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JPH0560635B2 - - Google Patents
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JPH0560635B2 - - Google Patents

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JPH0560635B2
JPH0560635B2 JP62055374A JP5537487A JPH0560635B2 JP H0560635 B2 JPH0560635 B2 JP H0560635B2 JP 62055374 A JP62055374 A JP 62055374A JP 5537487 A JP5537487 A JP 5537487A JP H0560635 B2 JPH0560635 B2 JP H0560635B2
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pattern
value
smoothing
pixel
differential
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Satoshi Sakurai
Hiroshige Sakahara
Yoriaki Shimizu
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Fujitsu Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 パターン検査装置であつて、所定の検査ライン
に沿う、被検査パターンの輝度分布曲線の傾きを
算出し、算出した傾きから得られる微分曲線のピ
ークの数及び各ピークの値から被検査パターンの
良否を判定するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] A pattern inspection device that calculates the slope of a brightness distribution curve of a pattern to be inspected along a predetermined inspection line, and calculates the number and number of peaks of a differential curve obtained from the calculated slope. The quality of the pattern to be inspected is determined based on the value of each peak.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明はパターン検査装置に関し、特に、二色
モールド成型品のパターンを検査する装置に関す
る。
The present invention relates to a pattern inspection apparatus, and more particularly to an apparatus for inspecting the pattern of a two-color molded product.

現在、電子機器等に使用されるキートツプ、ダ
イアル、ツマミ等の部品は一般に樹脂モールド成
形により作られているが、それらの表面には、機
能識別のための、文字、図形等のパターン表示が
なされている。そして、表示パターンを有する樹
脂モールド成形品の製造方法として、近年、二色
モールド成形法が開発され、広く使用されてい
る。
Currently, parts such as key tops, dials, and knobs used in electronic devices are generally made by resin molding, but patterns such as letters and figures are displayed on their surfaces to identify their functions. ing. In recent years, a two-color molding method has been developed as a method for manufacturing resin molded products having display patterns, and is widely used.

この二色モールド成形法は、第1の工程で表示
パターン部をモールドし、第2の工程で表示パタ
ーン部を除く背景部すなわち本体部をモールドす
るものであり、これにより、背景に表示パターン
が浮き出た樹脂モールド製品が得られる。
In this two-color molding method, the display pattern part is molded in the first step, and the background part, that is, the main body part, except for the display pattern part is molded in the second step, whereby the display pattern is formed on the background. A resin molded product with a raised appearance is obtained.

ところで、二色モールド成形法で製品を製造し
た場合、表示パターン部の樹脂に背景部の樹脂が
被さる“かぶり”と呼ばれる不良が製品に発生す
ることがある。このため、二色モールド成形法で
製造した製品については、“かぶり”が発生して
いないかを検査する必要がある。
By the way, when a product is manufactured using a two-color molding method, a defect called "fogging" may occur in the product, in which the resin of the display pattern part is covered with the resin of the background part. For this reason, it is necessary to inspect products manufactured using the two-color molding method to see if "fogging" has occurred.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

そこで、従来は、被検査パターンを2値画像化
し、得られた2値画像における表示パターン部の
線幅を検査することにより、“かぶり”が発生し
ているか否かを判定していた。
Conventionally, therefore, it has been determined whether or not "fogging" has occurred by converting the pattern to be inspected into a binary image and inspecting the line width of the display pattern portion in the obtained binary image.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところで、例えば表示パターン部及び背景部が
それぞれ“黒色”及び“白色”であり、しかも
“かぶり”の程度が少ない場合、その“かぶり”
の部分は“灰色”となるが、上部従来方法は、被
検査パターンを2値画像化する際に使用する2値
化レベルによつてはその“灰色”を結果的に“黒
色”と判定し、この結果、“灰色”の“かぶり”
の部分を正常な“黒色”の表示パターンの一部で
あると誤判定する。そして、上記2値化レベル
は、アナログ映像信号におけるノイズあるいは照
明に関する外部環境の変化等の影響を避けるた
め、パターン表示部及び背景部のそれぞれの輝度
レベルのほぼ中間の輝度レベルに設定される必要
があり、このため、従来方法は、“かぶり”の程
度が少ない場合、その検出精度が悪くなるという
問題点を有していた。
By the way, for example, if the display pattern part and the background part are "black" and "white" respectively, and the degree of "fogging" is small, the "fogging"
However, in the conventional method above, depending on the binarization level used when converting the pattern to be inspected into a binary image, the "gray" part is determined to be "black" as a result. , as a result, a “gray” “fog”
is incorrectly determined to be part of the normal "black" display pattern. The binarization level needs to be set to a luminance level approximately midway between the respective luminance levels of the pattern display area and the background area in order to avoid the effects of noise in the analog video signal or changes in the external environment regarding lighting. Therefore, the conventional method has a problem in that the detection accuracy deteriorates when the degree of "fogging" is small.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、
“かぶり”の検出精度を向上させたパターン検査
装置を提供することを目的とする。
The present invention was made in view of the above problems, and
It is an object of the present invention to provide a pattern inspection device with improved detection accuracy of "fogging".

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的を達成する本発明のパターン検査装置
は、第1図に示すように、被検査パターン撮像す
る撮像手段1と、該撮像手段1が出力するアナロ
グ映像信号をデジタル信号に変換するA/D変換
手段2と、該A/D変換手段2によつて変換され
たデジタル信号の多値データを格納する記憶手段
3と、被検査パターン上に設定される所定の検査
ラインに対応する画素群を構成する各画素の、該
記憶手段3に格納されている多値データを平滑化
する平滑化手段4と、該平滑化手段4によつて平
滑化された多値データから得られる、該検査ライ
ンに沿う被検査パターンの輝度分布曲線の傾きを
算出する微分手段5と、該微分手段5によつて算
出された傾きから得られる微分曲線の山の数及び
各該山のピーク値を、マスターパターンに基づい
て設定される、山の数の所定値及び山のピーク値
のしきい値とそれぞれ比較することにより被検査
パターンの良否を判定する判定手段6とを具備す
ることを特徴としている。
As shown in FIG. 1, the pattern inspection apparatus of the present invention that achieves the above object includes an imaging means 1 for imaging a pattern to be inspected, and an A/D converter for converting an analog video signal outputted from the imaging means 1 into a digital signal. A converting means 2, a storage means 3 for storing multivalued data of the digital signal converted by the A/D converting means 2, and a pixel group corresponding to a predetermined inspection line set on the pattern to be inspected. a smoothing means 4 for smoothing the multi-value data of each constituent pixel stored in the storage means 3; and the inspection line obtained from the multi-value data smoothed by the smoothing means 4. A differentiating means 5 calculates the slope of the brightness distribution curve of the pattern to be inspected along the master pattern, and the number of peaks of the differential curve obtained from the slope calculated by the differentiating means 5 and the peak value of each peak are calculated from the master pattern. The present invention is characterized by comprising a determining means 6 that determines the quality of the pattern to be inspected by comparing it with a predetermined value of the number of peaks and a threshold value of the peak value of the peaks, respectively, which are set based on the following.

〔作用〕[Effect]

撮像手段1、A/D変換手段2、記憶手段3及
び平滑化手段4を介して得られる、所定の検査ラ
インに沿う被検査パターンの輝度分布曲線は、そ
の傾きを微分手段5によつて算出される。そし
て、判定手段6は、微分手段5によつて算出され
た輝度分布曲線の傾きから得られる微分曲線の山
の数及び各山のピーク値を、マスターパターンに
基づいて設定される、山の数の所定値及び山のピ
ーク値のしきい値とそれぞれ比較することによ
り、被検査パターンの良否、すなわち“かぶり”
が発生しているか否かを判定する。
The brightness distribution curve of the pattern to be inspected along a predetermined inspection line, which is obtained through the imaging means 1, A/D conversion means 2, storage means 3, and smoothing means 4, has its slope calculated by the differentiating means 5. be done. Then, the determining means 6 calculates the number of peaks of the differential curve obtained from the slope of the brightness distribution curve calculated by the differentiating means 5 and the peak value of each peak, based on the number of peaks set based on the master pattern. By comparing the predetermined value of
Determine whether or not this has occurred.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図は本発明の一実施例の構成を示すブロツ
ク図である。同図において、撮像装置10は、被
検査パターン20を撮像し、アナログ映像信号を
A/D変換器11に供給する。A/D変換器11
はアナログ映像信号をデジタル信号に変換してフ
レームメモリ12に供給し、フレームメモリ12
は供給されたデジタル信号の多値データを格納す
る。なお、撮像装置10、A/D変換器11及び
フレームメモリ12は第1図における撮像手段
1、A/D変換手段2及び記憶手段3にそれぞれ
対応する。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of one embodiment of the present invention. In the figure, an imaging device 10 images a pattern to be inspected 20 and supplies an analog video signal to an A/D converter 11. A/D converter 11
converts the analog video signal into a digital signal and supplies it to the frame memory 12.
stores the multi-value data of the supplied digital signal. Note that the imaging device 10, A/D converter 11, and frame memory 12 correspond to the imaging means 1, A/D conversion means 2, and storage means 3 in FIG. 1, respectively.

平滑化回路13は、詳細は後述するように、被
検査パターン20上に設定される所定の検査ライ
ンに対応する画素群を構成する各画素の、フレー
ムメモリ12に格納されている多値データを平滑
化して平滑パターンメモリ14に供給し、平滑パ
ターンメモリ14はその平滑化された多値データ
を格納する。なお、平滑化回路13及び平滑パタ
ーンメモリ14が第1図における平滑化手段4に
対応する。
As will be described in detail later, the smoothing circuit 13 converts the multivalued data stored in the frame memory 12 of each pixel constituting a pixel group corresponding to a predetermined inspection line set on the pattern to be inspected 20. The data is smoothed and supplied to the smoothing pattern memory 14, and the smoothing pattern memory 14 stores the smoothed multivalued data. Note that the smoothing circuit 13 and the smoothing pattern memory 14 correspond to the smoothing means 4 in FIG.

微分回路15は、詳細は後述するように、平滑
パターンメモリ14に格納されている多値データ
から得られる、検査ラインに沿う被検査パターン
の輝度分布曲線の傾きを算出してその算出値すな
わち微分値を微分パターンメモリ16に供給し、
微分パターンメモリ16は供給された微分値を格
納する。なお、微分回路15及び微分パターンメ
モリ16が第1図における微分手段5に対応す
る。
As will be described in detail later, the differentiation circuit 15 calculates the slope of the brightness distribution curve of the pattern to be inspected along the inspection line obtained from the multivalued data stored in the smoothing pattern memory 14, and calculates the calculated value, that is, the differential. supplying the value to the differential pattern memory 16;
The differential pattern memory 16 stores the supplied differential values. Note that the differentiating circuit 15 and the differentiating pattern memory 16 correspond to the differentiating means 5 in FIG.

辞書メモリ17はマスターパターンにおける検
査ラインに沿う輝度分布曲線の微分値を格納し、
その格納している微分値に基づく判定基準値をか
ぶり判定回路18に供給する。かぶり判定回路1
8は、例えばマイクロコンピユータで構成されて
おり、微分パターンメモリ16に格納されている
微分値から得られる被検査パターンの微分曲線に
おける山の数及び各山のピーク値を辞書メモリ1
7から供給される上記判定基準値と比較し、“か
ぶり”が発生しているか否かを判定する。なお、
辞書メモリ17及びかぶり判定回路18が第1図
における判定手段6に対応する。
The dictionary memory 17 stores the differential value of the brightness distribution curve along the inspection line in the master pattern,
A determination reference value based on the stored differential value is supplied to the fog determination circuit 18. Fogging determination circuit 1
8 is composed of, for example, a microcomputer, and stores the number of peaks and the peak value of each peak in the differential curve of the pattern to be inspected obtained from the differential values stored in the differential pattern memory 16 in the dictionary memory 1.
It is compared with the determination reference value supplied from 7 to determine whether or not "fogging" has occurred. In addition,
The dictionary memory 17 and the fogging determination circuit 18 correspond to the determining means 6 in FIG.

次に、上記構成の動作について説明する。 Next, the operation of the above configuration will be explained.

以下、被検査パターンとして、第3図に示すよ
うに、二色モールド成形されているキートツプの
上面に表示されている英字「E」を例にとつて説
明する。なお、表示パターン部及び背景部はそれ
ぞれ黒色及び白色とする。
Hereinafter, as an example of the pattern to be inspected, the alphabetical letter "E" displayed on the upper surface of a two-color molded key top as shown in FIG. 3 will be explained. Note that the display pattern section and the background section are black and white, respectively.

まず、撮像装置10が、キートツプ上の表示パ
ターン「E」を撮像する。第4図に撮像装置10
によつて撮像された画像を示す。この画像は、実
際には一辺が35μmの正方形である画素の濃淡に
よつて形成されている。各画素の輝度を表すアナ
ログ信号はA/D変換器11によつてデジタル信
号に変換され、その多値データはフレームメモリ
12に格納される。なお、第4図における破線
L0,L1,L2は検査ラインであり、検査ラインは
各表示パターンについてそれぞれ設定されてい
る。
First, the imaging device 10 images the display pattern "E" on the keytop. FIG. 4 shows an imaging device 10.
An image captured by is shown. This image is actually formed by the shading of square pixels with sides of 35 μm. An analog signal representing the brightness of each pixel is converted into a digital signal by an A/D converter 11, and the multivalued data is stored in a frame memory 12. In addition, the broken line in Figure 4
L 0 , L 1 , and L 2 are inspection lines, and the inspection lines are set for each display pattern.

平滑化回路13は、検査ライン上の画素の多値
データを平滑化する。その理由は、生データは照
明あるいは撮像系のノイズ成分を含んでおり、生
データを用いて例えば検査ラインL0上の輝度分
布曲線を作成すると、第5図に示すように、その
輝度分布曲線にノイズ成分による細かい凹凸が発
生し、この凹凸は、“かぶり”が発生しているか
否かの判定において、誤判定の原因に成り得るか
らである。そこで、各画素の多値データを平滑化
するわけであるが、その平滑化の方法としては、
本実施例においては、平滑化しようとする当該画
素及びその画素に接する周囲の画素の相加平均値
を当該画素のデータ値としている。例えば、第6
図において、A〜Iを各画素とし、Eを平滑化し
ようとする画素であるとすると、A〜Iの各画素
のデータ値の相加平均値が画素Eの平滑化された
データ値になる。そして、この平滑化を行うこと
により、検査ラインL0上の輝度分布曲線は、第
7図に示すように、細かい凹凸を含まなくなる。
すなわち、ノイズ成分が除去されたことになる。
そして、平滑化回路13によつて平滑化された、
検査ライン上の各画素のデータ値は、平滑パター
ンメモリ14に格納される。
The smoothing circuit 13 smoothes multivalued data of pixels on the inspection line. The reason is that the raw data contains noise components from the illumination or imaging system, and when a brightness distribution curve on the inspection line L0 is created using the raw data, the brightness distribution curve as shown in Figure 5. This is because fine irregularities occur due to noise components, and these irregularities may cause an erroneous determination in determining whether or not "fogging" has occurred. Therefore, the multivalued data of each pixel is smoothed, and the method of smoothing is as follows.
In this embodiment, the data value of the pixel is the arithmetic average value of the pixel to be smoothed and surrounding pixels in contact with the pixel. For example, the 6th
In the figure, if A to I are each pixel and E is the pixel to be smoothed, then the arithmetic mean value of the data values of each pixel of A to I is the smoothed data value of pixel E. . By performing this smoothing, the brightness distribution curve on the inspection line L0 no longer includes fine irregularities, as shown in FIG.
In other words, the noise component has been removed.
Then, smoothed by the smoothing circuit 13,
The data value of each pixel on the inspection line is stored in the smoothing pattern memory 14.

微分回路15は、第7図に示されるような平滑
化された輝度分布曲線の傾きを算出する。その方
法は、本実施例においては、第8図に示すよう
に、E-1,E0及びE+1が検査ライン上の連続する
3個の画素の各々であるとすると、画素E+1の平
滑化されたデータ値から画素E-1のそれを減じた
値を画素E0の微分値とするものである。そして、
この微分値の絶対値を画素の位置に対してプロツ
トすることにより、輝度分布曲線の傾きの絶対値
を示す微分曲線が得られる。第7図に示される輝
度分布曲線に対応する微分曲線を第9図に示す。
なお、微分パターンメモリ16には、微分回路1
5で算出された各画素の微分値の絶対値が格納さ
れる。
The differentiation circuit 15 calculates the slope of the smoothed luminance distribution curve as shown in FIG. In this embodiment, as shown in FIG. 8, if E -1 , E 0 and E +1 are each of three consecutive pixels on the inspection line, the pixel E +1 The value obtained by subtracting that of pixel E -1 from the smoothed data value of is used as the differential value of pixel E 0 . and,
By plotting the absolute value of this differential value against the pixel position, a differential curve indicating the absolute value of the slope of the brightness distribution curve can be obtained. FIG. 9 shows a differential curve corresponding to the brightness distribution curve shown in FIG. 7.
Note that the differential pattern memory 16 includes the differential circuit 1.
The absolute value of the differential value of each pixel calculated in step 5 is stored.

辞書メモリ17は、マスターパターンの微分値
から、その微分曲線における山の数及び各山のピ
ーク値を求め、山の数の基準値Mt及びピーク値
のしきい値Ptを判定基準値としてかぶり判定回路
18に供給する。そして、かぶり判定回路18
は、後述するプログラムにより、被検査パターン
の微分値から、その微分曲線における山の数及び
各山のピーク値を演算し、基準値Mt及びしきい
値Ptとそれぞれ比較することにより、“かぶり”
があるか否かを判定する。
The dictionary memory 17 calculates the number of peaks and the peak value of each peak in the differential curve from the differential value of the master pattern, and uses the reference value M t of the number of peaks and the threshold value P t of the peak value as determination reference values. The signal is supplied to the fogging determination circuit 18. Then, the fog determination circuit 18
is calculated by using the program described below to calculate the number of peaks and the peak value of each peak in the differential curve from the differential value of the pattern to be inspected, and compare them with the reference value M t and threshold value P t , respectively. fog”
Determine whether or not there is.

次に、第10図に示すフローチヤートを用い、
かぶり判定回路18で実行されるかぶり判定ルー
チンについて説明する。
Next, using the flowchart shown in Figure 10,
A fog determination routine executed by the fog determination circuit 18 will be described.

第10図はk個の画素からなる検査ラインにお
けるかぶり判定ルーチンを示すフローチヤートで
ある。なお、このフローチヤートにおいては、画
素の位置をカウント値iで表しており、検査ライ
ンの「始点」及び「終点」における画素の位置の
カウント値iはそれぞれ「1」及び「k」であ
る。
FIG. 10 is a flowchart showing a fog determination routine for an inspection line consisting of k pixels. In this flowchart, the pixel position is represented by a count value i, and the count value i of the pixel position at the "start point" and "end point" of the inspection line is "1" and "k", respectively.

まず、ステツプ101において、カウント値
「i」、10「M」及び「j」をそれぞれ「1」、「0」
及び「0」に設定する。
First, in step 101, count values "i", 10 "M" and "j" are set to "1" and "0" respectively.
and set to “0”.

次に、ステツプ102において、i番目の画素の
微分値の絶対値Piが(i+1)番目の画素の微分
値の絶対値Pi+1より大きいか否かを判別する。こ
のとき、微分曲線が一例として第11図に示すも
のであるとすると、画素が領域及び内にある
ときにはステツプ102の判別結果は否定(NO)
になり、ステツプ103に進む。ステツプ103におい
ては、カウント値iが設定値kに等しいか否かを
判別するが、画素が領域及び(第11図)内
にあるときにはその判別結果は否定になり、ステ
ツプ104においてカウント値iを「1」だけイン
クリメントしてステツプ102にリターンする。そ
して、ステツプ102の判別結果が否定である限り
ステツプ102→103→104→102のループを繰り返
し、そのループを繰り返す毎にカウント値iをイ
ンクリメントしていく。
Next, in step 102, it is determined whether the absolute value P i of the differential value of the i-th pixel is greater than the absolute value P i+1 of the differential value of the (i+1)-th pixel. At this time, assuming that the differential curve is as shown in FIG. 11 as an example, if the pixel is within the area, the determination result in step 102 is negative (NO).
, and proceed to step 103. In step 103, it is determined whether the count value i is equal to the set value k, but if the pixel is within the area (FIG. 11), the determination result is negative, and in step 104, the count value i is Increment by "1" and return to step 102. Then, as long as the determination result in step 102 is negative, the loop of steps 102→103→104→102 is repeated, and the count value i is incremented each time the loop is repeated.

他方、上記ステツプ102の判別結果が肯定
(YES)になると、微分値の絶対値Piがその山の
ピーク値であると判断し、ステツプ105において
カウント値M及びjをそれぞれ「1」だけインク
リメントし、ステツプ106において値Piをピーク
値Djとする。従つて、カウント値Mは微分曲線
における山の数を示し、ピーク値Djはj番目の
山におけるピーク値を示すことになる。
On the other hand, if the determination result in step 102 is affirmative (YES), it is determined that the absolute value P i of the differential value is the peak value of the mountain, and the count values M and j are each incremented by "1" in step 105. Then, in step 106, the value P i is set as the peak value D j . Therefore, the count value M indicates the number of peaks in the differential curve, and the peak value D j indicates the peak value at the jth peak.

次に、ステツプ107に進み、値Piが値Pi+1より
小さいか否かを判別するが、画素が第11図にお
ける領域及び内にあるときにはその判別結果
は否定になり、ステツプ108に進む。ステツプ108
においては、カウント値iが設定値kに等しいか
否かを判別するが、画素が領域内にあるときに
はその判別結果は否定になり、ステツプ109にお
いてカウント値iを「1」だけインクリメントし
てステツプ107にリターンする。そして、画素が
領域内にある間、ステツプ107→108→109→107
のループを繰り返し、ステツプ107の判別結果が
肯定になると画素が領域から領域に移行した
と判断し、ステツプ110でカウント値iを「1」
だけインクリメントして前記ステツプ102にリタ
ーンする。
Next, the process proceeds to step 107, where it is determined whether or not the value P i is smaller than the value P i+1 . However, if the pixel is within the area shown in FIG. move on. step 108
In step 109, it is determined whether the count value i is equal to the set value k or not, but if the pixel is within the area, the determination result is negative, and the count value i is incremented by "1" in step 109 and the step is continued. Return to 107. Then, while the pixel is within the area, steps 107→108→109→107
This loop is repeated, and when the determination result in step 107 becomes positive, it is determined that the pixel has moved from one area to another, and the count value i is set to "1" in step 110.
The process returns to step 102.

他方、画素が領域内にあるときには、ステツ
プ107→108→109→107のループを繰り返している
うちに、最終的にはステツプ108の判別結果が肯
定になる。すると、検査ライン上のk個全ての画
素の値P1〜Pkについての調査が終了したと判断
し、ステツプ111以下に進み、上記調査の結果に
基づいて“かぶり”が発生しているか否かを判定
する。なお、前記ステツプ103の制御結果が肯定
になるのは、微分曲線に山が存在しないときだけ
である。
On the other hand, when the pixel is within the area, as the loop of steps 107→108→109→107 is repeated, the determination result at step 108 finally becomes affirmative. Then, it is determined that the investigation of the values P 1 to P k of all k pixels on the inspection line has been completed, and the process proceeds to step 111 onwards to determine whether or not "fogging" has occurred based on the results of the above investigation. Determine whether Note that the control result in step 103 is affirmative only when there is no peak in the differential curve.

ステツプ111においては、カウント値Mが予め
設定されている、前述した基準値Mtと等しいか
否かを判別し、その判別結果が否定の場合、すな
わち被検査パターンにおける山の数とマスターパ
ターンにおける山の数とが一致しないときにはス
テツプ116に進み、“かぶり”が有ると判定する。
他方、上記ステツプ111の制御結果が肯定の場合
にはステツプ112に進む。
In step 111, it is determined whether the count value M is equal to the preset reference value Mt , and if the determination result is negative, that is, the number of peaks in the pattern to be inspected and the number of peaks in the master pattern are different. If the number of peaks does not match, the process proceeds to step 116 and it is determined that there is "fogging".
On the other hand, if the control result in step 111 is affirmative, the process advances to step 112.

ステツプ112においては、ピーク値Djが予め設
定されている、前述したしきい値Pt以上であるか
否かを判別し、その判別結果が否定の場合、すな
わちピーク値Djがしきい値Ptより小さいときには
ステツプ116に進み、“かぶり”が有ると判定す
る。他方、上記ステツプ112の判別結果が肯定の
場合にはステツプ113に進み、カウント値jが
「1」であるか否かを判別する。そして、その判
別結果が否定の場合にはステツプ114においてカ
ウント値jを「1」だけデクリメントし、上記ス
テツプ112にリターンする一方、肯定の場合には
全ての山のピーク値がしきい値Pt以上であると判
断し、ステツプ115に進んで“かぶり”が無いと
判定する。
In step 112, it is determined whether or not the peak value D j is greater than or equal to the preset threshold value P t , and if the determination result is negative, that is, the peak value D j is equal to or greater than the threshold value P t . If it is smaller than Pt , the process proceeds to step 116, and it is determined that there is "fogging". On the other hand, if the determination result in step 112 is affirmative, the process proceeds to step 113, where it is determined whether the count value j is "1" or not. If the determination result is negative, the count value j is decremented by "1" in step 114 and the process returns to step 112, while if the result is affirmative, the peak values of all the mountains are equal to the threshold value P t It is determined that the above is the case, and the process proceeds to step 115, where it is determined that there is no "fogging".

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、“かぶ
り”が発生しているか否かの判定を“かぶり”に
対して鋭敏に反応する輝度分布曲線の傾きを用い
て行うようにしたので、“かぶり”の検出精度が
向上する。
As explained above, according to the present invention, it is determined whether or not "fogging" has occurred using the slope of the luminance distribution curve that responds sharply to "fogging". The detection accuracy of "fogging" is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の原理ブロツク図、第2図は本
発明の一実施例の構成を示すブロツク図、第3図
はキートツプの外観を示す図、第4図は画像を示
す図、第5図は検査ラインL0上の輝度分布曲線
を示す図、第6図は平滑化の方法を説明する図、
第7図は平滑化後の輝度分布曲線を示す図、第8
図は微分値の算出方法を説明する図、第9図は検
査ラインL0上の微分曲線を示す図、第10図は
かぶり判定ルーチンを示すフローチヤート、及び
第11図は微分曲線の他の例を示す図である。 1……撮像手段、2……A/D変換手段、3…
…記憶手段、4……平滑化手段、5……微分手
段、6……判定手段。
Fig. 1 is a block diagram of the principle of the present invention, Fig. 2 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the invention, Fig. 3 is a diagram showing the appearance of the key top, Fig. 4 is a diagram showing an image, and Fig. 5 is a diagram showing the appearance of the key top. The figure is a diagram showing the brightness distribution curve on the inspection line L0 , and Figure 6 is a diagram explaining the smoothing method.
Figure 7 is a diagram showing the brightness distribution curve after smoothing, Figure 8
The figure is a diagram explaining the method of calculating the differential value, Figure 9 is a diagram showing the differential curve on the inspection line L0 , Figure 10 is a flowchart showing the fogging determination routine, and Figure 11 is a diagram showing other differential curves. It is a figure which shows an example. 1... Imaging means, 2... A/D conversion means, 3...
...Storage means, 4...Smoothing means, 5...Differentiation means, 6...Judgment means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 被検査パターンを撮像する撮像手段1と、 該撮像手段1が出力するアナログ映像信号をデ
ジタル信号に変換するA/D変換手段2と、 該A/D変換手段2によつて変換されたデジタ
ル信号の多値データを格納する記憶手段3と、 被検査パターン上に設定される所定の検査ライ
ンに対応する画素群を構成する各画素の、該記憶
手段3に格納されている多値データを平滑化する
平滑化手段4と、 該平滑化手段4によつて平滑化された多値デー
タから得られる、該検査ラインに沿う被検査パタ
ーンの輝度分布曲線の傾きを算出する微分手段5
と、 該微分手段5によつて算出された傾きから得ら
れる微分曲線の山の数及び各該山のピーク値を、
マスターパターンに基づいて設定される、山の数
の所定値及び山のピーク値のしきい値とそれぞれ
比較することにより被検査パターンの良否を判定
する判定手段6と、 を具備するパターン検査装置。
[Scope of Claims] 1: an imaging means 1 for imaging a pattern to be inspected; an A/D conversion means 2 for converting an analog video signal outputted from the imaging means 1 into a digital signal; a storage means 3 for storing the multivalued data of the digital signal thus converted; a smoothing means 4 for smoothing the multivalued data smoothed by the smoothing means 4; and calculating the slope of the brightness distribution curve of the pattern to be inspected along the inspection line obtained from the multivalued data smoothed by the smoothing means 4. Differentiating means 5
and the number of peaks of the differential curve obtained from the slope calculated by the differentiating means 5 and the peak value of each peak,
A pattern inspection device comprising: a determining means 6 that determines the quality of the pattern to be inspected by comparing it with a predetermined value of the number of peaks and a threshold value of the peak value of the peaks, which are set based on a master pattern.
JP62055374A 1987-03-12 1987-03-12 Pattern inspecting instrument Granted JPS63223883A (en)

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