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JPH0566018B2 - - Google Patents
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JPH0566018B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0566018B2
JPH0566018B2 JP20081989A JP20081989A JPH0566018B2 JP H0566018 B2 JPH0566018 B2 JP H0566018B2 JP 20081989 A JP20081989 A JP 20081989A JP 20081989 A JP20081989 A JP 20081989A JP H0566018 B2 JPH0566018 B2 JP H0566018B2
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JP
Japan
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contact surface
heating
bonding
temperature
polishing
Prior art date
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Expired - Lifetime
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JP20081989A
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Japanese (ja)
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JPH0364937A (en
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Minoru Hirai
Yoshitaka Sukenari
Naoyuki Fusumada
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ICのリード接合装置に関し、詳
しくは、テープキヤリア方式(TAB方式)にお
いて形成されるテープキヤリア上のリード(又は
チツプボンデイング用フインガ、以下同じ)とチ
ツプに設けられたその接続用端子とをバンブを介
して重ね、多数のリードを一度接合するギヤング
ボンデイングにおいて連続的でかつ効率よくリー
ドを加熱接合することができるようなICのリー
ド接合装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an IC lead bonding device, and more specifically, the present invention relates to an IC lead bonding device, and more specifically, a lead bonding device for IC leads (or chip bonding fingers) on a tape carrier formed in a tape carrier method (TAB method). , hereinafter the same) and their connection terminals provided on the chip are overlapped via bumps, and the leads can be continuously and efficiently bonded by heating in gigantic bonding, in which many leads are bonded at once. This invention relates to a lead joining device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、TAB方式は、ポリイミド等の合成樹
脂の薄いフイルム状テープの表面に銅等の金属箔
をラミネートして、これをエツチングすることで
リードを多数本形成し、その各リードの先端側部
分(フインガ部分)又は半導体チツプの端子部分
に金属等のバンブを転写などにより接着してお
き、このバンブを介してリードと半導体チツプの
端子とを接続する。
Generally, in the TAB method, a metal foil such as copper is laminated on the surface of a thin film-like tape made of synthetic resin such as polyimide, and this is etched to form a large number of leads. A bump made of metal or the like is adhered by transfer or the like to the finger portion) or the terminal portion of the semiconductor chip, and the leads and the terminals of the semiconductor chip are connected via this bump.

その接続は、ICチツプ又はICチツプを搭載し
たIC本体のリード接続用の複数の端子とテープ
キヤリア上に形成された複数のリードとがバンブ
を介して重ねられた状態に配置され、この状態に
おいて450℃〜500℃に加熱した加熱ツールをリー
ドに接触させる接触加熱機構と、加熱ツールを50
回〜100回程度接触させた後にその接触表面をセ
ラミツクス系の砥石でクリーニングする研磨機構
とからなるリード接合装置が用いらるれる。な
お、この場合、クリーニング処理が必要なのは、
リードをメツキしている錫等が加熱ツールの接触
面に転写されて接触面が汚れ、それにより接合の
信頼性が低下するからである。したがつて、前記
の接合回数ばかりでなく、加熱ツールが汚れたと
きには随時研磨によるクリーニングが行われる。
The connection is made by placing a plurality of lead connection terminals of the IC chip or an IC body equipped with the IC chip with a plurality of leads formed on the tape carrier and stacking them via bumps. A contact heating mechanism that brings a heating tool heated to 450°C to 500°C into contact with the lead, and a heating tool that is heated to 50°C
A lead bonding device is used that includes a polishing mechanism that cleans the contact surface with a ceramic grindstone after making contact approximately 100 times to 100 times. In this case, the cleaning process is necessary for
This is because the tin or the like used to plate the leads is transferred to the contact surface of the heating tool, staining the contact surface and reducing the reliability of the bonding. Therefore, cleaning by polishing is performed not only during the number of times of joining described above, but also whenever the heating tool becomes dirty.

〔解決しようとする課題〕[Problem to be solved]

このようなリード接合装置の加熱ツールには一
般に内部にカートリツジヒータ等が内蔵されてい
てリード接触表面を均一に加熱するような構成と
なつているが、クリーニング処理等によりリード
接触表面の温度が低下した場合にそれを接合温度
まで回復させるのに少なくとも15秒〜20秒程度又
はそれ以上の時間が必要になる。例えば、加熱ツ
ールを50回〜100回程度接触させた後に10秒程度
の研磨を行うと、加熱ツールの接触面の温度が低
下してその温度が400℃程度になる。そこで、次
の接合に対しては加熱ツールの接触面接合温度で
450℃まで回復するまで待つ戻し加熱時間がそこ
に必要になる。
The heating tools of such lead bonding devices generally have a built-in cartridge heater, etc., and are configured to uniformly heat the lead contact surface, but cleaning treatment etc. When the temperature drops, it takes at least 15 to 20 seconds or more to recover the bonding temperature. For example, if polishing is performed for about 10 seconds after making contact with the heating tool about 50 to 100 times, the temperature of the contact surface of the heating tool decreases to about 400°C. Therefore, for the next joining, the contact surface joining temperature of the heating tool should be adjusted.
Reheating time is required to recover the temperature to 450°C.

そこで、TAB方式により搬送されて来たICチ
ツプもこの戻し加熱時間の間は接合が行われず、
待機しなければならなくなる。その結果、これが
接合処理における待ち時間となつてICの製造効
率を低下させている。
Therefore, the IC chips transported by the TAB method are not bonded during this reheating time.
You will have to wait. As a result, this results in waiting time in the bonding process, reducing IC manufacturing efficiency.

この発明は、このような従来技術の問題点を解
決するものであつて、連続的でかつ効率よくリー
ド接合ができるICのリード接合装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention solves the problems of the prior art, and aims to provide an IC lead bonding device that can perform lead bonding continuously and efficiently.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

このような目的を達成するためのこの発明の
ICのリード接合装置の構成は、それぞれがバン
プを介して重ねられた状態で配置されたICチツ
プ又はICチツプを搭載したIC本体のリード接続
用の複数の端子とテープキヤリア上に形成した又
はリードフレームとして形成した複数のリードと
をこの複数のリードに接触してそれぞれを加熱接
合する、内部にヒータを有する加熱部材と、加熱
部材の接触面に付着した汚れを落とすために接触
面を研磨する研磨機構とを備えるICのリード接
合装置において、研磨中又は研磨後に接触面と接
触し、接触面を接合温度付近の温度で加熱する加
熱器を設けるものである。
This invention to achieve such purpose
The structure of an IC lead bonding device consists of multiple terminals for connecting the leads of the IC chip or the IC body equipped with the IC chip, which are arranged in a stacked manner through bumps, and the terminals are formed on a tape carrier. A heating member having an internal heater is used to heat and bond a plurality of leads formed as a frame by contacting the plurality of leads, and the contact surface of the heating member is polished to remove dirt adhering to the contact surface. The IC lead bonding apparatus includes a polishing mechanism, and is provided with a heater that comes into contact with the contact surface during or after polishing and heats the contact surface to a temperature near the bonding temperature.

〔作用〕[Effect]

このように、研磨中又は研磨後に直接接触面を
外部から接触加熱するようにすれば、低下した接
触面の温度を短時間に接合温度まで回復させるこ
とができ、ICチツプ側やTABで搬送れたリード
側をほとんど待機させることなく、連続的な接合
処理を行うことができる。
In this way, if the contact surface is heated directly from the outside during or after polishing, the temperature of the contact surface that has dropped can be recovered to the bonding temperature in a short time, and the temperature of the contact surface can be recovered to the bonding temperature in a short time. Continuous bonding processing can be performed with almost no waiting time on the lead side.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例について図面を参照
して詳細に説明する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、この発明のICのリード接合装置を
適用した一実施例のTAB接合部分の平面図であ
り、第2図は、その接合処理動作の説明図、第3
図は、この発明の他の一実施例の研磨機構の説明
図である。
FIG. 1 is a plan view of the TAB bonding part of an embodiment to which the IC lead bonding apparatus of the present invention is applied, FIG. 2 is an explanatory diagram of the bonding processing operation, and FIG.
The figure is an explanatory diagram of a polishing mechanism according to another embodiment of the present invention.

第1図において、1は、TAB方式で搬送され
るテープキヤリアであつて、リード2,2,…が
形成されている。。このリード2,2,…は、例
えば、テープキヤリア1のベースの表面に銅等の
金属箔をラミネートした後にこれをエツチングす
ることで形成される。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a tape carrier transported by the TAB method, on which leads 2, 2, . . . are formed. . The leads 2, 2, . . . are formed, for example, by laminating a metal foil such as copper on the surface of the base of the tape carrier 1 and then etching this.

3,3,…は、テストパツドであつて、一点鎖
線で示す切断線6により後にリード2の部分と切
り離される。テープキヤリア1のほぼ中央部に位
置する矩形の部分4は、テープキヤリア1に設け
られた開口部であつて、接合位置に配置された開
口部4にあつてはその下側にICチツプ5が配置
されている。
3, 3, . . . are test pads which are later separated from the lead 2 along a cutting line 6 shown by a dashed line. A rectangular portion 4 located approximately in the center of the tape carrier 1 is an opening provided in the tape carrier 1, and an IC chip 5 is placed below the opening 4 located at the joining position. It is located.

ICチツプ5は、例えば、テープキヤリア1の
下側に設けられた回転円板等のIC搬送機構8
(第2図a,b参照)の周面(又は表面)に載置
されて搬送され、接合位置の開口部4の下側に位
置するように位置決めされる。このとき、上側に
あるリード2,2,…と下側にあるICチツプ5
の端子は、第2図a,bに示すようにバンブ7を
介してこれらが重なるように位置決めされる。な
お、第1図の1aは、スプロケツト等が挿入され
る孔であつて、テープキヤリア1を搬送するため
のものである。
The IC chip 5 is transported to an IC transport mechanism 8 such as a rotating disk provided below the tape carrier 1.
(See FIGS. 2a and 2b) and is transported while being placed on the circumferential surface (or surface) of the opening 4 at the bonding position. At this time, the leads 2, 2, ... on the upper side and the IC chip 5 on the lower side
The terminals are positioned so that they overlap with each other via the bump 7, as shown in FIGS. 2a and 2b. Note that 1a in FIG. 1 is a hole into which a sprocket or the like is inserted, and is for conveying the tape carrier 1.

リード接合装置10は、このテープキヤリア1
の搬送方向に並設されてかつ隣接して配置され、
テープキヤリア1の搬送方向に一致するX方向で
進退移動する移動台11と、加熱ツール12、こ
の加熱ツール12をを移動台11と直角方向のY
方向に進退移動させ、かつ、上下方向であるZ方
向に移動させる加熱ツール移動機構13等とを備
えている。ここでは、加熱ツール12と加熱ツー
ル移動機構13とにより加熱触機構が構成され、
加熱ツール移動機構13が前記の接合位置に対応
するように位置付けられ、移動台11とは独立し
ていてベース17に固定されている。
The lead joining device 10 is connected to this tape carrier 1.
arranged in parallel and adjacent to each other in the conveying direction,
A movable table 11 that moves forward and backward in the X direction that corresponds to the conveyance direction of the tape carrier 1, a heating tool 12, and a Y direction that is perpendicular to the movable table 11.
It is provided with a heating tool moving mechanism 13 and the like that moves the heating tool forward and backward in the Z direction, which is the up and down direction. Here, a heating contact mechanism is configured by the heating tool 12 and the heating tool moving mechanism 13,
A heating tool moving mechanism 13 is positioned to correspond to the above-mentioned joining position, is independent of the moving table 11, and is fixed to the base 17.

移動台11は、ベース17に対してスライド可
能に支承され、回転研磨機構14と、接触面が円
板状の加熱ブロツク15とを搭載していて、シリ
ンダ16の駆動によりX方向に移動させる。その
移動量(ストローク)は、これら中心間の間隔に
相当する。そこで、加熱ブロツク15は、加熱ツ
ール12が待機状態(又は初期状態、第1図に図
する状態)にあるときに加熱ツール12の下側に
位置し、シリンダ16のロツドが前記の間隔に相
当するストロークで伸びたときに前記の加熱ツー
ル12の下側に回転研磨機構14が位置するよう
になつている。また、この状態でシリンダ16の
ロツドが縮んだときには、加熱ツール12の下側
に加熱ブロツク15が位置して元の初期状態に戻
る。20は、制御状態であつて、内部にマイクロ
プロセツサとメモリ等とを有していて、シリンダ
16と加熱ツール移動機構13等とを制御する。
その制御としては、第2図aに示すように、加熱
ツール移動機構13を駆動して待機状態にある加
熱ツール12(第1図に示す状態)をテープキヤ
リア1に設けられた開口部4の上部へと移動させ
て次に加熱ツール12を降下させてICチツプ5
のリード接続用の複数の端子とテープキヤリア1
上に形成されリード2,2,…とが重なつた状態
にあるリード2,2,…に接触させてこれらを加
熱接合する。なお、第2図のaにおいて、12a
は、加熱ツール12に内蔵されたカートリツジヒ
ータであり、12bは、その接触面である。な
お、リード2,2,…とICチツプ5の端子との
重ね合わせは、テープキヤリア1かICチツプ5
を搬送したIC搬送機構8のいずれか一方が相対
的に移動して微少位置決めされることでなされ
る。
The movable table 11 is slidably supported on a base 17, is equipped with a rotary polishing mechanism 14, and a heating block 15 having a disk-shaped contact surface, and is moved in the X direction by driving a cylinder 16. The amount of movement (stroke) corresponds to the spacing between these centers. Therefore, the heating block 15 is located below the heating tool 12 when the heating tool 12 is in the standby state (or the initial state, the state shown in FIG. 1), and the rods of the cylinders 16 correspond to the above-mentioned spacing. The rotary polishing mechanism 14 is positioned below the heating tool 12 when the heating tool 12 is extended with a stroke. Further, when the rod of the cylinder 16 is contracted in this state, the heating block 15 is positioned below the heating tool 12 and returns to the original initial state. Reference numeral 20 is in a controlled state and has a microprocessor, memory, etc. inside, and controls the cylinder 16, heating tool moving mechanism 13, etc.
For this control, as shown in FIG. 2a, the heating tool moving mechanism 13 is driven to move the heating tool 12 in the standby state (the state shown in FIG. 1) into the opening 4 provided in the tape carrier 1. Move it to the top and then lower the heating tool 12 to heat the IC chip 5.
Multiple terminals and tape carrier 1 for connecting the leads of
The leads 2, 2, . . . formed above are brought into contact with the leads 2, 2, . In addition, in a of FIG. 2, 12a
is a cartridge heater built into the heating tool 12, and 12b is its contact surface. Note that the leads 2, 2, ... and the terminals of the IC chip 5 are superimposed on the tape carrier 1 or the IC chip 5.
This is done by relatively moving one of the IC transport mechanisms 8 that transported the IC and finely positioning it.

制御装置20は、接合の都度、接合回数を内部
でカウントしていて、それが例えば50回になる
と、シリンダ16を前進駆動して、回転研磨機構
14を加熱ツール12の下側(第3図の位置関係
を参照)に位置付け、加熱ツール12を降下させ
てその接触面12bを砥石14aに接触させて回
転研磨させる。このことにより接触面12bに付
着した汚れが落とされ、接触面12bがクリーニ
ングされる。このクリーニング処理は通常10秒程
度で済む。この研磨が終了すると、制御装置20
は、加熱ツール12をし上へと上げる制御(第2
図のaの状態参照)をし、シリンダ16を後退駆
動して第2図のaに示すように加熱ツール12の
下側に加熱ブロツク15を配置した後、加熱ツー
ル12を降下させて今度は加熱ブロツク15の表
面に接触面12bを接触させて加熱する。なお、
15aは、加熱ブロツク15に内蔵されたヒータ
である。
The control device 20 internally counts the number of times of joining each time, and when the number of times reaches, for example, 50, it drives the cylinder 16 forward to move the rotary polishing mechanism 14 to the lower side of the heating tool 12 (FIG. 3). ), and the heating tool 12 is lowered to bring its contact surface 12b into contact with the grindstone 14a for rotational polishing. As a result, dirt adhering to the contact surface 12b is removed, and the contact surface 12b is cleaned. This cleaning process usually takes about 10 seconds. When this polishing is completed, the control device 20
control to raise the heating tool 12 (second
(see state a in the figure), drive the cylinder 16 backward to place the heating block 15 below the heating tool 12 as shown in a in Fig. 2, and then lower the heating tool 12 and then The contact surface 12b is brought into contact with the surface of the heating block 15 to heat it. In addition,
15a is a heater built into the heating block 15.

通常、研磨した後の接触面12aの表面は、前
述したごとく400℃程度まで落ちるが、それは表
面であつて加熱ツール12の内部にはカートリツ
ジヒータ12aが設けられているのでその内部の
温度はそれほどまでに落ちていない。しかし、接
触面12bが接合に寄与するためにこの面の温度
を早急に接合温度まで上げる必要がある。。そこ
で、前記のように直接接触面12bを外部から接
触加熱することにより即座接合温度まで接触面1
2bの温度を回復させることができる。なお、こ
の場合の加熱ブロツク15の表面温度は、加熱接
合温度である450℃かそれより少し高い温度に設
定されるとよい。
Normally, the surface of the contact surface 12a after polishing drops to about 400°C as described above, but this is the surface and the cartridge heater 12a is provided inside the heating tool 12, so the internal temperature is It hasn't fallen that far. However, since the contact surface 12b contributes to bonding, it is necessary to quickly raise the temperature of this surface to the bonding temperature. . Therefore, by contact heating the contact surface 12b directly from the outside as described above, the contact surface 12b is immediately brought to the bonding temperature.
The temperature of 2b can be restored. Note that the surface temperature of the heating block 15 in this case is preferably set to 450° C., which is the heating bonding temperature, or a temperature slightly higher than that.

制御装置20は、接触面12bを加熱ブロツク
15に数秒接触させた後に加熱ツーール12を上
昇させて接合処理をする待機位置に位置決めし
て、次の接合処理に移る。このようにすることに
より加熱ツール12の接触面12aの接合温度ま
での温度回復を短時間で行うことができ、研磨処
理後、テープキヤリア1側或はICチツプを搬送
するIC搬送機構8側をほとんど待たせることな
く、連続的な接合処理をすることができる。
After bringing the contact surface 12b into contact with the heating block 15 for several seconds, the control device 20 raises the heating tool 12, positions it at a standby position for the joining process, and moves on to the next joining process. By doing this, the temperature of the contact surface 12a of the heating tool 12 can be recovered to the bonding temperature in a short time, and after the polishing process, the tape carrier 1 side or the IC transport mechanism 8 side that transports the IC chip can be Continuous bonding processing can be performed with almost no waiting time.

第3図は、加熱ブロツク15を砥石14aの下
側に配置して砥石14aの温度を450℃付近にし
て研磨する例である。。このように構成すれば研
磨中でも接触面12bの温度が低下しなくて済
む。なお、この場合、第1図の加熱ブロツク15
の位置に回転研磨機構14を配置できるのでシリ
ンダ16は不要となる。また、15bは、加熱ブ
ロツク15に内蔵されたカートリツジヒータであ
る。
FIG. 3 shows an example in which the heating block 15 is placed below the grindstone 14a and polishing is carried out at a temperature of about 450° C. of the grindstone 14a. . With this configuration, the temperature of the contact surface 12b does not need to decrease even during polishing. In this case, the heating block 15 in FIG.
Since the rotary polishing mechanism 14 can be placed at the position, the cylinder 16 becomes unnecessary. Further, 15b is a cartridge heater built into the heating block 15.

以上説明してきたが、実施例で示したリード接
合装置の構成は一例であつて、加熱ブロツク15
として示すこの発明の加熱器の位置は実施例に限
定されるものではない。また、その加熱温度は、
接合温度付近であれば、接合温度より多少高くて
も低くてもよい。
Although the above has been explained, the configuration of the lead bonding device shown in the embodiment is just an example, and the heating block 15
The position of the heater of the invention shown as is not limited to the embodiment. In addition, the heating temperature is
As long as it is around the bonding temperature, it may be slightly higher or lower than the bonding temperature.

また、実施例では、ICチツプをリードに接合
する例を挙げているが、これは、ICチツプその
ものではなく、ICチツプをフイルム基板やセラ
ミツクス基板等に搭載したIC本体であつてもよ
い。
Further, in the embodiment, an example is given in which an IC chip is bonded to a lead, but this may be not the IC chip itself but an IC body in which the IC chip is mounted on a film substrate, a ceramic substrate, or the like.

実施例では、TAB方式の場合を例としている
が、この発明は、リードフレームにICチツプを
接合する場合にも適用できることはもちろんであ
る。
Although the embodiment uses the TAB method as an example, it goes without saying that the present invention can also be applied to the case where an IC chip is bonded to a lead frame.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から理解できるように、この発明に
あつては、研磨中又は研磨後に直接接触面を外部
から接触加熱するようにすれば、低下した接触面
の温度を短時間に接合温度まで回復させることが
でき、ICチツプ側やTABで搬送されたリード側
をほとんど待機させることなく、連続的な接合処
理を行うことができる。
As can be understood from the above explanation, in the present invention, if the contact surface is directly contact heated from the outside during or after polishing, the decreased temperature of the contact surface can be recovered to the bonding temperature in a short time. It is possible to perform continuous bonding processing without having to wait for the IC chip side or the lead side transported by TAB.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明のICのリード接合装置を
適用した一実施例のTAB接合部分の平面図、第
2図は、その接合処理動作の説明図、第3図は、
この発明の他の一実施例の研磨機構の説明図であ
る。 1…テープキヤリア、2…リード、3…テスト
パツド、4…開口部、5…ICチツプ、10…リ
ード接合装置、11…移動台、12…加熱ツー
ル、13…加熱ツール移動機構、14…回転研磨
機構、15…加熱ブロツク、16…シリンダ、1
7…ベース、20…制御装置。
FIG. 1 is a plan view of the TAB bonding part of an embodiment to which the IC lead bonding device of the present invention is applied, FIG. 2 is an explanatory diagram of the bonding process operation, and FIG.
It is an explanatory view of a polishing mechanism of another example of this invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Tape carrier, 2...Lead, 3...Test pad, 4...Opening, 5...IC chip, 10...Lead bonding device, 11...Moving table, 12...Heating tool, 13...Heating tool moving mechanism, 14...Rotary polishing Mechanism, 15... Heating block, 16... Cylinder, 1
7... Base, 20... Control device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ぞれぞれがバンブを介して重ねられた状態で
配置された「ICチツプ又はICチツプを搭載した
IC本体のリード接続用の複数の端子」と「テー
プキヤリア上に形成した又はリードフレームとし
て形成した複数のリード」とをこの複数のリード
に接触してそれぞれを加熱接合する、内部にヒー
タを有する加熱部材と、前記加熱部材の接触面に
付着し汚れを落とすために前記接触面を研磨する
研磨機構とを備えるICのリード接合装置におい
て、研磨中又は研磨後に前記接触面と接触し、前
記接触面を接合温度付近の温度で加熱する加熱器
を設けたことを特徴とするICのリード接合装置。 2 研磨機構は回転する研磨板を有していて、加
熱器は前記研磨板の下側に配置され、前記研磨板
を加熱することでこの研磨板を介して接触面を加
熱することを特徴とする請求項1記載のICのリ
ード接合装置。
[Scope of Claims] 1. “IC chips or IC chips equipped with
It has an internal heater that heats and joins the plurality of terminals for connecting the leads of the IC body and the plurality of leads formed on the tape carrier or as a lead frame by contacting the plurality of leads. In an IC lead bonding apparatus comprising a heating member and a polishing mechanism that polishes the contact surface to remove dirt adhering to the contact surface of the heating member, the contact surface is contacted during or after polishing, and the contact surface is removed. An IC lead bonding device characterized by being equipped with a heater that heats the surface at a temperature near the bonding temperature. 2. The polishing mechanism has a rotating polishing plate, and the heater is disposed below the polishing plate, and heating the polishing plate heats the contact surface via the polishing plate. The IC lead bonding device according to claim 1.
JP1200819A 1989-08-02 1989-08-02 Ic lead bonding device Granted JPH0364937A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1200819A JPH0364937A (en) 1989-08-02 1989-08-02 Ic lead bonding device

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