JPH0550449B2 - - Google Patents
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- JPH0550449B2 JPH0550449B2 JP62321136A JP32113687A JPH0550449B2 JP H0550449 B2 JPH0550449 B2 JP H0550449B2 JP 62321136 A JP62321136 A JP 62321136A JP 32113687 A JP32113687 A JP 32113687A JP H0550449 B2 JPH0550449 B2 JP H0550449B2
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Description
（産業上の利用分野）
本発明は特に280乃至550nmの紫外線および可
視光線スペクトル帯域に透過帯域を有する選択的
Co2+−または（Co2+およびNi2+）−着色ガラスの
製造のための基本ガラスとして使用されるアルカ
リケイ酸ガラスに関するものである。これらのイ
オン着色ガラスはCo2+およびCo2+＋Ni2+の特性
的吸収帯域を有し、従つてこの種のガラス層の厚
さに依存して、それぞれ２つの障壁帯域によつて
包囲された選択的ベル状透過帯域を生じる。 このいわゆる帯域透過フイルタの最重要特性
は、与えられた層の厚さにおいて、透過帯域にお
けるスペクトル透過率の最大値TmaxとTmax／
２のスペクトル透過率を有する半値波長λ′1／２
〜λ″1／２である。距離λ′1／２〜λ″1／２の中点
を中点波長λmと呼び、距離λ′1／２〜λ″1／２を
半値幅（HW）と呼ぶ。（第１図参照） 研究、技術および医学において、これらのガラ
スは例えば、狭いスペクトル帯域において、特に
200〜1100nmの放射帯域のUV光源のフイルタリ
ングに際してコンバージヨンフイルタとして使用
され、特に250〜400nmの紫外線スペクトル帯域
のパスフイルターとして、また役420〜680nmの
阻止フイルタとして使用される。この種のガラス
はそれ自体、酸、アルカリ溶液および水に対する
化学的耐性を保証する組成を有する事ができる。 （従来技術と問題点） Co2+−または（Co2+およびNi2+）着色アルカ
リケイ酸ガラスフイルタは光学フイルタガラスの
最大メーカによつて公知である。例えば、BG3、
FG3、UG1（シヨツト−カタログ）、１−61、７
−51（コーニング−カタログ）、BD37−93（VEB
−イエナーカタログ）その他。これらのガラスの
長時間、強力な紫外線に露出された時、特に紫外
線スペクトル帯域におけるそのスペクトル透過率
が変動される。吸収は一定の飽和度に達する。こ
の好ましくない現象をソラリゼーシヨンと呼ぶ。
光源に対する露出時間、光源強度およびフイルタ
ガラスと光源の距離に対応して多少とも急速にこ
の飽和度に達する。そこで、ガラスが「変質」
し、初期の用途に対して条件的にしか使用されな
い。 フイルタガラスのソラリゼーシヨン特性を測定
するため、下記のテストプロセスが使用されまた
一般的に有効である。 試料厚さ：１mm 光源：低圧水銀灯（254nmにおいて最大放射）、
フイリツプ社製「シルバニア ゲルミシダ
ル」型（放射スペクトル、p.2参照） 光源のフイルタリング：ナシ 光源−試料間隔：140mm 照射時間：75h 実測値：Δτ（UV照射の前後の透過率の差） 第３図と第４図に示す市販のアルカリケイ酸青
色ガラス（ドイツ連邦共和国、マインツ、シヨツ
トグラスベルク社、BG3）の例において、前記
のソラリゼーシヨンテストの前後の200〜850nm
の透過率曲線が示されている。これにより、260
〜520nmの透過率帯域におけるフイルタ特性の非
常に強い変動が示されている。 （発明の目的および効果） 本発明の目的は、酸、アルカリ溶液および水に
対する高度の化学的耐性と、長時間の紫外線照射
に際しての高度のソラリゼーシヨン耐性とを兼備
したアルカリケイ酸ガラスからUV＝フイルタを
製造するにある。この目的は、特許請求の範囲に
よる応用乃至ガラスを使用する事によつて達成さ
れる。 使用特許請求の範囲に記載のガラスに関して、
US−PS3902881号明細書で説明されている。 本発明において、ソラリゼーシヨンを発生する
UV−帯域はすでにフイルタの表面層において吸
収され、フイルタそのものの中においてはソラリ
ゼーシヨンは惹起されない事が発見された。 280、295、305および320nmの１mm−カツトオ
ンフイルタによるUV−光源のフイルタリングに
よつても同様の作用が得られる。これらのフイル
タによつて、最大エネルギーのUV−部分が吸収
され、従つてガラス中に着色中心を形成しソラリ
ゼーシヨンの原因を成す励起エネルギーはもはや
存在しない。この関係は第５図に説明されてい
る。ガラスにPbO、SnOおよび／またはCeO2、
TiO2、Fe2O3およびV2O5をドープする事により、
アルカリケイ酸基ガラスの吸収エツジはより長い
波長のスペクトル帯域に向かつて60nmだけ移動
させられる。 本発明において使用されるガラスは、１mmの厚
さの場合にその透過率帯域幅に関して別表１のグ
ループに区分される（第６図参照）。
視光線スペクトル帯域に透過帯域を有する選択的
Co2+−または（Co2+およびNi2+）−着色ガラスの
製造のための基本ガラスとして使用されるアルカ
リケイ酸ガラスに関するものである。これらのイ
オン着色ガラスはCo2+およびCo2+＋Ni2+の特性
的吸収帯域を有し、従つてこの種のガラス層の厚
さに依存して、それぞれ２つの障壁帯域によつて
包囲された選択的ベル状透過帯域を生じる。 このいわゆる帯域透過フイルタの最重要特性
は、与えられた層の厚さにおいて、透過帯域にお
けるスペクトル透過率の最大値TmaxとTmax／
２のスペクトル透過率を有する半値波長λ′1／２
〜λ″1／２である。距離λ′1／２〜λ″1／２の中点
を中点波長λmと呼び、距離λ′1／２〜λ″1／２を
半値幅（HW）と呼ぶ。（第１図参照） 研究、技術および医学において、これらのガラ
スは例えば、狭いスペクトル帯域において、特に
200〜1100nmの放射帯域のUV光源のフイルタリ
ングに際してコンバージヨンフイルタとして使用
され、特に250〜400nmの紫外線スペクトル帯域
のパスフイルターとして、また役420〜680nmの
阻止フイルタとして使用される。この種のガラス
はそれ自体、酸、アルカリ溶液および水に対する
化学的耐性を保証する組成を有する事ができる。 （従来技術と問題点） Co2+−または（Co2+およびNi2+）着色アルカ
リケイ酸ガラスフイルタは光学フイルタガラスの
最大メーカによつて公知である。例えば、BG3、
FG3、UG1（シヨツト−カタログ）、１−61、７
−51（コーニング−カタログ）、BD37−93（VEB
−イエナーカタログ）その他。これらのガラスの
長時間、強力な紫外線に露出された時、特に紫外
線スペクトル帯域におけるそのスペクトル透過率
が変動される。吸収は一定の飽和度に達する。こ
の好ましくない現象をソラリゼーシヨンと呼ぶ。
光源に対する露出時間、光源強度およびフイルタ
ガラスと光源の距離に対応して多少とも急速にこ
の飽和度に達する。そこで、ガラスが「変質」
し、初期の用途に対して条件的にしか使用されな
い。 フイルタガラスのソラリゼーシヨン特性を測定
するため、下記のテストプロセスが使用されまた
一般的に有効である。 試料厚さ：１mm 光源：低圧水銀灯（254nmにおいて最大放射）、
フイリツプ社製「シルバニア ゲルミシダ
ル」型（放射スペクトル、p.2参照） 光源のフイルタリング：ナシ 光源−試料間隔：140mm 照射時間：75h 実測値：Δτ（UV照射の前後の透過率の差） 第３図と第４図に示す市販のアルカリケイ酸青
色ガラス（ドイツ連邦共和国、マインツ、シヨツ
トグラスベルク社、BG3）の例において、前記
のソラリゼーシヨンテストの前後の200〜850nm
の透過率曲線が示されている。これにより、260
〜520nmの透過率帯域におけるフイルタ特性の非
常に強い変動が示されている。 （発明の目的および効果） 本発明の目的は、酸、アルカリ溶液および水に
対する高度の化学的耐性と、長時間の紫外線照射
に際しての高度のソラリゼーシヨン耐性とを兼備
したアルカリケイ酸ガラスからUV＝フイルタを
製造するにある。この目的は、特許請求の範囲に
よる応用乃至ガラスを使用する事によつて達成さ
れる。 使用特許請求の範囲に記載のガラスに関して、
US−PS3902881号明細書で説明されている。 本発明において、ソラリゼーシヨンを発生する
UV−帯域はすでにフイルタの表面層において吸
収され、フイルタそのものの中においてはソラリ
ゼーシヨンは惹起されない事が発見された。 280、295、305および320nmの１mm−カツトオ
ンフイルタによるUV−光源のフイルタリングに
よつても同様の作用が得られる。これらのフイル
タによつて、最大エネルギーのUV−部分が吸収
され、従つてガラス中に着色中心を形成しソラリ
ゼーシヨンの原因を成す励起エネルギーはもはや
存在しない。この関係は第５図に説明されてい
る。ガラスにPbO、SnOおよび／またはCeO2、
TiO2、Fe2O3およびV2O5をドープする事により、
アルカリケイ酸基ガラスの吸収エツジはより長い
波長のスペクトル帯域に向かつて60nmだけ移動
させられる。 本発明において使用されるガラスは、１mmの厚
さの場合にその透過率帯域幅に関して別表１のグ
ループに区分される（第６図参照）。
【表】
例えば別表２に示す対応の市販のバンドパスフ
イルターおよびコンバージヨンフイルタと比較し
て、グループとのUV−吸収エツジの長波長
への移動が見られる。これにより、遠UV（260〜
310nm）における透過帯域が部分的に狭くなる。
イルターおよびコンバージヨンフイルタと比較し
て、グループとのUV−吸収エツジの長波長
への移動が見られる。これにより、遠UV（260〜
310nm）における透過帯域が部分的に狭くなる。
【表】
本発明によれば、アルカリケイ酸ガラスの合成
のためにPbOとSnO2をそれぞれ対応の混合範囲
で含有する事により、長波長スペクトル帯域への
吸収エツジの移動のみならず、さらにこれによつ
てガラスのソラリゼーシヨン傾向の明白な低下が
達成される。 ガラスの型に対応して、0.1〜1.7重量％の範囲
のSnO2の添加によつて吸収エツジの傾斜度に良
い影響が与えられる。すなわち、SnO2によつて
吸収エツジの傾斜度が大になる（第７図参照）。
これにより、値λm（nm）において測定されるフ
イルタの透過帯域の重心は、大きなソラリゼーシ
ヨン傾向を有する従来のフイルタに対して僅かし
か変動しない（表１と表２を参照）。 PbOおよびSnO2によるアルカリケイ酸ガラス
合成法は、気泡のない均質な光学フイルタガラス
の製造に際して特殊の手段を必要とする。そのた
め、本発明によれば、従来の清澄剤As2O3およ
び／またはSb2O3のほかに、基本ガラス組成に従
つて、清澄作用の支持のために特にＦ、Cl、
NH4ClおよびSO3を使用する。 吸収エツジの移動は、PbOとSnO2によつて達
成されるのみならず、250〜400nmの吸収帯域を
有するイオンによつて、特にCe4+、Ti4+、Fe3+、
V5+およびPb2+によつても可能である。清澄剤
As2O2および／またはSb2O3および「着色フイル
タイオン」Co2+およびNi2+と共に使用する場合、
これらのイオンの濃度は極めて低くなければなら
ない。なぜかならば、紫外線の照射に際して２種
の両価性イオンの交互作用がアルカリケイ酸ガラ
ス中に極めて明白なソラリゼーシヨン現象を生じ
るからである。この関係は公知であつて、特に下
記の出版物に記載されている。 ホソノ ヒデオほか、Ｊ of NCS 63
（1984）、p.357−363、 クラウス ベルムートほか、Glastechn.Ber.58
（1985）３、p.52−58。 別表１と２の本発明による組成のガラスの第
グループの例から明らかなように、PbOおよび
SnO2合成成分によつて、310nmの吸収エツジの
位置は影響されないが、PbOおよびSnO2を含有
しないガラスに対して、UV−照射による顕著な
ソラリゼーシヨンの低下が生じる。Pb2+および
Sn2+乃至はSn4+の組込みによつてケイ酸ガラス
の構造変化が生じるが、UV−照射による着色中
心の形成が困難になりまたは完全に禁止されるも
のと考えられる。 基本ガラスの透過は、下記の成分の少なくとも
１つの特異的吸収を特徴としている。 場合によつて、CoO、Co2O3の形の０〜1.5重
量％のCoO、および 場合によつて、NiOおよびNi2O3の形の０〜4.4
重量％のNiO。 別表には、使用可能の組成区域の例を示す。 第８図は、従来のガラス（BG3）と実施例１
のガラスの、それぞれ照射の前後の透過率曲線の
比較を示す。実施例１のガラスの場合、照射前後
の透過率曲線は同一である。また照射によつて透
過損失は生じない。 この場合に、照射条件としては、前記のテスト
プロセスの照射条件を選んだ。
のためにPbOとSnO2をそれぞれ対応の混合範囲
で含有する事により、長波長スペクトル帯域への
吸収エツジの移動のみならず、さらにこれによつ
てガラスのソラリゼーシヨン傾向の明白な低下が
達成される。 ガラスの型に対応して、0.1〜1.7重量％の範囲
のSnO2の添加によつて吸収エツジの傾斜度に良
い影響が与えられる。すなわち、SnO2によつて
吸収エツジの傾斜度が大になる（第７図参照）。
これにより、値λm（nm）において測定されるフ
イルタの透過帯域の重心は、大きなソラリゼーシ
ヨン傾向を有する従来のフイルタに対して僅かし
か変動しない（表１と表２を参照）。 PbOおよびSnO2によるアルカリケイ酸ガラス
合成法は、気泡のない均質な光学フイルタガラス
の製造に際して特殊の手段を必要とする。そのた
め、本発明によれば、従来の清澄剤As2O3およ
び／またはSb2O3のほかに、基本ガラス組成に従
つて、清澄作用の支持のために特にＦ、Cl、
NH4ClおよびSO3を使用する。 吸収エツジの移動は、PbOとSnO2によつて達
成されるのみならず、250〜400nmの吸収帯域を
有するイオンによつて、特にCe4+、Ti4+、Fe3+、
V5+およびPb2+によつても可能である。清澄剤
As2O2および／またはSb2O3および「着色フイル
タイオン」Co2+およびNi2+と共に使用する場合、
これらのイオンの濃度は極めて低くなければなら
ない。なぜかならば、紫外線の照射に際して２種
の両価性イオンの交互作用がアルカリケイ酸ガラ
ス中に極めて明白なソラリゼーシヨン現象を生じ
るからである。この関係は公知であつて、特に下
記の出版物に記載されている。 ホソノ ヒデオほか、Ｊ of NCS 63
（1984）、p.357−363、 クラウス ベルムートほか、Glastechn.Ber.58
（1985）３、p.52−58。 別表１と２の本発明による組成のガラスの第
グループの例から明らかなように、PbOおよび
SnO2合成成分によつて、310nmの吸収エツジの
位置は影響されないが、PbOおよびSnO2を含有
しないガラスに対して、UV−照射による顕著な
ソラリゼーシヨンの低下が生じる。Pb2+および
Sn2+乃至はSn4+の組込みによつてケイ酸ガラス
の構造変化が生じるが、UV−照射による着色中
心の形成が困難になりまたは完全に禁止されるも
のと考えられる。 基本ガラスの透過は、下記の成分の少なくとも
１つの特異的吸収を特徴としている。 場合によつて、CoO、Co2O3の形の０〜1.5重
量％のCoO、および 場合によつて、NiOおよびNi2O3の形の０〜4.4
重量％のNiO。 別表には、使用可能の組成区域の例を示す。 第８図は、従来のガラス（BG3）と実施例１
のガラスの、それぞれ照射の前後の透過率曲線の
比較を示す。実施例１のガラスの場合、照射前後
の透過率曲線は同一である。また照射によつて透
過損失は生じない。 この場合に、照射条件としては、前記のテスト
プロセスの照射条件を選んだ。
【表】
【表】
実施例
実施例１の組成を有しCo2+で着色された100Kg
のアルカリケイ酸ガラスを製造するため、下記の
成分を混合器の中で均一な原料混合物を得るよう
に混合した。この混合物を６〜７時間、一部ず
つ、1280〜1320℃の温度でセラミツクスまたは
Pt−溶融器の中で溶融した。溶融流体の脱ガス
処理が1470〜1500℃の温度範囲で、２〜４時間、
行つた。 64.064Kg 二酸化ケイ素（Sipur） （SiO2） 15.367Kg ホウ酸（H3BO3） 23.181Kg 炭酸水素ナトリウム（NaHCO3） 12.205Kg 炭酸カリウム（K2CO3） 2.480Kg 炭酸バリウム（BaCO3） 1.101Kg 酸化亜鉛（ZnO） 5.067Kg 鉛丹（Pb3O4） 1.200Kg 二酸化スズ（SnO2） 0.253Kg 酸化ヒ素（As2O2） 0.150Kg 塩化アンモニウム（NH4Cl） 0.230Kg 硫酸ナトリウム（Na2SO4） 0.200Kg コバルト金属粉（CO） 0.844Kg 酸化コバルト（Co2O3） 溶融流体の均質化は1250〜1480℃で完全実施さ
れた。これに必要な時間は約２〜３分である。こ
のように調製されたガラス流体を予熱された金型
の中に流し込んだ。
のアルカリケイ酸ガラスを製造するため、下記の
成分を混合器の中で均一な原料混合物を得るよう
に混合した。この混合物を６〜７時間、一部ず
つ、1280〜1320℃の温度でセラミツクスまたは
Pt−溶融器の中で溶融した。溶融流体の脱ガス
処理が1470〜1500℃の温度範囲で、２〜４時間、
行つた。 64.064Kg 二酸化ケイ素（Sipur） （SiO2） 15.367Kg ホウ酸（H3BO3） 23.181Kg 炭酸水素ナトリウム（NaHCO3） 12.205Kg 炭酸カリウム（K2CO3） 2.480Kg 炭酸バリウム（BaCO3） 1.101Kg 酸化亜鉛（ZnO） 5.067Kg 鉛丹（Pb3O4） 1.200Kg 二酸化スズ（SnO2） 0.253Kg 酸化ヒ素（As2O2） 0.150Kg 塩化アンモニウム（NH4Cl） 0.230Kg 硫酸ナトリウム（Na2SO4） 0.200Kg コバルト金属粉（CO） 0.844Kg 酸化コバルト（Co2O3） 溶融流体の均質化は1250〜1480℃で完全実施さ
れた。これに必要な時間は約２〜３分である。こ
のように調製されたガラス流体を予熱された金型
の中に流し込んだ。
第１図はバンドパスフイルタの最重要特性を示
すグラフ、第２図はシルバニア・ゲルミシダル
G15T8の照射スペクトル線図、第３図と第４図
は市販のアルカリケイ酸青ガラスの透過率τと波
長λnmの関係を示すグラフ、第５図はフイルタ
を使用した場合と使用しない場合の透過率の差異
を示すグラフ、第６図と第７図は本発明によるフ
イルタと市販のフイルタの特性を比較するグラ
フ、また第８図は照射の前後の本発明のフイルタ
と従来のフイルタとの特性を比較するグラフであ
る。
すグラフ、第２図はシルバニア・ゲルミシダル
G15T8の照射スペクトル線図、第３図と第４図
は市販のアルカリケイ酸青ガラスの透過率τと波
長λnmの関係を示すグラフ、第５図はフイルタ
を使用した場合と使用しない場合の透過率の差異
を示すグラフ、第６図と第７図は本発明によるフ
イルタと市販のフイルタの特性を比較するグラ
フ、また第８図は照射の前後の本発明のフイルタ
と従来のフイルタとの特性を比較するグラフであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の組成のCo2+または（Co2+およびNi2+）
着色されたアルカリケイ酸ガラスの、280乃至
500nmの透過帯域用のソラリゼーシヨン耐性UV
−フイルタガラス。 SiO2 52〜71重量％ B2O3 ０〜17.5重量％ Al2O3 ０〜3.0重量％ PbO 2.5〜17.0重量％ SnO 0.1〜1.7重量％ Na2Ｏ 5.0〜18.5重量％ K2Ｏ 0.5〜10.0重量％ ZnO ０〜10.5重量％ ΣRO ０〜8.6重量％ （RO＝MgO，CaO，SrO，BaO） ΣNiO＋CoO 0.1〜4.4重量％ ΣAs2O3＋Sb2O3 0.05〜0.5重量％ ２ ガラスが下記の成分を含有することを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のフイルタガラ
ス。 【表】 【表】 ３ ガラスが清澄剤F-、As2O3および／または
Sb2O3のほかに、清澄作用の支持のため、０〜0.3
重量％のSO3および／またはNH4Clを含有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２
項記載のフイルタガラス。 ４ ガラスが10乃至106dPa・ｓの範囲の粘度の
低下のため、０乃至0.5重量％のF-のほかに０乃
至３重量％のLi2Ｏを含有することを特徴とする
特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれか１項
記載のフイルタガラス。 ５ 下記の成分（重量％）から成ることを特徴と
するCo2+または（Co2+およびNi2+）着色アルカ
リケイ酸ガラスの光学フイルタガラス。 SiO2 52〜71 PbO 2.9〜16.8 SnO2 0.1〜1.65 Na2Ｏ 6.7〜16.7 K2Ｏ 0.5〜9.9 Na2Ｏ＋K2Ｏ 13.3〜18.3 NiO＋CoO 0.1〜4.4 As2O3＋Sb2O3 0.05〜0.5 ΣRO ０〜8.6 B2O3 ０〜8.5 Al2O3 ０〜0.55 ZnO ０〜10.5 ここに、Ｒ＝Mg，Ca，Sr，Ba。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19863643421 DE3643421A1 (de) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | Solarisationsstabile uv-filterglaeser fuer den durchlassbereich von 280-500 nm |
| DE3643421.3 | 1986-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63248738A JPS63248738A (ja) | 1988-10-17 |
| JPH0550449B2 true JPH0550449B2 (ja) | 1993-07-29 |
Family
ID=6316578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62321136A Granted JPS63248738A (ja) | 1986-12-19 | 1987-12-18 | ２８０〜５００ｎｍの透過帯域用のソラリゼーション耐性ＵＶ−フィルタガラス |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4820326A (ja) |
| JP (1) | JPS63248738A (ja) |
| DE (1) | DE3643421A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0453551B1 (en) * | 1989-11-16 | 2000-05-31 | Libbey-Owens-Ford Co. | Infrared and ultraviolet radiation absorbing green glass composition |
| DE3939089A1 (de) * | 1989-11-25 | 1991-05-29 | Sorg Gmbh & Co Kg | Silikatischer glasbaustoff |
| US5213916A (en) * | 1990-10-30 | 1993-05-25 | International Business Machines Corporation | Method of making a gray level mask |
| US5243651A (en) * | 1992-06-10 | 1993-09-07 | Scientific-Atlanta, Inc. | Diagnostic method and apparatus for a cable television interdiction system |
| FR2699527B1 (fr) * | 1992-12-23 | 1995-02-03 | Saint Gobain Vitrage Int | Compositions de verre destinées à la fabrication de vitrage. |
| JPH0766473A (ja) * | 1993-08-26 | 1995-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ発振器 |
| JPH08109038A (ja) * | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Kirin Brewery Co Ltd | ガラス融体の製造法 |
| JP3094902B2 (ja) * | 1996-03-27 | 2000-10-03 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線照射装置 |
| DE19712035B4 (de) * | 1997-03-21 | 2005-09-15 | Henkel, Gabriele, Prof. | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung ästhetischer Lichteffekte |
| US6838400B1 (en) | 1998-03-23 | 2005-01-04 | International Business Machines Corporation | UV absorbing glass cloth and use thereof |
| DE19958522B4 (de) * | 1999-12-04 | 2004-04-08 | Schott Glas | Zinkhaltige optische Gläser |
| US7196027B2 (en) * | 2000-06-05 | 2007-03-27 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass suffering little change in refractive index by radiation of light |
| US20040233520A1 (en) * | 2001-12-19 | 2004-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Optical filters for manipulating spectral power distribution in accelerated weathering devices |
| US6859309B2 (en) * | 2001-12-19 | 2005-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Optical filters for manipulating spectral power distribution in accelerated weathering devices |
| DE10204150A1 (de) | 2002-02-01 | 2003-08-14 | Schott Glas | Erdalkalialuminosilicatglas und Verwendung |
| US20050096209A1 (en) * | 2002-06-10 | 2005-05-05 | Asahi Glass Company, Limited | Glass and method for producing glass |
| JP4466371B2 (ja) * | 2002-06-10 | 2010-05-26 | 旭硝子株式会社 | ガラスおよびガラス製造方法 |
| KR20050082357A (ko) * | 2004-02-18 | 2005-08-23 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 소자 상판 유전체 조성 방법 |
| WO2005105686A1 (en) * | 2004-04-29 | 2005-11-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Glass composition for blue lamp bulbs, use of such a composition for forming a bulb, and automotive lamp emitting blue light and including a such bulb |
| KR100910093B1 (ko) * | 2005-03-25 | 2009-07-30 | 에이지씨 테크노 글라스 가부시키가이샤 | 자외선 흡수 유리 및 이것을 사용한 형광 램프용 유리관 및형광 램프용 자외선 흡수 유리의 제조 방법 |
| US7400445B2 (en) * | 2005-05-31 | 2008-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Optical filters for accelerated weathering devices |
| JP4873399B2 (ja) * | 2005-08-08 | 2012-02-08 | 五鈴精工硝子株式会社 | 赤外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法 |
| DE102014118562B4 (de) | 2014-12-12 | 2016-09-29 | Schott Ag | Solarisationsstabiler UV-Bandpassfilter |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2693422A (en) * | 1951-08-25 | 1954-11-02 | Pittsburgh Plate Glass Co | Composition of glass having high ultraviolet and low visual transmission |
| US3902881A (en) * | 1971-06-04 | 1975-09-02 | Owens Illinois Inc | Method of forming an opalescent article having a colored bulk and at least one surface strata of a different color than the bulk |
| SU399469A1 (ru) * | 1971-10-04 | 1973-10-03 | Й^ЕСОЮЗНАЯSATE;; ,,••-'< :.-.>&:акч ;сш3399469М Кл. С 03с 5/00УДК 666.113.62Г4 Г •33'32-ЗГ28'27 (088.8)АвторыС. И. Ивахин и О. М. Вышинска | |
| DE2832066C3 (de) * | 1978-07-21 | 1981-06-11 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Optisches Glas, insbesondere für Photonenbestrahlung |
| DE3228826C2 (de) * | 1982-08-02 | 1986-09-25 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Hochabsorbierendes Pb-haltige Gläser für Kathodenstrahlröhrenbildschirme |
-
1986
- 1986-12-19 DE DE19863643421 patent/DE3643421A1/de active Granted
-
1987
- 1987-12-18 JP JP62321136A patent/JPS63248738A/ja active Granted
- 1987-12-21 US US07/136,191 patent/US4820326A/en not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-04-08 US US07/179,063 patent/US4906597A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-11-13 US US07/435,542 patent/US4980319A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
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| US4820326A (en) | 1989-04-11 |
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| US4980319A (en) | 1990-12-25 |
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| DE3643421A1 (de) | 1988-06-23 |
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