JPH0547100B2 - - Google Patents
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- JPH0547100B2 JPH0547100B2 JP60008203A JP820385A JPH0547100B2 JP H0547100 B2 JPH0547100 B2 JP H0547100B2 JP 60008203 A JP60008203 A JP 60008203A JP 820385 A JP820385 A JP 820385A JP H0547100 B2 JPH0547100 B2 JP H0547100B2
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- alignment
- glaze
- glaze layer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
この発明はサーマルプリントヘツドの位置合わ
せ方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application This invention relates to a method for aligning a thermal print head.
(ロ) 従来技術
サーマルプリントヘツドを製造する場合のマス
ク合わせ工程において、一般には基板の主表面上
に形成されるグレーズ層を基準としてその延長方
向のずれおよび直交方向のずれをそれぞれ調整す
るのが望ましい。(B) Prior Art In the mask alignment process when manufacturing a thermal print head, it is generally a practice to adjust the deviation in the extension direction and the deviation in the orthogonal direction using the glaze layer formed on the main surface of the substrate as a reference. desirable.
ここで、従来では前記グレーズ層と直交方向の
ずれは、マスクに設けたアライメントキーと前記
グレーズ層のピツチとに関連して、そのずれを調
整させているので、前記グレーズ層の直交方向の
ずれを±20μ程度に抑えることができる。しかし
ながら、前記グレーズ層の延長方向のずれは、ピ
ンアライメント装置に固設された複数本のピンに
基板の端辺を当接せしめることで該グレーズ層の
ずれを調整している関係上、基板の寸法精度によ
つてそれぞれずれが異なる。また、このような前
記グレーズ層の延長方向のずれは、例えば特開昭
51−140638号公報に示されている半導体ウエハに
一般的に使用される光学マークを適用することも
考えられるが、この光学マークはエツチング技術
によつて形成されるため、本願発明のようなサー
マルプリントヘツドに適用することは不向きでも
あつた。 Here, conventionally, the deviation in the direction perpendicular to the glaze layer is adjusted in relation to the alignment key provided on the mask and the pitch of the glaze layer. can be suppressed to about ±20μ. However, the deviation in the extension direction of the glaze layer is caused by the fact that the deviation of the glaze layer is adjusted by bringing the edge of the substrate into contact with a plurality of pins fixed to a pin alignment device. The deviation differs depending on the dimensional accuracy. Further, such a shift in the extension direction of the glaze layer can be avoided, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
It is also possible to apply the optical mark generally used for semiconductor wafers as shown in Publication No. 51-140638, but since this optical mark is formed by etching technology, thermal It was also unsuitable for application to print heads.
すなわち、前述した半導体ウエハの場合、その
ウエハのX、Y、θ方向を求めるために、2つ以
上の光学マークをウエハ上に形成してそれぞれの
光学マークを光学認識することによつて、その目
的は達成される。しかしながら、サーマルプリン
トヘツドの場合、グレーズ層が印刷焼成によつて
形成された場合、その断面は山状となる。このよ
うなセラミツク基板上に山状に形成したグレーズ
層の延長方向のずれを認識する際には、前記エツ
チングによつて形成される光学マークと前記グレ
ーズ層との間に高低の違いが発生し、前記対象と
するグレーズ層を高低の異なる光学マークで調整
しても位置ずれを十分補正できない問題があつ
た。そして、上記基板は一般にセラミツクが用い
られており、その寸法精度は±200μ程度の誤差
がある。即ち、前記グレーズ層の延長方向のずれ
のアライメント精度を向上させるにも一定の限界
があつた。 That is, in the case of the semiconductor wafer mentioned above, in order to determine the X, Y, and θ directions of the wafer, two or more optical marks are formed on the wafer and each optical mark is optically recognized. The purpose is achieved. However, in the case of a thermal print head, when the glaze layer is formed by printing and firing, its cross section becomes mountain-like. When recognizing a shift in the extension direction of the glaze layer formed in a mountain shape on such a ceramic substrate, a difference in height occurs between the optical mark formed by the etching and the glaze layer. However, even if the target glaze layer is adjusted using optical marks having different heights, there is a problem in that the positional shift cannot be sufficiently corrected. The above-mentioned substrate is generally made of ceramic, and its dimensional accuracy has an error of about ±200 μm. That is, there is a certain limit to improving the alignment precision of the deviation in the extension direction of the glaze layer.
このような前記グレーズ層の延長方向のずれの
アライメント精度を上手く向上できない場合、製
造上の後工程におけるグレーズ表面に発熱抵抗帯
を形成する時や、この発熱抵抗帯からの電極配線
を形成する時に所望箇所に形成できず、位置ずれ
が生じることがあつた。サーマルプリントヘツド
において、セラミツク基板上にスクリーン印刷に
よつて塗布、焼成される部分グレーズは、断面山
状に形成されるため、上述した発熱抵抗帯をグレ
ーズ層上に形成する際に、そのグレーズ層の長手
方向で位置ずれが生じた場合、結果的に発熱抵抗
帯の形成位置に高低が発生してしまうため、印字
する時に被印刷体への接触圧力が不均一になり、
印字むらが起こるといつた問題がある。 If it is not possible to improve the alignment accuracy of such deviation in the extension direction of the glaze layer, it may be difficult to improve the alignment accuracy when forming a heating resistor band on the glaze surface in the post-manufacturing process or when forming electrode wiring from this heating resistor band. It could not be formed at the desired location, resulting in misalignment. In the thermal print head, the partial glaze applied to the ceramic substrate by screen printing and fired is formed in a mountain-like cross-section, so when forming the above-mentioned heating resistor band on the glaze layer, the glaze layer is If misalignment occurs in the longitudinal direction, the height of the formation position of the heat-generating resistor band will be uneven, resulting in uneven contact pressure on the printing material during printing.
There is a problem with uneven printing.
また、前記発熱抵抗帯に通電して選択発熱させ
る電極配線がグレーズ層の延長方向に対してずれ
が発生すると、前記電極配線間に形成される発熱
抵抗の印字領域が変形してしまうため、印字ぬけ
が発生したり、前記印字領域の配線領域の配線間
抵抗が変化して所定の発熱量を得ることができ
ず、印字不良となる問題がある。 Furthermore, if the electrode wiring that selectively generates heat by supplying electricity to the heating resistor band is misaligned with respect to the extending direction of the glaze layer, the printing area of the heating resistor formed between the electrode wirings will be deformed. There is a problem that omission occurs or the resistance between wirings in the wiring area of the printing area changes, making it impossible to obtain a predetermined amount of heat generation, resulting in printing defects.
(ハ) 目的
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、
基板に形成すべきグレーズ層の延長方向および直
交方向のずれのアライメント精度の向上を図ると
共に、アライメント時間を大幅に短縮しうるサー
マルプリントヘツドの位置合わせ方法を提供する
ことを目的としている。(c) Purpose This invention was made in view of the above circumstances,
It is an object of the present invention to provide a method for aligning a thermal print head that can improve the alignment accuracy of a glaze layer to be formed on a substrate in the extending direction and the orthogonal direction, and can significantly shorten the alignment time.
(ニ) 構成
この発明に係るサーマルプリントヘツドの位置
合わせ方法の特徴とするところは、基板の表面に
帯状のグレーズ層を印刷焼成によつて形成し、こ
の帯状のグレーズ層の延長方向の位置合わせを行
うサーマルプリントヘツドの位置合わせ方法にお
いて、前記基板の近傍には前記帯状のグレーズ層
を形成すると同時に、前記グレーズ層と同様のグ
レーズを印刷焼成してアライメント用グレーズを
形成し、このアライメント用グレーズとマスクに
設けられるアライメントキーとで、前記基板上に
形成されるグレーズ層と前記マスクとの位置合わ
せを行うことにある。(D) Structure The thermal print head positioning method according to the present invention is characterized by forming a band-shaped glaze layer on the surface of the substrate by printing and baking, and aligning the band-shaped glaze layer in the extending direction. In the thermal print head alignment method, the band-shaped glaze layer is formed near the substrate, and at the same time, a glaze similar to the glaze layer is printed and fired to form an alignment glaze, and the alignment glaze is and an alignment key provided on the mask to align the glaze layer formed on the substrate and the mask.
(ホ) 実施例
第1図aは基板にグレーズ層とアライメント用
グレーズとを形成したところを示す説明図、第1
図bはマスクに形成されたアライメントキーを示
す説明図である。(e) Example FIG. 1a is an explanatory diagram showing the formation of a glaze layer and alignment glaze on a substrate.
FIG. b is an explanatory diagram showing an alignment key formed on a mask.
同図aにおいて、1はセラミツクなどからなる
基板、2はスクリーン印刷によつて塗布・焼成し
されたグレーズ層、3は前記グレーズ層2と同時
に形成された円形のアライメント用グレーズをそ
れぞれ示している。本実施例では前記アライメン
ト用グレーズ3は前記グレーズ層2の延長方向に
相当する対向した2辺の端部近傍に形成されてい
る。同図bにおいて、4は超透明度なガラスより
なるホトマスク、5は同心円のアライメントキー
をそれぞれ示している。このアライメントキー5
は、上記アライメント用グレーズ3の位置に対応
して前記ホトマスク4に形成されている。 In Figure a, 1 indicates a substrate made of ceramic or the like, 2 a glaze layer coated and fired by screen printing, and 3 a circular alignment glaze formed at the same time as the glaze layer 2. . In this embodiment, the alignment glaze 3 is formed near the ends of two opposing sides corresponding to the extending direction of the glaze layer 2. In Figure b, numeral 4 indicates a photomask made of ultra-transparent glass, and numeral 5 indicates a concentric alignment key. This alignment key 5
are formed on the photomask 4 corresponding to the positions of the alignment glaze 3.
しかして、この実施例における位置合わせ方法
としては、予めグレーズ層2およびアライメント
用グレーズ3が形成された基板1をピンアライメ
ント装置にセツトすると共に、ホトマスク4を前
記基板1に関連してセツトする。そして、前記ピ
ンアライメント装置でもつて前記アライメント用
グレーズ3とホトマスク4のアライメントキー5
とを照合することにより、基板1に形成されたグ
レーズ層2の延長方向および直交方向のずれを調
整する。つまり、このアライメント用グレーズ3
を円形にしているため、基板1の対向する2辺に
それぞれ1個ずつアライメント用グレーズ3を形
成するだけで、グレーズ層2の延長方向および直
交方向のずれが調整できることとなる。 Therefore, the alignment method in this embodiment is to set the substrate 1 on which the glaze layer 2 and the alignment glaze 3 have been formed in advance in a pin alignment device, and to set the photomask 4 in relation to the substrate 1. In the pin alignment device, the alignment glaze 3 and the alignment key 5 of the photomask 4 are
By comparing the glaze layer 2 with the glaze layer 2 formed on the substrate 1, the deviation in the extension direction and the orthogonal direction is adjusted. In other words, this alignment glaze 3
Since it is circular, the displacement of the glaze layer 2 in the extension direction and the orthogonal direction can be adjusted by simply forming one alignment glaze 3 on each of the two opposing sides of the substrate 1.
なお、前記アライメント用グレーズ3の形成さ
れる位置は上述した実施例に限定されず、グレー
ズ層2の直交方向に相当する対向した2辺の端部
近傍に形成されるものであつてもよいことは勿論
である。 Note that the position where the alignment glaze 3 is formed is not limited to the above-described embodiment, and may be formed near the ends of two opposing sides corresponding to the orthogonal direction of the glaze layer 2. Of course.
(ヘ) 効果
この発明によれば、基板上にグレーズ層を形成
すると同時にアライメント用グレーズを形成する
ものであるから、グレーズ層とアライメント用キ
ーとの間に位置ずれが発生するおそれが解消でき
る。従つて、マスクとグレーズ層の特に延長方向
との位置合わせが精度良く行えるため、例えば後
工程で前記マスクを用いて発熱抵抗や前記発熱抵
抗体へ通電する電極配線の形成が精度良く行える
結果、印字品質のよいサーマルプリントヘツドを
安定して製造できる。(F) Effects According to the present invention, since the alignment glaze is formed at the same time as the glaze layer is formed on the substrate, the possibility of misalignment between the glaze layer and the alignment key can be eliminated. Therefore, the alignment of the mask and the glaze layer, especially in the extending direction, can be performed with high precision, so that, for example, in a later process, the mask can be used to form the heat generating resistor and the electrode wiring that conducts electricity to the heat generating resistor with high precision. It is possible to stably manufacture thermal print heads with good printing quality.
しかも、アライメント用グレーズは、グレーズ
層と同様にグレーズによつて形成されるため、ア
ライメント用グレーズとグレーズ層とは略同一の
高低となる結果、それぞれの高低差によるマスク
の位置合わせずれのおそれも解消できる。 Moreover, since the alignment glaze is formed of glaze in the same way as the glaze layer, the alignment glaze and the glaze layer have almost the same height, so there is a risk of misalignment of the mask due to the height difference between them. It can be resolved.
第1図aは基板にグレーズ層とアライメント用
グレーズとを形成したところを示す説明図、第1
図bはホトマスクにアライメントキーを形成した
ところ示す説明図である。
1……基板、2……グレーズ層、3……アライ
メント用グレーズ、4……ホトマスク、5……ア
ライメントキー。
FIG. 1a is an explanatory diagram showing the formation of a glaze layer and an alignment glaze on a substrate;
FIG. b is an explanatory diagram showing alignment keys formed on a photomask. 1...Substrate, 2...Glaze layer, 3...Glaze for alignment, 4...Photomask, 5...Alignment key.
Claims (1)
よつて形成し、この帯状のグレーズ層の延長方向
の位置合わせを行うサーマルプリントヘツドの位
置合わせ方法において、前記基板の近傍には前記
帯状のグレーズ層を形成すると同時に、前記グレ
ーズ層と同様のグレーズを印刷焼成してアライメ
ント用グレーズを形成し、このアライメント用グ
レーズとマスクに設けられるアライメントキーと
で、前記基板上に形成されるグレーズ層と前記マ
スクとの位置合わせを行うことを特徴とするサー
マルプリントヘツドの位置合わせ方法。1. In a thermal print head alignment method in which a band-shaped glaze layer is formed on the surface of a substrate by printing and baking, and alignment is performed in the extending direction of the band-shaped glaze layer, the band-shaped glaze layer is formed near the substrate. At the same time as forming the layer, a glaze similar to the glaze layer is printed and fired to form an alignment glaze, and this alignment glaze and an alignment key provided on the mask align the glaze layer formed on the substrate with the alignment key. A method for aligning a thermal print head, characterized by aligning it with a mask.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008203A JPS61166550A (en) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | Aligning method of thermal print head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008203A JPS61166550A (en) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | Aligning method of thermal print head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61166550A JPS61166550A (en) | 1986-07-28 |
| JPH0547100B2 true JPH0547100B2 (en) | 1993-07-15 |
Family
ID=11686700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60008203A Granted JPS61166550A (en) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | Aligning method of thermal print head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61166550A (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51140638A (en) * | 1975-05-28 | 1976-12-03 | Nec Home Electronics Ltd | Positioning method |
-
1985
- 1985-01-18 JP JP60008203A patent/JPS61166550A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61166550A (en) | 1986-07-28 |
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