JPH0535566B2 - - Google Patents
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- JPH0535566B2 JPH0535566B2 JP60164799A JP16479985A JPH0535566B2 JP H0535566 B2 JPH0535566 B2 JP H0535566B2 JP 60164799 A JP60164799 A JP 60164799A JP 16479985 A JP16479985 A JP 16479985A JP H0535566 B2 JPH0535566 B2 JP H0535566B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- commands
- group
- input
- command
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、LSI、VLSI等の半導体デバイスを
製造する装置に関し、特に、装置の動作に関する
コマンドやパラメータを任意にグループ化して、
ユーザが装置を容易に操作できるようにした半導
体製造装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of the Invention] The present invention relates to an apparatus for manufacturing semiconductor devices such as LSI and VLSI, and in particular, a system for arbitrarily grouping commands and parameters related to the operation of the apparatus.
The present invention relates to semiconductor manufacturing equipment that allows a user to easily operate the equipment.
[発明の背景]
半導体集積回路の集積度の向上に伴い、半導体
製造装置の高機能化や高性能化が計られている。
これらの高機能化や高性能化に伴つてこの種の装
置を動作させる際のコマンドおよびパラメータも
非常に増加してきた。これら数多くのコマンドお
よびパラメータはそれぞれ半導体製造装置の動作
を制御する上で重要な役割を果たすものであり、
装置の機能を最大限利用する場合に欠くことがで
きないものである。[Background of the Invention] As the degree of integration of semiconductor integrated circuits increases, efforts are being made to improve the functionality and performance of semiconductor manufacturing equipment.
As these devices become more sophisticated and performant, the number of commands and parameters used to operate these types of devices has also increased significantly. These numerous commands and parameters each play an important role in controlling the operation of semiconductor manufacturing equipment.
This is indispensable for maximizing the functionality of the device.
ところが、その数が多いことから装置を操作す
るエンジニアやオペレータ等がそれらすべてのコ
マンド等を記憶することは全く不可能である。特
に、オペレータは半導体製造装置について主に日
常の動作開始および停止の操作を行なうために配
置されている者であり、すべてのコマンド等を記
憶することは不必要といえる。すなわち、すべて
のコマンドおよびパラメータにより装置を操作す
るのは、元来、熟練者であるエンジニアの仕事で
あり、オペレータが日常、操作するパラメータは
ごく一部のもののみ充分である。以上のような事
情から、例えば、オペレータが日常使用するコマ
ンド以外のコマンドを使用するような場合には、
朧気な記憶に頼るため、所望のものとは異なるコ
マンドを入力してしまうという誤操作がかなりあ
つた。 However, due to the large number of commands, it is completely impossible for engineers, operators, etc. who operate the device to memorize all of these commands. In particular, the operator is a person assigned to mainly start and stop the daily operations of the semiconductor manufacturing equipment, and it is unnecessary to memorize all commands and the like. That is, operating the device using all the commands and parameters is originally the job of a skilled engineer, and it is sufficient for the operator to operate only a small number of the parameters on a daily basis. Due to the above circumstances, for example, when an operator uses commands other than those that are used on a daily basis,
Because I relied on my vague memory, I often made mistakes in inputting commands that were not what I wanted.
通常、これらの誤操作を防止するためには、オ
ペレータ等のユーザは熟練者に聞いたりマニユア
ル等に頼らざるを得ない状況にある。これは、装
置の操作上非常に不便である。例えば、装置を操
作する際にコンソールの前でオペレータがマニユ
アルを調べながらコマンドを入力するような場面
がまま見られる。そのような場合、オペレータの
入力速度は極めて遅くなり、結果として、装置の
スループツトを落としたりオペレータがコンソー
ルでの操作に集中できずに入力間違いも多くな
る。 Normally, in order to prevent these erroneous operations, users such as operators are forced to ask experts or rely on manuals. This is very inconvenient for the operation of the device. For example, when operating a device, an operator is often seen in front of a console inputting commands while consulting a manual. In such a case, the operator's input speed becomes extremely slow, resulting in a slowdown in the throughput of the device, the operator's inability to concentrate on operations at the console, and more input errors.
特に、コマンドやパラメータは1〜3文字程度
の略称となつていたりコード化されている場合が
多く、そのような場合は、さらに誤操作が多くな
るという欠点があつた。 In particular, commands and parameters are often abbreviations of one to three characters or coded, and in such cases there is a drawback that erroneous operations are more likely to occur.
[発明の目的]
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、オペレ
ータ等が装置のコマンドや動作パラメータを入力
する際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行
なうことのできる半導体製造装置を提供すること
を目的とする。[Object of the Invention] In view of the above-mentioned problems of the conventional method, the present invention provides a semiconductor manufacturing apparatus that prevents an operator from making an erroneous operation when inputting commands and operating parameters of the apparatus, and that enables the desired operation to be performed reliably. The purpose is to provide
[実施例の説明]
以下、図面に従つて本発明の実施例を説明す
る。第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光
装置の外観を示す。同図において、1は集積回路
パターンを備えたマスクで、他にマスクアライメ
ントマークやマスク・ウエハ・アライメントマー
クを備えている。2はマスクステージで、マスク
1を保持してマスク1を平面内(XY方向)及び
回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小投影
レンズ、4は感光層を備えるウエハで、マスク・
ウエハ・アライメントマークとテレビ・ウエハア
ライメントマークを備えている。5はウエハステ
ージである。ウエハステージ5はウエハ4を保持
してそれを平面内及び回転方向に移動させるもの
であり、またウエハ焼付位置(投影野内)とテレ
ビ・ウエハアライメント位置間を移動する。6は
テレビ・ウエハアライメント用検知装置の対物レ
ンズ、7は撮像管または固体影像素子、9は双眼
ユニツトで、投影レンズ3を介してウエハ4の表
面を観察するために役立つ。10は照明光学系お
よびマスク・ウエハ・アライメント用の検知装置
を収容する上部ユニツトである。11は投影露光
装置本体に指令を与えるコンソールのモニタ受像
機(コンソールCRT)、12は装置に指令を与え
たりパラメータを入力するキーボードである。[Description of Examples] Examples of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the appearance of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a mask provided with an integrated circuit pattern, and also includes mask alignment marks and mask-wafer alignment marks. 2 is a mask stage that holds the mask 1 and moves the mask 1 in the plane (XY direction) and in the rotational direction (θ direction). 3 is a reduction projection lens, 4 is a wafer equipped with a photosensitive layer, and a mask/
It has a wafer alignment mark and a TV wafer alignment mark. 5 is a wafer stage. The wafer stage 5 holds the wafer 4 and moves it in the plane and in the rotational direction, and also moves between the wafer printing position (within the projection field) and the television/wafer alignment position. 6 is an objective lens of a television/wafer alignment detection device; 7 is an image pickup tube or a solid-state imaging device; and 9 is a binocular unit, which serves to observe the surface of the wafer 4 through the projection lens 3. 10 is an upper unit housing an illumination optical system and a detection device for mask-wafer alignment. 11 is a console monitor receiver (console CRT) for giving commands to the main body of the projection exposure apparatus, and 12 is a keyboard for giving commands to the apparatus and inputting parameters.
第2図は、第1図の投影露光装置の電気回路構
成を示すブロツク図である。同図において、21
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。22はウエハステージ駆動装
置、23はアライメント検出系、24はレチクル
ステージ駆動装置、25は照明系、26はシヤツ
タ駆動装置、27はフオーカス検出系、28はZ
駆動装置で、これらは、本体CPU21により制
御される。29は搬送系である。 FIG. 2 is a block diagram showing the electrical circuit configuration of the projection exposure apparatus of FIG. 1. In the same figure, 21
is the main CPU that controls the entire device and consists of a central processing unit such as a microcomputer or minicomputer. 22 is a wafer stage drive device, 23 is an alignment detection system, 24 is a reticle stage drive device, 25 is an illumination system, 26 is a shutter drive device, 27 is a focus detection system, and 28 is a Z
These drive devices are controlled by the main CPU 21. 29 is a conveyance system.
30はコンソールユニツトで、本体CPU21
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。31はコンソ
ールCPU、32はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT11およびキーボー
ド12は第1図のものと同一である。 30 is the console unit, and the main CPU 21
This is for giving various commands and parameters related to the operation of this exposure apparatus. 31 is a console CPU, and 32 is an external memory for storing parameters and the like. Note that the CRT 11 and keyboard 12 are the same as those shown in FIG.
第3図は、コマンドをグループ化した様子を示
す階層図である。同図において、最下層は実行コ
マンドである。コマンド入力待ち状態においてこ
れらのコマンドを入力すると、装置はそのコマン
ドに従つた動作を行なう。実行コマンドはいくつ
かまとめてグループ化し、中段に示すようなグル
ープ名を付している。1つの実行コマンドが複数
のグループに含まれることとしてもよい。 FIG. 3 is a hierarchical diagram showing how commands are grouped. In the figure, the lowest layer is the execution command. When these commands are input while the device is in a command input waiting state, the device performs operations according to the commands. Several execution commands are grouped together and given group names as shown in the middle row. One execution command may be included in multiple groups.
次に、第4図のフローチヤートおよび第5a〜
5e図の表示画面例を参照しながら、第1図および
第2図に示す装置においてコマンドのグループを
定義する際の動作を説明する。 Next, the flowchart of Fig. 4 and Fig. 5a--
The operation when defining a group of commands in the apparatus shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to the display screen example shown in FIG. 5e.
この装置においては、電源投入後の初期化を終
了したとき、および所定の動作指令(コマンド)
を実行し終えたとき、コマンド待ち状態となる。
つまり、コンソールCPU31はキーボード12
におけるキー操作を待機し、本体CPU21はコ
ンソールCPU31からの通信待ち状態となる。
そして、この状態でキーボード12からコマンド
のグループ定義のためのコマンド(例えばGD)
が入力されると、コンソールCPU31の制御の
もとに以下のグループ定義処理を開始する。 In this device, when initialization is completed after power-on, and when a predetermined operation command (command) is
When it finishes executing, it enters a command waiting state.
In other words, the console CPU 31 is the keyboard 12
The main CPU 21 waits for a key operation in the console CPU 31, and enters a state of waiting for communication from the console CPU 31.
Then, in this state, from the keyboard 12, a command for defining a group of commands (for example, GD)
When input, the following group definition process is started under the control of the console CPU 31.
なお、ここでは予め定義してあるグループに新
たな実行コマンドをメンバとして登録する場合に
ついて説明する。グループを新たに定義するの
か、または、予め存在するグループの定義を変更
するのかについての区別はグループ定義コマンド
を入力するときに行なう。例えば、上記のコマン
ドGDをグループ名のパラメータ例えばAAを付
与して「GD AA」と入力したとき、そのグルー
プAAの定義の変更とし、パラメータ無しで入力
したとき、新たなグループの定義とすれはよい。 Note that here, a case will be described in which a new execution command is registered as a member in a predefined group. A distinction as to whether a new group is to be defined or an existing group definition is to be changed is made when a group definition command is input. For example, if you input the above command GD with a group name parameter such as AA and input it as "GD AA", it will change the definition of that group AA, and if you input it without parameters, it will change the definition of a new group. good.
グループ定義処理においては、まず、処理する
グループの名称、パスワード等をCRT11に表
示する(ステツプS1)。このときの画面表示は第
5a図に示すようなものである。また、これらの
データは外部メモリ32に記憶されている。ここ
では、グループ名が「AA」、パスワードが
「Canon」、コメントが「MOS」、メンバが
「OC」、「WA」および「RC」である。各メンバ
にはそれぞれコメントが付与されている。下段の
「Slect No.or End」はプロンプトメツセージで
あり、どの項目を変更するか、あるいはグループ
定義処理を終了するかについての入力を促してい
る(ステツプS2)。ここで、それぞれの項目に付
されているナンバを入力することでそれらを変更
することができる。例えば、「1」を入力すると
ステツプS3およびS4においてグルーブ名の変更
が可能である。パスワードおよびコメントについ
ても同様にステツプS5〜S8で変更できる。第5a
図の画面ではメンバについて処理するため「4」
を入力している(ステツプS9)。すると、画面は
第5b図に示すようなものとなる。この画面では、
グループに関する定義情報は第5a図と同一だが、
下段のプロンプトメツセージが異なる。このメツ
セージ「Select(O:ADD、1:DELETE、E:
END)」はメンバを新たに追加するのか、削除す
るのかまたはメンバの変更処理を終了するのかに
ついての入力を促している(ステツプS10)。こ
の入力後は追加、削除または終了の別を判別し、
追加のときはステツプS11およびS12、削除のと
きはステツプS13およびS14でそれぞれの処理を
行なう。第5b図の画面ではメンバの追加を示す
「O」を入力している(ステツプS11)。この入力
により画面は第5c図に示すようなものとなる。下
段には「ADD(4)」とメツセージが表示され、
4番目のメンバの追加処理を行なつている旨を示
している。ここで同図のように、「RA:
Comment D」を新たなメンバとして入力する
と、画面は第5d図のようになり、新規メンバが
追加登録される(ステツプS12)。その後、シー
ケンスはステツプS10に戻り、再びメンバの変更
処理を続行することができる。メンバ変更処理を
終了する場合は、ステツプS10の入力において、
すなわち第5d図の画面において「E」を入力し
(ステツプS15)、ステツプS2に戻る。グループの
定義処理を終了する場合は、ステツプS2におい
て、第5e図のように「E」を入力する(ステツプ
S16)。これにより、グループの各種定義データ
は外部メモリ32に記憶される。 In the group definition process, first, the name, password, etc. of the group to be processed are displayed on the CRT 11 (step S1). The screen display at this time is
It is as shown in Figure 5a. Further, these data are stored in the external memory 32. Here, the group name is "AA", the password is "Canon", the comment is "MOS", and the members are "OC", "WA", and "RC". A comment is given to each member. "Select No. or End" in the lower row is a prompt message, prompting input as to which item to change or whether to end the group definition process (step S2). Here, you can change each item by entering the number attached to it. For example, if "1" is input, the groove name can be changed in steps S3 and S4. Passwords and comments can also be changed in steps S5 to S8. Chapter 5a
In the screen shown in the figure, select "4" to process members.
is being input (step S9). The screen will then look like the one shown in Figure 5b. On this screen,
The definition information about groups is the same as in Figure 5a, but
The prompt message at the bottom is different. This message "Select (O: ADD, 1: DELETE, E:
END)'' prompts input as to whether to add a new member, delete a member, or end the member change process (step S10). After inputting this, determine whether to add, delete, or terminate.
When adding, steps S11 and S12 are performed, and when deleting, steps S13 and S14 are performed. On the screen shown in FIG. 5b, "O" indicating addition of a member is input (step S11). With this input, the screen will look like the one shown in Figure 5c. The message “ADD (4)” is displayed at the bottom,
This indicates that the fourth member is being added. Here, as shown in the same figure, "RA:
When "Comment D" is input as a new member, the screen becomes as shown in FIG. 5d, and the new member is additionally registered (step S12). Thereafter, the sequence returns to step S10 and the member modification process can be continued again. To end the member change process, in the input step S10,
That is, input "E" on the screen shown in FIG. 5d (step S15) and return to step S2. To end the group definition process, enter "E" in step S2 as shown in Figure 5e.
S16). As a result, various group definition data are stored in the external memory 32.
次に、第6図のフローチヤートおよび第7図の
表示画面例を参照しながら、第1図および第2図
に示す装置におけるコマンド入力の動作を説明す
る。 Next, the command input operation in the apparatus shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. 6 and the display screen example shown in FIG. 7.
まず、コマンド入力待ち状態からコマンドが入
力されると(ステツプS21)、実行レベルのコマ
ンドかどうかを判別する(ステツプS22)。もし、
実行レベルのコマンドのときは、その入力された
実行コマンドに応じた処理を実行する。実行レベ
ルのコマンドでない場合は、グループ名かどうか
を判別し(ステツプS23)、グループ名でもない
ときはエラーを表示し(ステツプS24)、再びコ
マンド入力待ちの状態に戻る(ステツプS21)。
ステツプS23でグループ名の場合は、グループを
構成する実行レベルコマンド等のグループのデー
タを外部メモリ32から読み出しCRT11に一覧
表示する(ステツプS25)。このときの画面は第
7図のようなものである。同図において、画面の
上段にはコマンド入力エリアがあり、グループ名
として「AA」が入力されている。中段には、そ
れに対応してグループ名AAを構成するすべての
コマンドがコメントとともに表示されている。こ
のコメントによりコマンドの動作の概要を知るこ
とができる。その後は、画面を見て実行コマンド
を入力すればよい(ステツプS26)。 First, when a command is input from the command input waiting state (step S21), it is determined whether it is an execution level command (step S22). if,
When the command is at the execution level, processing is executed according to the input execution command. If it is not an execution level command, it is determined whether it is a group name (step S23), and if it is not a group name, an error is displayed (step S24), and the process returns to the state of waiting for command input (step S21).
If it is a group name in step S23, the group data such as execution level commands constituting the group is read from the external memory 32 and displayed as a list on the CRT 11 (step S25). The screen at this time is as shown in FIG. In the figure, there is a command input area at the top of the screen, and "AA" is entered as the group name. In the middle row, all commands that make up the corresponding group name AA are displayed along with comments. This comment provides an overview of the command's behavior. After that, all you have to do is look at the screen and input the execution command (step S26).
なお、ここでは実行コマンドの入力を略称で行
なうようにしているが、第7図に示す一覧表示に
おいてコマンドにナンバを付しておき、そのナン
バを入力することにより実行コマンドと同様な機
能を実行するようにもできる。 Although the execution commands are input using abbreviations here, numbers are attached to the commands in the list display shown in Figure 7, and by inputting those numbers, the same function as the execution command can be executed. You can also do this.
前述したように、本実施例の投影露光装置にお
いては、実行レベルのコマンドのグループをユー
ザが自由に定義できる。また、1つの実行コマン
ドが複数のグループの構成要素となることもでき
るし、グループの名称も自由に付与できる。従つ
て、例えば実行コマンドの機能別、各称別、使用
者別等のさまざまな分け方でグループ化を行なつ
ておけば、不明瞭なコマンドを検索する上で非常
に効果がある。すなわち、ユーザが装置の操作途
中で入力したい所望のコマンドが不明になつたと
きには、いろいろなグループ名でコマンドの確認
が行なえるため、装置の誤操作を防止することが
できる。また、これらのコマンドの確認はユーザ
がコンソールをそのまま使用して行なえるので、
ユーザはコンソールに対する一連の操作の流れを
マニユアルを参照する等でとぎらせることなく、
コンソールに集中したまま操作を続行することが
できる。 As described above, in the projection exposure apparatus of this embodiment, the user can freely define groups of commands at the execution level. Furthermore, one execution command can be a component of multiple groups, and groups can be named freely. Therefore, if the executed commands are grouped in various ways, such as by function, name, user, etc., it is very effective to search for ambiguous commands. In other words, if the user becomes unsure of a desired command to input while operating the device, the command can be confirmed using various group names, thereby preventing erroneous operation of the device. Additionally, users can check these commands directly using the console.
The user can perform a series of operations on the console without having to refer to the manual or the like.
You can continue operations while concentrating on the console.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、半導体
製造装置において、コマンドおよび動作パラメー
タをグループ化しグループ名を付して記憶し、コ
マンド入力待ち状態でこのグループ名が入力され
た場合には、グループを構成するコマンドおよび
動作パラメータを表示するようにしているので、
オペレータ等がコマンドやパラメータを入力する
際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行なう
ことができる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, commands and operating parameters are grouped and stored with group names in semiconductor manufacturing equipment, and when this group name is input while waiting for command input. In some cases, the commands and operating parameters that make up the group are displayed.
It is possible to prevent erroneous operations when an operator or the like inputs commands or parameters, and to reliably perform desired operations.
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観図、第2図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第3図は、コマ
ンドをグループ化した様子を示す階層図、第4図
は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の動作および作用を説明するためのフロ
ーチヤート、第5図は、上記実施例においてコマ
ンドのグループを定義する際の表示画面例、第6
図は、上記実施例においてコマンド入力する際の
動作および作用を説明するためのフローチヤー
ト、第7図は、上記実施例においてコマンド入力
する際の表示画面例である。
11……モニタ用CRT、12……キーボード、
21……本体CPU、30……コンソール、31
……コンソールCPU、32……外部メモリ。
Fig. 1 is an external view of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a block diagram showing a control circuit of the projection exposure apparatus of the above embodiment, and Fig. 3 shows a grouping of commands. FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation and effect when defining a group of commands in the above embodiment, and FIG. Display screen example, 6th
The figure is a flowchart for explaining the operation and effect when inputting a command in the above embodiment, and FIG. 7 is an example of a display screen when inputting a command in the above embodiment. 11... CRT for monitor, 12... Keyboard,
21...Main CPU, 30...Console, 31
...Console CPU, 32...External memory.
Claims (1)
て動作する半導体製造装置であつて、該コマンド
および動作パラメータをグループ化しグループ名
を付して記憶するとともに、コマンド入力待ち状
態における該グループ名の入力によりグループを
構成するコマンドおよび動作パラメータを表示す
ることを特徴とする半導体製造装置。 2 前記グループ化が、前記コマンドおよび動作
パラメータとともにコメントを記憶し、前記表示
の際に前記コマンドおよび動作パラメータととも
に該コメントを表示する特許請求の範囲第1項記
載の半導体製造装置。 3 前記動作が露光動作である特許請求の範囲第
1または2項記載の半導体製造装置。 4 前記グループ化が、キーボードからの入力デ
ータに基づいて変更可能である特許請求の範囲第
1〜3項のいずれか1つに記載の半導体製造装
置。[Scope of Claims] 1. A semiconductor manufacturing device that operates according to a large number of commands and operation parameters, which stores the commands and operation parameters in groups and assigns group names, and stores the group in a command input waiting state. A semiconductor manufacturing apparatus characterized in that commands and operating parameters constituting a group are displayed by inputting a name. 2. The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein said grouping stores comments together with said commands and operating parameters, and displays said comments together with said commands and operating parameters upon said display. 3. The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the operation is an exposure operation. 4. The semiconductor manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the grouping is changeable based on input data from a keyboard.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164799A JPS6225418A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
| US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164799A JPS6225418A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6107400A Division JP2614188B2 (en) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | Command management method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6225418A JPS6225418A (en) | 1987-02-03 |
| JPH0535566B2 true JPH0535566B2 (en) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60164799A Granted JPS6225418A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6225418A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2631395B2 (en) * | 1988-09-09 | 1997-07-16 | キヤノン株式会社 | Exposure apparatus control method |
| JPH082721Y2 (en) * | 1989-02-23 | 1996-01-29 | ヤマハ株式会社 | Parameter setting device |
| DE102015007831B4 (en) | 2015-06-18 | 2017-08-17 | Michael Klemt | Circuit arrangement for the galvanically isolated control of a charge-controlled circuit breaker |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5549713A (en) * | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Nec Corp | Automatic work processing system |
| FR2549983B1 (en) * | 1983-07-25 | 1988-03-18 | Telemecanique Electrique | TERMINAL FOR THE PREPARATION OF PROGRAMS FOR USE BY A PROGRAMMABLE CONTROLLER |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164799A patent/JPS6225418A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6225418A (en) | 1987-02-03 |
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|---|---|---|---|
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