JPH0543115B2 - - Google Patents
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- JPH0543115B2 JPH0543115B2 JP60074886A JP7488685A JPH0543115B2 JP H0543115 B2 JPH0543115 B2 JP H0543115B2 JP 60074886 A JP60074886 A JP 60074886A JP 7488685 A JP7488685 A JP 7488685A JP H0543115 B2 JPH0543115 B2 JP H0543115B2
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Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は液晶セルを構成する一方の透明基板
の内面に表示電極が複数形成され、その各表示電
極に薄膜トランジスタが接続され、その薄膜トラ
ンジスタを選択的にスイツチング制御することに
よつて表示電極を選択的に表示するようにした液
晶表示素子に関する。Detailed Description of the Invention "Industrial Application Field" This invention is characterized in that a plurality of display electrodes are formed on the inner surface of one transparent substrate constituting a liquid crystal cell, a thin film transistor is connected to each of the display electrodes, and the thin film transistor is selected. The present invention relates to a liquid crystal display element in which display electrodes are selectively displayed by selectively controlling switching.
「従来の技術」
従来のこの種の液晶表示素子は例えば第7図に
示すようにガラスのような透明基板11及び12
が近接対向して設けられ、その周縁部にはスペー
サ13が介在され、これら透明基板11,12間
に液晶14が封入されている。一方の透明基板1
1の内面に表示電極15が複数形成され、これら
各表示電極15に接してそれぞれスイツチング素
子として薄膜トランジスタ16が形成され、その
薄膜トランジスタ16のドレインは表示電極15
に接続されている。これら複数の表示電極15と
対向して他方の透明基板12の内面に透明な共通
電極17が形成されている。"Prior Art" A conventional liquid crystal display element of this type has transparent substrates 11 and 12 made of glass, for example, as shown in FIG.
are provided in close opposition to each other, a spacer 13 is interposed at the peripheral edge thereof, and a liquid crystal 14 is sealed between these transparent substrates 11 and 12. One transparent substrate 1
A plurality of display electrodes 15 are formed on the inner surface of the display electrode 1, and a thin film transistor 16 is formed as a switching element in contact with each display electrode 15, and the drain of the thin film transistor 16 is connected to the display electrode 15.
It is connected to the. A transparent common electrode 17 is formed on the inner surface of the other transparent substrate 12, facing the plurality of display electrodes 15.
表示電極15は例えば画素電極であつて第8図
に示すように、透明基板11上に正方形のものが
行及び列に、つまりマトリクス状に近接配列され
ており、表示電極15の各行配列と近接し、かつ
これに沿つてそれぞれゲートバス18が形成さ
れ、また表示電極15の各列配列と近接してそれ
に沿つてソースバス(データ線)19がそれぞれ
形成されている。これら各ゲートバス18及びソ
ースバス19の交差点において薄膜トランジスタ
16が設けられ、各薄膜トランジスタ16のゲー
トは両バスの交差点位置においてゲートバス18
に接続され、各ソースはソースバス19にそれぞ
れ接続され、更に各ドレインは表示電極15に接
続されている。 The display electrodes 15 are, for example, pixel electrodes, and as shown in FIG. 8, square electrodes are arranged close to each other in rows and columns, that is, in a matrix, on the transparent substrate 11. Gate buses 18 are formed along these lines, and source buses (data lines) 19 are formed adjacent to and along each column arrangement of display electrodes 15. A thin film transistor 16 is provided at the intersection of each gate bus 18 and source bus 19, and the gate of each thin film transistor 16 is connected to the gate bus 18 at the intersection of both buses.
, each source is connected to a source bus 19, and each drain is connected to a display electrode 15.
これらゲートバス18とソースバス19との各
一つを選択してそれら間に電圧を印加し、その電
圧が印加された薄膜トランジスタ16のみが導通
し、その導通した薄膜トランジスタ16のドレイ
ンに接続された表示電極15に電荷を蓄積して表
示電極15と共通電極17との間の部分の液晶1
4のみに電圧を印加し、これによつてその表示電
極15の部分のみが光透明或は光遮断となり、選
択的な表示が行われる。この表示電極15に蓄積
した電荷を放電させることによつて表示を消去さ
せることができる。 By selecting each one of the gate bus 18 and the source bus 19 and applying a voltage between them, only the thin film transistor 16 to which the voltage has been applied becomes conductive, and the display is connected to the drain of the thin film transistor 16 that has become conductive. Charge is accumulated in the electrode 15 and the liquid crystal 1 in the portion between the display electrode 15 and the common electrode 17 is
By applying a voltage only to the display electrode 15, only the display electrode 15 becomes light transparent or light blocked, and selective display is performed. By discharging the charges accumulated in the display electrodes 15, the display can be erased.
薄膜トランジスタ16は従来においては例えば
第9図及び第10図に示すように構成されてい
た。即ち透明基板11上に表示電極15とソース
バス19とがITOのような透明導電膜によつて形
成され、表示電極15及びソースバス19の互に
平行近接した部分間にまたがつてアモルフアスシ
リコンのような半導体層21が形成され、更にそ
の上に窒化シリコンなどのゲート絶縁膜22が形
成される。このゲート絶縁膜22上において半導
体層21を介して表示電極15及びソースバス1
9とそれぞれ一部重なつてゲート電極23が形成
される。ゲート電極23の一端はゲートバス18
に接続される。このようにしてゲート電極23と
それぞれ対向した表示電極15、ソースバス19
はそれぞれドレイン電極15a、ソース電極19
aを構成し、これら電極15a,19a、半導体
層21、ゲート絶縁膜22、ゲート電極23によ
つて薄膜トランジスタ16が構成される。ゲート
電極23及びゲートバス18が同時に形成され、
例えばアルミニウムによつて構成される。 The thin film transistor 16 has conventionally been constructed as shown in FIGS. 9 and 10, for example. That is, a display electrode 15 and a source bus 19 are formed on a transparent substrate 11 using a transparent conductive film such as ITO, and an amorphous silicon film is formed across parallel adjacent portions of the display electrode 15 and source bus 19. A semiconductor layer 21 is formed, and a gate insulating film 22 made of silicon nitride or the like is further formed thereon. On this gate insulating film 22, the display electrode 15 and the source bus 1 are connected via the semiconductor layer 21.
A gate electrode 23 is formed to partially overlap with each other. One end of the gate electrode 23 is connected to the gate bus 18
connected to. In this way, the display electrode 15 and the source bus 19 respectively facing the gate electrode 23
are the drain electrode 15a and the source electrode 19, respectively.
The electrodes 15a, 19a, the semiconductor layer 21, the gate insulating film 22, and the gate electrode 23 constitute the thin film transistor 16. Gate electrode 23 and gate bus 18 are formed simultaneously,
For example, it is made of aluminum.
「発明が解決しようとする問題点」
この従来の液晶表示素子において、各薄膜トラ
ンジスタ16のゲート電極23とドレイン電極1
5a及びソース電極19aとの間にそれぞれ静電
(寄生)容量Cgd及びCsgが存在している、またこ
れらゲート電極23とドレイン電極15a、ソー
ス電極19aとの各対向部分間における半導体層
21の面積により抵抗値が変化する寄生抵抗Rs
がある。これら静電容量Cgd、Csg、寄生抵抗Rsは
薄膜トランジスタ16の特性に大きく影響を与え
るが、ゲート電極23を作る際にその位置が僅か
ずれると、静電容量Cgdなどが直接変化し、この
ため薄膜トランジスタ16の特性にバラつきが生
じる。例えばこれら電極の重なる部分の幅の設計
値を3ミクロンとした場合に、そのチヤネル幅を
wとすると設計値通りならば静電容量Cgd、Csgは
それぞれ3倍のwに比例したものであるが、1ミ
クロンだけゲート電極23がソース電極19a側
にずれると、Cgd及びCsgはそれぞれ2倍のw、及
び4倍のwに比例したものとなり、ゲート電極2
3がソース電極19a側に2ミクロンずれると、
Cgd、Csgはそれぞれ5倍のw、1倍のwに比例し
たものとなる。従つてゲート電極23のずれは薄
膜トランジスタ16の特性に大きな影響を与え
る。液晶表示素子において薄膜トランジスタ16
の特性にバラつきが生じると表示むらが発生す
る。"Problems to be Solved by the Invention" In this conventional liquid crystal display element, the gate electrode 23 and the drain electrode 1 of each thin film transistor 16 are
Electrostatic (parasitic) capacitances C gd and C sg exist between the gate electrode 23 and the drain electrode 15a and the source electrode 19a, respectively. Parasitic resistance R s whose resistance value changes depending on the area of
There is. These capacitances C gd , C sg , and parasitic resistance R s greatly affect the characteristics of the thin film transistor 16, but if the position of the gate electrode 23 is slightly shifted when forming the gate electrode 23, the capacitance C gd etc. will directly change. Therefore, variations occur in the characteristics of the thin film transistor 16. For example, if the design value of the width of the overlapping part of these electrodes is 3 microns, and the channel width is w, then if the design value is followed, the capacitances C gd and C sg are each proportional to 3 times w. However, if the gate electrode 23 is shifted by 1 micron toward the source electrode 19a, C gd and C sg become proportional to twice w and four times w, respectively, and the gate electrode 23
3 is shifted 2 microns toward the source electrode 19a side,
C gd and C sg are proportional to 5 times w and 1 times w, respectively. Therefore, the misalignment of the gate electrode 23 has a large effect on the characteristics of the thin film transistor 16. Thin film transistor 16 in liquid crystal display element
If there are variations in the characteristics, display unevenness will occur.
従つてこの発明の目的は薄膜トランジスタの特
性が均一な液晶表示素子を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display element in which thin film transistors have uniform characteristics.
「問題点を解決するための手段」
この発明によれば、液晶セルを構成する一方の
透明基板の内面に方形状表示電極がマトリクス状
に形成され、その表示電極の各列配列の両側にそ
れぞれ沿つたソースバスが形成され、その表示電
極の各行配列にそれぞれ沿つたゲートバスが形成
され、各表示電極の一側とこれに近いソースバス
の一方との間において、その表示電極の一側にド
レイン電極が、そのソースバスにソース電極が、
そのゲートバスにゲート電極がそれぞれ接続され
た第1の薄膜トランジスタがそれぞれ形成され、
各表示電極の上記一側の反対側とこれに近いソー
スバスの他方との間において、その表示電極の一
側にドレイン電極が、そのソースバスにソース電
極が、そのゲートバスにゲート電極がそれぞれ接
続された第2の薄膜トランジスタがそれぞれ形成
され、第2の薄膜トランジスタは第1の薄膜トラ
ンジスタと寸法形状及び特性が同一であり、かつ
各チヤネル幅は、1つの素子電極に1つの薄膜ト
ランジスタのみを接続した場合におけるその薄膜
トランジスタに許容される最大チヤネル幅のほヾ
2分の1とされ、上記両側のソースバスの両端は
互いに接続されている。このように表示電極の両
側の位置に薄膜トランジスタが設けられているた
めマスクずれが生じても、一方の薄膜トランジス
タの一つの静電容量が減少すると、他方の薄膜ト
ランジスタの対応する静電容量が増加するため、
全体としては同一の静電容量、つまり設計通りの
ものとなる。``Means for Solving the Problems'' According to the present invention, rectangular display electrodes are formed in a matrix on the inner surface of one transparent substrate constituting a liquid crystal cell, and each row of display electrodes is arranged on both sides thereof. A source bus is formed along each row of display electrodes, a gate bus is formed along each row of display electrodes, and between one side of each display electrode and one of the adjacent source buses, a gate bus is formed along one side of each display electrode. The drain electrode is connected to the source bus, and the source electrode is connected to the source bus.
first thin film transistors each having a gate electrode connected to the gate bus;
Between the opposite side of the one side of each display electrode and the other side of the source bus close to it, a drain electrode is placed on one side of the display electrode, a source electrode is placed on the source bus, and a gate electrode is placed on the gate bus. connected second thin film transistors are respectively formed, the second thin film transistors are the same in size, shape and characteristics as the first thin film transistors, and each channel width is set to the same width as when only one thin film transistor is connected to one element electrode. The maximum channel width allowed for the thin film transistor is approximately one-half, and both ends of the source buses on both sides are connected to each other. Since thin film transistors are provided on both sides of the display electrode in this way, even if mask misalignment occurs, when the capacitance of one thin film transistor decreases, the corresponding capacitance of the other thin film transistor increases. ,
The overall capacitance is the same, that is, as designed.
このように両薄膜トランジスタを互に並列に接
続するが、そのためにソースバスを各表示電極の
両側にそれぞれ設け、その両ソースバスをループ
状に接続すれば、ソースバスの一方の断線が発生
しても使用可能であり、それだけ欠陥の発生率が
低くなる。 In this way, both thin film transistors are connected in parallel, but if source buses are provided on both sides of each display electrode and both source buses are connected in a loop, one of the source buses can be disconnected. can also be used, and the incidence of defects will be lower accordingly.
「実施例」
第1図はこの発明による液晶表示素子の一例を
略線的に示すものであり、その表示電極15はマ
トリクス状に配列され、第8図、第9図の場合と
同様に表示電極15の各列と対応して一方の側に
おいてソースバス19aがそれぞれ形成されてお
り、そのソースバス19aとその列の表示電極1
5とは薄膜トランジスタ16でそれぞれ接続され
る。この実施例においてはそれぞれ表示電極15
について薄膜トランジスタ16が接続された側と
反対側に、図において左側に薄膜トランジスタ2
5がそれぞれ表示電極15に接続される。その薄
膜トランジスタ25は各表示電極15の配列ごと
に対応するものがそれぞれソースバス26にその
ソース電極が接続され、表示電極15の列配列ご
とにその対応する一対のソースバス19,26の
両端が互に接続され、つまりループ状に接続され
る。また図に示してないが薄膜トランジスタ25
のゲート電極はその表示電極15と接続された薄
膜トランジスタ16のゲート電極が接続されたゲ
ートバス18に接続される。従つて各表示電極に
ついてその両薄膜トランジスタ16,25は互に
並列に接続される。"Embodiment" FIG. 1 schematically shows an example of a liquid crystal display element according to the present invention, in which display electrodes 15 are arranged in a matrix, and display is performed in the same manner as in FIGS. 8 and 9. A source bus 19a is formed on one side corresponding to each column of electrodes 15, and the source bus 19a and the display electrode 1 of that column
5 are connected to each other through thin film transistors 16. In this embodiment, each display electrode 15
On the side opposite to the side to which the thin film transistor 16 is connected, there is a thin film transistor 2 on the left side in the figure.
5 are connected to display electrodes 15, respectively. The thin film transistors 25 have their source electrodes connected to the source buses 26 corresponding to each array of display electrodes 15, and both ends of the corresponding pair of source buses 19, 26 are mutually connected for each column array of display electrodes 15. In other words, it is connected in a loop. Although not shown in the figure, the thin film transistor 25
The gate electrode of the display electrode 15 is connected to a gate bus 18 to which the gate electrode of the thin film transistor 16 connected to the display electrode 15 is connected. Therefore, for each display electrode, both thin film transistors 16, 25 are connected in parallel.
第2図、第3図に第7図、第9図、第10図と
対応する部分に同一符号を付けて示すように、各
表示電極15のソースバス19と反対側において
ソースバス26が形成され、そのソースバス26
と表示電極15との間にアモルフアスシリコンの
ような半導体層27が形成され、更に半導体層2
7上にゲート絶縁膜22が形成され、その上にゲ
ート電極28が形成されて薄膜トランジスタ25
が構成される。ゲート電極28はゲートバス18
に接続される。 As shown in FIGS. 2 and 3 by assigning the same reference numerals to parts corresponding to those in FIGS. 7, 9, and 10, a source bus 26 is formed on the side opposite to the source bus 19 of each display electrode 15. and its source bus 26
A semiconductor layer 27 such as amorphous silicon is formed between the display electrode 15 and the semiconductor layer 2
A gate insulating film 22 is formed on the thin film transistor 25 , and a gate electrode 28 is formed on the gate insulating film 22 .
is configured. The gate electrode 28 is connected to the gate bus 18
connected to.
この構成の薄膜トランジスタ25においても第
4図に示すようにゲート電極28と表示電極15
との重なり部分、つまりドレイン電極15bとの
間に静電容量Cgd2が、またソースバス26との重
なる部分、つまりソース電極26aとの間に静電
容量Csg2がそれぞれ存在している。しかしこのよ
うに一つの表示電極15の両側に二つの薄膜トラ
ンジスタ16,25がそれぞれ形成されており、
しかもこれらは互いに並列に接続されているた
め、ゲート電極23と表示電極15、ソースバス
19との静電容量をCgd1、Csg1とすると、静電容
量Cgd1とCgd2、またCsg1とCsg2はそれぞれ並列に
接続される。 In the thin film transistor 25 having this structure, as shown in FIG.
A capacitance C gd2 exists between the overlapping portion with the source bus 26, that is, the drain electrode 15b, and a capacitance C sg2 exists between the overlapping portion with the source bus 26, that is, the source electrode 26a. However, in this way, two thin film transistors 16 and 25 are formed on both sides of one display electrode 15, respectively.
Moreover, since these are connected in parallel to each other, if the capacitances of the gate electrode 23, display electrode 15, and source bus 19 are C gd1 and C sg1 , the capacitances C gd1 and C gd2 , and C sg1 and C sg2 are each connected in parallel.
従つていまゲート電極23,28が設計通りの
重なりとなつた時の静電容量Cgd1+Cgd2、Csg1+
Csg2がそれぞれ3倍のwであるとする。つまり各
ゲート電極とドレイン電極、ソース電極との重な
りの幅が各3ミクロン、チヤネル幅をw/2とす
る。この時例えば第2図、第3図、第4図におい
てゲート電極23が図において右側にずれる場合
はゲート電極23と薄膜トランジスタ25のゲー
ト電極28とは同一マスクによつて作られるた
め、ゲート電極28も右側へ同一量ずれ、このた
め薄膜トランジスタ16のソースゲート間の静電
容量Csg1が増加するが、その増加量と同量だけ薄
膜トランジスタ25のソースゲート間の静電容量
Csg2が減少し、両薄膜トランジスタ16,25の
ソースゲート間容量は3倍のwとなつて設計値と
変りない。このことは薄膜トランジスタ16のゲ
ートドレイン間の静電容量Cgd1と薄膜トランジス
タ25のゲートドレイン間の静電容量Cgd2との間
においても同様であり、一方が増加すると他方が
減少してその和は常に一定である。このためマス
クずれがあつても常に設計通りの静電容量とな
る。従つて液晶表示素子の表示面の各部における
ゲート電極の形成時のマスクずれが一様にならな
い場合でも各薄膜トランジスタの特性の等しいも
のが得られる。寄生抵抗Rsについても薄膜トラ
ンジスタ16側が増加すれば薄膜トランジスタ2
5側が減少し、常にその和が一定となる。 Therefore, the capacitances when the gate electrodes 23 and 28 overlap as designed are C gd1 + C gd2 , C sg1 +
Assume that C sg2 are each 3 times w. That is, the width of the overlap between each gate electrode, drain electrode, and source electrode is 3 microns, and the channel width is w/2. At this time, for example, in FIGS. 2, 3, and 4, if the gate electrode 23 is shifted to the right in the figure, the gate electrode 23 and the gate electrode 28 of the thin film transistor 25 are made by the same mask, so the gate electrode 23 shifts to the right by the same amount, and as a result, the source-to-gate capacitance C sg1 of the thin film transistor 16 increases, but the source-to-gate capacitance of the thin film transistor 25 increases by the same amount as this increase.
C sg2 decreases, and the source-gate capacitance of both thin film transistors 16 and 25 becomes three times w, which is the same as the design value. This is also true between the gate-drain capacitance C gd1 of the thin film transistor 16 and the gate-drain capacitance C gd2 of the thin film transistor 25; when one increases, the other decreases, and their sum is always equal to constant. Therefore, even if there is mask displacement, the capacitance will always be as designed. Therefore, even if the mask shift during formation of the gate electrode in each part of the display surface of the liquid crystal display element is not uniform, the characteristics of each thin film transistor can be made equal. If the parasitic resistance R s increases on the thin film transistor 16 side, then the thin film transistor 2
5 side decreases and the sum is always constant.
第5図に示すように各表示電極の行配列と平行
してゲートバス18と反対側に各表示電極15に
対してゲートバス31を設け、薄膜トランジスタ
16のゲート電極23をゲートバス31に接続
し、薄膜トランジスタ25のゲート電極28をゲ
ートバス18に接続するようにし、各行配列と対
応するゲートバス18,31はその両端で互に接
続してループ状にする。このようにして表示電極
15の両側に薄膜トランジスタ16,25をそれ
ぞれ設けると共にソースバス19,26と同様に
ゲートバス18,31も2本をループ状に接続す
ることによつて断線に対して強くすることができ
る。 As shown in FIG. 5, a gate bus 31 is provided for each display electrode 15 on the opposite side of the gate bus 18 in parallel with the row arrangement of each display electrode, and the gate electrode 23 of the thin film transistor 16 is connected to the gate bus 31. , the gate electrodes 28 of the thin film transistors 25 are connected to the gate bus 18, and the gate buses 18 and 31 corresponding to each row array are connected to each other at both ends to form a loop. In this way, the thin film transistors 16 and 25 are provided on both sides of the display electrode 15, and the gate buses 18 and 31 are also connected in a loop like the source buses 19 and 26, thereby making them strong against disconnection. be able to.
更に第6図に示すように各表示電極15に対し
てソースバス19,26を設けると共に、これら
ソースバス19,26間を接続する接続線33を
設け、表示電極15の両側においてこのソースバ
ス接続線33と表示電極15との間にそれぞれ薄
膜トランジスタ16,25を形成してもよい。こ
の場合は列方向において隣接している表示電極間
の二つの薄膜トランジスタ16,25について半
導体層21を共通に形成することができる。つま
りこの例では各表示電極15の列配列ごとにその
隣接表示電極間でソースバス19,26を接続線
33で連結接続し、つまりソースバスを梯子形に
形成し、その梯子の段に対応したところで、つま
り接続線33で表示電極の両側に薄膜トランジス
タ16,25を形成している。これにより開口率
を損うことなく薄膜トランジスタを2個設けるこ
とができ、しかもソースバスは複数個所で断線し
ても欠陥となり難く、またゲートバスも1本が切
断しても欠陥とはならない。 Further, as shown in FIG. 6, source buses 19 and 26 are provided for each display electrode 15, and a connection line 33 is provided to connect these source buses 19 and 26, and this source bus connection is provided on both sides of the display electrode 15. Thin film transistors 16 and 25 may be formed between the line 33 and the display electrode 15, respectively. In this case, the semiconductor layer 21 can be formed in common for the two thin film transistors 16 and 25 between display electrodes adjacent in the column direction. In other words, in this example, the source buses 19 and 26 are connected by the connection line 33 between the adjacent display electrodes for each column arrangement of each display electrode 15, that is, the source buses are formed in the shape of a ladder, and the source buses 19 and 26 are connected to each other by the connection line 33, and the source buses 19 and 26 are connected to each other by the connection line 33. By the way, the thin film transistors 16 and 25 are formed on both sides of the display electrode by the connection line 33. As a result, two thin film transistors can be provided without impairing the aperture ratio, and even if the source bus is disconnected at multiple locations, it is unlikely to become a defect, and even if one gate bus is disconnected, it will not be a defect.
しかしこのようにソースバスを梯子形に構成す
る第6図においてソースバス26を省略しても、
マスク合せのずれに対する影響がなく、均一な特
性の薄膜トランジスタを得ることができる。更に
このように一つの表示電極15に対してその両側
に二つの薄膜トランジスタを接続し、これらを同
時に制御する構成としたが、更にその表示電極の
一つの対向線のみならず二つの対向線について薄
膜トランジスタをそれぞれ形成し、つまり四つの
薄膜トランジスタを形成してこれら四つを同時に
制御するように構成してもよい。また上述におい
ては薄膜トランジスタが形成された透明基板11
に対して半導体層やゲート絶縁膜を形成した上に
ゲート電極を形成したが、逆に透明基板側にゲー
ト電極を形成し、その上にゲート絶縁膜を形成
し、更に半導体層を形成し、その上にソース電
極、ドレイン電極を形成するようにした薄膜トラ
ンジスタにもこの発明を適用することができる。
また上述の例では白黒表示に適用したが、カラー
表示にもこの発明を適用することが可能である。
表示電極15としては画素電極のみならず、棒状
セグメントの表示電極を7本用いて8字状に配置
し、数字を選択表示するなど、他の形状の表示電
極としてもよい。 However, even if the source bus 26 is omitted in FIG. 6 where the source bus is configured in a ladder shape,
A thin film transistor with uniform characteristics can be obtained without being affected by misalignment of masks. Furthermore, in this configuration, two thin film transistors are connected to both sides of one display electrode 15 and these are controlled simultaneously, but in addition, thin film transistors are connected not only to one opposing line of the display electrode but also to two opposing lines. In other words, four thin film transistors may be formed and these four may be controlled simultaneously. Further, in the above description, the transparent substrate 11 on which the thin film transistor is formed
In contrast, a semiconductor layer and a gate insulating film were formed and then a gate electrode was formed, but conversely, a gate electrode was formed on the transparent substrate side, a gate insulating film was formed thereon, and then a semiconductor layer was formed. The present invention can also be applied to a thin film transistor in which a source electrode and a drain electrode are formed thereon.
Furthermore, although the above example is applied to black and white display, the present invention can also be applied to color display.
The display electrode 15 is not limited to a pixel electrode, but may be a display electrode of other shapes, such as a display electrode of seven rod-shaped segments arranged in a figure eight shape to selectively display numbers.
「発明の効果」
以上述べたようにこの発明の液晶表示素子によ
ればその製造時におけるマスクずれなどに拘らず
各部の薄膜トランジスタとして同一特性のものを
容易に得ることができ、その寄生容量Cgd、Csgや
寄生抵抗Rsのかたよりが複数の薄膜トランジス
タが接続されているため互に相殺されて1表示電
極当りの綜合的な薄膜トランジスタの特性のバラ
つきは極めて少なくなり、それだけ表示むらが軽
減される。"Effects of the Invention" As described above, according to the liquid crystal display element of the present invention, it is possible to easily obtain thin film transistors with the same characteristics in each part regardless of mask misalignment during manufacturing, and the parasitic capacitance C gd , C sg and parasitic resistance R s are canceled out by each other because multiple thin film transistors are connected, and variations in the overall characteristics of thin film transistors per display electrode are extremely reduced, and display unevenness is reduced accordingly. .
更にこのような幾何学的ずれがあつても寄生容
量などが一方的に増減しないため、薄膜トランジ
スタの設計時に、チヤネル幅wを限度まで大きく
することができ、同時に薄膜トランジスタの注入
電荷能力も設計値に近い特性のものを得ることが
できる。 Furthermore, even if there is such a geometrical deviation, the parasitic capacitance does not increase or decrease unilaterally, so when designing a thin film transistor, the channel width w can be increased to the maximum limit, and at the same time, the injection charge capacity of the thin film transistor can be kept at the design value. You can obtain products with similar characteristics.
更に上述したようにソースバスを各表示電極当
り2本設けてこれをその両端で互に接続し、ルー
プ状とする場合はその1個所が断線しても液晶表
示素子が障害となるおそれはなく、それだけ欠陥
の発生率の少ない歩留まりの高いものとなる。同
様にしてゲートバスも各表示電極に対して2本設
けてその両端を互に接続した構成とすると、ゲー
トバスの1個所の断線によつては欠陥とならな
い。 Furthermore, as mentioned above, if two source buses are provided for each display electrode and connected to each other at both ends to form a loop, there is no risk of the liquid crystal display element becoming a problem even if one of the source buses is disconnected. This results in a higher yield with a lower defect occurrence rate. Similarly, if two gate buses are provided for each display electrode and their ends are connected to each other, a disconnection of one gate bus will not cause a defect.
第1図はこの発明による液晶表示素子の概略を
示す図、第2図はその薄膜トランジスタ及び表示
電極の配列の一部を示す平面図、第3図は第2図
のAA線断面図、第4図は薄膜トランジスタ1
6,25の寄生容量を示す図、第5図はこの発明
の液晶表示素子の他の例を示す第2図と対応した
平面図、第6図はこの発明の液晶表示素子の更に
他の例を示す第2図と対応した平面図、第7図は
マトリクス液晶表示素子の一般的構成の一部断面
図、第8図はマトリクス液晶表示素子の電気的等
価回路図、第9図は従来のマトリクス液晶表示素
子の表示電極、薄膜トランジスタの配列の一部を
示す平面図、第10図は第8図のBB線断面図で
ある。
11,12:透明基板、14:液晶、15:表
示電極、16,25:薄膜トランジスタ、18,
31:ゲートバス、19,26:ソースバス。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a liquid crystal display element according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing a part of the arrangement of thin film transistors and display electrodes, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2, and FIG. The figure shows thin film transistor 1
6 and 25, FIG. 5 is a plan view corresponding to FIG. 2 showing another example of the liquid crystal display element of the present invention, and FIG. 6 is still another example of the liquid crystal display element of the present invention. FIG. 7 is a partial cross-sectional view of the general structure of a matrix liquid crystal display element, FIG. 8 is an electrical equivalent circuit diagram of a matrix liquid crystal display element, and FIG. 9 is a diagram of a conventional matrix liquid crystal display element. FIG. 10 is a plan view showing part of the arrangement of display electrodes and thin film transistors of a matrix liquid crystal display element, and FIG. 10 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 8. 11, 12: transparent substrate, 14: liquid crystal, 15: display electrode, 16, 25: thin film transistor, 18,
31: Gate bus, 19, 26: Source bus.
Claims (1)
ら透明基板間に液晶が封入され、上記一方の透明
基板の内面に方形状表示電極がマトリクス状に形
成され、その表示電極の各列配列の両側にそれぞ
れ沿つたソースバスが形成され、上記表示電極の
各行配列にそれぞれ沿つたゲートバスが形成さ
れ、上記各表示電極の一側とこれに近いソースバ
スの一方との間において、その表示電極の一側に
ドレイン電極が、そのソースバスにソース電極
が、そのゲートバスにゲート電極がそれぞれ接続
された第1の薄膜トランジスタがそれぞれ形成さ
れ、第1の薄膜トランジスタを選択的にスイツチ
ング制御して表示電極を選択的に表示する液晶表
示素子において、 上記各表示電極の上記一側の反対側とこれに近
いソースバスの他方との間において、その表示電
極の一側にドレイン電極が、そのソースバスにソ
ース電極が、そのゲートバスにゲート電極がそれ
ぞれ接続された第2の薄膜トランジスタがそれぞ
れ形成され、 上記第2の薄膜トランジスタは上記第1の薄膜
トランジスタと寸法形状及び特性が同一であり、
かつその各チヤネル幅は、1つの表示電極に1つ
の薄膜トランジスタのみを接続した場合における
その薄膜トランジスタに許容される最大チヤネル
幅のほヾ2分の1とされ、 上記両側のソースバスの両端は互いに接続され
ていることを特徴とする液晶表示素子。[Claims] 1. Two transparent substrates are disposed close to each other, liquid crystal is sealed between these transparent substrates, and rectangular display electrodes are formed in a matrix on the inner surface of one of the transparent substrates. A source bus is formed along both sides of each column arrangement of display electrodes, a gate bus is formed along each row arrangement of display electrodes, and one side of each display electrode and one side of the source bus near this are formed. A first thin film transistor having a drain electrode connected to one side of the display electrode, a source electrode connected to the source bus, and a gate electrode connected to the gate bus is formed between the first thin film transistor and the first thin film transistor. In a liquid crystal display element in which display electrodes are selectively displayed by switching control, a drain is connected to one side of each display electrode between the opposite side of the one side of each display electrode and the other side of the source bus close to this side. A second thin film transistor is formed in which an electrode is connected to the source bus, a source electrode is connected to the source bus, and a gate electrode is connected to the gate bus, and the second thin film transistor has the same dimensions, shape, and characteristics as the first thin film transistor. can be,
and the width of each channel is approximately half of the maximum channel width allowed for a thin film transistor when only one thin film transistor is connected to one display electrode, and both ends of the source buses on both sides are connected to each other. A liquid crystal display element characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60074886A JPS61232483A (en) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | Liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60074886A JPS61232483A (en) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | Liquid crystal display element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61232483A JPS61232483A (en) | 1986-10-16 |
| JPH0543115B2 true JPH0543115B2 (en) | 1993-06-30 |
Family
ID=13560294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60074886A Granted JPS61232483A (en) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | Liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61232483A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5151632A (en) * | 1991-03-22 | 1992-09-29 | General Motors Corporation | Flat panel emissive display with redundant circuit |
| JP3255942B2 (en) | 1991-06-19 | 2002-02-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Method for manufacturing inverted staggered thin film transistor |
| TWI291072B (en) * | 2001-09-28 | 2007-12-11 | Sanyo Electric Co | Liquid crystal display unit |
| US6862052B2 (en) * | 2001-12-14 | 2005-03-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display, thin film transistor array panel for liquid crystal display and manufacturing method thereof |
| JP2004126121A (en) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Pioneer Electronic Corp | Organic EL display |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5898775A (en) * | 1981-12-09 | 1983-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | Liquid crystal display body unit |
-
1985
- 1985-04-08 JP JP60074886A patent/JPS61232483A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61232483A (en) | 1986-10-16 |
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