JPH0558570B2 - - Google Patents
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- JPH0558570B2 JPH0558570B2 JP2409986A JP2409986A JPH0558570B2 JP H0558570 B2 JPH0558570 B2 JP H0558570B2 JP 2409986 A JP2409986 A JP 2409986A JP 2409986 A JP2409986 A JP 2409986A JP H0558570 B2 JPH0558570 B2 JP H0558570B2
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- tape
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、IC、LSIなどの半導体チツプと接続
するリードを多数個フイルム上に担持、配列した
リードキヤリアフイルムの製造方法に関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for producing a lead carrier film in which a large number of leads for connection to semiconductor chips such as ICs and LSIs are supported and arranged on the film.
従来より半導体チツプを樹脂モールドで一体化
して多数のピンを突設した半導体装置の組立に
は、金属製のリードフレームが用いられている。
このリードフレームは、最近の半導体装置が多数
ピンを要求するのに伴つて、高精度のものが要求
されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, metal lead frames have been used to assemble semiconductor devices in which semiconductor chips are integrated with a resin mold and have a large number of protruding pins.
This lead frame is required to have high precision as recent semiconductor devices require a large number of pins.
この要求を実現するものとして、エツチング加
工を用いて微細なフインガなどを有するリードフ
レームを製造することが行なわれているが、この
方法は製造工程が複雑でコスト高となる欠点を有
している。 In order to meet this requirement, lead frames with fine fingers, etc. are manufactured using etching processing, but this method has the drawback that the manufacturing process is complicated and costs are high. .
これらの欠点を解消し、製造が容易で、微細な
部分が成形できる方法として、最近、電鋳技術を
用いたリードフレームの開発がなされている。そ
して生産性の向上を図るため、リードを多数個フ
イルム上に担持、配列したリードキヤリアフイル
ムが各種検討されている。 Recently, lead frames using electroforming technology have been developed as a method that eliminates these drawbacks, is easy to manufacture, and allows molding of minute parts. In order to improve productivity, various lead carrier films in which a large number of leads are supported and arranged on the film have been studied.
第4図a〜gはキヤリアフイルムからリードが
脱落しにくく、歩留り及び生産性を向上させるも
のとして提案されたリードキヤリアフイルムの製
造工程を説明するための断面図である。 FIGS. 4a to 4g are cross-sectional views for explaining the manufacturing process of a lead carrier film that has been proposed as a method that prevents leads from falling off the carrier film and improves yield and productivity.
同図aに示すように、基板1の表面に所望のパ
ターンを有するレジスト層2が形成されている。
基板1としては、アルミニウム板、ステンレス板
あるいは銅板などの金属板、またはポリエステル
フイルムやポリイミドフイルムなどの合成樹脂フ
イルム上に、銅などの金属を蒸着や無電解メツキ
して導電性を付与したものが用いられる。レジス
ト層2は合成樹脂などからなる電気絶縁性のもの
で、例えば、スクリーン印刷や通常の露光硬化な
どによつて形成される。 As shown in FIG. 1A, a resist layer 2 having a desired pattern is formed on the surface of a substrate 1. As shown in FIG.
The substrate 1 is a metal plate such as an aluminum plate, a stainless steel plate, or a copper plate, or a synthetic resin film such as a polyester film or a polyimide film, on which conductivity is imparted by vapor deposition or electroless plating of a metal such as copper. used. The resist layer 2 is an electrically insulating material made of synthetic resin or the like, and is formed by, for example, screen printing or ordinary exposure curing.
基板1は同図の紙面に向かつて垂直方向に長尽
になつたテープ状のもので、レジスト層2が形成
されていない中央の非レジスト部3aは製造すべ
きリードの形状と同じパターンを有しており、こ
の中央非レジスト部3aの両側に位置決め突部形
成用の非レジスト部3bが形成される。この非レ
ジスト部3bは基板1の長手方向に沿つて等ピツ
チに形成され、第4図に示すキヤリアフイルム4
の両側端に設けられているスプロケツト穴5のピ
ツチと同じである。 The substrate 1 is in the form of a tape that is elongated in the vertical direction toward the plane of the drawing, and the non-resist portion 3a in the center where the resist layer 2 is not formed has the same pattern as the shape of the lead to be manufactured. Non-resist portions 3b for forming positioning protrusions are formed on both sides of this central non-resist portion 3a. The non-resist portions 3b are formed at equal pitches along the longitudinal direction of the substrate 1, and are formed on a carrier film 4 shown in FIG.
This is the same pitch as the sprocket holes 5 provided on both sides of the sprocket.
次にこの基板1上を亜セレン酸等により剥離処
理して、基板1の非レジスト部3a,3bに相当
する表面を活性化したのち、電鋳を施し前記非レ
ジスト部3a,3b上に電鋳金属層6をレジスト
層2より若干厚い目に形成する。 Next, the surface of this substrate 1 is subjected to a peeling treatment using selenite or the like to activate the surface corresponding to the non-resist portions 3a, 3b of the substrate 1, and then electroforming is applied to the non-resist portions 3a, 3b. The cast metal layer 6 is formed to be slightly thicker than the resist layer 2.
次に第4図cに示すように、下面に粘着層8を
形成した基板1とほぼ同じ幅を有する転写テープ
9を電鋳金属層6の上に圧着し、転写テープ9を
各電鋳金属層6に貼りつける。そして次に第4図
dに示すように転写テープ9を基板1から剥がす
と、レジスト層2は基板1に残り、各電鋳金属層
6a,6bは粘着層8に付着した状態で基板1か
ら離れる。これは前述のように予め非レジスト部
3a,3bの表面に亜セレン酸等による剥離処理
が施こされているためである。 Next, as shown in FIG. 4c, a transfer tape 9 having approximately the same width as the substrate 1 with an adhesive layer 8 formed on the lower surface is pressed onto the electroformed metal layer 6, and the transfer tape 9 is attached to each electroformed metal layer. Paste on layer 6. Then, when the transfer tape 9 is peeled off from the substrate 1 as shown in FIG. Leave. This is because, as described above, the surfaces of the non-resist portions 3a and 3b have been previously subjected to a peeling treatment using selenite or the like.
この転写工程により、各電鋳金属層6a,6b
は電鋳によつて形成されたときの相互の位置関係
を保持したまま転写テープ9に転写される。な
お、電鋳金属層6は第4図d,eに示すように、
それの成長出張り部7が転写テープ9の粘着層8
に付着し、基板1と接していた電鋳金属層6の電
鋳基部10は転写テープ9の外側を向いている。 Through this transfer process, each electroformed metal layer 6a, 6b
are transferred to the transfer tape 9 while maintaining the mutual positional relationship when formed by electroforming. In addition, as shown in FIG. 4d and e, the electroformed metal layer 6 is
The growth protrusion 7 is the adhesive layer 8 of the transfer tape 9.
The electroformed base 10 of the electroformed metal layer 6 which was attached to the substrate 1 and was in contact with the substrate 1 faces outward from the transfer tape 9.
次に転写テープ9は、第4図eに示すように電
鋳金属層6を下にした状態でキヤリアフイルム4
の上方に供給される。キヤリアフイルム4は転写
テープ9とほぼ同じ幅を有するテープ状のもの
で、ポリイミドフイルムやポリエステルフイルム
からなり、それの両側端部には等ピツチにスプロ
ケツト穴5が列設されている。またキヤリアフイ
ルム4の中央部には熱圧着型接着剤層11が予め
塗着形成されている。 Next, the transfer tape 9 is placed on the carrier film 4 with the electroformed metal layer 6 facing down as shown in FIG. 4e.
is supplied above. The carrier film 4 is a tape-shaped material having approximately the same width as the transfer tape 9, and is made of polyimide film or polyester film, and sprocket holes 5 are arranged at equal pitches at both ends thereof. Further, a thermocompression type adhesive layer 11 is previously applied and formed on the center portion of the carrier film 4.
第4図fに示すようにキヤリアフイルム4上に
前記転写テープ9を載置し、その両側端を軽く押
圧部材12で押し下げると、転写テープ9はそれ
の可撓性により若干下方に変形し、両側の電鋳金
属層6bの電鋳基部10がキヤリアフイルム4の
スプロケツト穴5に挿入される。枠形をした電鋳
金属層6bにスプロケツト穴5とほぼ同寸に設計
されているから、電鋳金属層6bをスプロケツト
穴5に挿入することにより、キヤリアフイルム4
上での電鋳金属層6aの位置決めがなされ、電鋳
金属層6bが位置決め突部として機能する。特に
電鋳金属層6bの電鋳基部10側は、レジスト層
2の側面に規制されて形成されるから、高い寸法
精度を有しており、そのため位置決め精度が良好
である。なおこの位置決め時には熱圧着型接着剤
層11に熱が加えられていないから粘着性がな
く、従つて電鋳金属層6aの位置決めには支障を
きたさない。 As shown in FIG. 4f, when the transfer tape 9 is placed on the carrier film 4 and its both ends are lightly pressed down with the pressing members 12, the transfer tape 9 deforms slightly downward due to its flexibility. The electroformed base portions 10 of the electroformed metal layers 6b on both sides are inserted into the sprocket holes 5 of the carrier film 4. Since the frame-shaped electroformed metal layer 6b is designed to have approximately the same size as the sprocket hole 5, by inserting the electroformed metal layer 6b into the sprocket hole 5, the carrier film 4
The electroformed metal layer 6a is positioned above, and the electroformed metal layer 6b functions as a positioning protrusion. In particular, the electroformed metal layer 6b on the electroformed base 10 side is formed to be regulated by the side surface of the resist layer 2, so it has high dimensional accuracy and therefore good positioning accuracy. Note that during this positioning, since no heat is applied to the thermocompression adhesive layer 11, it is not sticky, and therefore does not interfere with the positioning of the electroformed metal layer 6a.
このようにキヤリアフイルム4上において転写
テープ9の位置決めがなされた後、転写テープ9
の中央上部がキヤリアフイルム4側に向けて加熱
圧着される。これによつて接着剤層11が軟化、
溶融し、その後に冷却することにより、リードと
なる電鋳金属層6aが接着剤層11に接着され
る。次に第4図gに示すように、転写テープ9を
キヤリアフイルム4から離す。このとき前記熱圧
着型接着剤層11の方が粘着層8よりも接着力が
強いことと、リードに相当する電鋳金属層6aの
電鋳基部10側の方が成長出張り部7側よりも平
坦であることから、電鋳金属層6aはキヤリアフ
イルム4上に接着、支持され、転写テープ9には
位置決め突部として機能した電鋳金属層6bのみ
が残る。 After the transfer tape 9 is positioned on the carrier film 4 in this way, the transfer tape 9 is
The center upper part of is heated and pressed toward the carrier film 4 side. This softens the adhesive layer 11,
By melting and then cooling, the electroformed metal layer 6a serving as a lead is bonded to the adhesive layer 11. Next, as shown in FIG. 4g, the transfer tape 9 is separated from the carrier film 4. At this time, the thermocompression type adhesive layer 11 has a stronger adhesive force than the adhesive layer 8, and the electroformed metal layer 6a corresponding to the lead is closer to the electroformed base 10 than the growth protrusion 7 side. Since the electroformed metal layer 6a is also flat, the electroformed metal layer 6a is adhered and supported on the carrier film 4, and only the electroformed metal layer 6b, which functions as a positioning protrusion, remains on the transfer tape 9.
このようにして得られたリードキヤリアフイル
ムはロール状に巻き取られて、半導体装置の製造
ラインに搬送、供給される。キヤリアフイルム4
のスプロケツト穴5は、今度はリードに相当す電
鋳金属層6aを半導体チツプ上に転移する際の位
置決め穴として役立つため、位置づれを生じるこ
とが無い。 The lead carrier film thus obtained is wound into a roll and transported and supplied to a semiconductor device manufacturing line. carrier film 4
The sprocket holes 5 serve as positioning holes when the electroformed metal layer 6a corresponding to the lead is transferred onto the semiconductor chip, so that no positional shift occurs.
第4図に示した構成によれば、前記リードの電
鋳基部側は成長出張り部側に比べて、表面に微細
な凹凸や丸味がなく、平坦であるからキヤリアフ
イルム上での担持が確実である。そのためリード
キヤリアフイルムの取り扱い時、特にリードキヤ
リアフイルムの巻き取り時や繰り出し時に、リー
ドがキヤリアフイルムから脱落することがなく、
生産性ならびに歩留りの向上が図れる。 According to the configuration shown in FIG. 4, the electroformed base side of the lead has a flat surface with no minute irregularities or roundness compared to the growth protrusion side, so it can be supported on the carrier film reliably. It is. Therefore, when handling the lead carrier film, especially when winding or unwinding the lead carrier film, the lead does not fall off from the carrier film.
Productivity and yield can be improved.
しかし、従来のリードキヤリアフイルムの製造
方法にあつては、転写テープに転写する工程を必
要とするため、工程が複雑化すると共に、柔軟な
中間媒体である転写テープが使い捨てであるため
不経済となり、2度の転写工程によりリード片間
寸法にばらつきを生じ易い傾向にある。また、ベ
ース材側である基板が金属板などの剛体であると
それをカールさせた状態で転写することができな
いため、製造工程に制限が生じる。
However, the conventional manufacturing method for lead carrier film requires a step of transferring onto a transfer tape, which complicates the process and makes it uneconomical because the transfer tape, which is a flexible intermediate medium, is disposable. , there is a tendency for variations in the dimensions between the lead pieces to occur due to the two-time transfer process. Further, if the substrate on the base material side is a rigid body such as a metal plate, it cannot be transferred in a curled state, which imposes restrictions on the manufacturing process.
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消
し、製造工程を簡略にし、転写専用テープを不要
にしたリードキヤリアフイルムの製造方法を提供
することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a lead carrier film that eliminates the drawbacks of the prior art described above, simplifies the manufacturing process, and eliminates the need for a tape dedicated to transfer.
上記問題点を解決するため、本発明は、表面を
導電性にした基板上に所定のパターンのレジスト
層を形成し、その非レジスト部に第1の電鋳金属
層を形成し、該電鋳金属層上にリード片となる第
2の電鋳金属層を形成したのち、該第2の電鋳金
属層をフイルムキヤリアテープ上に担持するよう
になつている。
In order to solve the above problems, the present invention forms a resist layer with a predetermined pattern on a substrate whose surface is conductive, forms a first electroformed metal layer on the non-resist part, and After a second electroformed metal layer serving as a lead piece is formed on the metal layer, the second electroformed metal layer is supported on a film carrier tape.
上記手段によると、基板上の非レジスト部に2
層に形成された電鋳金属層の表層がフイルムキヤ
リアテープに直接転写され、転写テープとフイル
ムキヤリアテープとが兼用されるため、転写専用
テープを不要にしたリードキヤリアフイルムの製
造方法を確立できる。
According to the above means, 2
The surface layer of the electroformed metal layer formed on the layer is directly transferred to the film carrier tape, and the film carrier tape is used as both the transfer tape and the film carrier tape. Therefore, it is possible to establish a method for manufacturing a lead carrier film that eliminates the need for a transfer-specific tape.
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.
第1図a〜eは本発明におけるリードキヤリア
フイルムの製造工程を説明する斜視図及び断面図
である。第1図aに示すように、表面に導電性を
付与せしめたベーステープ20の表面には、感光
材料によるレジスト材21が塗布されると共に、
このベーステープ20は最終製造品であるキヤリ
アフイルムと同一の形状でその幅は35mmで両側端
に沿つて一定間隔でスプロケツト孔22を設けら
れている。 FIGS. 1a to 1e are a perspective view and a sectional view illustrating the manufacturing process of a lead carrier film in the present invention. As shown in FIG. 1a, a resist material 21 made of a photosensitive material is applied to the surface of the base tape 20 whose surface is made conductive.
This base tape 20 has the same shape as the carrier film which is the final manufactured product, has a width of 35 mm, and has sprocket holes 22 provided at regular intervals along both sides.
このベーステープ20に導電性を付与せしめる
手段は、第4図に示す手段を用いることができる
が、屈曲、巻き取り可能な薄さ、柔軟さを有する
点が異なる。このベーステープ20のレジスト材
21に密着させて所定のパターンが印刷されてい
るパターンフイルム23を重ね合わせる(スプロ
ケツト孔22と24を一致させて実施)。 As a means for imparting conductivity to the base tape 20, the means shown in FIG. 4 can be used, but the difference is that the base tape 20 is thin enough to be bent and wound, and flexible. A pattern film 23 on which a predetermined pattern is printed is placed in close contact with the resist material 21 of the base tape 20 (this is done by aligning the sprocket holes 22 and 24).
ついで、パターンフイルム23に光を照射して
レジスト材21にパターンを露光する。これを現
像ならびにベーキング処理を施すことによつて、
第1図bに示すように、非レジスト部26を有す
るレジスト層25がベーステープ20上に形成さ
れる。 Next, the pattern film 23 is irradiated with light to expose the resist material 21 to a pattern. By developing and baking this,
As shown in FIG. 1b, a resist layer 25 having non-resist portions 26 is formed on the base tape 20. As shown in FIG.
次に第1図cに示すように、非レジスト部26
に、銅、ニツケル等の材料を用いて電鋳を施し、
非レジスト部26に電鋳金属層27をレジスト層
25より若干厚目に形成する。 Next, as shown in FIG.
Then, electroforming is performed using materials such as copper and nickel,
An electroformed metal layer 27 is formed in the non-resist portion 26 to be slightly thicker than the resist layer 25 .
さらに、電鋳金属層27面上を、亜セレン酸、
重クロム酸カリ等を用いて剥離処理ののち、電鋳
金属層27面上に、銅、ニツケル等を用いて2次
電鋳を施し、第1図dのように電鋳金属層28を
形成する。上記剥離処理としては、電鋳金属層2
7面上にクロムを薄く電鋳することにより、上記
薬品処理を不必要とするとともに、一度クロム電
鋳処理を施せば、このベーステープ20を永久母
型として繰り返し使用できる。 Further, on the surface of the electroformed metal layer 27, selenite
After peeling using potassium dichromate or the like, secondary electroforming is performed on the surface of the electroformed metal layer 27 using copper, nickel, etc. to form the electroformed metal layer 28 as shown in FIG. 1d. do. As the above peeling treatment, the electroformed metal layer 2
By electroforming a thin layer of chromium on the seven surfaces, the chemical treatment described above is not required, and once the chromium electroforming treatment is performed, the base tape 20 can be repeatedly used as a permanent matrix.
次に、第1図eに示すように、片面に熱硬化性
の接着剤層29の塗着されたベーステープ20と
ほぼ同一幅のポリイミド等のフイルムキヤリアテ
ープ30に電鋳金属層28を接着させる。この接
着は、外部より熱及び圧力を加えながら実施す
る。 Next, as shown in FIG. 1e, the electroformed metal layer 28 is bonded to a film carrier tape 30 made of polyimide or the like having approximately the same width as the base tape 20, which has a thermosetting adhesive layer 29 applied to one side. let This adhesion is performed while applying heat and pressure from the outside.
具体的には第2図に示すように、ヒータ(図示
せず)によつて加熱されている圧接ローラ31a
と31b間に、フイルムキヤリアテープ30と第
1図dに示す過程にあるベーステープ20とが、
スプロケツト孔によつて位置合せされ、且つ重ね
合せられた状態で送り込まれる。両者は一定速度
で搬送され、ローラ31aと31bで圧接される
ことによつて剥離処理面上に形成されている電鋳
金属層28のみがフイルムキヤリアテープ30に
接着し、電鋳金属層27より引き剥がされる。同
時に、フイルムキヤリアテープ30に塗着されて
いる接着剤層29は、ローラ31a及び31bに
よつて付与される熱によつて硬化する。 Specifically, as shown in FIG. 2, the pressure roller 31a is heated by a heater (not shown).
and 31b, the film carrier tape 30 and the base tape 20 in the process shown in FIG.
They are aligned by the sprocket holes and fed in an overlapping state. Both are conveyed at a constant speed and are pressed together by rollers 31a and 31b, so that only the electroformed metal layer 28 formed on the peeled surface adheres to the film carrier tape 30, and the electroformed metal layer 27 is bonded to the film carrier tape 30. torn off. At the same time, the adhesive layer 29 applied to the film carrier tape 30 is cured by the heat applied by the rollers 31a and 31b.
電鋳金属層28が剥離され、レジスト層25、
電鋳金属層27及びベーステープ20のみとなつ
た母材33は、電鋳金属層27上に再度電鋳金属
層28を形成することによつて再使用ができるた
め、第1図のa〜cまでの工程を不要にして、何
回もリードキヤリアフイルム32を製造すること
ができる。母材33はロール34に巻き取られ、
リードキヤリアフイルム32にリード片としての
電鋳金属層28を接着して形成されたリードキヤ
リアフイルム32は、ロール35に巻き取られ
る。ロール35に巻き取られたリードキヤリアフ
イルム32同志が接着するのを防止するために、
セパレータ36がフイルム間に介挿される。 The electroformed metal layer 28 is peeled off, and the resist layer 25,
The base material 33, which now consists of only the electroformed metal layer 27 and the base tape 20, can be reused by forming the electroformed metal layer 28 again on the electroformed metal layer 27. The lead carrier film 32 can be manufactured many times by eliminating the steps up to c. The base material 33 is wound onto a roll 34,
The lead carrier film 32 formed by adhering the electroformed metal layer 28 as a lead piece to the lead carrier film 32 is wound up onto a roll 35 . In order to prevent the lead carrier film 32 wound on the roll 35 from adhering to each other,
A separator 36 is inserted between the films.
ベーステープ20を可撓性を有するものとする
ことによつて、カール変形が可能となり、加熱圧
着後の剥離処理を容易にすることができる。 By making the base tape 20 flexible, it can be curled and deformed, and the peeling process after heat and pressure bonding can be facilitated.
以上の如き工程を経て製造されたリードキヤリ
アフイルム32の一例を示したのが第3図であ
り、リードキヤリアフイルム30の両側端に設け
られているスプロケツト孔37が、ベーステープ
20のスプロケツト孔22に一致させた状態で搬
送されて接着処理が行われるため、リード片をテ
ープ上に精度良く転写することができる。 FIG. 3 shows an example of the lead carrier film 32 manufactured through the above process, in which the sprocket holes 37 provided at both ends of the lead carrier film 30 are aligned with the sprocket holes 22 of the base tape 20. Since the lead pieces are conveyed and bonded in a state in which they are aligned with each other, the lead pieces can be accurately transferred onto the tape.
以上より明らかな通り、本発明によれば、転写
テープとフイルムキヤリアテープを兼用でき、転
写専用テープ不要になると共に、一度レジスト処
理した母材の再使用ができるため、工程の簡略化
及び製造コストの低減を図ることができる。さら
に、スプロケツトによる位置合わせができるた
め、リード片の位置づれを無くすことができる。
As is clear from the above, according to the present invention, it is possible to use both a transfer tape and a film carrier tape, eliminating the need for a dedicated transfer tape and reusing the base material that has been subjected to resist treatment, which simplifies the process and reduces manufacturing costs. It is possible to reduce the Furthermore, since positioning can be performed using sprockets, misalignment of the lead pieces can be eliminated.
第1図a,b,c,d,eは本発明によるリー
ドキヤリアフイルムの製造工程を示す斜視図及び
断面図、第2図は接着(転写)工程を示す説明
図、第3図は本発明によるリードキヤリアフイル
ムの完成状態を示す斜視図、第4図はa〜gは従
来のリードキヤリアフイルムの製造工程を示す説
明図である。
20……ベーステープ、25……レジスト層、
27……電鋳金属層、28……電鋳金属層(リー
ド片)、30……フイルムキヤリアテープ。
Figures 1 a, b, c, d, and e are perspective views and sectional views showing the manufacturing process of the lead carrier film according to the present invention, Figure 2 is an explanatory view showing the adhesion (transfer) process, and Figure 3 is the invention. FIG. 4 is a perspective view showing a completed state of a lead carrier film according to the present invention, and FIGS. 20...Base tape, 25...Resist layer,
27... Electroformed metal layer, 28... Electroformed metal layer (lead piece), 30... Film carrier tape.
Claims (1)
のレジスト層を形成し、その非レジスト部に第1
の電鋳金属層を形成し、該電鋳金属層上にリード
片となる第2の電鋳金属層を形成したのち、該第
2の電鋳金属層をフイルムキヤリアテープ上に担
持させたことを特徴とするリードキヤリアフイル
ムの製造方法。1 A resist layer with a predetermined pattern is formed on a substrate whose surface is made conductive, and a first resist layer is formed on the non-resist part.
After forming an electroformed metal layer, and forming a second electroformed metal layer to serve as a lead piece on the electroformed metal layer, the second electroformed metal layer was supported on a film carrier tape. A method for producing a lead carrier film characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2409986A JPS62183534A (en) | 1986-02-07 | 1986-02-07 | Manufacture of lead carrier film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2409986A JPS62183534A (en) | 1986-02-07 | 1986-02-07 | Manufacture of lead carrier film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62183534A JPS62183534A (en) | 1987-08-11 |
| JPH0558570B2 true JPH0558570B2 (en) | 1993-08-26 |
Family
ID=12128923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2409986A Granted JPS62183534A (en) | 1986-02-07 | 1986-02-07 | Manufacture of lead carrier film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62183534A (en) |
-
1986
- 1986-02-07 JP JP2409986A patent/JPS62183534A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62183534A (en) | 1987-08-11 |
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