Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0534116B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0534116B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0534116B2
JPH0534116B2 JP61200385A JP20038586A JPH0534116B2 JP H0534116 B2 JPH0534116 B2 JP H0534116B2 JP 61200385 A JP61200385 A JP 61200385A JP 20038586 A JP20038586 A JP 20038586A JP H0534116 B2 JPH0534116 B2 JP H0534116B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
laser processing
slit
laser
processing position
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61200385A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6356383A (en
Inventor
Toshikazu Kajikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP61200385A priority Critical patent/JPS6356383A/en
Publication of JPS6356383A publication Critical patent/JPS6356383A/en
Publication of JPH0534116B2 publication Critical patent/JPH0534116B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はレーザ加工位置制御装置に関し、特に
被加工基板をXYステージに載置し、スリツト開
口部を通つて照射されたレーザ光をレンズにより
被加工基板上に結像させて微細加工を行うレーザ
加工装置のレーザ加工位置制御装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] Technical Field The present invention relates to a laser processing position control device, and particularly to a laser processing position control device that places a substrate to be processed on an XY stage and directs a laser beam irradiated through a slit opening onto the substrate to be processed using a lens. The present invention relates to a laser processing position control device for a laser processing apparatus that performs fine processing by forming an image.

従来技術 従来、半導体ウエハ内の配線をレーザ光により
切断したり、ホトマスクの欠陥部(短絡部)をレ
ーザ光により切断したりするレーザ加工装置にお
いて、加工対象物が微細であるときには、この加
工対象物を載置して移動することにより位置決め
を行うXYステージは、レーザ加工スポツトに対
して超精密である必要がある。
Conventional technology Conventionally, in laser processing equipment that cuts wiring in semiconductor wafers with laser light or cuts defective parts (short circuit parts) of photomasks with laser light, when the workpiece is minute, the workpiece is The XY stage, which performs positioning by placing and moving an object, must be extremely precise with respect to the laser processing spot.

このような用途に対して使用される超精密XY
ステージには、精度の粗い粗動XYステージの上
に精密な位置決めを行う微動XYステージを設け
たタイプや、1つのXYステージだけで超精密な
位置決めを実現させるものなどが実用化されてい
る。
Ultra precision XY used for such applications
Stages that have been put into practical use include those that have a fine-movement XY stage for precise positioning on top of a less precise coarse-movement XY stage, and those that achieve ultra-precise positioning using only a single XY stage.

このような従来のレーザ加工装置において、粗
動XYステージの上に微動XYステージを設けた
タイプでは、構造が2段となるためにXYステー
ジ機構が複雑となり、微動XYステージの制御装
置を用意する必要があるためにコスト高になると
いう欠点がある。また、1つのXYステージだけ
で超精密な位置決めを実現させるものでは、XY
ステージ機構の製作が難しく、高価なものになる
という欠点がある。
In such conventional laser processing equipment, in the type in which a fine movement XY stage is installed on a coarse movement XY stage, the XY stage mechanism is complicated due to the two-stage structure, and a control device for the fine movement XY stage is required. The disadvantage is that it is costly because it is necessary. In addition, a device that achieves ultra-precise positioning with only one XY stage
The disadvantage is that the stage mechanism is difficult to manufacture and expensive.

これら従来のXYステージを用いた超精密レー
ザ加工では、現在1秒当り数ポイントの加工が上
限となつている。
Ultra-precision laser processing using these conventional XY stages currently has an upper limit of processing several points per second.

発明の目的 本発明は上記のような従来のものの欠点を除去
すべくなされたもので、レーザ加工位置の精度を
保障しながら高速のレーザ加工を行うことがで
き、XYステージを安価に製作することができる
レーザ加工位置制御装置の提供を目的とする。
Purpose of the Invention The present invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and it is possible to perform high-speed laser processing while guaranteeing the accuracy of the laser processing position, and to manufacture an XY stage at a low cost. The purpose of the present invention is to provide a laser processing position control device that can perform the following tasks.

発明の構成 本発明によるレーザ加工位置制御装置は、被加
工基板を載置するXYステージと、レーザ光を前
記被加工基板上に結像させるためのスリツト開口
部とを有するレーザ加工装置のレーザ加工位置制
御装置であつて、前記XYステージを前記レーザ
光に対して垂直な平面上を平行移動させることに
よつてレーザ加工位置の粗調整を行う手段と、前
記スリツト開口部を前記レーザ光に対して垂直な
平面上を該スリツト開口部の寸法を一定にしたま
ま平行移動させることによつてレーザ加工位置の
微調整を行う手段とを含むことを特徴とする。
Configuration of the Invention A laser processing position control device according to the present invention is a laser processing device for laser processing having an XY stage on which a substrate to be processed is placed, and a slit opening for focusing laser light onto the substrate to be processed. The position control device includes means for roughly adjusting the laser processing position by moving the XY stage in parallel on a plane perpendicular to the laser beam, and means for roughly adjusting the laser processing position by moving the XY stage in parallel on a plane perpendicular to the laser beam; and means for finely adjusting the laser processing position by moving the slit opening in parallel on a perpendicular plane while keeping the size of the slit opening constant.

実施例 次に、本発明の一実施例について図面を参照し
て説明する。
Embodiment Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示すブロツク図で
ある。図において、本発明の一実施例は中央処理
装置(以下CPUとする)1と、レーザ加工位置
を調整するコントローラ2と、スリツト駆動部3
と、被加工基板11を載置するXYステージ部4
と、ドライバ5〜10とにより構成されている。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention. In the figure, one embodiment of the present invention includes a central processing unit (hereinafter referred to as CPU) 1, a controller 2 that adjusts the laser processing position, and a slit drive unit 3.
and an XY stage section 4 on which the substrate to be processed 11 is placed.
and drivers 5 to 10.

コントローラ2はコンパレータ21,22とカ
ウンタ23,24とから構成され、XYステージ
部4からのX軸位置パルス46とY軸位置パルス
47とにより入力された現在座標をCPU1から
バスライン25を介して入力された指令座標とコ
ンパレータ21,22において比較し、コンパレ
ータ21,22はこの比較結果に応じて移動量を
各ドライバ5〜10に送出する。
The controller 2 is composed of comparators 21 and 22 and counters 23 and 24, and receives the current coordinates inputted by the X-axis position pulse 46 and Y-axis position pulse 47 from the XY stage section 4 from the CPU 1 via the bus line 25. The input command coordinates are compared with the comparators 21 and 22, and the comparators 21 and 22 send movement amounts to each of the drivers 5 to 10 according to the comparison results.

スリツト駆動部3は、ナイフエツジ36〜39
によりスリツト幅を調整し、またスリツトをX
軸、Y軸方向に移動させるスリツト開口部31
と、ナイフエツジ36〜39を夫々移動させるた
めの駆動用モータ32〜35とにより構成されて
いる。この駆動用モータ32〜35にはエンコー
ダ付のDCモータを使用し、ドライバ5〜8によ
り夫々駆動され、ナイフエツジ36〜39を夫々
移動してスリツトの寸法を一定にしたままレーザ
光軸に垂直な平面上においてスリツトを平行移動
させることができる。
The slit drive unit 3 has knife edges 36 to 39.
Adjust the slit width with
Slit opening 31 that moves in the axial and Y-axis directions
and drive motors 32-35 for moving knife edges 36-39, respectively. The drive motors 32 to 35 are DC motors equipped with encoders, which are driven by drivers 5 to 8, respectively, to move the knife edges 36 to 39, respectively, so as to keep the slit dimensions constant and perpendicular to the laser optical axis. The slit can be moved in parallel on a plane.

XYステージ部4は、被加工基板11を載置す
るためのXYステージ41と、XYステージ41
に取付けられたレーザ測長器42,43と、XY
ステージ41をX軸、Y軸方向に移動させるため
の駆動用モータ44,45とにより構成されてい
る。この駆動用モータ44,45は夫々ドライバ
9,10により駆動される。また、レーザ測長器
42,43はXYステージ41の現在座標を算出
し、この現在座標をX軸位置パルス46とY軸位
置パルス47とによりコントローラ2に送出す
る。
The XY stage section 4 includes an XY stage 41 on which the substrate to be processed 11 is placed, and an XY stage 41
Laser length measuring devices 42, 43 attached to
It is composed of drive motors 44 and 45 for moving the stage 41 in the X-axis and Y-axis directions. The drive motors 44 and 45 are driven by drivers 9 and 10, respectively. Further, the laser length measuring devices 42 and 43 calculate the current coordinates of the XY stage 41, and send the current coordinates to the controller 2 using an X-axis position pulse 46 and a Y-axis position pulse 47.

第2図は本発明の一実施例の概略的な構成図で
ある。図において、レーザ発振器51から出射さ
れたレーザ光はレーザミラー52で反射され、ス
リツト駆動部3で移動されるスリツト開口部31
を通つて、対物レンズ54により被加工基板11
上に結像される。被加工基板11はXYステージ
41上に載置され、XYステージ41は駆動用モ
ータ44,45によりX軸、Y軸方向に移動され
て、被加工基板11のレーザ加工位置が調整され
る。
FIG. 2 is a schematic diagram of an embodiment of the present invention. In the figure, a laser beam emitted from a laser oscillator 51 is reflected by a laser mirror 52, and a slit opening 31 is moved by a slit driving unit 3.
Through the objective lens 54, the substrate 11 to be processed is
imaged on top. The substrate 11 to be processed is placed on an XY stage 41, and the XY stage 41 is moved in the X-axis and Y-axis directions by drive motors 44 and 45 to adjust the laser processing position of the substrate 11 to be processed.

第3図は第1図のX軸座標コントロールを示す
ブロツク図である。第1図〜第3図を用いて本発
明の一実施例の動作について説明する。
FIG. 3 is a block diagram showing the X-axis coordinate control of FIG. 1. The operation of an embodiment of the present invention will be explained using FIGS. 1 to 3.

外部からCPU1を介して、バスライン25で
指令座標XDESが与えられると、コントローラ2
ではレーザ測長器42からカウンタ23を介して
得られる現在座標XPOSとの差(XDES−
XPOS)を移動量ΔXとしてドライバ6,9へ出
力する。移動量ΔXはXYステージ部4用の移動
量ΔX(粗)とスリツト駆動部3用の移動量ΔX
(微)とに分けて送る。たとえば、XYステージ
41の位置精度が5μm程度であれば、移動量ΔX
(粗)のデータは2.5μmを単位としたデータとし
て送られる。
When the command coordinate XDES is given from the outside via the CPU 1 on the bus line 25, the controller 2
Then, the difference (XDES-
XPOS) is output to the drivers 6 and 9 as the movement amount ΔX. The movement amount ΔX is the movement amount ΔX (coarse) for the XY stage section 4 and the movement amount ΔX for the slit drive section 3.
(slight) and send separately. For example, if the positional accuracy of the XY stage 41 is about 5 μm, the movement amount ΔX
(Coarse) data is sent in units of 2.5 μm.

一方、移動量ΔX(微)のデータは図示せぬレ
ーザ加工装置全体に要求される精度が0.3μm程度
ならば、0.1μmを単位としたデータで送られる。
On the other hand, if the accuracy required for the entire laser processing apparatus (not shown) is about 0.3 μm, data on the movement amount ΔX (fine) is sent in units of 0.1 μm.

スリツト開口部34のスリツトの可動範囲はス
リツトの最大開口幅にXYステージ41の最大位
置誤差をカバーできる移動距離を加えたものとな
る。たとえば、XYステージ41停止時に位置誤
差ΔEが残つていた場合、スリツト開口の縮小倍
率をBとすると、ナイフエツジ37,39を駆動
用モータ32,34により夫々ΔEXBの距離だ
け移動させることにより、レーザ加工位置を正確
に合せることができる。この時スリツトの位置決
めに要求される精度もB倍だけ粗くてよいため、
スリツト駆動部3の機構を作ることが比較的簡単
であるという利点がある。
The movable range of the slit in the slit opening 34 is the maximum opening width of the slit plus the moving distance that can cover the maximum positional error of the XY stage 41. For example, if a position error ΔE remains when the XY stage 41 is stopped, and if the reduction magnification of the slit opening is B, the laser The machining position can be adjusted accurately. At this time, the accuracy required for positioning the slit may be B times coarser, so
There is an advantage that the mechanism of the slit drive section 3 is relatively easy to manufacture.

また、XYステージ部4は超精密でなくてもよ
いため、高速高加速度の一般的なXYステージ部
4が利用でき、安価かつメンテナンスが簡単にな
るという利点がある。
Furthermore, since the XY stage section 4 does not need to be ultra-precise, a general XY stage section 4 with high speed and high acceleration can be used, which has the advantage of being inexpensive and easy to maintain.

第4図は本発明の他の実施例のスリツト駆動部
を示す構成図である。本発明の他の実施例ではこ
のスリツト駆動部を除いて、本発明の一実施例と
同様の構成である。図において、スリツト板61
を支える板バネ機構62〜65と、スリツト板6
1をX軸、Y軸方向に移動させるためのガルバノ
メータ66,68と、偏心カム67,69とによ
つてこのスリツト駆動部は構成されている。ドラ
イバ(ガルバノメータドライバ)に送られる位置
誤差データに従い、ガルバノメータ66,68に
取付けられた偏心カム67,69が回転して、平
行板バネ62〜65で支えられたスリツト板61
を平行移動させる。ガルバノメータ66,68は
回転にヒステリシスを持つがスリツトの位置誤差
許容量が大きくてよいこと、およびスリツト移動
距離が短く、回転角当りの移動量を小さくとるこ
とができるため、このヒステリシスはほぼ無視で
きるようになる。
FIG. 4 is a block diagram showing a slit driving section according to another embodiment of the present invention. Other embodiments of the present invention have the same structure as the one embodiment of the present invention except for this slit drive section. In the figure, the slit plate 61
The leaf spring mechanisms 62 to 65 that support the slit plate 6
This slit drive section is composed of galvanometers 66, 68 for moving the slit 1 in the X-axis and Y-axis directions, and eccentric cams 67, 69. According to the position error data sent to the driver (galvanometer driver), eccentric cams 67 and 69 attached to galvanometers 66 and 68 rotate, and the slit plate 61 supported by parallel plate springs 62 to 65 rotates.
Move in parallel. The galvanometers 66 and 68 have hysteresis in rotation, but this hysteresis can be almost ignored because the slit position error tolerance is large, and the slit movement distance is short and the amount of movement per rotation angle can be small. It becomes like this.

また、スリツトの形状では結像させる場合はス
リツトの開口径を可変する場合が多いが、特定の
形状でよい場合には、上述のように固定のスリツ
トを使つて軽量化を計ることができるため、より
高速のレーザ加工位置決めが可能となる。
Also, when it comes to the shape of the slit, the aperture diameter of the slit is often variable when forming an image, but if a specific shape is acceptable, weight reduction can be achieved by using a fixed slit as described above. , faster laser processing positioning becomes possible.

このように、XYステージ41をレーザ光軸に
垂直な平面上において平行移動させることにより
レーザ加工位置の粗調整を行い、スリツト開口部
31または、スリツト板61をレーザ光軸に垂直
な平面上において平行移動させることによりレー
ザ加工位置の微調整を行うようにすることによつ
て、比較的安価に作れ、精度は落ちるが高速高加
速度のXYステージ部4を採用することができ
る。また、同様にスリツト開口部31およびスリ
ツト板61の駆動は結像系の縮小倍率だけ粗い位
置精度で行えばよいため、高速で加工位置の補正
が行える。このため、レーザ加工位置の精度を保
障しながら高速の加工が行える安価なレーザ加工
装置を実現することができる。
In this way, the laser processing position is roughly adjusted by moving the XY stage 41 in parallel on the plane perpendicular to the laser optical axis, and the slit opening 31 or the slit plate 61 is moved in parallel on the plane perpendicular to the laser optical axis. By finely adjusting the laser processing position by parallel movement, the XY stage section 4 can be manufactured at a relatively low cost and has high speed and high acceleration, although the accuracy is lowered. Similarly, since the slit opening 31 and the slit plate 61 need only be driven with a positional precision as coarse as the reduction magnification of the imaging system, the machining position can be corrected at high speed. Therefore, it is possible to realize an inexpensive laser processing apparatus that can perform high-speed processing while guaranteeing the accuracy of the laser processing position.

発明の効果 以上説明したように本発明によれば、XYステ
ージをレーザ光に垂直な平面上において平行移動
させることによりレーザ加工位置の粗調整を行
い、スリツト開口部をレーザ光に垂直な平面上に
おいて平行移動させることによりレーザ加工位置
の微調整を行うようにすることによつて、レーザ
加工位置の精度を保障しながら高速のレーザ加工
を行うことができ、XYステージを安価に製作す
ることができるという効果がある。
Effects of the Invention As explained above, according to the present invention, the laser processing position is coarsely adjusted by moving the XY stage in parallel on the plane perpendicular to the laser beam, and the slit opening is moved on the plane perpendicular to the laser beam. By finely adjusting the laser processing position by moving parallel to the stage, high-speed laser processing can be performed while ensuring the accuracy of the laser processing position, and the XY stage can be manufactured at low cost. There is an effect that it can be done.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示すブロツク図、
第2図は本発明の一実施例の概略的な構成図、第
3図は第1図のX軸座標コントロールを示すブロ
ツク図、第4図は本発明の他の実施例のスリツト
駆動部の構成図である。 主要部分の符号の説明、2……コントローラ、
3……スリツト駆動部、4……XYステージ部、
31……スリツト開口部、32〜35……駆動用
モータ、36〜39……ナイフエツジ、41……
XYステージ、42,43……レーザ測長器、4
4,45……駆動用モータ、61……スリツト
板、62〜65……板バネ機構、66,68……
ガルバノメータ、67,69……偏心カム。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of one embodiment of the present invention, FIG. 3 is a block diagram showing the X-axis coordinate control of FIG. 1, and FIG. 4 is a slit drive section of another embodiment of the present invention. FIG. Explanation of symbols of main parts, 2... Controller,
3...Slit drive unit, 4...XY stage unit,
31...Slit opening, 32-35...Drive motor, 36-39...Knife edge, 41...
XY stage, 42, 43...Laser length measuring device, 4
4, 45... Drive motor, 61... Slit plate, 62-65... Leaf spring mechanism, 66, 68...
Galvanometer, 67, 69...eccentric cam.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 被加工基板を載置するXYステージと、レー
ザ光を前記被加工基板上に結像させるためのスリ
ツト開口部とを有するレーザ加工装置のレーザ加
工位置制御装置であつて、前記XYステージを前
記レーザ光に対して垂直な平面上を平行移動させ
ることによつてレーザ加工位置の粗調整を行う手
段と、前記スリツト開口部を前記レーザ光に対し
て垂直な平面上を該スリツト開口部の寸法を一定
にしたまま平行移動させることによつてレーザ加
工位置の微調整を行う手段とを含むことを特徴と
するレーザ加工位置制御装置。
1. A laser processing position control device for a laser processing apparatus having an XY stage on which a substrate to be processed is placed, and a slit opening for focusing laser light on the substrate to be processed, wherein the XY stage is means for roughly adjusting the laser processing position by moving the slit opening in parallel on a plane perpendicular to the laser beam; 1. A laser processing position control device comprising means for finely adjusting a laser processing position by moving the laser processing position in parallel while keeping the position constant.
JP61200385A 1986-08-27 1986-08-27 Control system for laser beam processing position Granted JPS6356383A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61200385A JPS6356383A (en) 1986-08-27 1986-08-27 Control system for laser beam processing position

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61200385A JPS6356383A (en) 1986-08-27 1986-08-27 Control system for laser beam processing position

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6356383A JPS6356383A (en) 1988-03-10
JPH0534116B2 true JPH0534116B2 (en) 1993-05-21

Family

ID=16423439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61200385A Granted JPS6356383A (en) 1986-08-27 1986-08-27 Control system for laser beam processing position

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6356383A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3292079B2 (en) * 1997-02-24 2002-06-17 三菱電機株式会社 Laser processing equipment
US7253376B2 (en) * 2005-01-21 2007-08-07 Ultratech, Inc. Methods and apparatus for truncating an image formed with coherent radiation

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5548489A (en) * 1978-09-29 1980-04-07 Nec Corp Full-automatic laser work system

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6356383A (en) 1988-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5815246A (en) Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device
CN104959730A (en) Rotating table type femtosecond laser direct writing method and device
KR19990087198A (en) Two-dimensional stabilized positioning device with two object holders and lithographic device with such positioning device
CN109509602B (en) Laser resistance-adjusting machine
US20220339737A1 (en) Adjustment method of laser processing apparatus, and laser processing apparatus
JP3162580B2 (en) Dicing equipment
JPH02192885A (en) Laser beam processor
TW201203440A (en) Supporting device and light exposure device
JPH0795538B2 (en) Laser annealing device
JPH0534116B2 (en)
JP3333679B2 (en) Groove cutting device and groove cutting method
JPS6320638B2 (en)
JPS62152632A (en) Table device
CN108169895B (en) Hard light path light beam flexible transmission positioning method and device
US20030128345A1 (en) Scanning type exposure apparatus and a device manufacturing method using the same
JPS6376784A (en) Rotary head for laser beam machine
JPH0985470A (en) Laser marking device
US11935765B2 (en) Laser processing apparatus
JP2004303931A (en) Cutting equipment
JPS63101091A (en) Three dimensional laser beam machine
JP3101582B2 (en) Position detecting apparatus and method using oblique optical axis optical system
JPH0214012Y2 (en)
JPH05277779A (en) Laser processing equipment
CN121962137A (en) A method and system for calibrating the rotation center of a semiconductor measurement device chuck.
JPS63158404A (en) Transfer device alignment device

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term