JPH0555490B2 - - Google Patents
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- JPH0555490B2 JPH0555490B2 JP61165639A JP16563986A JPH0555490B2 JP H0555490 B2 JPH0555490 B2 JP H0555490B2 JP 61165639 A JP61165639 A JP 61165639A JP 16563986 A JP16563986 A JP 16563986A JP H0555490 B2 JPH0555490 B2 JP H0555490B2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明は、医・農薬あるいは該原料・中間体と
して有用であるアミド化合物の新規な製造方法を
提供するものである。
(従来の技術及び発明の解決しようとする問題
点)
本発明者らは、シツフ塩基化合物を原料とした
N−置換−アミド化合物の合成及びその生理活性
の研究を行つてきた。例えば、本発明者らは特開
昭60−4181号において、一般式
(ただし、Wはハロゲン原子,アルコキシ基,
またはアルキルチオ基を示し、−R4,R5及びR6は
それぞれ同種または異種の水素原子,ハロゲン原
子,アルキル基,アルコキシ基またはアルキルチ
オ基を示す。)で表わされるN−置換−クロロア
セトアニリドが除草剤として極めて有用であるこ
とを提案した。
該N−置換−クロロアセトアニリドの製法は、
一般にシツフ塩基化合物を原料として下記式のよ
うに還元工程に続き、クロロアセチル化工程を経
て初めて合成される。
すなわち、シツフ塩基化合物を原料とすると目
的物まで二段階の反応を行わなければならず、し
かも還元に際して、水素化アルミニウムリチウム
等の高価で、取り扱いの難しい試薬を用いなけれ
ばならない場合もあつたが、その後、本発明者ら
が鋭意研究を行つた結果、シツフ塩基化合物、シ
ラン化合物及びカルボン酸誘導体とを反応させる
ことにより、一段でアミド化合物を合成できるよ
うになつた。
しかし、工業的レベルで製造を行う際、シツフ
塩基化合物に対し2〜5倍モル量のシラン化合物
が必要なこと、反応時間が長時間を要すること等
の欠点を有していた。
(問題を解決するための手段及び効果)
本発明者らは、前記アミド化合物の合成方法に
おける上記欠点を克服すべく鋭意研究を重ねた。
その結果、シツフ塩基化合物,シラン化合物及び
カルボン酸誘導体とを反応させる際、金属または
ハロゲン化金属を触媒量用いることにより、シツ
フ塩基化合物に対し、1.0〜1.5倍モル程度のシラ
ン化合物を用いるだけで、短時間のうちに高収率
ならびに高純度でアミド化合物を合成し得ること
を見い出し、本発明を完成するに至つた。
すなわち、本発明は、
(イ) 一般式()
(Field of Industrial Application) The present invention provides a novel method for producing amide compounds useful as medicines and agricultural chemicals, or raw materials and intermediates thereof. (Prior Art and Problems to be Solved by the Invention) The present inventors have been conducting research on the synthesis of N-substituted-amide compounds using Schiff's base compounds as raw materials and their physiological activities. For example, in JP-A No. 60-4181, the present inventors proposed the general formula (However, W is a halogen atom, an alkoxy group,
or an alkylthio group, and -R 4 , R 5 and R 6 each represent the same or different hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkoxy group or alkylthio group. ) was proposed to be extremely useful as a herbicide. The method for producing the N-substituted-chloroacetanilide is as follows:
Generally, it is synthesized using a Schiff base compound as a raw material through a reduction step followed by a chloroacetylation step as shown in the formula below. In other words, if a Schiff base compound is used as a raw material, a two-step reaction must be carried out to reach the desired product, and in some cases, expensive and difficult-to-handle reagents such as lithium aluminum hydride must be used for reduction. After that, as a result of intensive research by the present inventors, it became possible to synthesize an amide compound in one step by reacting a Schiff base compound, a silane compound, and a carboxylic acid derivative. However, when producing it on an industrial level, it has disadvantages such as requiring a silane compound in an amount of 2 to 5 times the molar amount of the Schiff base compound and requiring a long reaction time. (Means and Effects for Solving the Problems) The present inventors have conducted extensive research in order to overcome the above-mentioned drawbacks in the method for synthesizing the amide compound.
As a result, when a Schiff base compound, a silane compound, and a carboxylic acid derivative are reacted, by using a catalytic amount of metal or metal halide, it is possible to use only about 1.0 to 1.5 times the mole of the silane compound relative to the Schiff base compound. They discovered that amide compounds can be synthesized in high yield and purity in a short period of time, leading to the completion of the present invention. That is, the present invention provides (a) general formula ()
【式】
(ただし、Rは水素原子,置換もしくは非置
換のアルキル基,置換もしくは非置換のアルケ
ニル基,置換もしくは非置換のアルキニル基,
置換もしくは非置換のアリール基,置換もしく
は非置換のヘテロアリール基,置換もしくは非
置換のシクロアルキル基,置換もしくは非置換
のシクロアルケニル基または置換もしくは非置
換のヘテロシクロアルキル基を示し、R1はア
ルコキシ基,置換もしくは非置換のアルキル
基,置換もしくは非置換のアルケニル基,置換
もしくは非置換のアルキニル基,置換もしくは
非置換のアリール基,置換もしくは非置換のヘ
テロアリール基,置換もしくは非置換のシクロ
アルキル基,置換もしくは非置換のシクロアル
ケニル基または置換もしくは非置換のヘテロシ
クロアルキル基を示し、R2は置換もしくは非
置換のアルキル基,置換もしくは非置換のアル
ケニル基,置換もしくは非置換のアルキニル
基,置換もしくは非置換のアリール基,置換も
しくは非置換のシクロアルキル基,置換もしく
は非置換のシクロアルケニル基または置換もし
くは非置換のヘテロシクロアルキル基を示す。)
で表わされるシツフ塩基化合物、
(ロ) 一般式() HSiXYZ
(ただし、X,Y,Zは同種または異種の水
素原子またはハロゲン原子を示す。)で表わさ
れるシラン化合物及び
(ハ) 一般式() R3COA
(ただし、R3は上記R1と同じであり、Aは
ハロゲン原子または[Formula] (where R is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group,
Represents a substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or unsubstituted cycloalkyl group, substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group, R 1 is Alkoxy group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted alkynyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or unsubstituted cyclo Represents an alkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group, R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group , a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group. ), (b) a silane compound represented by the general formula ( ) HSiXYZ (where X, Y, and Z represent the same or different hydrogen atoms or halogen atoms), and (c) a silane compound represented by the general formula ( ) R 3 COA (However, R 3 is the same as R 1 above, and A is a halogen atom or
【式】基を示す。)
で表わされるカルボン酸誘導体を、
(ニ) 一般式() M(Em)
(ただし、Mはアルカリ金属,アルカリ土類
金属,銅,銀,鉄,亜鉛またはホウ素原子を示
し、Eはハロゲン原子を示し、mは0〜4整数
である。)で表わされる金属もしくはハロゲン
化金属の存在下に反応させることを特徴とする
一般式()
(ただし、R,R1,R2及びR3は上記と同義
である。)で表わされるアミド化合物の製造方
法である。
本発明における原料の1つであるシツフ塩基化
合物は、前記一般式()すなわち、
[Formula] represents a group. ) A carboxylic acid derivative represented by (d) general formula () M (Em) (where M represents an alkali metal, alkaline earth metal, copper, silver, iron, zinc or boron atom, and E represents a halogen atom). and m is an integer of 0 to 4). (However, R, R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as above.) This is a method for producing an amide compound represented by: The Schiff base compound, which is one of the raw materials in the present invention, has the general formula (), that is,
【式】で表わされる化合物である。上
記一般式()中、R,R1及びR2で示される基
としては種々の有機基のものが公知であり、本発
明においてもこれらの有機基が特に限定されず使
用できる。一般に好適に使用されるR,R1及び
R2は、置換もしくは非置換のアルキル基,置換
もしくは非置換のアルケニル基,置換もしくは非
置換のアルキニル基,置換もしくは非置換のアリ
ール基,置換もしくは非置換のヘテロアリール
基,置換もしくは非置換のシクロアルキル基,置
換もしくは非置換のシクロアルケニル基または置
換もしくは非置換のヘテロシクロアルキル基を示
す。工業的に広く利用される該有機基をより具体
的に例示すると次のようなものがある。
上記非置換アルキル基としては、メチル,エチ
ル,プロピル,ブチル,ペンチル,ヘキシル,ヘ
プチル,オクチル,ノニル,デシル,ウンデシル
及びドデシル等の直鎖状または分枝状アルキル基
を示す。前記置換アルキル基としては、フルオロ
メチル,トリフルオロメチル,クロルメチル,ジ
クロルメチル,トリクロルメチル,クロロエチ
ル,ブロモエチル,フルオロプロピル,クロロプ
ロピル,沃化ブチル,ブロモペンチル,クロロヘ
キシル及びフルオロオクチル等の直鎖状または分
枝状ハロアルキル基;メトキシメチル,メトキシ
エチル,メトキシプロピル,メトキシブチル,メ
トキシペンチル,メトキシヘキシル,エトキシメ
チル,エトキシエチル,エトキシプロピル,エト
キシブチル,プロポキシメチル,プロポキシエチ
ル,プロポキシプロピル,プロポキシブチル,ブ
トキシメチル,ブトキシエチル,ブトキシプロピ
ル,ブトキシブチル及びペントキシブチル等の直
鎖状または分枝状のアルコキシアルキル基;フエ
ノキシメチル,フエノキシエチル及びクロロフエ
ノキシプロピル等のフエノキシアルキル基;シア
ノエチル,シアノプロピル及びシアノブチル基等
のシアノアルキル基;ニトロエチル,ニトロプロ
ピル及びニトロヘキシル等のニトロアルキル基;
メチルチオメチル,メチルチオエチル,メチルチ
オプロピル,エチルチオメチル,エチルチオエチ
ル,エチルチオブチル及びプロピルチオエチル等
のアルキルチオアルキル基;フエニルメチル,フ
エニルエチル,フエニルプロピル及びメチルフエ
ニルメチル等のアリールアルキル基;チエニルメ
チル,チエニルエチル,メトキシチエニルメチ
ル,フリルメチル,フリルエチル,クロロフリル
メチル,ピロリルメチル及びピラゾリルメチル等
のヘテロアリールアルキル基;シクロプロピルメ
チル及びシクロヘキシルエチル等のシクロアルキ
ルアルキル基;メトキシカルボニルメチル,メト
キシカルボニルエチル,エトキシカルボニルメチ
ル,エトキシカルボニルエチル及びエトキシカル
ボニルプロピル等のアルコキシカルボニルアルキ
ル基等が挙げられる。
前記非置換アルケニル基としては、エテニル,
プロペニル,ブテニル,ペンテニル,ヘキセニル
及びオクテニル等の各種位置異性体のアルケニル
基が挙げられる。また、前記置換アルケニル基と
しては、クロルエテニル,フルオロエテニル,ブ
ロモプロペニル,沃化ブテニル,クロルペンテニ
ル及びフルオロヘキセニル等のハロアルケニル
基;メトキシエテニル,メトキシプロペニル,エ
トキシブテニル,エトキシヘキセニル及びプロポ
キシブテニル等のアルコキシアルケニル基;シア
ノエテニル,ニトロプロペニル,ジメチルアミノ
エテニル及びメチルチオプロペニル等が挙げられ
る。
更に、前記非置換アルキニル基としては、エチ
ニル,プロピニル,ブチニル,ペンチニル及びヘ
キシニル等が挙げられる。また、前記置換アルキ
ニル基としては、クロロプロピニル,ブロモブチ
ニル,メトキシブチニル,シアノプロピニル及び
メチルチオブチニル等が挙げられる。
更にまた、前記非置換アリール基としてはフエ
ニル,ナフチル及びアントラニル,フエナンスレ
ニル等が挙げられる。また、前記置換アリール基
としては、メチルフエニル,ジメチルフエニル,
エチルフエニル,ジエチルフエニル,プロピルフ
エニル,ジプロピルフエニル,ブチルフエニル,
ペンチルフエニル,ヘキシルフエニル,メチルエ
チルフエニル,メチルプロピルフエニル及びエチ
ルプロピルフエニル等のアルキルフエニル基;フ
ルオロフエニル,ジフルオロフエニル,クロロフ
エニル,ジクロロフエニル,ブロモフエニル,沃
化フエニル,トリクロロフエニル及びクロロフル
オロフエニル等のハロフエニル基;メトキシフエ
ニル,ジメトキシフエニル,トリメトキシフエニ
ル,エトキシフエニル,ジエトキシフエニル,プ
ロポキシフエニル及びブトキシフエニル等のアル
コキシフエニル基;シアノフエニル,ニトロフエ
ニル,クロロ(メチル)フエニル,クロロ(エト
キシ)フエニル,メチル(メトキシ)フエニル,
メチルチオフエニル,トリフルオロメチルフエニ
ル,ビス(クロロエチルアミノ)フエニル,ニト
ロ(メチル)フエニル及びジフエニル等の置換フ
エニル基;メチルナフチル,エチルナフチル,ク
ロロナフチル,ジクロロナフチル,メトキシナフ
チル,メチルチオナフチル,ニトロナフチル及び
シアノナフチル等の置換ナフチル基等が挙げられ
る。
更にまた、前記非置換ヘテロアリール基として
は、フリル,チエニル,ピロリル,ピリジル,ピ
リミジル,ベンゾフリル,ベンゾチエニル,イン
ドリル,キノリル,チアゾリル,ピラゾリル,ベ
ンゾチアゾリル,チアジアゾリル及びオキサゾリ
ル等が挙げられる。また前記置換ヘテロアリール
基としては、メチルフリル,ジメチルフリル,エ
チルフリル,プロピルフリル,クロロフリル,ブ
ロモフリル,メトキシフリル,エトキシフリル,
プロポキシフリル,メチルチオフリル,エチルチ
オフリル及びニトロフリル等の置換フリル基;メ
チルチエニル,エチルチエニル,プロピルチエニ
ル,ブチルチエニル,フルオロチエニル,クロロ
チエニル,ブロモチエニル,沃化チエニル,メト
キシチエニル,エトキシチエニル,プロポキシチ
エニル,メチルチオチエニル,エチルチオチエニ
ル及びニトロチエニル等の置換チエニル基;N−
メチルピロリル,N−エチルピロリル,メチル−
N−メチルピロリル,クロロ−N−エチルピロリ
ル,メトキシ−N−メチルピロリル,メトキシピ
ロリル,エチルピロリル及びクロロピロリル等の
置換ピロリル基;メチルピリジル,エチルピリジ
ル,クロロピリジル及びメトキシピリジル等の置
換ピリジル基;メチルベンゾフリル,クロロベン
ゾフリル,エトキシベンゾフリル及びニトロベン
ゾフリル等の置換ベンゾフリル基;エチルベンゾ
チエニル,フルオロベンゾチエニル,メトキシベ
ンゾチエニル及びニトロベンゾチエニル等の置換
ベンゾチエニル基;メチルキノリル,エチルキノ
リル,クロロキノリル及びメトキシキノリル等の
置換キノリル基;メチルチアゾリル基等が挙げら
れる。
更にまた、前記非置換シクロアルキル基として
は、シクロプロピル,シクロブチル,シクロペン
チル及びシクロヘキシル等が挙げられる。また、
前記置換シクロアルキル基としては、メチルシク
ロプロピル,エチルシクロプロピル,プロピルシ
クロプロピル,クロルシクロプロピル,メトキシ
シクロプロピル,エトキシシクロプロピル,メチ
ルシクロブチル,ブロモシクロブチル,メチルチ
オシクロブチル,クロロシクロペンチル,メチル
シクロヘキシル,エチルシクロヘキシル,クロロ
シクロヘキシル,メトキシシクロヘキシル及びプ
ロポキシシクロヘキシル等が挙げられる。
非置換シクロアルケニル基としては、シクロブ
テニル,シクロペンテニル及びシクロヘキセニル
等が挙げられる。また、前記置換シクロアルケニ
ル基としては、メチルシクロブテニル,クロロシ
クロペンテニル,メトキシシクロペンテニル,メ
チルシクロヘキセニル,エチルシクロヘキセニ
ル,クロロシクロヘキセニル,メトキシシクロヘ
キセニル及びエトキシシクロヘキセニル等が挙げ
られる。
更にまた、前記非置換ヘテロシクロアルキル基
としては、テトラヒドロフリル,テトラヒドロチ
エニル,ピロリジル,テトラヒドロピリル,テト
ラヒドロチオピリル及びピペリジル等が挙げられ
る。また、前記置換ヘテロシクロアルキル基とし
ては、N−メチルピロリジル,N−エチルピロリ
ジル,N−メチルピペリジル及びN−エチルピペ
リジル等が挙げられる。
更にまた、R1で示されるアルコキシ基のアル
キル基は前記のアルキル基と同義である。工業的
に広く利用される該アルコキシ基を具体的に例示
すると、メトキシ,エトキシ,プロポキシ,ブト
キシ,ペントキシ等が挙げられる。
以上、列挙した基を有する化合物には多くの場
合、種々の位置異性体が存在するが、特に限定さ
れず本発明に供することができる。例えば、メチ
ルフエニル基としてはO−メチルフエニル基,m
−メチルフエニル基及びP−メチルフエニル基が
挙げられ、ブチル基としてはn−ブチル基、sec
−ブチル基及びtert−ブチル基が挙げられる。
更にまた、置換基は以上の具体例に限定される
ものではなく、本発明の製造方法によつて目的物
のアミド化合物が得られるもであれば、必要に応
じて適宜選択して使用できる。
本発明の原料の他の1つは前記一般式()す
なわち、HSiXYZで示されるシラン化合物であ
る。該一般式()中の、X,Y及びZは同種ま
たは異種の水素原子またはハロゲン原子が特に制
限されず用いられる。該ハロゲン原子としては、
塩素,臭素,沃素またはフツ素の各原子が特に制
限されず使用できるが、特に塩素原子と臭素原子
は好適である。工業的に特に好適に使用される上
記シラン化合物を具体的に例示すると、HSiCl3,
HSiBr3,H2SiCl2,H2SiBr2,H3SiBr等の化合
物である。
本発明の更に他の原料の1つは一般式()す
なわち、R3COAで示されるカルボン酸誘導体で
ある。該カルボン酸誘導体中のR3は前記一般式
()におけるR,R1またはR2と同様に定義され
る置換基である。また上記一般式()中、Aは
ハロゲン原子またはIt is a compound represented by the formula: Various organic groups are known as the groups represented by R, R 1 and R 2 in the above general formula (), and these organic groups can be used in the present invention without particular limitation. Generally preferably used R, R 1 and
R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted It represents a cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group. More specific examples of the organic groups widely used industrially include the following. Examples of the unsubstituted alkyl group include linear or branched alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, and dodecyl. Examples of the substituted alkyl group include linear or branched alkyl groups such as fluoromethyl, trifluoromethyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, chloroethyl, bromoethyl, fluoropropyl, chloropropyl, butyl iodide, bromopentyl, chlorohexyl, and fluorooctyl. Branched haloalkyl group; methoxymethyl, methoxyethyl, methoxypropyl, methoxybutyl, methoxypentyl, methoxyhexyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl, ethoxypropyl, ethoxybutyl, propoxymethyl, propoxyethyl, propoxypropyl, propoxybutyl, butoxymethyl, Linear or branched alkoxyalkyl groups such as butoxyethyl, butoxypropyl, butoxybutyl and pentoxybutyl; phenoxyalkyl groups such as phenoxymethyl, phenoxyethyl and chlorophenoxypropyl; cyanoethyl, cyanopropyl and cyanobutyl groups, etc. cyanoalkyl groups; nitroalkyl groups such as nitroethyl, nitropropyl and nitrohexyl;
Alkylthioalkyl groups such as methylthiomethyl, methylthioethyl, methylthiopropyl, ethylthiomethyl, ethylthioethyl, ethylthiobutyl and propylthioethyl; arylalkyl groups such as phenylmethyl, phenylethyl, phenylpropyl and methylphenylmethyl; thienylmethyl Heteroarylalkyl groups such as , thienylethyl, methoxythienylmethyl, furylmethyl, furylethyl, chlorofurylmethyl, pyrrolylmethyl and pyrazolylmethyl; cycloalkylalkyl groups such as cyclopropylmethyl and cyclohexylethyl; methoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, Examples include alkoxycarbonyl alkyl groups such as ethoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylethyl, and ethoxycarbonylpropyl. The unsubstituted alkenyl group includes ethenyl,
Various regioisomeric alkenyl groups such as propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl and octenyl are mentioned. Examples of the substituted alkenyl group include haloalkenyl groups such as chloroethenyl, fluoroethenyl, bromopropenyl, iodide butenyl, chlorpentenyl, and fluorohexenyl; methoxyethenyl, methoxypropenyl, ethoxybutenyl, ethoxyhexenyl, and propoxybutenyl; Alkoxyalkenyl groups; examples include cyanoethenyl, nitropropenyl, dimethylaminoethenyl and methylthiopropenyl. Furthermore, examples of the unsubstituted alkynyl group include ethynyl, propynyl, butynyl, pentynyl, and hexynyl. Further, examples of the substituted alkynyl group include chloropropynyl, bromobutynyl, methoxybutynyl, cyanopropynyl, and methylthiobutynyl. Furthermore, examples of the unsubstituted aryl group include phenyl, naphthyl, anthranyl, and phenanthrenyl. In addition, examples of the substituted aryl group include methylphenyl, dimethylphenyl,
Ethyl phenyl, diethyl phenyl, propylphenyl, dipropylphenyl, butylphenyl,
Alkylphenyl groups such as pentylphenyl, hexylphenyl, methylethylphenyl, methylpropylphenyl and ethylpropylphenyl; fluorophenyl, difluorophenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl, phenyl iodide, trichlorophenyl and halophenyl groups such as chlorofluorophenyl; alkoxyphenyl groups such as methoxyphenyl, dimethoxyphenyl, trimethoxyphenyl, ethoxyphenyl, diethoxyphenyl, propoxyphenyl and butoxyphenyl; cyanophenyl, nitrophenyl, chloro( methyl) phenyl, chloro(ethoxy) phenyl, methyl (methoxy) phenyl,
Substituted phenyl groups such as methylthiophenyl, trifluoromethylphenyl, bis(chloroethylamino)phenyl, nitro(methyl)phenyl and diphenyl; methylnaphthyl, ethylnaphthyl, chloronaphthyl, dichloronaphthyl, methoxynaphthyl, methylthionaphthyl, nitro Examples include substituted naphthyl groups such as naphthyl and cyanonaphthyl. Furthermore, examples of the unsubstituted heteroaryl group include furyl, thienyl, pyrrolyl, pyridyl, pyrimidyl, benzofuryl, benzothienyl, indolyl, quinolyl, thiazolyl, pyrazolyl, benzothiazolyl, thiadiazolyl, and oxazolyl. Examples of the substituted heteroaryl group include methylfuryl, dimethylfuryl, ethylfuryl, propylfuryl, chlorofuryl, bromofuryl, methoxyfuryl, ethoxyfuryl,
Substituted furyl groups such as propoxyfuryl, methylthiofuryl, ethylthiofuryl, and nitrofuryl; methylthienyl, ethylthienyl, propylthienyl, butylthienyl, fluorothienyl, chlorothienyl, bromothienyl, thienyl iodide, methoxythienyl, ethoxythienyl, propoxy Substituted thienyl groups such as thienyl, methylthiothienyl, ethylthiothienyl and nitrothienyl; N-
Methylpyrrolyl, N-ethylpyrrolyl, methyl-
Substituted pyrrolyl groups such as N-methylpyrrolyl, chloro-N-ethylpyrrolyl, methoxy-N-methylpyrrolyl, methoxypyrrolyl, ethylpyrrolyl and chloropyrrolyl; substituted pyridyl groups such as methylpyridyl, ethylpyridyl, chloropyridyl and methoxypyridyl; methylbenzofuryl, Substituted benzofuryl groups such as chlorobenzofuryl, ethoxybenzofuryl and nitrobenzofuryl; substituted benzothienyl groups such as ethylbenzothienyl, fluorobenzothienyl, methoxybenzothienyl and nitrobenzothienyl; methylquinolyl, ethylquinolyl, chloroquinolyl and methoxyquinolyl, etc. Substituted quinolyl group; methylthiazolyl group and the like. Furthermore, examples of the unsubstituted cycloalkyl group include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl. Also,
The substituted cycloalkyl group includes methylcyclopropyl, ethylcyclopropyl, propylcyclopropyl, chlorocyclopropyl, methoxycyclopropyl, ethoxycyclopropyl, methylcyclobutyl, bromocyclobutyl, methylthiocyclobutyl, chlorocyclopentyl, methylcyclohexyl, Examples include ethylcyclohexyl, chlorocyclohexyl, methoxycyclohexyl and propoxycyclohexyl. Examples of unsubstituted cycloalkenyl groups include cyclobutenyl, cyclopentenyl and cyclohexenyl. Examples of the substituted cycloalkenyl group include methylcyclobutenyl, chlorocyclopentenyl, methoxycyclopentenyl, methylcyclohexenyl, ethylcyclohexenyl, chlorocyclohexenyl, methoxycyclohexenyl, and ethoxycyclohexenyl. Furthermore, examples of the unsubstituted heterocycloalkyl group include tetrahydrofuryl, tetrahydrothienyl, pyrrolidyl, tetrahydropyryl, tetrahydrothiopyryl, piperidyl, and the like. Further, examples of the substituted heterocycloalkyl group include N-methylpyrrolidyl, N-ethylpyrrolidyl, N-methylpiperidyl, and N-ethylpiperidyl. Furthermore, the alkyl group of the alkoxy group represented by R 1 has the same meaning as the alkyl group described above. Specific examples of the alkoxy groups that are widely used industrially include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, and pentoxy. In many cases, various positional isomers exist in the compounds having the groups listed above, but these can be used in the present invention without particular limitation. For example, as a methylphenyl group, O-methylphenyl group, m
-methylphenyl group and P-methylphenyl group, butyl group includes n-butyl group, sec
-butyl group and tert-butyl group. Furthermore, the substituents are not limited to the above specific examples, and can be appropriately selected and used as necessary, as long as the desired amide compound can be obtained by the production method of the present invention. Another raw material of the present invention is a silane compound represented by the general formula (), that is, HSiXYZ. In the general formula (), X, Y and Z may be the same or different hydrogen atoms or halogen atoms without particular limitation. As the halogen atom,
Each atom of chlorine, bromine, iodine or fluorine can be used without particular limitation, but chlorine and bromine atoms are particularly preferred. Specific examples of the above-mentioned silane compounds that are particularly preferably used industrially include HSiCl 3 ,
These are compounds such as HSiBr 3 , H 2 SiCl 2 , H 2 SiBr 2 and H 3 SiBr. Another raw material of the present invention is a carboxylic acid derivative represented by the general formula (), ie, R 3 COA. R 3 in the carboxylic acid derivative is a substituent defined similarly to R, R 1 or R 2 in the above general formula (). In the above general formula (), A is a halogen atom or
【式】基である。該A
がハロゲン原子の場合には、R3COAは酸ハロゲ
ン化物を表わし、ハロゲン原子としてはフツ素原
子,塩素原子,臭素原子及び沃素原子が特に限定
されず用いられる。工業的には、Aが塩素原子ま
たは臭素原子である酸クロライドまたは酸ブロマ
イドが特に好適に使用される。またAが
[Formula] is a group. When A is a halogen atom, R 3 COA represents an acid halide, and the halogen atom may be a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom without particular limitation. Industrially, acid chloride or acid bromide in which A is a chlorine atom or a bromine atom are particularly preferably used. Also, A
【式】基で表わされる場合、すなわち、[Formula] When represented by a group, that is,
【式】は酸無水物を表わす。工業的に
一般に好適に使用されるものを具体的に例示すれ
ば、酸ハロゲン化物としては、例えば、酢酸クロ
ライド,酢酸ブロマイド,クロロ酢酸クロライ
ド,ジクロロ酢酸クロライド,ブロモ酢酸ブロマ
イド,ヨード酢酸クロライド,ジブロモ酢酸クロ
ライド,メトキシ酢酸クロライド,シアノ酢酸ク
ロライド,トリフルオロ酢酸フルオライド,フエ
ノキシ酢酸クロライド,クロロフエノキシ酢酸ク
ロライド,プロピオン酸クロライド,クロロプロ
ピオン酸クロライド,ブロモプロピオン酸ブロマ
イド,酪酸クロライド,クロロ酪酸クロライド,
吉草酸クロライド,クロロ吉草酸クロライド,ヘ
キサン酸クロライド,アクリル酸クロライド,ブ
テン酸クロライド,クロロブテン酸クロライド,
ペンテン酸クロライド,クロロペンテン酸クロラ
イド,プロピオン酸クロライド,フエニルプロピ
オン酸クロライド,フエニルプロペン酸クロライ
ド,フリルアクリル酸クロライド,安息香酸クロ
ライド,安息香酸ブロマイド,メチル安息香酸ク
ロライド,エチル安息香酸ブロマイド,クロロ安
息香酸クロライド,フルオロ安息香酸フルオライ
ド,メトキシ安息香酸クロライド,クロロ(メチ
ル)安息香酸クロライド,シアノ安息香酸クロラ
イド,フエニル安息香酸クロライド,ニトロ安息
香酸クロライド,フロイルクロライド,チオフエ
ンカルボン酸クロライド,インドールカルボン酸
クロライド,ピコリン酸クロライド,シクロプロ
パンカルボン酸クロライド等が好適である。
また、酸無水物としては無水酢酸,無水プロピ
オン酸無水物,無水トリフルオロ酢酸,無水クロ
ロ酢酸,無水安息香酸等が好適に使用される。
本発明において他の特徴の1つは一般式()
すなわち、M(Em)で表わされる金属もしくは
ハロゲン化金属を触媒として用いることである。
上記一般式()中、Mはリチウム、ナトリウム
及びカリウム等のアルカリ金属,ベリリウム,マ
グネシウム,カルシウム及びバリウム等の土類金
属,銅,銀,鉄,亜鉛またはホウ素原子であり、
Eはフツ素原子,塩素原子,臭素原子及び沃素原
子が特に限定されず用いられる。工業的でもあ
り、また触媒能の高い金属としてはリチウム,マ
グネシウム,バリウム,銅,銀,鉄等が挙げら
れ、またハロゲン化金属としてはフツ化リチウ
ム,塩化リチウム,臭化リチウム,沃化リチウ
ム,沃化ナトリウム,沃化カリウム,塩化ベリリ
ウム,臭化ベリリウム,塩化マグネシウム,臭化
カルシウム,塩化バリウム,塩化銅,臭化銅,沃
化銅,塩化銀,臭化銀,塩化銀,臭化鉄,塩化亜
鉛,臭化亜鉛,三塩化ホウ素等が挙げられる。
本発明における前記原料の反応は、無溶媒で行
うこともできるが、一般には溶媒中で行うのが好
ましい。該溶媒としては、共存する原料、例えば
シラン化合物及びカルボン酸誘導体等と相互作用
しない不活性な有機溶媒であれば限定されず使用
できる。一般にはベンゼン,トルエン,クロロホ
ルム及びアセトニトリル等が好適に使用される。
また、該反応における原料の仕込みモル比は特に
限定されるものではないが、副生成物の増加及び
経済性を考慮すると、シツフ塩基化合物1モルに
対してシラン化合物を1〜1.5モル、カルボン酸
誘導体を1〜1.2モル及び金属を0.001〜0.20原子
またはハロゲン化金属を0.001〜0.20モルの割合
で使用するのが好ましい。特に、カルボン酸誘導
体を多量に用いると副反応が起こりやすくなる傾
向が認められる場合もあるので、予め該原料の仕
込みモル比を決定して使用するのがよい。
なお、本発明で用いる原料であるシツフ塩基化
合物は必ずしも単離,精製したものでなくてもよ
い。すなわち、アルデヒドまたはケトン及びアミ
ンから共沸脱水等によりシツフ塩基化合物を合成
し、そのまま次に本発明で用いる他の原料である
シラン化合物,カルボン酸誘導体及び金属または
ハロゲン化金属を加えて反応させてもよい。
また、前記反応における反応温度は特に限定さ
れず広い温度範囲で選ぶことができるが原料の化
学反応性や生成物であるアミド化合物の安定性等
を考慮して好適とする温度範囲で反応を行うこと
が好ましい。一般には−20℃〜150℃の範囲から
選べばよい。
更にまた、反応時間は反応温度によつても異な
るが、一般には数分から数日、例えば5分〜10日
の間で選べばよい。
本発明の前記一般式(),(),()及び
()で表わされる各原料及び触媒の添加順序は
特に限定されず必要に応じて選べばよい。一般に
はシツフ塩基化合物及び金属またはハロゲン化金
属に室温または冷却下にてシラン化合物及びカル
ボン酸誘導体を添加すればよい。これらの場合、
一般に溶媒を用いる場合が多く、溶媒中に金属ま
たはハロゲン化金属,シツフ塩基化合物,シラン
化合物及びカルボン酸誘導体の四成分を添加反応
させてもよく、各成分を該溶媒に溶解しておき、
これらの溶液をそれぞれ添加混合して反応させて
もよい。
本発明においては、前記一般式()の触媒存
在下、前記一般式()〜()で表わされる各
原料を反応させることにより、簡単にアミド化合
物を得ることができる。上記反応で得られるアミ
ド化合物の精製方法は、特に限定されるものでは
ない。一般には反応終了後、常圧,減圧もしくは
真空蒸留を行えばよく、必要に応じて洗浄,再結
晶またはクロマトグラフによる精製方法も用いる
ことができる。また、アミド化合物が高沸点であ
る場合には、反応終了後、溶媒等の低沸点成分を
除去した後、再び溶媒に溶解させ、水洗,希アル
カリ水溶液で洗浄した後に溶媒を除去することに
より、未反応のシラン化合物,カルボン酸誘導体
及び副生成物のシラン化合物等を容易に除去し、
目的であるアミド化合物を工業的に純粋に得るこ
ともできる。
(本発明が及ぼす効果)
本発明方法によつて得られるアミド化合物は、
例えば、除草剤,殺虫剤及び殺菌剤等の農薬ある
いは医薬品等に有用である。また、これらの用途
の中間原料としても有用な物質である。アミド化
合物合成する際、本発明の方法を用いれば、無触
媒に比較してシツフ塩基化合物に対し、1.0〜1.5
倍モル量程度のシラン化合物を用いるだけで、短
時間のうちに高収率で、しかも高純度で得ること
ができる。従つて、本発明は工業的にも極めて優
れたものであると言える。
(実施例)
以下に本発明を具体的に説明するために実施例
ならびに比較例を挙げるが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。
実施例 1
3つ口フラスコにN−〔2′−(3′−メトキシ)−
チエニルメチリデン〕−2,6−ジメチルアニリ
ン750g(3.06mole)の乾燥ベンゼン(2000ml)
溶液と塩化リチウム0.5g(0.01mole)を入れ、
窒素下、室温で撹拌しながら、トリクロルシラン
490g(3.61mole)とクロロアセチルクロライド
363g(3.21mole)の乾燥ベンゼン溶液500mlを
徐々に添加した。室温にて30分間撹拌した後、反
応液は希アルカリ水溶液で中和し、ベンゼン量を
分離した。分離したベンゼン層は水洗した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。ベンゼンを留去
し、真空乾燥することにより、淡かつ色固体であ
るN−〔2′−(3′−メトキシ)−チエニルメチル〕−
α−クロロアセト−2,6−ジメチルアニリドを
988g(3.05mole)得た。収率はN−〔2′−(3′−
メトキシ)−チエニルメチリデン〕−2,6−ジメ
チルアニリンに対して99.8%であり、生成物の純
度は99.3%であつた。
実施例 2
触媒として塩化リチウムの代りに塩化第銅を
N−〔2′−(3′−メトキシ)−チエニルメチリデ
ン)〕−2,6−ジメチルアニリンに対して0.01倍
モル量用い、また、クロルアセチルクロライドの
代りにクロル酢酸無水物1.02倍モル用い、溶媒と
してベンゼンの代りにアセトニトリルを用いて、
実施例1と同様な反応を行つた。反応終了後、低
沸点成分を除去して得られた粘稠液体を、真空乾
燥すると固体となつた。該化合物をヘキサンを用
いて結晶化することにより、N−〔2′−(3′−メト
キシ)−チエニルメチル〕−α−クロロアセト−
2,6−ジメチルアニリドの白色結晶を得た。収
率はN−〔2′−(3′−メトキシ)−チエニルメチリ
デン〕−2,6−ジメチルアニリンに対して98.8
%,純度は98.9%であつた。
比較例
3つ口フラスコに、N−〔2′−(3′−メトキシ)
−チエニルメチリデン〕−2,6−ジメチルアニ
リン250g(1.02mole)の乾燥ベンゼン(2000
ml)溶液を入れ、窒素下、室温で撹拌しながら、
トリクロロシラン320g(2.36mole)の乾燥ベン
ゼン(300ml)溶液を徐々に添加した。室温にて
2時間撹拌した後、低沸点成分を留去して得られ
た粘稠液体を再びベンゼン(1500ml)に溶解し
た。ベンゼン溶液を水洗、希アルカリ水溶液で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ベン
ゼンを留去して得られた粘稠液体を真空乾燥し
て、淡かつ色固体であるN−〔2′−(3′−メトキ
シ)−チエニルメチル〕−α−クロロアセト−2,
6−ジメチルアニリドを290g(0.90mole)得
た。収率はN−〔2′−(3′−メトキシ)−チエニル
メチリデン〕−2,6−ジメチルアニリンに対し
て88.2%であり、純度は92.8%であつた。
実施例 3
2−アセチルチオフエン40g(0.32mole),2
−メチルアニリン34g(0.32mole)及びトルエ
ン(150ml)の混合物を油浴上で1時間加熱還流
することにより、共沸脱水を行つた。該溶液に室
温で撹拌しながら、塩化リチウム0.3g(7.1×
10-3mole)を加えた後、クロロアセチルクロラ
イド36.2g(0.32mole)とトリクロルシラン47.3
g(0.35mole)の乾燥ベンゼン(50ml)溶液を
滴下し、1時間反応させた。該反応液を実施例1
と同様な方法により処理し、淡黄色固体である下
記の構造式を有する化合物を粗結晶として得た。
該結晶は真空蒸留を行つて、沸点167℃/0.15mm
Hgの留分である白色固体を89.5g(0.31mole)
得た。収率は2−アセチルチオフエンに対して
95.3%であり、純度は99.8%であつた。
実施例 4
実施例1,2及び3に記載した方法と同様な方
法により、原料としてシツフ塩基化合物1モルに
対してシラン化合物1.15倍モル,カルボン酸誘導
体1.02倍モル及び金属またはハロゲン化金属
0.005倍モルを用い、室温で2時間反応を行つて
種々のアミド化合物を合成した。生成物の構造と
収率ならびに用いたシラン化合物と金属またはハ
ロゲン化金属触媒の種類を第1表に記載した。
なお、いずれの場合にも、無触媒で反応を行つ
た場合に比較して、収率,純度とも高い値を示し
た。[Formula] represents an acid anhydride. Specific examples of acid halides that are generally suitable for industrial use include acetic acid chloride, acetic bromide, chloroacetic acid chloride, dichloroacetic acid chloride, bromoacetic acid bromide, iodoacetic acid chloride, and dibromoacetic acid. Chloride, methoxyacetic acid chloride, cyanoacetic acid chloride, trifluoroacetic acid fluoride, phenoxyacetic acid chloride, chlorophenoxyacetic acid chloride, propionic acid chloride, chloropropionic acid chloride, bromopropionic acid bromide, butyric acid chloride, chlorobutyric acid chloride,
Valeric acid chloride, chlorovaleric acid chloride, hexanoic acid chloride, acrylic acid chloride, butenoic acid chloride, chlorobutenoic acid chloride,
Pentenoyl chloride, chloropentenoyl chloride, propionic acid chloride, phenylpropionic acid chloride, phenylpropenoyl chloride, furyl acrylic acid chloride, benzoic acid chloride, benzoic acid bromide, methylbenzoic acid chloride, ethylbenzoic acid bromide, chlorobenzoic acid Acid chloride, fluorobenzoic acid fluoride, methoxybenzoic acid chloride, chloro(methyl)benzoic acid chloride, cyanobenzoic acid chloride, phenylbenzoic acid chloride, nitrobenzoic acid chloride, furoyl chloride, thiophenecarboxylic acid chloride, indolecarboxylic acid chloride , picolinic acid chloride, cyclopropanecarboxylic acid chloride, etc. are suitable. Further, as the acid anhydride, acetic anhydride, propionic anhydride, trifluoroacetic anhydride, chloroacetic anhydride, benzoic anhydride, etc. are preferably used. One of the other features of the present invention is the general formula ()
That is, a metal or a metal halide represented by M (Em) is used as a catalyst.
In the above general formula (), M is an alkali metal such as lithium, sodium and potassium, an earth metal such as beryllium, magnesium, calcium and barium, copper, silver, iron, zinc or a boron atom,
E may be a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom without particular limitation. Metals that are industrial and have high catalytic ability include lithium, magnesium, barium, copper, silver, iron, etc. Metal halides include lithium fluoride, lithium chloride, lithium bromide, lithium iodide, Sodium iodide, potassium iodide, beryllium chloride, beryllium bromide, magnesium chloride, calcium bromide, barium chloride, copper chloride, copper bromide, copper iodide, silver chloride, silver bromide, silver chloride, iron bromide, Examples include zinc chloride, zinc bromide, and boron trichloride. Although the reaction of the raw materials in the present invention can be carried out without a solvent, it is generally preferable to carry out the reaction in a solvent. The solvent can be used without limitation as long as it is an inert organic solvent that does not interact with coexisting raw materials such as silane compounds and carboxylic acid derivatives. Generally, benzene, toluene, chloroform, acetonitrile, etc. are preferably used.
The molar ratio of the raw materials to be charged in this reaction is not particularly limited, but considering the increase in by-products and economic efficiency, 1 to 1.5 moles of the silane compound and 1 to 1.5 moles of the silane compound to 1 mole of the Schiff base compound, Preference is given to using a proportion of 1 to 1.2 mol of derivative and 0.001 to 0.20 atoms of metal or 0.001 to 0.20 mol of metal halide. In particular, when a large amount of carboxylic acid derivative is used, side reactions tend to occur more easily, so it is preferable to determine the molar ratio of the raw materials to be charged in advance. Note that the Schiff base compound that is the raw material used in the present invention does not necessarily have to be isolated and purified. That is, a Schiff base compound is synthesized from an aldehyde or a ketone and an amine by azeotropic dehydration, etc., and then the other raw materials used in the present invention, such as a silane compound, a carboxylic acid derivative, and a metal or metal halide, are added and reacted. Good too. In addition, the reaction temperature in the above reaction is not particularly limited and can be selected within a wide temperature range, but the reaction is carried out at a suitable temperature range taking into account the chemical reactivity of the raw materials and the stability of the amide compound that is the product. It is preferable. In general, it may be selected from the range of -20°C to 150°C. Furthermore, although the reaction time varies depending on the reaction temperature, it can generally be selected from several minutes to several days, for example from 5 minutes to 10 days. The order in which the raw materials and catalysts represented by the general formulas (), (), (), and () of the present invention are added is not particularly limited and may be selected as necessary. Generally, the silane compound and carboxylic acid derivative may be added to the Schiff base compound and the metal or metal halide at room temperature or under cooling. In these cases,
Generally, a solvent is often used, and the four components of metal or metal halide, Schiff base compound, silane compound, and carboxylic acid derivative may be added and reacted in the solvent, and each component is dissolved in the solvent.
These solutions may be added and mixed to react. In the present invention, an amide compound can be easily obtained by reacting each raw material represented by the general formulas () to () above in the presence of a catalyst of the general formula (). The method for purifying the amide compound obtained by the above reaction is not particularly limited. Generally, after completion of the reaction, distillation at normal pressure, reduced pressure or vacuum may be carried out, and purification methods such as washing, recrystallization or chromatography may also be used as necessary. In addition, when the amide compound has a high boiling point, after the completion of the reaction, remove low boiling point components such as the solvent, dissolve it in the solvent again, wash with water, wash with a dilute aqueous alkaline solution, and then remove the solvent. Easily removes unreacted silane compounds, carboxylic acid derivatives, and by-product silane compounds,
The desired amide compound can also be obtained industrially in a pure manner. (Effects of the present invention) The amide compound obtained by the method of the present invention is
For example, it is useful for agricultural chemicals such as herbicides, insecticides, and fungicides, or for pharmaceuticals. It is also a useful substance as an intermediate raw material for these uses. When synthesizing an amide compound, if the method of the present invention is used, the Schiff base compound will have a 1.0 to 1.5
By simply using about double the molar amount of the silane compound, it can be obtained in a short time with high yield and high purity. Therefore, it can be said that the present invention is extremely excellent from an industrial perspective. (Examples) Examples and comparative examples are given below to specifically explain the present invention, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 N-[2'-(3'-methoxy)-
750 g (3.06 mole) of thienylmethylidene-2,6-dimethylaniline in dry benzene (2000 ml)
Add the solution and 0.5g (0.01mole) of lithium chloride,
trichlorosilane with stirring at room temperature under nitrogen.
490g (3.61mole) and chloroacetyl chloride
A solution of 363 g (3.21 mole) in dry benzene in 500 ml was slowly added. After stirring at room temperature for 30 minutes, the reaction solution was neutralized with a dilute aqueous alkali solution, and the amount of benzene was separated. The separated benzene layer was washed with water and then dried over anhydrous sodium sulfate. By distilling off the benzene and drying under vacuum, N-[2'-(3'-methoxy)-thienylmethyl]-, which is a pale solid, is obtained.
α-chloroaceto-2,6-dimethylanilide
988 g (3.05 mole) was obtained. The yield is N-[2'-(3'-
methoxy)-thienylmethylidene]-2,6-dimethylaniline, and the purity of the product was 99.3%. Example 2 Cupric chloride was used as a catalyst in place of lithium chloride in an amount of 0.01 times the molar amount of N-[2'-(3'-methoxy)-thienylmethylidene)]-2,6-dimethylaniline, and Using 1.02 times the mole of chloroacetic anhydride instead of chloroacetyl chloride, and using acetonitrile instead of benzene as the solvent,
The same reaction as in Example 1 was carried out. After the reaction was completed, the viscous liquid obtained by removing the low boiling point components became solid when vacuum dried. By crystallizing the compound using hexane, N-[2'-(3'-methoxy)-thienylmethyl]-α-chloroaceto-
White crystals of 2,6-dimethylanilide were obtained. The yield is 98.8 based on N-[2'-(3'-methoxy)-thienylmethylidene]-2,6-dimethylaniline.
%, and the purity was 98.9%. Comparative example: In a three-neck flask, N-[2'-(3'-methoxy)
-thienylmethylidene]-2,6-dimethylaniline 250 g (1.02 mole) of dry benzene (2000
ml) solution and stirred at room temperature under nitrogen.
A solution of 320 g (2.36 mole) trichlorosilane in dry benzene (300 ml) was added slowly. After stirring at room temperature for 2 hours, the low-boiling components were distilled off and the resulting viscous liquid was dissolved again in benzene (1500 ml). The benzene solution was washed with water and a dilute aqueous alkali solution, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The viscous liquid obtained by distilling off the benzene was dried under vacuum to obtain N-[2'-(3'-methoxy)-thienylmethyl]-α-chloroaceto-2, which is a pale solid.
290 g (0.90 mole) of 6-dimethylanilide was obtained. The yield was 88.2% based on N-[2'-(3'-methoxy)-thienylmethylidene]-2,6-dimethylaniline, and the purity was 92.8%. Example 3 2-acetylthiophene 40g (0.32mole), 2
- Azeotropic dehydration was performed by heating a mixture of 34 g (0.32 mole) of methylaniline and toluene (150 ml) under reflux on an oil bath for 1 hour. Add 0.3 g of lithium chloride (7.1×
10 -3 mole), then 36.2 g (0.32 mole) of chloroacetyl chloride and 47.3 g (0.32 mole) of trichlorosilane.
A solution of 0.35 g (0.35 mole) in dry benzene (50 ml) was added dropwise, and the mixture was reacted for 1 hour. The reaction solution was prepared in Example 1.
A pale yellow solid compound having the structural formula shown below was obtained as crude crystals.
The crystals were vacuum distilled to a boiling point of 167℃/0.15mm.
89.5g (0.31mole) of white solid which is a fraction of Hg
Obtained. Yield is based on 2-acetylthiophene
The purity was 99.8%. Example 4 Using a method similar to that described in Examples 1, 2, and 3, 1.15 times the mole of the silane compound, 1.02 times the mole of the carboxylic acid derivative, and a metal or metal halide were added as raw materials to 1 mole of the Schiff base compound.
Using 0.005 times the molar amount, various amide compounds were synthesized by conducting the reaction at room temperature for 2 hours. The structure and yield of the product as well as the type of silane compound and metal or metal halide catalyst used are listed in Table 1. In all cases, both yield and purity were higher than when the reaction was carried out without a catalyst.
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
【表】【table】
Claims (1)
換のアルキル基,置換もしくは非置換のアルケ
ニル基,置換もしくは非置換のアルキニル基,
置換もしくは非置換のアリール基,置換もしく
は非置換のヘテロアリール基,置換もしくは非
置換のシクロアルキル基,置換もしくは非置換
のシクロアルケニル基または置換もしくは非置
換のヘテロシクロアルキル基を示し、R1はア
ルコキシ基,置換もしくは非置換のアルキル
基,置換もしくは非置換のアルケニル基,置換
もしくは非置換のアルキニル基,置換もしくは
非置換のアリール基,置換もしくは非置換のヘ
テロアリール基,置換もしくは非置換のシクロ
アルキル基,置換もしくは非置換のシクロアル
ケニル基または置換もしくは非置換のヘテロシ
クロアルキル基を示し、R2は置換もしくは非
置換のアルキル基,置換もしくは非置換のアル
ケニル基,置換もしくは非置換のアルキニル
基,置換もしくは非置換のアリール基,置換も
しくは非置換のヘテロアリール基,置換もしく
は非置換のシクロアルキル基,置換もしくは非
置換のシクロアルケニル基または置換もしくは
非置換のヘテロシクロアルキル基を示す。) で表わされるシツフ塩基化合物、 (ロ) 一般式() HSiXYZ (ただし、X,Y及びZは同種または異種の
水素原子またはハロゲン原子を示す。) で表わされるシラン化合物及び (ハ) 一般式() R8COA (ただし、R8は上記R1と同じであり、Aは
ハロゲン原子または【式】基を示す。) で表わされるカルボン酸誘導体を、 (ニ) 一般式() M(Em) (ただし、Mはアルカリ金属,アルカリ土類
金属,銅,銀,鉄,亜鉛またはホウ素原子を示
し、Eはハロゲン原子を示し、mは0〜4の整
数である。) で表わされる金属もしくはハロゲン化金属の存在
下で反応させることを特徴とする 一般式() (ただし、R,R1,R2及びR8は上記と同義
である。) で表わされるアミド化合物の製造方法。[Claims] 1 (a) General formula () [Formula] (where R is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group,
Represents a substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or unsubstituted cycloalkyl group, substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group, R 1 is Alkoxy group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted alkynyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or unsubstituted cyclo Represents an alkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group, R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group , a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, or a substituted or unsubstituted heterocycloalkyl group. ), (b) a silane compound represented by the general formula () HSiXYZ (where X, Y and Z represent the same or different hydrogen atoms or halogen atoms); and (c) a silane compound represented by the general formula () ) R 8 COA (However, R 8 is the same as R 1 above, and A represents a halogen atom or a [formula] group.) The carboxylic acid derivative represented by (d) General formula () M (Em) (However, M represents an alkali metal, alkaline earth metal, copper, silver, iron, zinc or boron atom, E represents a halogen atom, and m is an integer from 0 to 4.) Metal or halogen represented by The general formula () is characterized by the reaction being carried out in the presence of a compound metal. (However, R, R 1 , R 2 and R 8 have the same meanings as above.) A method for producing an amide compound represented by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61165639A JPS6323823A (en) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | Schiff base compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61165639A JPS6323823A (en) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | Schiff base compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6323823A JPS6323823A (en) | 1988-02-01 |
| JPH0555490B2 true JPH0555490B2 (en) | 1993-08-17 |
Family
ID=15816181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61165639A Granted JPS6323823A (en) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | Schiff base compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6323823A (en) |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP61165639A patent/JPS6323823A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6323823A (en) | 1988-02-01 |
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