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JPH0533486B2 - - Google Patents
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JPH0533486B2 - - Google Patents

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JPH0533486B2
JPH0533486B2 JP61075171A JP7517186A JPH0533486B2 JP H0533486 B2 JPH0533486 B2 JP H0533486B2 JP 61075171 A JP61075171 A JP 61075171A JP 7517186 A JP7517186 A JP 7517186A JP H0533486 B2 JPH0533486 B2 JP H0533486B2
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electrons
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photoelectron
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Masao Kinoshita
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  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光電面または2次電子増倍管等に適
用される電子放射用陰極に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an electron emitting cathode applied to a photocathode, a secondary electron multiplier, or the like.

(従来の技術) ヒ化ガリウムやヒ化インジユウム・ガリウムな
どに代表される−属化合物半導体やシリコン
に代表される属半導体を材料とする半導体結晶
ウエーハは、その表面をアルカリ金属、もしく
は、アルカリ金属と酸素で活性すると、大きな光
電子または2次電子放射効率を与えるため、光電
陰極または電子増倍管等の電子放射用陰極に賞用
されている。
(Prior Art) Semiconductor crystal wafers made of compound semiconductors such as gallium arsenide and indium gallium arsenide, or semiconductors of the group typified by silicon, have their surfaces coated with alkali metals or alkali metals. When activated with oxygen and oxygen, it provides high photoelectron or secondary electron emission efficiency, so it is used as a photocathode or an electron emission cathode such as an electron multiplier tube.

光電子放射現象と2次電子放射現象の違いは、
電子放射をおこさせるものが入射光によるもので
あるか、入射電子によるものであるかであり、基
本的に多くの共通性を持つている。
The difference between photoelectron emission phenomenon and secondary electron emission phenomenon is
It depends on whether the electron emission is caused by incident light or incident electrons, and basically they have many things in common.

そこで、主に光電子放射用陰極を例にして電子
放出の機構を説明する。
Therefore, the electron emission mechanism will be explained mainly using a photoelectron emission cathode as an example.

光電子放射現象は、以下に述べる3過程を経て
行われる。
The photoelectron emission phenomenon occurs through the following three processes.

(1) 光電子放射用陰極での光吸収による陰極内の
電子の励起過程、 (2) 励起電子の放射面への移動過程、 (3) 放射面からのこの電子の脱出過程、 なお前述の(1)の過程により励起された電子のう
ち放射面からあまり遠い所で発生した励起電子は
移動過程で放射面に達する前にそのエネルギーを
失い光電子放出に寄与できない。
(1) Excitation process of electrons in the cathode due to light absorption at the photoelectron emission cathode, (2) Transfer process of excited electrons to the emission surface, (3) Escape process of these electrons from the emission surface. Among the electrons excited by the process 1), excited electrons generated too far from the emission surface lose their energy during the movement process before reaching the emission surface and cannot contribute to photoelectron emission.

すなわち脱出距離より遠い場所で発生した励起
電子は放射面に達せず光電子放射に寄与しない。
In other words, excited electrons generated at a location farther than the escape distance do not reach the emission surface and do not contribute to photoelectron emission.

したがつて、光電子放射効率すなわち量子効率
を大きくするには、陰極での光吸収を大きくし、
かつこれを放射面から見て脱出距離以内でおこさ
せることが必要である。
Therefore, in order to increase the photoelectron emission efficiency, that is, the quantum efficiency, increase the light absorption at the cathode,
Moreover, it is necessary to cause this to occur within the escape distance when viewed from the radiation surface.

第7図は、従来の光電子または2次電子放射用
陰極の例を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a conventional cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons.

第8図は、前記光電子または2次電子放射用陰
極における光電子放射の機構を説明する拡大断面
図である。
FIG. 8 is an enlarged sectional view illustrating the mechanism of photoelectron emission in the photoelectron or secondary electron emission cathode.

従来の光電子放射用陰極に用いられている半導
体結晶ウエーハは、第7図に示されるような平板
状の形状をしている。
A semiconductor crystal wafer used in a conventional photoelectron emission cathode has a flat plate shape as shown in FIG.

第8図に示すように、検出すべき光である入射
光1がこのような形状の光電子放射用陰極の表面
6に入射した場合について考える。
As shown in FIG. 8, consider the case where incident light 1, which is the light to be detected, enters the surface 6 of the photoelectron emission cathode having such a shape.

入射光の一部はこの表面で反射され反射光2と
なり再び光電子放射用陰極に入ることなく散逸す
る。そのため、この反射光2は光電子放射に寄与
しない。
A part of the incident light is reflected by this surface and becomes reflected light 2, which is dissipated without entering the photoelectron emission cathode again. Therefore, this reflected light 2 does not contribute to photoelectron emission.

また、光電子放射用陰極5内に侵入した光3
は、陰極内の電子4aおよび4bを励起する。
In addition, the light 3 that has entered the photoelectron emission cathode 5
excites electrons 4a and 4b in the cathode.

入射面を光電子の放出面としているため脱出距
離(=拡散長)より深い場所で発生した励起電子
4bは光電子放出に寄与できない。
Since the incident surface is the photoelectron emission surface, the excited electrons 4b generated at a location deeper than the escape distance (=diffusion length) cannot contribute to photoelectron emission.

2次電子放射用陰極においても、同様に入射1
次電子の一部は陰極の表面で反射され2次電子放
射に寄与しない。
Similarly, in the cathode for secondary electron emission, the incident 1
A part of the secondary electrons is reflected by the surface of the cathode and does not contribute to secondary electron emission.

また脱出距離より深い場所で発生した励起電子
は2次電子放出に寄与できない。
Furthermore, excited electrons generated at a location deeper than the escape distance cannot contribute to secondary electron emission.

(発明が解決しようとする問題点) 前述のような理由から、従来の光電子または2
次電子放射用陰極では、表面で反射する入射光ま
たは1次電子が存在すること、および脱出距離よ
り深い場所で発生した励起電子が表面に到達する
ことができず電子放出に寄与できない構造となつ
ており、これらが量子効率を低下させている。
(Problems to be solved by the invention) For the reasons mentioned above, conventional photoelectronic or
The cathode for secondary electron emission has a structure in which there is incident light or primary electrons that are reflected at the surface, and excited electrons generated deeper than the escape distance cannot reach the surface and contribute to electron emission. These factors reduce quantum efficiency.

本発明の目的は、前記量子効率を低下させる原
因となつていた部分を電子放出に寄与させるよう
にして量子効率を改善した光電子または2次電子
放射用陰極を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons, in which the quantum efficiency is improved by allowing the portions that have caused the reduction in the quantum efficiency to contribute to electron emission.

(問題を解決するための手段) 前記目的を達成するために、本発明による光電
子または2次電子放射用陰極は、光あるいは1次
電子の入射面に多数の凸条を設け、前記凸条の幅
をほぼ内部で発生させられた電子の拡散長にして
構成されている。
(Means for Solving the Problem) In order to achieve the above object, the cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons according to the present invention is provided with a large number of protrusions on the incident surface of light or primary electrons, and The width is approximately the diffusion length of internally generated electrons.

そして前記入射面はアルカリ金属、もしくはア
ルカリ金属と酸素で活性化されている。
The incident surface is activated with an alkali metal or an alkali metal and oxygen.

このような形状により、半導体結晶ウエーハ表
面に入射した光もしくは1次電子に対する反射率
を実効的に小さくし、また入射面とは異なる面か
らも、励起発生した光電子または2次電子を放出
可能にしてある。
This shape effectively reduces the reflectance for light or primary electrons incident on the surface of the semiconductor crystal wafer, and also makes it possible to emit excited photoelectrons or secondary electrons from a plane different from the incident plane. There is.

前記光電子放射用陰極は、反射形の光電陰極と
して、また2次電子放射用陰極は、光電子増倍管
もしくは電子増倍管のダイノードとして使用され
る。
The photoelectron emission cathode is used as a reflective photocathode, and the secondary electron emission cathode is used as a photomultiplier or a dynode of an electron multiplier.

(実施例) 以下図面等を参照して本発明をさらに詳しく説
明する。
(Example) The present invention will be described in more detail below with reference to the drawings and the like.

第1図は本発明による光電子放出用陰極の実施
例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a cathode for photoelectron emission according to the present invention.

半導体結晶ウエーハ(GaAs)の光入射面に第
1図に示すように多数の溝を設ける。
As shown in FIG. 1, a large number of grooves are provided on the light incident surface of a semiconductor crystal wafer (GaAs).

この実施例の溝の幅の深さは略3μm、頂面の幅
は1μmである。
The width and depth of the groove in this example is approximately 3 μm, and the width of the top surface is 1 μm.

このような加工は、通常の半導体加工技術、ホ
トリソグラフイあるいはイオンミリング等の加工
技術により可能である。
Such processing is possible using normal semiconductor processing techniques, photolithography, ion milling, or other processing techniques.

または平板状の半導体結晶ウエーハの上にエピ
タキシヤル成長法により半導体結晶を部分的に成
長させ、このような形状にすることもできる。
Alternatively, such a shape can be obtained by partially growing a semiconductor crystal on a flat semiconductor crystal wafer by an epitaxial growth method.

このような形状の光電子放射用陰極に斜に入射
する光は、第2図の1aで代表される光電子放射
用陰極の上面6aに当たるものと、1bで代表さ
れる光電子放射用陰極の側面6bまたは底面6c
に当たるものに類別される。
The light obliquely incident on the cathode for photoelectron emission having such a shape hits the upper surface 6a of the cathode for photoelectron emission represented by 1a in FIG. Bottom 6c
It is classified into those corresponding to.

光電子放射用陰極の側面6bに入射した光1b
は、光電子放射用陰極5内に侵入する光3と側面
6bで反射する光2とにわかれる。
Light 1b incident on the side surface 6b of the photoelectron emission cathode
The light is divided into light 3 that enters the photoelectron emission cathode 5 and light 2 that is reflected from the side surface 6b.

光電子放射用陰極5内に侵入した光3は、陰極
内の電子4aおよび4bを励起する。
The light 3 that has entered the photoelectron emission cathode 5 excites electrons 4a and 4b within the cathode.

側面6bからみて脱出距離より遠い場所で発生
した励起電子4bは、その電子からみて脱出距離
内にある側面6dより放射され光電子放射に寄与
する。反射光2は底面6cに入射し、その一部は
前述の過程により光電子放射をおこす。
Excited electrons 4b generated at a location farther than the escape distance when viewed from the side surface 6b are emitted from the side surface 6d, which is within the escape distance when viewed from the electrons, and contribute to photoelectron emission. The reflected light 2 is incident on the bottom surface 6c, and part of it causes photoelectron emission through the process described above.

底面6cで反射された光は、側面6eに再度入
射し、その一部は前述の過程により光電子放射を
おこす。
The light reflected by the bottom surface 6c enters the side surface 6e again, and part of it causes photoelectron emission through the process described above.

こうして側面6bに入射した光に対する量子効
率は従来技術のそれよりも大きくなる。
In this way, the quantum efficiency for light incident on the side surface 6b becomes greater than that of the prior art.

底面6cに直接入射する光についても、その反
射光は複数回光電子放射面に入射し量子効率が従
来技術に比べ大きくなる。
Even for light that is directly incident on the bottom surface 6c, the reflected light is incident on the photoelectron emission surface multiple times, resulting in a higher quantum efficiency than in the prior art.

上面1aに入射する光1により励起された電子
は、上面ばかりでなく側面6eおよび側面6fか
らも放射可能であるので、この光に対してもその
量子効率は従来技術に比べ大きくなる。
Since electrons excited by the light 1 incident on the top surface 1a can be emitted not only from the top surface but also from the side surfaces 6e and 6f, the quantum efficiency for this light is also higher than in the prior art.

2次電子放射用陰極においても、半導体結晶ウ
エーハの電子入射面を例えば第1図に示すような
多数の溝を持つ形状にすれば、入射1次電子のう
ち陰極表面で反射されたものも再び2次電子放射
用陰極に入射し2次電子放射に寄与する。
In the case of a cathode for secondary electron emission, if the electron incident surface of a semiconductor crystal wafer is shaped with many grooves as shown in Figure 1, then the incident primary electrons that are reflected on the cathode surface will be absorbed again. The light enters the secondary electron emission cathode and contributes to secondary electron emission.

また入射面とは異なる面からも、励起発生した
2次電子を放出可能にし2次電子放射効率を大き
くする。
Furthermore, the secondary electrons generated through excitation can be emitted from a plane different from the incident plane, thereby increasing the secondary electron emission efficiency.

第3図は前記光電子放射用陰極を反射形の光電
子放出陰極として利用した光電管の実施例を示す
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing an embodiment of a phototube using the photoelectron emission cathode as a reflective photoelectron emission cathode.

真空容器であるガラス外筒7のなかに、入射面
側を溝状に加工してあるヒ化ガリウム(GaAs)
ウエーハの光電子放射用陰極5、ニツケル金属か
らなる陽極8および導入線9から構成されてい
る。使用されたヒ化ガリウムウエーハは1×
1019/cm3のキヤリヤ密度をもつ亜鉛ドープのP形
ヒ化ガリウムウエーハである。
Gallium arsenide (GaAs) is processed into a groove shape on the entrance surface side inside the glass outer cylinder 7, which is a vacuum container.
It consists of a wafer photoelectron emission cathode 5, an anode 8 made of nickel metal, and an inlet 9. The gallium arsenide wafer used was 1×
It is a zinc-doped P-type gallium arsenide wafer with a carrier density of 10 19 /cm 3 .

その電子の脱出距離は1μm程度あるので、溝を
形成する凸部の幅は、脱出距離と同程度の1μm程
度で、溝の深さおよび底部の幅はいずれも3μmの
形状となるようイオンミリングにより作成した。
The escape distance of the electrons is about 1 μm, so the width of the convex part that forms the groove is about 1 μm, which is about the same as the escape distance, and the ion milling is done so that the depth of the groove and the width of the bottom are both 3 μm. Created by.

また、前記加工してあるヒ化ガリウムウエーハ
の表面を、通常のNEA光電面活性で使用される、
アルカリ金属または、アルカリ金属と酸素により
活性化した。
In addition, the surface of the processed gallium arsenide wafer is used for normal NEA photocathode activation.
Activated by an alkali metal or an alkali metal and oxygen.

検出すべき光である入射光1は、光電子放射用
陰極5に入射し光電子放射をおこし光電子流とな
り陽極8で捕集される。
Incident light 1, which is the light to be detected, enters the photoelectron emission cathode 5, causes photoelectron emission, and becomes a photoelectron flow, which is collected by the anode 8.

表面に前記加工を行わないヒ化ガリウム
(GaAs)ウエーハでアルカリ金属または、アル
カリ金属と酸素により活性化した光電子放射用陰
極5を用い、他は前記実施例光電管と同一の形状
をもつ光電管(従来例)を用いて前記実施例光電
管と比較する。
A phototube (conventional phototube) having the same shape as the phototube of the above embodiment is used, except that a photoelectron emission cathode 5 whose surface is a gallium arsenide (GaAs) wafer whose surface is not subjected to the above-mentioned processing and activated with an alkali metal or an alkali metal and oxygen is used. Example) will be used to compare with the phototube of the above example.

第4図に、従来例と前記実施例光電管の光電子
放射用陰極の量子効率を比較して示す。
FIG. 4 shows a comparison of the quantum efficiencies of the photoelectron emission cathodes of the conventional example and the phototube of the above-mentioned example.

図示の曲線10は従来例の分光量子効率を示す
曲線、曲線11は実施例の分光量子効率を示す曲
線である。
The illustrated curve 10 is a curve showing the spectral quantum efficiency of the conventional example, and the curve 11 is a curve showing the spectral quantum efficiency of the example.

このグラフから、実施例の光電子放射用陰極の
量子効率は全波長域にわたり3割程度改善されて
いることが理解できる。
From this graph, it can be understood that the quantum efficiency of the photoelectron emission cathode of the example is improved by about 30% over the entire wavelength range.

第5図は前記光電子放射用陰極をダイノードと
して利用した光電子増倍管の実施例を示す断面図
である。
FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of a photomultiplier tube using the photoelectron emission cathode as a dynode.

真空容器を形成するガラス外筒7の窓部の内側
に透過形のアンチモンセシウム光電陰極12が形
成されている。
A transmission-type antimony cesium photocathode 12 is formed inside a window portion of a glass outer cylinder 7 forming a vacuum container.

光電子入射面側を溝状に加工してあるリン化ガ
リウム(GaP)ウエーハの2次電子放射用陰極1
3、ニツケル金属からなる陽極8、導入線9a,
9bおよびおよび電極14を設けてある。
Secondary electron emission cathode 1 made of gallium phosphide (GaP) wafer whose photoelectron incident surface side is processed into a groove shape.
3. Anode 8 made of nickel metal, lead-in wire 9a,
9b and an electrode 14 are provided.

前記リン化ガリウムウエーハ13は1×1019
cm3のキヤリヤ密度をもつ亜鉛ドープのP形リン化
ガリウムウエーハである。
The gallium phosphide wafer 13 has a density of 1×10 19 /
It is a zinc-doped P-type gallium phosphide wafer with a carrier density of cm 3 .

また、この表面は、アルカリ金属またはアルカ
リ金属および酸素で活性化した。
The surface was also activated with an alkali metal or an alkali metal and oxygen.

その電子の脱出距離は前述と同様に1μm程度あ
るから、溝を形成する凸部の幅は、脱出距離と同
程度の1μm程度で、溝の深さおよび底部の幅はい
ずれも3μmの形状とし、前記実施例と同様にイオ
ンミリングにより作成した。
As mentioned above, the escape distance of the electrons is about 1 μm, so the width of the convex part forming the groove is about 1 μm, which is about the same as the escape distance, and the depth and width of the groove are both 3 μm. , was prepared by ion milling in the same manner as in the previous example.

検出すべき光である入射光1は、光電面12で
光電子15に変換される。この光電子は加速集束
されて2次電子放射用陰極13に入射し、ここで
増倍され陽極8で捕集される。
Incident light 1, which is the light to be detected, is converted into photoelectrons 15 at the photocathode 12. These photoelectrons are accelerated and focused and incident on the secondary electron emission cathode 13, where they are multiplied and collected at the anode 8.

表面に前記加工を行わないリン化ガリウム
(GaP)ウエーハを用い、他は前記実施例光電子
増倍管と同一である光電子増倍管(従来例)を用
いて前記実施例光電子増倍管と比較する。
A gallium phosphide (GaP) wafer whose surface was not subjected to the above-mentioned processing was used, and a photomultiplier tube (conventional example) that was otherwise the same as the photomultiplier tube of the above example was used, and compared with the photomultiplier tube of the above example. do.

第6図に、従来例と前記実施例光電子増倍管の
2次電子放出効率を比較して示す。
FIG. 6 shows a comparison of the secondary electron emission efficiency of the conventional example and the photomultiplier tube of the above embodiment.

図示の曲線16は従来例の2次電子放出効率を
示す。曲線17は実施例の光電子増倍管の2次電
子放出効率を示す。
The illustrated curve 16 shows the secondary electron emission efficiency of the conventional example. Curve 17 shows the secondary electron emission efficiency of the photomultiplier tube of the example.

このグラフから、2次電子放射効率が著しく改
善されていることが理解できる。
From this graph, it can be seen that the secondary electron emission efficiency is significantly improved.

以上詳しく説明した実施例につき、本発明の範
囲内で種々の変形を施すことができる。前記実施
例では溝状の凹凸を設ける例を示したが、円柱状
の突起を無数に設けるようにすることもできる。
Various modifications can be made to the embodiments described in detail above within the scope of the present invention. In the above embodiment, an example in which groove-like unevenness is provided is shown, but it is also possible to provide an infinite number of cylindrical protrusions.

(発明の効果) 以上詳しく説明したように、本発明による光電
子または2次電子放射用陰極は、光あるいは1次
電子が入射する面に小さい凹凸を設けその凸部の
幅が拡散長程度にして構成されている。
(Effects of the Invention) As explained in detail above, the cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons according to the present invention has small asperities on the surface on which light or primary electrons are incident, and the width of the convex portions is about the same as the diffusion length. It is configured.

したがつて、半導体結晶ウエーハ表面に入射し
た光、もしくは1次電子に対する反射率を実効的
に小さくし、また入射面とは異なる面からも、励
起発生した光電子または2次電子を放出すること
ができ、電子放射効率を著しく改善することがで
きる。
Therefore, it is possible to effectively reduce the reflectance of light or primary electrons incident on the surface of the semiconductor crystal wafer, and also to emit excited photoelectrons or secondary electrons from a plane different from the incident plane. The electron emission efficiency can be significantly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明による光電子または2次電子
放射用陰極の実施例を示す斜視図である。第2図
は、前記光電子または2次電子放射用陰極におけ
る光電子放射の機構を説明する拡大断面図であ
る。第3図は、前記実施例陰極を用いた光電管の
実施例を示す断面図である。第4図は、従来の光
電子放射用陰極の量子効率と、本発明により改善
された光電子放射用陰極の量子効率を示す分光感
度曲線を示すグラフである。第5図は、前記実施
例陰極を用いた光電子増倍管の実施例を示す断面
図である。第6図は、従来の2次電子放射用陰極
の2次電子放射効率と、本発明による電極を用い
た2次電子放射用陰極の2次電子放射効率を比較
して示したグラフである。第7図は、従来の光電
子または2次電子放射用陰極の例を示す斜視図で
ある。第8図は、前記光電子または2次電子放射
用陰極における光電子放射の機構を説明する拡大
断面図である。 1……入射光、2……反射光、3……陰極内に
侵入した光、4……電子、5……陰極、6……陰
極表面、7……真空容器、8……陽極、9……導
入線、10……従来技術による光電子放射用陰極
の量子効率、11……本発明による光電子放射用
陰極の量子効率、12……アンチモンセシウム光
電面、13……2次電子放射用陰極、14……電
極、16……従来技術による2次電子放射用陰極
の2次電子放射効率、17……本発明による2次
電子放射用陰極の2次電子放射効率。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons according to the present invention. FIG. 2 is an enlarged sectional view illustrating the mechanism of photoelectron emission in the photoelectron or secondary electron emission cathode. FIG. 3 is a sectional view showing an example of a phototube using the cathode of the example. FIG. 4 is a graph showing spectral sensitivity curves showing the quantum efficiency of a conventional photoelectron emission cathode and the quantum efficiency of a photoelectron emission cathode improved according to the present invention. FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of a photomultiplier tube using the cathode of the embodiment. FIG. 6 is a graph showing a comparison between the secondary electron emission efficiency of a conventional cathode for secondary electron emission and the secondary electron emission efficiency of a cathode for secondary electron emission using the electrode according to the present invention. FIG. 7 is a perspective view showing an example of a conventional cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons. FIG. 8 is an enlarged sectional view illustrating the mechanism of photoelectron emission in the photoelectron or secondary electron emission cathode. 1... Incident light, 2... Reflected light, 3... Light that has entered the cathode, 4... Electrons, 5... Cathode, 6... Cathode surface, 7... Vacuum vessel, 8... Anode, 9 ... Leading line, 10 ... Quantum efficiency of the cathode for photoelectron emission according to the prior art, 11 ... Quantum efficiency of the cathode for photoelectron emission according to the present invention, 12 ... Antimony cesium photocathode, 13 ... Cathode for secondary electron emission , 14... Electrode, 16... Secondary electron emission efficiency of the cathode for secondary electron emission according to the prior art, 17... Secondary electron emission efficiency of the cathode for secondary electron emission according to the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 光あるいは1次電子の入射面に多数の凸条を
設け、 前記凸条の幅をほぼ内部で発生させられた電子
の拡散長として構成した光電子または2次電子放
射用陰極。 2 前記入射面はアルカリ金属で活性化されてい
る特許請求の範囲第1項記載の光電子または2次
電子放射用陰極。 3 前記光電子または2次電子放射用陰極は反射
形の光電陰極として使用される特許請求の範囲第
1項または第2項記載の光電子または2次電子放
射用陰極。 4 前記光電子または2次電子放射用陰極は光電
子増倍管もしくは電子増倍管のダイノードとして
使用される特許請求の範囲第1項または第2項記
載の光電子または2次電子放射用陰極。
[Claims] 1. A device for emitting photoelectrons or secondary electrons, in which a large number of protrusions are provided on the incident surface of light or primary electrons, and the width of the protrusions is set approximately as the diffusion length of internally generated electrons. cathode. 2. The cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons according to claim 1, wherein the incident surface is activated with an alkali metal. 3. The cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons according to claim 1 or 2, wherein the cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons is used as a reflective photocathode. 4. The cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons according to claim 1 or 2, wherein the cathode for emitting photoelectrons or secondary electrons is used as a photomultiplier tube or a dynode of an electron multiplier tube.
JP61075171A 1986-04-01 1986-04-01 Cathode for emission of photoelectrons or secondary electrons Granted JPS62232831A (en)

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JP61075171A JPS62232831A (en) 1986-04-01 1986-04-01 Cathode for emission of photoelectrons or secondary electrons

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