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JPH0554260B2 - - Google Patents
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JPH0554260B2 - - Google Patents

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JPH0554260B2
JPH0554260B2 JP57196758A JP19675882A JPH0554260B2 JP H0554260 B2 JPH0554260 B2 JP H0554260B2 JP 57196758 A JP57196758 A JP 57196758A JP 19675882 A JP19675882 A JP 19675882A JP H0554260 B2 JPH0554260 B2 JP H0554260B2
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semiconductor laser
capillary
laser chip
die bonding
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体レーザー・チツプをサブマウ
ント上にボンデイングするためのダイ・ボンデイ
ング方法に関する。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a die bonding method for bonding a semiconductor laser chip onto a submount.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

近時、光方式のデイジタル・オーデイオ・デイ
スク(igital udio isc)が実用化され大
量生産されようとしている。これにともないデイ
ジタル・オーデイオ・デイスクに組込まれている
半導体レーザーも、その価格、寿命、性能の点で
よりすぐれたものが要求されるようになつてい
る。そこで、これらの要求を満足させるために半
導体レーザの自動製造装置が開発されている。こ
の自動製造装置のうちで重要なものの一つは、半
導体レーザー・チツプをサブマウント上に接合す
るためのダイ・ボンデイング装置である。第1図
は、半導体レーザー用に一般に使用されているダ
イ・ボンデイング装置を示すもので、電熱線が内
蔵されたプレヒータ1上に例えば銅又はシリコン
などからなるサブマウント2が真空吸着されてい
る。そして、サブマウント2上方にてキヤピラリ
3先端に真空吸着された半導体レーザー・チツプ
(一般に、GaAlAs系)4をサブマウント2上に
位置決めするとともに加圧する。しかして、プレ
ヒータ1により半導体レーザー・チツプ4とサブ
マウント2との接合部近傍を200〜350℃に電熱加
熱して、上記ポンデイング部に介在しているAu
−Sn系、Au−Si系等のボンデイング・インサー
ト材を溶融させてダイ・ボンデイングしていた。
しかるに、このような従来のダイ・ボンデイング
方式によれば、加熱はプレヒータ1に内蔵された
電熱線により行つているので、ボンデイング部を
ボンデイング温度まで上昇させるのに長時間(例
えば30〜60秒)が必要であつた。また、いつたん
サブマウント2の温度が上昇すると、冷却時間も
遅いため、ボンデイング・インサート材が溶融後
凝固するのにも時間を要し、完全に凝固が完了す
るまで精密位置決めを行うため、高精度位置で保
持しなければならなかつた。その結果、従来のダ
イ・ボンデイング方式では、ボンデイング時間が
長くなりすぎ(120秒以上)、生産能率を著しく低
下させていた。のみならず、半導体レーザー・チ
ツプは、熱歪によつて発光特性が変化するため、
上記従来のようにボンデイング時間が長い場合に
は、熱歪がしばしば残留してしまい、半導体レー
ザの信頼性低下の一因となつていた。
Recently, optical digital audio disks ( Digital Audio Discs ) have been put into practical use and are about to be mass produced. Along with this, the semiconductor lasers incorporated in digital audio disks are also required to be superior in terms of price, lifespan, and performance. Therefore, automatic semiconductor laser manufacturing equipment has been developed to satisfy these demands. One of the important parts of this automatic manufacturing equipment is a die bonding equipment for bonding a semiconductor laser chip onto a submount. FIG. 1 shows a die bonding apparatus generally used for semiconductor lasers, in which a submount 2 made of, for example, copper or silicon is vacuum-adsorbed onto a preheater 1 having a built-in heating wire. Then, a semiconductor laser chip (generally GaAlAs type) 4 vacuum-adsorbed to the tip of a capillary 3 above the submount 2 is positioned on the submount 2 and pressurized. The vicinity of the joint between the semiconductor laser chip 4 and the submount 2 is electrically heated to 200 to 350°C by the preheater 1, and the Au
-Die bonding was performed by melting bonding insert materials such as Sn-based and Au-Si-based materials.
However, according to such a conventional die bonding method, heating is performed using a heating wire built into the preheater 1, so it takes a long time (for example, 30 to 60 seconds) to raise the bonding part to the bonding temperature. was necessary. In addition, once the temperature of submount 2 rises, the cooling time is also slow, so it takes time for the bonding insert material to solidify after melting. It had to be held in position with precision. As a result, in the conventional die bonding method, the bonding time was too long (120 seconds or more), significantly reducing production efficiency. In addition, the emission characteristics of semiconductor laser chips change due to thermal strain, so
When the bonding time is long as in the above-described conventional method, thermal strain often remains, which is a factor in reducing the reliability of the semiconductor laser.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、上記事情を参酌してなされたもの
で、半導体レーザー・チツプをサブマウントに高
能率かつ熱歪を残留させることなく信頼性をもつ
て接合させることのできるダイ・ボンデイング方
法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and provides a die bonding method that can bond a semiconductor laser chip to a submount with high efficiency and reliability without leaving any residual thermal strain. The purpose is to

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願発明は、キヤピラリに保持された半導体レ
ーザー・チツプを載置台上に載置されたサブマウ
ントへダイ・ボンデイングするダイ・ボンデイン
グ方法において、上記キヤピラリとこのキヤピラ
リに保持された上記半導体レーザー・チツプとこ
の保持された半導体レーザ・チツプが載置される
上記サブマウントに加熱された不活性ガスを吹付
けて予熱する予熱工程と、上記キヤピラリとサブ
マウントの少なくとも一方を加熱する加熱体を設
け、この加熱体に給電することにより上記キヤピ
ラリとサブマウントの少なくとも一方を瞬間的に
加熱する加熱工程と、上記予熱工程の後加熱工程
を行うことにより上記半導体レーザー・チツプと
上記サブマウントとの間に介在しているボンデイ
ング・インサート材を溶融させ上記半導体レーザ
ー・チツプと上記サブマウントとをダイボンデイ
ングする工程と、上記加熱体への給電の停止及び
上記予熱の停止と同時に上記キヤピラリを上昇さ
せる工程とを有することを特徴とするダイ・ボン
デイング方法を提供するものである。
The present invention provides a die bonding method for die bonding a semiconductor laser chip held on a capillary to a submount placed on a mounting table, in which the semiconductor laser chip held on the capillary and the semiconductor laser chip held on the capillary are bonded together. A preheating step is provided in which the submount on which the held semiconductor laser chip is placed is preheated by spraying heated inert gas, and a heating element is provided to heat at least one of the capillary and the submount. A heating step of instantaneously heating at least one of the capillary and the submount by supplying power to a heating element, and a heating step after the preheating step to intervene between the semiconductor laser chip and the submount. a step of die bonding the semiconductor laser chip and the submount by melting the bonding insert material, and a step of raising the capillary at the same time as stopping power supply to the heating element and stopping the preheating. A die bonding method is provided.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明を図面を参照して、実施例に基づ
いて詳述する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples with reference to the drawings.

第2図は、本実施例のダイ・ボンデイング方法
に使用されているダイ・ボンデイング装置を示し
ている。X−Yテーブルである基台5には図示せ
ぬ真空源に接続された吸引孔6が穿設され、基台
5の上面に開口している。この基台5は図示せぬ
ステツピング・モータにより駆動され、かつ演算
制御部からの制御信号により所定位置に位置決め
されるようになつている。さらに、この基台5の
上面には、例えばMo、ステンレス鋼などの材料
からなる加熱体7が固設されている。この加熱体
7の中央部(寸法は例えば長さ25mm、幅3mm、厚
さ1.5mm)上面にはサブマウント8を載置する設
置面9が形成されている。すなわち、加熱体7は
サブマウント8を載置する載置台となつている。
また、加熱体7には、吸引孔6に連通し載置面9
に開口する透孔10が穿設されサブマウント8を
真空吸着するようになつている。さらに、加熱体
7は、図示せぬ溶接電源に電気的に接続され、加
熱体7への給電により、加熱体7を200〜500℃に
加熱制御するようになつている。なお、加熱体7
の中央部には例えば熱電対などの温度センサ7a
が埋設され、上記溶接電源の制御機構に電気的に
接続されている。一方、加熱体7上方には金属製
のキヤピラリ11が昇降自在に配設されている。
このキヤピラリ11先端には、加熱体7に保持さ
れたサブマウント8に対向するように、真空吸着
孔12が開口していて、半導体レーザー・チツプ
13を真空吸着するようになつている。さらに、
キヤピラリ11の側方には、ガスヒータ14が設
けられている。このガスヒータ14は、先端がノ
ズルに形成され、内部に電熱線15が内蔵された
耐熱管16からなつていて、アルゴンガス、窒素
ガス等の図示せぬ不活性ガス源に接続されてい
る。そしてガスヒータ14のノズルよりダイ・ボ
ンデイングされる半導体レーザー・チツプ13と
サブマウント8すなわちボンデイング部位に、
200〜300℃の不活性ガスを吹付け予熱を行うよう
になつている。
FIG. 2 shows a die bonding apparatus used in the die bonding method of this embodiment. A suction hole 6 connected to a vacuum source (not shown) is bored in the base 5, which is an X-Y table, and is open on the upper surface of the base 5. This base 5 is driven by a stepping motor (not shown) and is positioned at a predetermined position by a control signal from an arithmetic control section. Further, on the upper surface of this base 5, a heating element 7 made of a material such as Mo or stainless steel is fixedly installed. An installation surface 9 on which a submount 8 is placed is formed on the upper surface of the central portion of the heating body 7 (dimensions are, for example, 25 mm in length, 3 mm in width, and 1.5 mm in thickness). That is, the heating body 7 serves as a mounting table on which the submount 8 is mounted.
The heating body 7 also has a mounting surface 9 that communicates with the suction hole 6.
A through hole 10 is provided to allow the submount 8 to be vacuum-adsorbed. Further, the heating element 7 is electrically connected to a welding power source (not shown), and by supplying power to the heating element 7, the heating element 7 is controlled to be heated to 200 to 500 degrees Celsius. In addition, the heating body 7
For example, a temperature sensor 7a such as a thermocouple is installed in the center of the
is buried and electrically connected to the control mechanism of the welding power source. On the other hand, a metal capillary 11 is disposed above the heating body 7 so as to be movable up and down.
A vacuum suction hole 12 is opened at the tip of the capillary 11 so as to face the submount 8 held by the heating body 7, and a semiconductor laser chip 13 is vacuum suctioned therein. moreover,
A gas heater 14 is provided on the side of the capillary 11. This gas heater 14 consists of a heat-resistant tube 16 whose tip is formed into a nozzle and has a heating wire 15 built therein, and is connected to a source of an inert gas (not shown) such as argon gas or nitrogen gas. Then, the semiconductor laser chip 13 which is die-bonded from the nozzle of the gas heater 14 and the submount 8, that is, the bonding site, are
Preheating is performed by spraying inert gas at 200-300℃.

つぎに、上記のように構成されたダイ・ボンデ
イング装置を用いたダイ・ボンデイング方法につ
いて説明する。まず、キヤピラリ11に例えば
GaAlAs系の半導体レーザー・チツプ13(寸法
は、例えば縦400μm、横250μm、厚さ80〜130μ
m)を真空吸着させるとともに、加熱体7の載置
面9上に例えば銅又はシリコンからなるサブマウ
ント8(寸法は例えば縦2mm、横1.2mm、厚さ
220μm)を真空吸着させる。そして、基台1を
動かして、サブマウント8の位置決めを行う。こ
のとき、ガスヒータ14から200〜300℃に加熱さ
れた不活性ガスが、第2図矢印17方向に吹出さ
れ、キヤピラリ11及びこのキヤピラリ11に吸
着・保持された半導体レーザ・チツプ13及び加
熱体7に載置されたサブマウント8は、100〜200
℃に加熱される。しかして、キヤピラリ11を下
降させ、半導体レーザー・チツプ13をサブマウ
ント8に対して約10g程度で押圧する。ついで、
溶接電源から加熱体7に対して1〜5秒間大電流
(200〜800A)に給電する(給電時間は、温度セ
ンサ7aからの温度検出信号をフイードバツク信
号として所定温度に設定時間だけ保持されるよう
に、自動制御される。)。すると、加熱体7は、あ
らかじめ設定された温度(200〜500℃)にまで昇
温する。その結果、サブマウント8の表面に蒸着
され半導体レーザー・チツプ13との間に介在し
ているAu−Sn系ろう材、Au−Si系ろう材、Inろ
う材又はSu−Pb系ろう材のいずれかからなるボ
ンデイング・インサート材が溶融し、サブマウン
ト8に半導体レーザー・チツプ13がダイ・ボン
デイングされる。給電及びガスヒータ14からの
不活性ガスの吹付けを停止すると、ボンデイング
部は常温にまで急冷する。したがつて、ボンデイ
ング・インサート材も直ちに凝固するので、キヤ
ピラリ11を給電の停止とほぼ同時に上昇させて
ダイ・ボンデイングを終了させることができる。
このように、本実施のダイ・ボンデイング方法
は、給電によりボンデイング部を瞬時に所要温度
に上昇させることができるとともに、ダイ・ボン
デイング終了後、直ちに急冷することが可能であ
るので、ダイボンデイング時間を短縮することが
できる。しかも、加熱時間が短くてすむので、半
導体レーザー・チツプ13に熱歪が残留すること
がなくなり、半導体レーザーの品質及び信頼性が
高くなる。また、確実なボンデイングが可能とな
る結果、スクラブを行つたり、半導体レーザー・
チツプ13を高い加圧力でサブマウント8に押圧
したりする必要がなくなり、半導体レーザー・チ
ツプ13の損傷を招く虞がなくなる。
Next, a die bonding method using the die bonding apparatus configured as described above will be explained. First, for example, in capillary 11
GaAlAs semiconductor laser chip 13 (dimensions are, for example, 400 μm long, 250 μm wide, 80 to 130 μm thick)
m) is vacuum-adsorbed, and a submount 8 made of, for example, copper or silicon (dimensions are, for example, 2 mm in length, 1.2 mm in width, and thickness) is placed on the mounting surface 9 of the heating element 7.
220μm) by vacuum adsorption. Then, the base 1 is moved to position the submount 8. At this time, inert gas heated to 200 to 300°C is blown out from the gas heater 14 in the direction of the arrow 17 in FIG. The submount 8 placed on the
heated to ℃. Then, the capillary 11 is lowered and the semiconductor laser chip 13 is pressed against the submount 8 with a force of about 10 g. Then,
A large current (200 to 800 A) is supplied from the welding power source to the heating element 7 for 1 to 5 seconds. automatically controlled). Then, the heating body 7 is heated to a preset temperature (200 to 500°C). As a result, any of the Au-Sn brazing material, Au-Si brazing material, In brazing material, or Su-Pb brazing material deposited on the surface of the submount 8 and interposed between it and the semiconductor laser chip 13 is determined. This bonding insert material is melted, and the semiconductor laser chip 13 is die-bonded to the submount 8. When the power supply and the blowing of inert gas from the gas heater 14 are stopped, the bonding part is rapidly cooled to room temperature. Therefore, since the bonding insert material also solidifies immediately, the capillary 11 can be raised almost at the same time as the power supply is stopped, and die bonding can be completed.
In this way, the die bonding method of this embodiment can instantaneously raise the temperature of the bonding area to the required temperature by supplying power, and can quickly cool the bonding area immediately after the die bonding is completed, so the die bonding time can be reduced. Can be shortened. Moreover, since the heating time is short, no thermal distortion remains in the semiconductor laser chip 13, and the quality and reliability of the semiconductor laser is improved. In addition, as a result of reliable bonding, it is possible to perform scrubbing, semiconductor lasers, etc.
There is no need to press the chip 13 against the submount 8 with a high pressure, and there is no risk of damage to the semiconductor laser chip 13.

第3図は、本発明の他の実施例のダイ・ボンデ
イング方法に用いられるダイ・ボンデイング装置
を示すもので、X−Yテーブルである基台19に
は図示せぬ真空源に接続された吸引孔20が穿設
され、基台19の上面に開口している。この基台
19は図示せぬステツピング・モータにより駆動
され、かつ演算制御部からの制御信号により所定
位置に位置決めされるようになつている。さらに
この基台19の上面には、プレヒータ21が固設
されている。このプレヒータ21の上面はサブマ
ウント22を載置する載置面23が形成されてい
る。つまり、ブレヒータ21はサブマウント22
を載置する載置台となつている。また、このプレ
ヒータ21には、吸引孔20に連通し載置面23
に開口する透孔24が穿設されサブマウント22
を真空吸着するようになつている。さらに、プレ
ヒータ21中には、電熱線25が内蔵され、サブ
マウント22を100〜200℃に予熱するようになつ
ている。一方、プレヒータ21上方には、金属製
のキヤピラリ26が昇降自在に配設されている。
このキヤピラリ26先端には、プレヒータ21に
保持されたサブマウント22に対向するように、
真空吸着孔27が開口していて半導体レーザー・
チツプ28を真空吸着するようになつている。ま
た、キヤピラリ26の先端部分はV字状に成形さ
たれ例えばMo、ステンレス鋼などからなる加熱
体29(寸法は例えば幅3mm、厚さ1.5mm)の下
端中央部分に挿嵌されている。そして、キヤピラ
リ26の真空吸着孔27の開口端部は、加熱体2
9より穿設された状態となつている。また、上記
加熱体29は、キヤピラリ26と一体的に昇降さ
れるようになつている。そして、加熱体29は、
図示せぬ溶接電源に電気的に接続され、加熱体2
9への給電により、加熱体29を300〜500℃に加
熱するようになつている。なお、加熱体29のキ
ヤピラリ26近傍には、例えば熱電対などの温度
センサ29aが埋設され、上記溶接電源の制御機
構に電気的に接続されている。
FIG. 3 shows a die bonding apparatus used in a die bonding method according to another embodiment of the present invention. A hole 20 is bored and opens on the upper surface of the base 19. This base 19 is driven by a stepping motor (not shown) and is positioned at a predetermined position by a control signal from an arithmetic control section. Furthermore, a preheater 21 is fixedly installed on the upper surface of this base 19. A mounting surface 23 on which a submount 22 is mounted is formed on the upper surface of this preheater 21 . In other words, the brake heater 21 is the submount 22
It serves as a mounting table on which to place items. The preheater 21 also has a mounting surface 23 that communicates with the suction hole 20.
A through hole 24 opening to the submount 22 is bored.
It is designed to be vacuum adsorbed. Furthermore, a heating wire 25 is built into the preheater 21 to preheat the submount 22 to 100 to 200°C. On the other hand, a metal capillary 26 is disposed above the preheater 21 so as to be movable up and down.
At the tip of this capillary 26, so as to face the submount 22 held by the preheater 21,
The vacuum suction hole 27 is open and the semiconductor laser
The chip 28 is vacuum-adsorbed. The tip of the capillary 26 is formed into a V-shape and is inserted into the center of the lower end of a heating body 29 (having dimensions of, for example, 3 mm in width and 1.5 mm in thickness) made of, for example, Mo or stainless steel. The opening end of the vacuum suction hole 27 of the capillary 26 is connected to the heating body 2.
It has been drilled since 9. Further, the heating body 29 is adapted to be raised and lowered integrally with the capillary 26. And the heating body 29 is
The heating element 2 is electrically connected to a welding power source (not shown).
By supplying power to the heating element 9, the heating element 29 is heated to 300 to 500°C. A temperature sensor 29a, such as a thermocouple, is embedded in the vicinity of the capillary 26 of the heating body 29, and is electrically connected to the control mechanism of the welding power source.

つぎに、上記構成のダイ・ボンデイング装置を
用いたダイ・ボンデイング方法について説明す
る。まず、キヤピラリ26に例えばGaAlAs系の
半導体レーザー・チツプ28を真空吸着させると
ともに、100〜200℃に予熱されたプレヒータ21
の載置面23上にサブマウント22を真空吸着さ
せる。そして、基台1を動かして、サブマウント
22の位置決めを行う。ついで、キヤピラリ26
を加熱体29とともに下降させ、半導体レーザ
ー・チツプ28をサブマウント22に対して約10
g程度で押圧する。しかして、溶接電源から加熱
体29に対して1〜5秒間大電流(200〜800A)
を給電する(給電時間は、温度センサ29a)か
らの温度検出信号をフイードバツク信号として所
定温度に設定時間だけ保持されるように、自動制
御される。)すると、加熱体29は、あらかじめ
設定された温度(300〜500℃)にまで昇温する。
その結果、サブマウント22の表面に蒸着され半
導体レーザー・チツプ28との間に介在している
Au−Sn系ろう材、Au−Si系ろう材、Inろう材又
はSn−Pb系ろう材のいずれかからなるボンデイ
ング・インサート材が溶融し、サブマウント22
と半導体レーザー・チツプ28とは確実にダイ・
ボンデイングされる。加熱体29への給電及びプ
レヒータ21の予熱を停止すると、ボンデイング
部は常温にまで急冷する。したがつて、ボンデイ
ング・インサート材も直ちに凝固するので、キヤ
ピラリ26を加熱体29への給電の停止とほぼ上
昇させて、ダイ・ボンデイングを終了させること
ができる。このように、本実施例のダイボンデイ
ング方法は、ボンデイング部を瞬時に所要温度に
上昇させることができるとともに、ダイ・ボンデ
イング終了後、直ちに急冷することが可能である
ので、前記実施例と同様の効果を奏する。
Next, a die bonding method using the die bonding apparatus having the above configuration will be explained. First, a GaAlAs semiconductor laser chip 28, for example, is vacuum-adsorbed onto the capillary 26, and the preheater 21, which has been preheated to 100 to 200°C,
The submount 22 is vacuum-adsorbed onto the mounting surface 23 of the submount 22 . Then, the base 1 is moved to position the submount 22. Next, Capillary 26
is lowered together with the heating element 29, and the semiconductor laser chip 28 is placed about 10cm above the submount 22.
Press with about g. Therefore, a large current (200 to 800 A) is applied from the welding power source to the heating element 29 for 1 to 5 seconds.
(The power supply time is automatically controlled so that the temperature is maintained at a predetermined temperature for a set time using the temperature detection signal from the temperature sensor 29a as a feedback signal. ) Then, the heating body 29 is heated to a preset temperature (300 to 500°C).
As a result, it is deposited on the surface of the submount 22 and interposed between it and the semiconductor laser chip 28.
The bonding insert material made of either Au-Sn brazing material, Au-Si brazing material, In brazing material, or Sn-Pb brazing material is melted and the submount 22
And the semiconductor laser chip 28 is definitely a die.
Bonded. When the power supply to the heating element 29 and the preheating of the preheater 21 are stopped, the bonding part is rapidly cooled to room temperature. Therefore, since the bonding insert material also solidifies immediately, the capillary 26 can be raised almost as soon as the power supply to the heating element 29 is stopped, and die bonding can be completed. As described above, the die bonding method of this embodiment can instantaneously raise the temperature of the bonding part to the required temperature, and can also rapidly cool it immediately after die bonding is completed, so that it can be used in the same way as in the previous embodiment. be effective.

さらに、加熱体7,29を併用した場合、つま
り、キヤピラリ側に加熱体29を設けるととも
に、加熱体7にサブマウントを載置して、同時に
給電してダイ・ボンデイングする場合も本発明の
要旨の範囲内である。また、上記二番目の実施例
において、予熱にプレヒータ21とガスヒータを
併用してもよい。
Furthermore, the gist of the present invention also applies when the heating elements 7 and 29 are used together, that is, when the heating element 29 is provided on the capillary side, a submount is placed on the heating element 7, and power is supplied at the same time for die bonding. is within the range of Further, in the second embodiment, the preheater 21 and the gas heater may be used together for preheating.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、ダイ・ボンデイングのための所要温
度への加熱を、ボンデイング部位近傍に設けられ
た加熱体への大電流への給電により、極めて短時
間で行うことができるので、ボンデイング時間
を、従来の電熱法によつた場合の約1/10に短縮す
ることができ、生産能率が顕著に向上する。ま
た、加熱時間が短くてすむので、半導体レーザ
ー・チツプに有害な熱歪が残留することがなくな
る。また、確実なボンデイングが可能であるの
で、スクラブを行つたり、半導体レーザー・チツ
プを高い加圧力でサブマウントに押圧したりする
必要がなくなり、半導体レーザー・チツプの損傷
を招く虞がなくなる。したがつて、本発明のダ
イ・ボンデイング方法により、半導体レーザーの
品質及び信頼性が高くなる。
The present invention enables heating to the required temperature for die bonding in an extremely short time by supplying a large current to a heating element provided near the bonding site. This can be reduced to approximately 1/10 of the time required using the electric heating method, significantly improving production efficiency. Also, because the heating time is short, no harmful thermal distortion remains in the semiconductor laser chip. Furthermore, since reliable bonding is possible, there is no need for scrubbing or pressing the semiconductor laser chip against the submount with high pressure, which eliminates the risk of damaging the semiconductor laser chip. Therefore, the die bonding method of the present invention improves the quality and reliability of the semiconductor laser.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来のダイ・ボンデイング方法の説明
図、第2図は本発明の一実施例のダイ・ボンデイ
ング方法に使用されるダイ・ボンデイング装置の
要部説明図、第3図は本発明の他の実施例のダ
イ・ボンデイング方法に使用されるダイ・ボンデ
イング装置の要部説明図である。 7:加熱体(載置台)、8,22:サブマウン
ト、11,26:キヤピラリ、13,28:半導
体レーザー・チツプ、21:プレヒータ(載置
台)、29:加熱体。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a conventional die bonding method, FIG. 2 is an explanatory diagram of main parts of a die bonding apparatus used in a die bonding method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an explanatory diagram of a die bonding apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 7 is an explanatory diagram of the main parts of a die bonding apparatus used in a die bonding method of another embodiment. 7: heating body (mounting table), 8, 22: submount, 11, 26: capillary, 13, 28: semiconductor laser chip, 21: preheater (mounting table), 29: heating body.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 キヤピラリに保持された半導体レーザー・チ
ツプを載置台上に載置されたサブマウントヘダ
イ・ボンデイングするダイ・ボンデイング方法に
おいて、上記キヤピラリとこのキヤピラリに保持
された上記半導体レーザー・チツプとこの保持さ
れた半導体レーザ・チツプが載置される上記サブ
マウントに加熱された不活性ガスを吹付けて予熱
する予熱工程と、上記キヤピラリとサブマウント
の少なくとも一方を加熱する加熱体を設け、この
加熱体に給電することにより上記キヤピラリとサ
ブマウントの少なくとも一方を瞬間的に加熱する
加熱工程と、上記予熱工程の後加熱工程を行うこ
とにより上記半導体レーザー・チツプと上記サブ
マウントとの間に介在しているボンデイング・イ
ンサート材を溶融させ上記半導体レーザー・チツ
プと上記サブマウントとをダイボンデイングする
工程と、上記加熱体への給電の停止及び上記予熱
の停止と同時に上記キヤピラリを上昇させる工程
とを有することを特徴とするダイ・ボンデイング
方法。
1. In a die bonding method in which a semiconductor laser chip held in a capillary is die-bonded to a submount placed on a mounting table, the capillary, the semiconductor laser chip held in this capillary, and this held A preheating step is performed in which the submount on which the semiconductor laser chip is placed is sprayed with heated inert gas to preheat it, and a heating element is provided to heat at least one of the capillary and the submount, and power is supplied to the heating element. By performing a heating step of instantaneously heating at least one of the capillary and the submount, and a heating step after the preheating step, the bonding between the semiconductor laser chip and the submount is bonded.・It is characterized by having a step of melting the insert material and die bonding the semiconductor laser chip and the submount, and a step of raising the capillary at the same time as stopping power supply to the heating body and stopping the preheating. die bonding method.
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