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JPH0543989B2 - - Google Patents
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JPH0543989B2 - - Google Patents

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JPH0543989B2
JPH0543989B2 JP28679388A JP28679388A JPH0543989B2 JP H0543989 B2 JPH0543989 B2 JP H0543989B2 JP 28679388 A JP28679388 A JP 28679388A JP 28679388 A JP28679388 A JP 28679388A JP H0543989 B2 JPH0543989 B2 JP H0543989B2
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JP
Japan
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current
electrode
signal
steel plate
flaw detection
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Hideo Fujita
Mamoru Kamya
Tsutomu Sakimoto
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Nippon Steel Corp
Nittetsu Densetsu Kogyo KK
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Nittetsu Densetsu Kogyo KK
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気メツキ中に両極がシヨートする
ことにより発生するシヨート疵の検出を行うため
のシヨート疵検出装置、特に鋼板の表面に連続的
に亜鉛メツキ、合金メツキ等の電気メツキ処理を
行う電気メツキラインに適したシヨート疵検出装
置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a shot flaw detection device for detecting shot flaws that occur due to the shooting of both poles during electroplating, and in particular to a shot flaw detection device that continuously forms the surface of a steel plate. The present invention relates to a shoot flaw detection device suitable for electroplating lines that perform electroplating processes such as zinc plating and alloy plating.

近年、電気メツキラインにおける省エネ技術と
して種々の開発がなされ、電極と鋼板との極間距
離の短縮化が進む中で、電極と鋼板が接触するこ
とにより発生するシヨート疵の問題がより重大な
問題をなつてきている。本発明はそのようなシヨ
ート疵の発生を自動的に検知するシヨート疵検出
装置について言及する。
In recent years, various energy-saving technologies have been developed for electric plating lines, and as the distance between the electrode and the steel plate continues to shorten, the problem of shot flaws caused by contact between the electrode and the steel plate has become a more serious problem. I'm getting used to it. The present invention refers to a shoot flaw detection device that automatically detects the occurrence of such shoot flaws.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第6図は代表的な電気亜鉛メツキラインを表す
図である。
FIG. 6 is a diagram showing a typical electrogalvanizing line.

メツキ前の鋼板10は図の左側より連続的に供
給され、通電ロール12とバツクアツプロール1
6に狭まれ多数のセルを経て図の右方向へ送られ
る。上部電極141及び下部電極142は鋼板1
0の両面にメツキ層を形成すべく鋼板の10の上
下に配置されている。交流電源(単相又は3相)
162の一端は各セルの通電ロール12に接続さ
れ他端は各メツキ槽の上下電極141,142毎
に設けられる整流回路161を経て各セルの上下
電極141,142にそれぞれ接続されている。
亜鉛イオンを含んだメツキ液については図示され
ていないが、上下電極141,142付近から鋼
板10の表面へ向けて噴流され、ポンプで循環さ
れる。
The steel plate 10 before plating is continuously supplied from the left side of the figure, and is connected to an energizing roll 12 and a back-up roll 1.
6, and is sent to the right in the figure through a large number of cells. The upper electrode 141 and the lower electrode 142 are made of steel plate 1
They are placed above and below the steel plate 10 to form a plating layer on both sides of the steel plate. AC power supply (single phase or 3 phase)
One end of the plating tank 162 is connected to the energizing roll 12 of each cell, and the other end is connected to the upper and lower electrodes 141, 142 of each cell via a rectifier circuit 161 provided for each upper and lower electrode 141, 142 of each plating tank.
Although the plating solution containing zinc ions is not shown, it is jetted toward the surface of the steel plate 10 from the vicinity of the upper and lower electrodes 141 and 142, and is circulated by a pump.

このような構成により、図の左方向から連続的
に供給される鋼板10の上下面には析出した亜鉛
の層が形成され、図の右側へいく程メツキ層の厚
みが増大していく。
With such a configuration, a layer of precipitated zinc is formed on the upper and lower surfaces of the steel sheet 10 that is continuously supplied from the left side of the figure, and the thickness of the plating layer increases as it goes to the right side of the figure.

一般に、電気メツキラインで消費される電力に
は、メツキ反応そのものに消費される電力以外に
も電極141,142と鋼板10との間の電気抵
抗によるジユール熱として消費される電力がかな
りの割合を占めている。これを減少するためには
電極と鋼板との間の距離を極力小さくして電気抵
抗を減らすのが最良の手段であるので、前述した
ように、この距離を短縮するための技術が種々開
発され、最近では8〜12mm程度になつてきてい
る。
In general, in addition to the power consumed in the plating reaction itself, a considerable proportion of the power consumed in an electric plating line is consumed as heat generated by electric resistance between the electrodes 141, 142 and the steel plate 10. ing. The best way to reduce this is to reduce the electrical resistance by minimizing the distance between the electrode and the steel plate, so as mentioned above, various techniques have been developed to shorten this distance. , recently it has become about 8 to 12 mm.

そのため、上下電極141,142側からのメ
ツキ液噴流の圧力のバランスが悪い等の理由で鋼
板10が上下にハンチングしたり、あるいは、鋼
板と鋼板をつなぐ溶接部分の形状が不良である等
の理由で電極と鋼板とのシヨートが発生する頻度
は年々増加する傾向にある。電極と鋼板とがシヨ
ートすると一時的に大量の電流が流れ、接触個所
が溶融して鋼板の表面にシヨート疵が発生する。
このシヨート疵には、単発的に発生するもの、鋼
板のハンチングにより連続的に発生するものがあ
り、結果、金属の破片がローラ12,16に付着
したために周期的に発生する押疵等がある。この
ようなシヨート疵の発生を検出する手段として
は、従来ではメツキ後の製品を目視で検査する以
外にはなかつた。
Therefore, the steel plate 10 may hunt vertically due to an imbalance in the pressure of the plating liquid jets from the upper and lower electrodes 141 and 142, or the shape of the welded part connecting the steel plates is defective. The frequency of occurrence of shortening between the electrode and the steel plate tends to increase year by year. When the electrode and the steel plate shoot, a large amount of current temporarily flows, melting the contact area and causing shot flaws on the surface of the steel plate.
These shot flaws include those that occur singly and those that occur continuously due to hunting of the steel plate, and as a result, there are cracks that occur periodically due to metal fragments adhering to the rollers 12 and 16. . Conventionally, the only way to detect the occurrence of such shoot defects was to visually inspect the plated product.

〔発明が解決しようとする課題〕 目視による検査では発見が遅れがちになるばか
りか、シヨート疵の原因になつたセルを見付け出
すことが困難である。そのため、シヨート疵のつ
いた製品が大量に出てしまい、歩留りが大幅に低
下するという問題があつた。
[Problems to be Solved by the Invention] Visual inspection not only tends to delay discovery, but also makes it difficult to find the cells that are the cause of shot defects. As a result, a large amount of products with shot defects are produced, resulting in a problem that the yield is significantly reduced.

したがつて本発明の目的は、電気メツキライン
におけるシヨート疵の発生をいち速く検出し、そ
して原因となつたメツキセルがいずれであるかも
直ちに判明するシヨート疵検出装置を提案するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to propose a shoot flaw detection device that can quickly detect the occurrence of shoot flaws in an electric plating line and immediately identify which plating cell is the cause.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

第1図は本発明の電気メツキラインにおけるシ
ヨート疵検出装置の原理図である。図において、
鋼板10の表面に電気メツキ処理を施すための電
気メツキラインは、直流電流源16の一方の極に
接続された電極14と他方の極に接続され鋼板1
0に接触する通電ロール12とを具備している。
FIG. 1 is a diagram showing the principle of a shot flaw detection device in an electroplating line according to the present invention. In the figure,
An electroplating line for electroplating the surface of the steel plate 10 has an electrode 14 connected to one pole of the DC current source 16 and an electrode 14 connected to the other pole of the steel plate 1.
0, and an energizing roll 12 that contacts 0.

本発明のシヨート疵検出装置の特徴は、電極1
4と通電ロール12との間に流れる電流の量を検
出し、電流の量に応じた信号を出力する変流器、
シヤント等の電流検出手段50と、信号を微分し
て微分値を出力する微分手段52と、微分値が所
定の範囲内にあるか否かを判定する比較手段54
と、比較手段54の比較結果を保持してシヨート
疵検出信号を出力する状態保持手段56とを具備
する点にある。
The feature of the shot flaw detection device of the present invention is that the electrode 1
a current transformer that detects the amount of current flowing between 4 and the current-carrying roll 12 and outputs a signal according to the amount of current;
A current detecting means 50 such as a shunt, a differentiating means 52 that differentiates a signal and outputs a differential value, and a comparing means 54 that determines whether the differential value is within a predetermined range.
and a state holding means 56 for holding the comparison result of the comparing means 54 and outputting a shot flaw detection signal.

〔作 用〕[Effect]

シヨート疵が発生する時には流れる電流が急激
に変化する。この電流を電流検出手段50で検出
し、微分手段52で微分し、比較手段54で所定
の値と比較すればこの急激な変化を検知すること
ができ、この状態を状態保持手段56で保持すれ
ばシヨート疵が発生したことを表すシヨート疵検
出信号が得られる。このシヨート疵検出装置を各
セルの各電極に電流を供給するライン毎に設けれ
ばシヨート疵の原因となつた個所を直ちに判断す
ることができる。
When a shot flaw occurs, the flowing current changes rapidly. If this current is detected by the current detection means 50, differentiated by the differentiation means 52, and compared with a predetermined value by the comparison means 54, this sudden change can be detected, and this state can be maintained by the state holding means 56. For example, a shoot flaw detection signal indicating that a shoot flaw has occurred is obtained. If this shot flaw detection device is provided for each line that supplies current to each electrode of each cell, the location causing the shoot flaw can be immediately determined.

〔実施例〕〔Example〕

第2図は電流検出手段50(第1図)の一例と
して変流器による場合の取り付け方法を表す図で
あり、変流器501以外は従来のメツキラインに
おける変圧整流回路の構成を表している。本図は
相数に関係なく1本の線で表す単線結線図(スケ
ルトン)で表されている。例えば3300ボルトの三
相交流を三相変圧器163において45ボルトに降
下して大電流(20000アンペア程度)のとり出し
を可能とし、コントローラ(図示せず)から点孤
が制御されるサイリスタ164によつて直流に変
換されて、+側は上または下側の電極に供給され
−側は通電ロールへ供給される。
FIG. 2 is a diagram showing a method of installing a current transformer as an example of the current detection means 50 (FIG. 1), and shows the configuration of a transformer rectifier circuit in a conventional mesh line except for the current transformer 501. This diagram is a single-line diagram (skeleton) that uses one line regardless of the number of phases. For example, a three-phase alternating current of 3,300 volts is reduced to 45 volts in a three-phase transformer 163 to enable a large current (approximately 20,000 amperes) to be taken out, and a thyristor 164 whose ignition is controlled by a controller (not shown) is used. Therefore, it is converted into direct current, and the + side is supplied to the upper or lower electrode, and the - side is supplied to the current-carrying roll.

第2図例において、電流検出のための変流器5
01は三相変圧器163の一次側に挿入される。
この場合、変圧器163の励磁電流までも検出し
てしまうので、その分、検出感度は劣る。
In the example of FIG. 2, a current transformer 5 for current detection
01 is inserted into the primary side of the three-phase transformer 163.
In this case, since even the excitation current of the transformer 163 is detected, the detection sensitivity is correspondingly inferior.

第3図は電流検出手段50(第1図)の第2の
例としてシヤント502による場合を表してい
る。シヤント502以外は第2図と同様である。
FIG. 3 shows a second example of the current detection means 50 (FIG. 1) using a shunt 502. The components other than shunt 502 are the same as in FIG.

第3図の例において、シヤント502による電
流検出はサイリスタ164で直流に変換された後
に行われる。この場合、第2図の例と異なり、変
圧器163の励磁電流の寄与は含まれないので検
出感度が高い。
In the example of FIG. 3, current detection by shunt 502 is performed after being converted to direct current by thyristor 164. In this case, unlike the example shown in FIG. 2, the contribution of the excitation current of the transformer 163 is not included, so the detection sensitivity is high.

第4図は本発明に係るシヨート疵検出装置の一
実施例から第2図または第3図で示された電流検
出手段に相当する部分を除いた回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram in which a portion corresponding to the current detection means shown in FIG. 2 or 3 is removed from an embodiment of the shot flaw detection device according to the present invention.

演算増幅器IC1及びコンデンサC1、抵抗R
1で構成される微分回路は第1図の微分手段52
を実現するものであり、単にCとRで構成される
ハイパスフイルタでも良いが、適切な定数を設定
するのが難しいので、このような演算増幅器を使
用した回路が望ましい。演算増幅器IC2、抵抗
R2,R3、及びダイオードD1で構成される回
路は信号を反転増幅すると共に検出器からの信号
の脈動による影響をダイオードD1で除去するた
めのものである。したがつて、検出器として、第
3図に表されたような変圧器の二次側に設けられ
たシヤントを採用するとすれば、この回路は不要
である。演算増幅器IC3,IC4、抵抗R4〜8、
及びダイオードD2,D3で構成される回路は微
分値の+側及び−側のいずれの側も1つのコンパ
レータで比較することで検出するために、微分値
の絶対値を出力するものである。演算増幅器IC
5で構成される比較器は絶対値回路の出力電圧が
所定の値V0を越えた時、論理“0”信号を出力
する。したがつて、IC3,IC4を中心として構
成される絶対値回路とIC5による比較器とで第
1図の比較手段54が実現される。比較手段54
の構成として、絶対値回路を通さない構成でも良
い。すなわち、所定値V0との比較を行う比較器
と所定値−V0′との比較を行う比較器とを2段設
け、微分値がV0を超えるかあるいは−V0′を下回
る時に論理“0”信号を出力する構成としても良
い。NANDゲートIC6,IC7とで構成されるフ
リツプフロツプは第1図の状態保持手段50を実
現するもので、IC4の出力が一瞬でも“0”と
なるとIC6の片側の入力が“0”となりその出
力には“1”が現れ、入力が“1”に戻つてもそ
の値が保持され、疵検出信号となる。SW1は初
期状態としてIC6の出力を“0”にリセツトす
るためのスイツチである。このようにフリツプフ
ロツプで構成する以外に、状態保持手段50とし
ては、単安定マルチバイブレータで構成して所定
の時間だけ信号を出力する形としても良い。
Operational amplifier IC1, capacitor C1, resistor R
1 is the differentiating means 52 in FIG.
A high-pass filter simply composed of C and R may be used, but since it is difficult to set appropriate constants, a circuit using such an operational amplifier is preferable. A circuit composed of an operational amplifier IC2, resistors R2 and R3, and a diode D1 is used to invert and amplify the signal and to remove the influence of pulsation of the signal from the detector using the diode D1. Therefore, if a shunt provided on the secondary side of a transformer as shown in FIG. 3 is used as a detector, this circuit is unnecessary. Operational amplifier IC3, IC4, resistor R4~8,
The circuit composed of the diodes D2 and D3 outputs the absolute value of the differential value in order to detect both the + side and the - side of the differential value by comparing them with one comparator. operational amplifier ic
5 outputs a logic " 0 " signal when the output voltage of the absolute value circuit exceeds a predetermined value V0. Therefore, the comparison means 54 in FIG. 1 is realized by the absolute value circuit mainly composed of IC3 and IC4 and the comparator formed by IC5. Comparison means 54
As the configuration, a configuration that does not pass the absolute value circuit may be used. That is, two stages of comparators are provided, one for comparison with a predetermined value V 0 and the other for comparison with a predetermined value −V 0 ′, and when the differential value exceeds V 0 or falls below −V 0 ′, the logic It may also be configured to output a "0" signal. A flip-flop composed of NAND gates IC6 and IC7 realizes the state holding means 50 shown in FIG. "1" appears, and even if the input returns to "1", that value is held and becomes a flaw detection signal. SW1 is a switch for resetting the output of IC6 to "0" as an initial state. In addition to being constructed from a flip-flop as described above, the state holding means 50 may be constructed from a monostable multivibrator which outputs a signal only for a predetermined period of time.

第5図は第4図の回路で観測された各部の信号
の波形であつて、第4図の回路の動作結果を表す
ものである。(A)〜(D)欄はそれぞれ第4図中A〜D
点において観測された信号を表している。
FIG. 5 shows waveforms of signals at various parts observed in the circuit shown in FIG. 4, and represents the operation results of the circuit shown in FIG. Columns (A) to (D) are A to D in Figure 4, respectively.
represents the signal observed at a point.

(A)欄の信号は検出器からの信号である。なお、
この信号は第2図のように変圧器の一次側に設け
られた変流器からの信号である。図中Xで表す時
点までは変流器の出力には規制的な脈動があるの
みであるが、X点においてシヨート疵が発生した
ために電流が急激に上昇し、その後、当該セルへ
の通電が停止されるので急激に下がり、0となつ
ている。(B)欄の信号は第4図のIC1の出力であ
るが、(A)欄の信号を微分し、正負を反転した信号
が現れている。(C)欄の信号はIC4の出力である。
(A)欄のXで示す位置に鋭い信号が現れている。(D)
欄の信号はIC6の出力であり、シヨート疵検出
と同時にLレベルからHレベルへ変化し、それが
保持されている。
The signal in column (A) is the signal from the detector. In addition,
This signal is a signal from a current transformer provided on the primary side of the transformer as shown in FIG. Up to the point indicated by Since it is stopped, it rapidly drops to 0. The signal in column (B) is the output of IC1 in FIG. 4, but a signal obtained by differentiating the signal in column (A) and inverting the sign appears. The signal in column (C) is the output of IC4.
A sharp signal appears at the position indicated by the X in column (A). (D)
The signal in the column is the output of IC6, which changes from L level to H level at the same time as shot flaw detection, and is held there.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように本発明によれば、シヨート疵
を発生したセルを早期に発見することが可能とな
り、さらにそれにより、自動的に当該セルへの通
電を停止するかあるいは電極を解放することによ
つてシヨート疵の発生量を最小限に抑えることが
可能になると同時に、電極の劣化あるいはロール
の疵摩耗を最小限に防止することができて、整備
費コスト削減への多大な寄与が期待できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to detect a cell in which a shot defect has occurred at an early stage. As a result, it is possible to minimize the amount of shot defects, and at the same time, it is possible to prevent electrode deterioration and roll scratch wear to a minimum, which is expected to make a significant contribution to reducing maintenance costs. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の原理図、第2図は本発明に係
るシヨート疵検出装置における電流検出手段の第
1の例を表す図、第3図は本発明に係るシヨート
疵検出装置における電流検出手段の第2の例を表
す図、第4図は本発明に係るシヨート疵検出装置
の実施例を表す図、第5図は第4図の回路の動作
を表す図、第6図は代表的な電気メツキラインを
表す図。 図において、10…鋼板、12…通電ロール、
14…電極、50…電流検出手段、54…比較手
段、501…変流器、502…シヤント。
Fig. 1 is a diagram showing the principle of the present invention, Fig. 2 is a diagram showing a first example of current detection means in the shot flaw detection device according to the present invention, and Fig. 3 is a diagram showing current detection in the shoot flaw detection device according to the present invention. FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of the shot flaw detection device according to the present invention; FIG. 5 is a diagram showing the operation of the circuit shown in FIG. 4; FIG. 6 is a typical diagram. This is a diagram showing the electric hook line. In the figure, 10... steel plate, 12... energized roll,
14... Electrode, 50... Current detection means, 54... Comparison means, 501... Current transformer, 502... Shunt.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 鋼板10の表面に電気メツキ処理を施すため
の電気メツキラインであつて、直流電流源16の
一方の極に接続された電極14と、他方の極に接
続され該鋼板10に接触する通電ロール12とを
具備する電気メツキラインにおけるシヨート疵の
発生を検出するシヨート疵検出装置において、 該電極14と該通電ロール12との間に流れる
電流の量を検出し、該電流の量に応じた信号を出
力する電流検出手段50と、 該信号を微分して微分値を出力する微分手段5
2と、 該微分値が所定の範囲内にあるか否かを判定す
る比較手段54と、 該比較手段54の比較結果を保持して疵検出信
号を出力する状態保持手段56とを具備すること
を特徴とする電気メツキラインにおけるシヨート
疵検出装置。
[Claims] 1. An electroplating line for electroplating the surface of a steel plate 10, which includes an electrode 14 connected to one pole of a DC current source 16 and an electrode 14 connected to the other pole of the steel plate 10. A shoot flaw detection device for detecting the occurrence of shoot flaws in an electroplating line that includes an energizing roll 12 in contact with the electrode 14 detects the amount of current flowing between the electrode 14 and the energizing roll 12; current detection means 50 that outputs a signal according to the current value, and differentiation means 5 that differentiates the signal and outputs a differential value.
2, a comparison means 54 for determining whether the differential value is within a predetermined range, and a state holding means 56 for holding the comparison result of the comparison means 54 and outputting a flaw detection signal. A shot flaw detection device in an electric plating line, which is characterized by:
JP28679388A 1988-11-15 1988-11-15 Short-circuit flaw detecting apparatus in electric plating line Granted JPH02134553A (en)

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