JPH0551997B2 - - Google Patents
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- JPH0551997B2 JPH0551997B2 JP59131872A JP13187284A JPH0551997B2 JP H0551997 B2 JPH0551997 B2 JP H0551997B2 JP 59131872 A JP59131872 A JP 59131872A JP 13187284 A JP13187284 A JP 13187284A JP H0551997 B2 JPH0551997 B2 JP H0551997B2
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は半導体メモリ装置に関し、特にデー
タ読み出し回路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a data read circuit.
(従来の技術)
半導体メモリの高集積化に伴いメモリセルサイ
ズが小さくなり、特にスタテイツクRAMにおい
ては、フリツプ・フロツプを構成するドライバト
ランジスタが小さくなり、ドライブ能力が低下す
るとともに、負荷となるビツトラインなどの浮遊
容量が増加するので、ビツト線などの電圧変化が
緩慢になり、結局、読み出し速度が遅くなる。(Prior art) As semiconductor memory becomes more highly integrated, the memory cell size becomes smaller, and in static RAM in particular, the driver transistors that make up flip-flops become smaller, reducing the drive ability and increasing the load on bit lines and other devices. Since the stray capacitance of the bit line increases, the voltage change of the bit line becomes slower, and the read speed becomes slower.
そこで、読み出しに当つて、アドレスの変化を
検出してワンシヨツトパルスを発生させ、それに
よりビツトラインやデータラインなどを等電位に
し、その後、ワードラインを立ち上げ、選択メモ
リセルによりビツトライン対に僅かに電位差が出
た後に、クロツクによりコントロールされるセン
スアンプを動作させ、ビツトラインの電位差を増
幅して、読み出し動作を高速化することが考えら
れている。 Therefore, when reading, a one-shot pulse is generated by detecting a change in the address, thereby making the bit line, data line, etc. equal potential.Then, the word line is turned on, and the bit line pair is slightly changed by the selected memory cell. It has been proposed to operate a sense amplifier controlled by a clock after a potential difference is generated to amplify the potential difference between the bit lines and thereby speed up the read operation.
さらに、平均動作電流の低減および瞬時消費電
流の低減を目的として、メモリセルアレイを複数
のブロツクに分割し、それに伴い共通のデータラ
インも複数に分割し、分割ブロツク選択回路を経
てデータ出力回路に信号を伝達させる方法が考え
られている。 Furthermore, in order to reduce average operating current and instantaneous current consumption, the memory cell array is divided into multiple blocks, and the common data line is also divided into multiple blocks, and signals are sent to the data output circuit via the divided block selection circuit. A method of communicating this is being considered.
第2図は、2分割された上記方法の従来の半導
体メモリ装置を示す図である。この図において、
トランジスタはすべてエンハンスメント型の
MOSトランジスタであり、矢印がゲート側を向
いているものはNタイプを表わし、外側を向いて
いるものはPタイプを表わす。また、図中、1
A,1Bはメモリセル、2A,2Bはカラムセン
スアンプ、3はバツフアセンスアンプである。さ
らに、4A,5A,4B,5Bはビツトラインで
あり、6A,7A,6B,7B,8,9はデータ
ラインである。また、10,11,12,13,
14,15は図示しないYデコーダ回路の出力で
ある。さらに、16,17はワードライン、1
8,19は分割ブロツクをカラムセンスアンプ活
性化信号のラインであり、20はバツフアセンス
アンプ活性化信号のラインである。また、T1,
T2,T3,T4,T5,T6,T7,T8はビ
ツトラインとデータラインとの間に接続された、
トランスフアゲートを構成するトランジスタであ
り、T9,T10,T11,T12,T13,T
14,T15,T16は分割ブロツク選択回路
A,Bを構成するトランジスタである。さらに、
C1,C2,C3,C4はビツトラインの浮遊容
量であり、C5,C6,C7,C8,C9,C1
0はデータラインの浮遊容量である。 FIG. 2 is a diagram showing a conventional semiconductor memory device divided into two parts using the above method. In this diagram,
All transistors are enhancement type
A MOS transistor whose arrow points toward the gate side represents an N type, and one whose arrow points outward represents a P type. Also, in the figure, 1
A and 1B are memory cells, 2A and 2B are column sense amplifiers, and 3 is a buffer sense amplifier. Further, 4A, 5A, 4B, and 5B are bit lines, and 6A, 7A, 6B, 7B, 8, and 9 are data lines. Also, 10, 11, 12, 13,
14 and 15 are outputs of a Y decoder circuit (not shown). Furthermore, 16 and 17 are word lines, 1
Reference numerals 8 and 19 are lines for activating the divided block column sense amplifier, and 20 is a line for activating the buffer sense amplifier. Also, T1,
T2, T3, T4, T5, T6, T7, T8 are connected between the bit line and the data line,
These are transistors that constitute a transfer gate, and T9, T10, T11, T12, T13, T
14, T15, and T16 are transistors forming divided block selection circuits A and B. moreover,
C1, C2, C3, C4 are bit line stray capacitances, C5, C6, C7, C8, C9, C1
0 is the stray capacitance of the data line.
このように構成された装置の動作を説明する。
いま、ワードライン16が立ち上がり、メモリセ
ル1Aを選択する場合を考える。この時、各ビツ
トラインおよびデータラインは、あらかじめ、ワ
ンシヨツトパルスなどにより電源電圧Vccまでプ
リチヤージされているものとする。ワードライン
16が立ち上がると、メモリセル1Aによりビツ
トライン4A(またはビツトライン5A)の放電
が始まる。この時、Yデコーダ回路の出力10,
11,14,15は確定しており、トランジスタ
T1,T2,T3,T4,T9,T10,T1
1,T12はオン状態になつている。このため、
メモリセル1Aは浮遊容量C1,C5,C9(ま
たは浮遊容量C2,C6,C10)の電荷を放電
することになる。そして、ビツトライン4A,5
Aに或る程度の電位差が生じた後にライン18の
信号を“H”レベルにカラムセンスアンプ2Aを
動作させ、ビツトラインの信号を増幅する。さら
に、適当な時間の後、ライン20の信号を“H”
レベルにしてバツフアセンスアンプ3を動作させ
て、データライン8,9に接続される図示しない
出力回路に信号を伝達する。なお、以上の動作
は、メモリセル1Aが選択される場合であるが、
別ブロツクのメモリセル1Bが選択される場合は
ワードライン17が立ち上がり、かつトランジス
タT5,T6,T7,T8,T13,T14,T
15,T16がオンし、さらにライン19の信号
が“H”レベルになつて同様な動作をする。 The operation of the device configured in this way will be explained.
Now, consider the case where the word line 16 rises and selects the memory cell 1A. At this time, it is assumed that each bit line and data line has been precharged to the power supply voltage Vcc by a one-shot pulse or the like. When word line 16 rises, memory cell 1A begins discharging bit line 4A (or bit line 5A). At this time, the output 10 of the Y decoder circuit,
11, 14, 15 are fixed, and transistors T1, T2, T3, T4, T9, T10, T1
1, T12 is in the on state. For this reason,
The memory cell 1A discharges the charges of the stray capacitances C1, C5, and C9 (or the stray capacitances C2, C6, and C10). And bit lines 4A, 5
After a certain degree of potential difference is generated at A, the signal on the line 18 is set to the "H" level, and the column sense amplifier 2A is operated to amplify the signal on the bit line. Furthermore, after a suitable time, the signal on line 20 is set to "H".
level to operate the buffer sense amplifier 3 and transmit the signal to an output circuit (not shown) connected to the data lines 8 and 9. Note that the above operation is for the case where memory cell 1A is selected, but
When memory cell 1B of another block is selected, word line 17 rises and transistors T5, T6, T7, T8, T13, T14, T
15 and T16 are turned on, and the signal on line 19 becomes "H" level, and the same operation occurs.
(発明が解決しようとする問題点)
しかるに、このような従来の装置では、分割ブ
ロツク選択回路A,Bの位置によりデータライン
6A,7Aと6B,7Bとの配線長が異なるた
め、浮遊容量C5,C6とC7,C8のアンバラ
ンスが生じる。このため、メモリセル1Aと1B
の放電時間が異なることになり、ワースト条件に
合わせてライン18と20(またはライン19と
20)のタイミングを調整しなければならず、結
局、読出し速度が遅くなり、動作マージンも劣化
するという欠点があつた。(Problem to be Solved by the Invention) However, in such a conventional device, since the wiring lengths of the data lines 6A, 7A and 6B, 7B differ depending on the positions of the divided block selection circuits A, B, the stray capacitance C5 , C6, C7, and C8 are unbalanced. Therefore, memory cells 1A and 1B
Discharge times will be different, and the timing of lines 18 and 20 (or lines 19 and 20) must be adjusted to match the worst conditions, resulting in slower read speeds and lower operating margins. It was hot.
そこで、この発明は、より高速で、安定した読
み出し動作を可能にすることを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to enable faster and more stable read operations.
(問題点を解決するための手段)
この発明の半導体メモリ装置では、複数に分割
されたメモリセルアレイの各々に対応するデータ
ライン上にそれぞれセンスアンプ回路を設け、さ
らにNMOSトランジスタとPMOSトランジスタ
からなるトランスフアゲートにより構成された分
割ブロツク選択回路の前記PMOSトランジスタ
を、前記センスアンプ回路が動作した後に導通さ
せる。(Means for Solving the Problems) In the semiconductor memory device of the present invention, a sense amplifier circuit is provided on each data line corresponding to each of the divided memory cell arrays, and a transfer amplifier circuit consisting of an NMOS transistor and a PMOS transistor is provided. The PMOS transistor of the divided block selection circuit constituted by an agate is made conductive after the sense amplifier circuit operates.
(作用)
このようにすれば、センスアンプ回路と分割ブ
ロツク選択回路を同一ブロツクのメモリセルに近
づけて配置することが可能となつて、メモリセル
が放電すべき浮遊容量の各ブロツク間のバラツキ
が少なくなり、かつ放電すべき浮遊容量そのもの
が低減される。(Function) By doing this, it becomes possible to arrange the sense amplifier circuit and the divided block selection circuit close to the memory cells of the same block, and the variation between blocks in the stray capacitance to be discharged by the memory cells is reduced. In addition, the stray capacitance to be discharged is itself reduced.
(実施例)
以下この発明の一実施例を図面を参照して説明
する。第1図はこの発明の一実施例を示す図であ
る。この図においては、説明の便宜上、第2図と
同一部分に同一番号を付してある。(Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention. In this figure, for convenience of explanation, the same parts as in FIG. 2 are given the same numbers.
第1図において、1A,1Bは各々メモリセル
で、メモリセル1Aはビツトライン4A,5Aお
よびワードライン16に接続され、メモリセル1
Bはビツトライン4B,5Bおよびワードライン
17に接続される。2A,2Bは各々カラムセン
スアンプで、カラムセンスアンプ2Aはビツトラ
イン4A,5Aおよび分割ブロツクのカラムセン
スアンプ活性化信号のライン18に接続され、カ
ラムセンスアンプ2Bはビツトライン4B,5B
および分割ブロツクのカラムセンスアンプ活性化
信号のライン19に接続される。6A,7A,6
B,7Bはデータラインであり、これらデータラ
イン6A,7A,6B,7Bと前記ビツトライン
4A,5A,4B,5B間に、トランスフアゲー
トを構成するP,N−対のMOSトランジスタが
各々接続される。すなわち、ビツトライン4Aと
データライン6A間にはPMOSトランジスタT
1とNMOSトランジスタT2が接続される。こ
れらトランジスタT1,T2はソース、ドレイン
が並列接続され、ドレインがビツトライン4A
に、他方ソースがデータライン6Aに接続され
る。ビツトライン5Aとデータライン7A間には
NMOSトランジスタT3とPMOSトランジスタ
T4が接続される。接続状態は、MOSトランジ
スタT1,T2と同一である。ビツトライン4B
とデータライン6B間にはPMOSトランジスタ
T5とNMOSトランジスタT6が接続される。
接続状態は、MOSトランジスタT1,T2と同
一である。ビツトライン5Bとデータライン7B
間にはNMOSトランジスタT7とPMOSトラン
ジスタT8が接続される。接続状態は、MOSト
ランジスタT1,T2と同一である。そして、
NMOSトランジスタT2,T3はゲートが共通
に接続されて、Yデコーダ回路(図示せず)の出
力10に接続され、同様に、PMOSトランジス
タT1,T4はゲートがYデコーダ回路の出力1
1に接続される。また、NMOSトランジスタT
6,T7はゲートがYデコーダ回路の出力12に
接続され、PMOSトランジスタT5,T8はゲ
ートがYデコーダ回路の出力13に接続される。
3Aはバツフアセンスアンプ(センスアンプ回
路)であり、データライン6A,7Aに接続され
る。さらに、このバツフアセンスアンプ3Aには
分割ブロツクのバツフアセンスアンプ活性化信号
のライン20が接続される。3Bは、バツフアセ
ンスアンプ3Aと同等のバツフアセンスアンプ
(センスアンプ回路)であり、データライン6B,
7Bに接続される。このバツフアセンスアンプ3
Bには分割ブロツクのバツフアセンスアンプ活性
化信号のライン21が接続される。8,9はデー
タラインで、出力回路(図示せず)に接続され
る。このデータライン8,9とデータライン7
A,6A間、換言すれば前記出力回路と前記バツ
フアセンスアンプ3A間には、分割ブロツク選択
回路Aが接続される。同様に、データライン8,
9とデータライン7B,6B間、換言すれば前記
出力回路と前記バツフアセンスアンプ3B間には
分割ブロツク選択回路Bが接続される。前記分割
ブロツク選択回路Aは、トランスフアゲートを構
成するNMOS、PMOSトランジスタT9,T1
0およびT12,T11で構成される。NMOS
トランジスタT9とPMOSトランジスタT10
はソース・ドレインが並列接続された上で、ドレ
インがデータライン6Aに接続され、ソースがデ
ータライン9に接続される。同様に、NMOSト
ランジスタT12とPMOSトランジスタT11
は、ソース・ドレインが並列接続された上で、ド
レインがデータライン7Aに接続され、ソースが
データライン8に接続される。また、NMOSト
ランジスタT9,T12のゲートがYデコーダ回
路の出力14に接続される一方、前記ライン20
がインバータ22を介してPMOSトランジスタ
T10,T11のゲートに接続される。前記分割
ブロツク選択回路Bはトランスフアゲートを構成
するNMOS、PMOSトランジスタT13,T1
4およびT16,T15で構成される。NMOS
トランジスタT13とPMOSトランジスタT1
4はソース・ドレインが並列接続された上で、ド
レインがデータライン9に接続され、ソースがデ
ータライン6Bに接続される。同様にNMOSト
ランジスタT16とPMOSトランジスタT15
は、ソース・ドレインが並列接続された上で、ド
レインがデータライン8に接続され、ソースがデ
ータライン7Bに接続される。また、NMOSト
ランジスタT13,T16のゲートがYデコーダ
回路の出力15に接続される一方、前記ライン2
1がインバータ23を介してPMOSトランジス
タT14,T15のゲートに接続される。なお、
C1,C2,C3,C4はビツトライン4A,5
A,4B,5Bの浮遊容量であり、C5,C6,
C7,C8,C9,C10はデータライン6A,
7A,6B,7B,9,8の浮遊容量である。 In FIG. 1, 1A and 1B are memory cells, respectively. Memory cell 1A is connected to bit lines 4A and 5A and word line 16, and memory cell 1A is connected to bit lines 4A and 5A and word line 16.
B is connected to bit lines 4B, 5B and word line 17. 2A and 2B are column sense amplifiers, respectively. The column sense amplifier 2A is connected to the bit lines 4A and 5A and the column sense amplifier activation signal line 18 of the divided block, and the column sense amplifier 2B is connected to the bit lines 4B and 5B.
and connected to line 19 of the column sense amplifier activation signal of the divided block. 6A, 7A, 6
B and 7B are data lines, and between these data lines 6A, 7A, 6B, and 7B and the bit lines 4A, 5A, 4B, and 5B, P and N pairs of MOS transistors forming transfer gates are connected, respectively. . That is, a PMOS transistor T is connected between the bit line 4A and the data line 6A.
1 and NMOS transistor T2 are connected. The sources and drains of these transistors T1 and T2 are connected in parallel, and the drain is connected to the bit line 4A.
The other source is connected to data line 6A. Between bit line 5A and data line 7A
NMOS transistor T3 and PMOS transistor T4 are connected. The connection state is the same as that of MOS transistors T1 and T2. Bit line 4B
A PMOS transistor T5 and an NMOS transistor T6 are connected between the data line 6B and the data line 6B.
The connection state is the same as that of MOS transistors T1 and T2. Bit line 5B and data line 7B
An NMOS transistor T7 and a PMOS transistor T8 are connected between them. The connection state is the same as that of MOS transistors T1 and T2. and,
NMOS transistors T2 and T3 have their gates connected in common and are connected to output 10 of a Y-decoder circuit (not shown), and similarly, PMOS transistors T1 and T4 have their gates connected to output 10 of a Y-decoder circuit (not shown).
Connected to 1. Also, NMOS transistor T
6 and T7 have their gates connected to the output 12 of the Y decoder circuit, and PMOS transistors T5 and T8 have their gates connected to the output 13 of the Y decoder circuit.
3A is a buffer sense amplifier (sense amplifier circuit), which is connected to data lines 6A and 7A. Further, a line 20 for the buffer sense amplifier activation signal of the divided block is connected to the buffer sense amplifier 3A. 3B is a buffer sense amplifier (sense amplifier circuit) equivalent to buffer sense amplifier 3A, and data lines 6B,
Connected to 7B. This buffer sense amplifier 3
A line 21 of the buffer sense amplifier activation signal of the divided block is connected to B. 8 and 9 are data lines connected to an output circuit (not shown). This data line 8, 9 and data line 7
A divided block selection circuit A is connected between A and 6A, in other words, between the output circuit and the buffer sense amplifier 3A. Similarly, data line 8,
9 and data lines 7B and 6B, in other words, a divided block selection circuit B is connected between the output circuit and the buffer sense amplifier 3B. The divided block selection circuit A includes NMOS and PMOS transistors T9 and T1 that constitute a transfer gate.
0, T12, and T11. NMOS
Transistor T9 and PMOS transistor T10
The source and drain are connected in parallel, the drain is connected to the data line 6A, and the source is connected to the data line 9. Similarly, NMOS transistor T12 and PMOS transistor T11
The source and drain are connected in parallel, the drain is connected to the data line 7A, and the source is connected to the data line 8. Also, the gates of the NMOS transistors T9 and T12 are connected to the output 14 of the Y decoder circuit, while the line 20
is connected to the gates of PMOS transistors T10 and T11 via an inverter 22. The divided block selection circuit B includes NMOS and PMOS transistors T13 and T1 that constitute a transfer gate.
4, T16, and T15. NMOS
Transistor T13 and PMOS transistor T1
4 has its source and drain connected in parallel, the drain is connected to the data line 9, and the source is connected to the data line 6B. Similarly, NMOS transistor T16 and PMOS transistor T15
The source and drain are connected in parallel, the drain is connected to the data line 8, and the source is connected to the data line 7B. Furthermore, the gates of the NMOS transistors T13 and T16 are connected to the output 15 of the Y decoder circuit, while the line 2
1 is connected to the gates of PMOS transistors T14 and T15 via an inverter 23. In addition,
C1, C2, C3, C4 are bit lines 4A, 5
A, 4B, 5B stray capacitance, C5, C6,
C7, C8, C9, C10 are data lines 6A,
These are the stray capacitances of 7A, 6B, 7B, 9, and 8.
このように構成された装置の動作を説明する。
いま、ワードライン16が立ち上がり、メモリセ
ル1Aを選択する場合を考える。この時、各ビツ
トラインおよびデータラインは、あらかじめ、ワ
ンシヨツトパルスなどにより電源電圧Vccまでプ
リチヤージされているものとする。ワードライン
16が立ち上がると、メモリセル1Aによりビツ
トライン4A(またはビツトライン5A)の放電
が始まる。この時、Yデコーダ回路の出力10,
11,14は確定しており、トランジスタT1,
T2,T3,T4,T9,T12はオン状態にな
つている。ところが、ライン20のバツフアセン
スアンプ活性化信号は“L”レベルであるため、
インバータ22出力の反転信号は“H”レベルに
なつており、PMOSトランジスタT10,T1
1はオフ状態になつている。このため、浮遊容量
C9(または浮遊容量C10)の電荷は、データ
ライン6A(またはデータライン7A)の電位が
Vcc−VTN(VTNはNMOSトラジスタT9,T12
の闘値電圧)以下になるまで無視できるため、メ
モリセル1Aが放電すべき電荷は浮遊容量C1と
C5(または浮遊容量C2とC6)だけである。
したがつて、ビツトライン4Aと5A間の電位差
は、従来回路に比較して、低減された浮遊容量C
9(または浮遊容量C10)の分だけ迅速に拡が
ることになる。したがつて、カラムセンスアンプ
2Aの動作タイミングを早めることができ、高速
読み出しが可能となる。その後、ライン20のバ
ツフアセンスアンプ活性化信号を“H”レベルに
してバツフアセンスアンプ3Aを駆動するととも
に、PMOSトランジスタT10,T11をオン
状態にして、出力回路に信号を伝達する。この
時、MOSトランジスタT10,T11がPMOS
トランジスタであるため、データライン6Aと
9,7Aと8は等電位で接続される。 The operation of the device configured in this way will be explained.
Now, consider the case where the word line 16 rises and selects the memory cell 1A. At this time, it is assumed that each bit line and data line has been precharged to the power supply voltage Vcc by a one-shot pulse or the like. When word line 16 rises, memory cell 1A begins discharging bit line 4A (or bit line 5A). At this time, the output 10 of the Y decoder circuit,
11 and 14 have been determined, and the transistors T1,
T2, T3, T4, T9, and T12 are in the on state. However, since the buffer sense amplifier activation signal on line 20 is at "L" level,
The inverted signal of the inverter 22 output is at "H" level, and the PMOS transistors T10 and T1
1 is in the off state. Therefore, the electric charge of stray capacitance C9 (or stray capacitance C10) is lower than the potential of data line 6A (or data line 7A).
Vcc−V TN (V TN is NMOS transistor T9, T12
(threshold voltage) can be ignored until it becomes less than the threshold voltage, so the only charges that the memory cell 1A should discharge are the stray capacitances C1 and C5 (or the stray capacitances C2 and C6).
Therefore, the potential difference between bit lines 4A and 5A is reduced by stray capacitance C compared to the conventional circuit.
9 (or stray capacitance C10). Therefore, the operation timing of the column sense amplifier 2A can be advanced, and high-speed reading becomes possible. Thereafter, the buffer sense amplifier activation signal on the line 20 is set to "H" level to drive the buffer sense amplifier 3A, and the PMOS transistors T10 and T11 are turned on to transmit a signal to the output circuit. At this time, MOS transistors T10 and T11 are PMOS
Since they are transistors, data lines 6A and 9, and 7A and 8 are connected at equal potential.
なお、以上は、メモリセル1Aが選択される場
合であるが、別ブロツクのメモリセル1Bが選択
される場合も同様に動作する。 Although the above description is for the case where the memory cell 1A is selected, the same operation is performed when the memory cell 1B of another block is selected.
また、上記装置では、バツフアセンスアンプと
分割ブロツク選択回路が各ブロツク専用であるか
ら、これらを同一ブロツクのメモリセルに近づけ
て配置して、データライン6A,7A,6B,7
Bの配線長を等しく、かつ短かくできる。すなわ
ち、データライン6A,7A,6B,7Bの浮遊
容量C5,C6,C7,C8は従来の構成に比べ
て小さくなり、かつ同一の値になり、各ブロツク
間のバラツキがなくなるもので、これにより動作
マージンが向上する。 Further, in the above device, since the buffer sense amplifier and the divided block selection circuit are dedicated to each block, they are arranged close to the memory cells of the same block, and the data lines 6A, 7A, 6B, 7
The wiring lengths of B can be made equal and shorter. In other words, the stray capacitances C5, C6, C7, and C8 of the data lines 6A, 7A, 6B, and 7B are smaller than in the conventional configuration and have the same value, eliminating variations between each block. The operating margin is improved.
(発明の効果)
以上詳述したようにこの発明の半導体メモリ装
置は、複数に分割されたメモリセルアレイの各々
に対応するデータライン上にそれぞれセンスアン
プ回路を設け、さらに分割ブロツク選択回路のト
ランスフアゲートを構成するPMOSトランジス
タを、前記センスアンプ回路の動作後に導通させ
るようにしたので、メモリセルが放電すべき浮遊
容量を減少させることができるとともに、各デー
タラインの浮遊容量のアンバランスをなくすこと
ができ、それにより読み出し動作が高速になると
ともに、動作マージンを拡大することが可能とな
る。(Effects of the Invention) As described in detail above, the semiconductor memory device of the present invention includes a sense amplifier circuit provided on each data line corresponding to each of the divided memory cell arrays, and a transfer gate of the divided block selection circuit. Since the PMOS transistors constituting the sense amplifier circuit are made conductive after the sense amplifier circuit is activated, it is possible to reduce the stray capacitance that the memory cells must discharge, and it is also possible to eliminate the unbalance of the stray capacitance of each data line. This makes it possible to speed up the read operation and expand the operating margin.
第1図はこの発明の半導体メモリ装置の一実施
例を示す回路構成図、第2図は従来の半導体メモ
リ装置の回路構成図である。
1A,1B……メモリセル、6A,7A,6
B,7B,8,9……データライン、3A,3B
……バツフアセンスアンプ、A,B……分割ブロ
ツク選択回路、T9,T12,T13,T16…
…NMOSトランジスタ、T10,T11,T1
4,T15……PMOSトランジスタ、20,2
1……分割ブロツクのバツフアセンスアンプ活性
化信号のライン、22,23……インバータ。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the semiconductor memory device of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device. 1A, 1B...Memory cell, 6A, 7A, 6
B, 7B, 8, 9...Data line, 3A, 3B
... Buffer sense amplifier, A, B ... Divided block selection circuit, T9, T12, T13, T16...
...NMOS transistor, T10, T11, T1
4, T15...PMOS transistor, 20,2
1... Line of buffer sense amplifier activation signal of divided block, 22, 23... Inverter.
Claims (1)
ルとなる第1及び第2のビツトラインと、 前記第1及び第2のビツトラインにより、異な
る電位レベルとなる第1及び第2のデータライン
と、 前記第1及び第2のデータラインと接続し、前
記第1及び第2のデータライン間に微小電位差が
生じる第1の時刻に増幅動作を開始するセンスア
ンプ回路であつて、前記第1及び第2のデータラ
インの前記微小電位差を増幅するセンスアンプ回
路と、 出力手段と、 前記第1のデータラインと前記出力手段とを電
気的に接続する、第1のPMOSトランジスタと
第1のNMOSトランジスタとを並列接続した第
1のトランジスタ回路と、 前記第2のデータラインと前記出力手段とを電
気的に接続する、第2のPMOSトランジスタと
第2のNMOSトランジスタとを並列接続した第
2のトランジスタ回路と、 前記第1及び第2のPMOSトランジスタを前
記第1の時刻後で、且つ前記第1と第2のデータ
ライン間の電位差が十分大きくなつた後にON状
態にし、前記第1及び第2のPMOSトランジス
タがON状態となる前に、前記第1及び第2の
NMOSトランジスタをON状態にする制御手段と
を有することを特徴とした半導体メモリ装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の半導体メモリ装
置において、 前記制御手段が前記第1の時刻前に前記第1及
び第2のNMOSトランジスタをON状態にするこ
とを特徴とした半導体メモリ装置。[Scope of Claims] 1. A memory cell that stores information; first and second bit lines that have different potential levels depending on the information in the memory cell; and first and second bit lines that have different potential levels depending on the first and second bit lines. a sense that is connected to the first and second data lines and starts an amplification operation at a first time when a minute potential difference occurs between the first and second data lines; a sense amplifier circuit that is an amplifier circuit and amplifies the minute potential difference between the first and second data lines; an output means; and a sense amplifier circuit that electrically connects the first data line and the output means. a first transistor circuit in which a first PMOS transistor and a first NMOS transistor are connected in parallel; a second PMOS transistor and a second NMOS electrically connect the second data line and the output means; a second transistor circuit in which a transistor is connected in parallel, and the first and second PMOS transistors after the first time and after the potential difference between the first and second data lines becomes sufficiently large. ON state, and before the first and second PMOS transistors become ON state, the first and second PMOS transistors are turned on.
1. A semiconductor memory device comprising: control means for turning on an NMOS transistor. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the control means turns on the first and second NMOS transistors before the first time.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59131872A JPS6111991A (en) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59131872A JPS6111991A (en) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | Semiconductor memory device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6111991A JPS6111991A (en) | 1986-01-20 |
| JPH0551997B2 true JPH0551997B2 (en) | 1993-08-04 |
Family
ID=15068105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59131872A Granted JPS6111991A (en) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6111991A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62250588A (en) * | 1986-04-23 | 1987-10-31 | Hitachi Ltd | Statistic type RAM |
| JP2538563B2 (en) * | 1986-05-20 | 1996-09-25 | 三菱化学株式会社 | High-quality coke manufacturing method |
| JPH01179292A (en) * | 1987-12-29 | 1989-07-17 | Nec Corp | Semiconductor memory device |
| JP2840277B2 (en) * | 1988-02-16 | 1998-12-24 | テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド | Improved bi-CMOS read / write memory |
| KR920000409B1 (en) * | 1989-11-30 | 1992-01-13 | 현대전자산업 주식회사 | Isoation circuit of dram |
-
1984
- 1984-06-28 JP JP59131872A patent/JPS6111991A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6111991A (en) | 1986-01-20 |
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