説明するための略図である。第
5図は、従来の放電励起によるエキシマレーザ装
置の動作を説明するための略図である。 21……電源(Vo)、22……充電用抵抗、2
3……キヤパシタ(C1)、24……サイラトロン
スイツチ、28……充電用コイル(L)、29…
…レーザ管、32……第1の放電組立のアノード
(A)、33……第1の放電組立のカソード(K)、
30……30……第1の放電組立の他のキヤパシ
タ(C2)、31……第1の放電組立のスパークギ
ヤツプ、37……第2の放電組立のアノード
(A)、38……第2の放電組立のカソード(K)、
35……35……第2の放電組立の他のキヤパシ
タ(C2)、36……第2の放電組立のスパークギ
ヤツプ、39,40……絶縁体の板、41,4
2,43,44……フイードスルー、45A,4
5B,46A,46B……パツキング、47,4
8,49,50……Oリング、51……枠、5
2,53……枠に設けられたガス孔、55,5
6,57,58……金属板、54A,54B……
金属棒(スパークギヤツプ)、59,60,61,
62……ねじ、69,70……導体(スパークギ
ヤツプ)、80,81,82,83……レーザ光
通路孔、84……全反射鏡、85,86,87…
…石英の窓板、88……反射鏡を収容するケー
ス、89,90,91……石英の窓板を収容する
ケース、92,〜99……ゴムのOリング、10
0,101,102,103……固定リング、1
08,109……全反射鏡。
を説明するための略図である。第2図は、本発明
によるパルスレーザ管のより詳細な実施例を示す
断面図であつて、光軸に直交する平面で切断して
示されている。第3図は、本発明によるパルスレ
ーザ管のより詳細な実施例を示す断面図であつ
て、第2図のA,A′面で切断して示した図であ
る。第4図は、本発明によるさらに他のパルスレ
ーザ管の実施例を説明するための略図である。第
5図は、従来の放電励起によるエキシマレーザ装
置の動作を説明するための略図である。 21……電源(Vo)、22……充電用抵抗、2
3……キヤパシタ(C1)、24……サイラトロン
スイツチ、28……充電用コイル(L)、29…
…レーザ管、32……第1の放電組立のアノード
(A)、33……第1の放電組立のカソード(K)、
30……30……第1の放電組立の他のキヤパシ
タ(C2)、31……第1の放電組立のスパークギ
ヤツプ、37……第2の放電組立のアノード
(A)、38……第2の放電組立のカソード(K)、
35……35……第2の放電組立の他のキヤパシ
タ(C2)、36……第2の放電組立のスパークギ
ヤツプ、39,40……絶縁体の板、41,4
2,43,44……フイードスルー、45A,4
5B,46A,46B……パツキング、47,4
8,49,50……Oリング、51……枠、5
2,53……枠に設けられたガス孔、55,5
6,57,58……金属板、54A,54B……
金属棒(スパークギヤツプ)、59,60,61,
62……ねじ、69,70……導体(スパークギ
ヤツプ)、80,81,82,83……レーザ光
通路孔、84……全反射鏡、85,86,87…
…石英の窓板、88……反射鏡を収容するケー
ス、89,90,91……石英の窓板を収容する
ケース、92,〜99……ゴムのOリング、10
0,101,102,103……固定リング、1
08,109……全反射鏡。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 キヤパシタに充電された電荷をスイツチ素子
を介してレーザ管内のスパークギヤツプを通して
放電励起用の他のキヤパシタを充電し、その電荷
を前記スパークギヤツプを通してアノード、カソ
ード間で放電させることによりレーザ発振を行う
パルスレーザにおいて、アノード、カソード、ス
パークギヤツプ、他のキヤパシタからなる第1お
よび第2の放電組立を、少なくとも、前記第1の
組立のアノード、カソードの放電方向と第2の組
立のアノード、カソードの放電方向が反対方向に
なるかまたは前記第1の組立のスパークギヤツプ
の放電方向と前記第2の組立のスパークギヤツプ
の放電方向が反対になり、各組立は同時に動作さ
せられるように構成したことを特徴とするパルス
レーザ管。 2 前記スイツチ素子はサイラトロンである特許
請求の範囲第1項記載のパルスレーザ管。 3 前記各組のキヤパシタとスパークギヤツプは
前記放電管内で直列に接続されている特許請求の
範囲第1項記載のパルスレーザ管。 4 前記各組のキヤパシタは前記放電管外に配置
され、それぞれ前記放電管内に配置されているス
パークギヤツプと直列に接続されている特許請求
の範囲第1項記載のパルスレーザ管。 5 前記各組立のアノード、カソードの放電方向
は反対でありかつスパークギヤツプの放電方向も
反対である特許請求の範囲第1項記載のパルスレ
ーザ管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18861987A JPS6431486A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Pulse laser tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18861987A JPS6431486A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Pulse laser tube |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6431486A JPS6431486A (en) | 1989-02-01 |
| JPH053153B2 true JPH053153B2 (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=16226850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18861987A Granted JPS6431486A (en) | 1987-07-28 | 1987-07-28 | Pulse laser tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6431486A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5153892A (en) * | 1990-01-24 | 1992-10-06 | Hitachi, Ltd. | High-pressure gas laser apparatus and method of laser processing |
-
1987
- 1987-07-28 JP JP18861987A patent/JPS6431486A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6431486A (en) | 1989-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |