Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0567058B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0567058B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0567058B2
JPH0567058B2 JP62133966A JP13396687A JPH0567058B2 JP H0567058 B2 JPH0567058 B2 JP H0567058B2 JP 62133966 A JP62133966 A JP 62133966A JP 13396687 A JP13396687 A JP 13396687A JP H0567058 B2 JPH0567058 B2 JP H0567058B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
wiring board
rubber
resin
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP62133966A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS63299242A (en
Inventor
Takumi Suda
Akio Nakamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP62133966A priority Critical patent/JPS63299242A/en
Publication of JPS63299242A publication Critical patent/JPS63299242A/en
Publication of JPH0567058B2 publication Critical patent/JPH0567058B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/721Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
    • H10W90/724Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は簡単な構造でありながら信頼性が高
く、薄型化が可能であり、しかも安価に半導体集
積回路(以下ICという)チツプとガラス基板と
を接続することが可能な半導体装置の接続方法に
関するものである。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention has a simple structure, high reliability, can be made thin, and is inexpensive. The present invention relates to a method for connecting a semiconductor device that can connect a semiconductor device to a semiconductor device.

(従来の技術とその問題点) 近年ドツトマトリクスLCD、ドツトマトリク
スPDP等の平面デイスプレイは、例えばLCD−
TV、パソコン用デイスプレイとして実用商品化
されているが、表示すべき情報量の増加にともな
つて、80、桁×25桁(640×400ドツト)という、
従来よりデイスプレイとして用いられている
CRTに匹敵する表示能力を持つた大型のものが
商品化されるに至つている。こうした大型デイス
プレイについてはシリコーンゴムにカーボンブラ
ツクを配合・分散した導電性シリコーンゴムと絶
縁性シリコーンゴムとを交互に積層載置したいわ
ゆるゼブラタイプのを使用して、デイスプレイを
駆動するためのICを搭載したプリント配線基板
を接続する方法があるが、これには接続ピツチを
小さくすると位置合わせや接続抵抗に支障がある
ために、ある程度以上の小型化は不可能であり、
さらにはそうしたコネクタは圧縮状態で保持しな
ければならないので、デイスプレイデバイスが大
型化した場合には保持機構全体を大型堅牢なもの
にしなければならず、軽量化・薄型化は望めない
という不利がある。
(Prior art and its problems) In recent years, flat displays such as dot matrix LCDs and dot matrix PDPs have been
It has been commercialized as a display for TVs and personal computers, but as the amount of information to be displayed has increased, the number of displays has increased to 80 digits x 25 digits (640 x 400 dots).
Traditionally used as a display
Large-sized devices with display capabilities comparable to CRTs have been commercialized. For such large displays, we use a so-called zebra-type material, which is made by alternately laminating conductive silicone rubber and insulating silicone rubber, which are silicone rubber mixed with and dispersed with carbon black, and equipped with an IC to drive the display. There is a method of connecting printed wiring boards that have been made smaller, but since reducing the connection pitch causes problems with alignment and connection resistance, it is impossible to reduce the size beyond a certain level.
Furthermore, since such connectors must be held in a compressed state, if the display device becomes larger, the entire holding mechanism must be large and robust, which is disadvantageous in that it cannot be expected to be lighter or thinner. .

これに対して、低融点の熱可塑性樹脂中に金属
粉、黒鉛粉、炭素繊維等のような導線性成分を配
合・分散させた異方導電性ヒートコネクタを使用
することにより、上例のゼブラタイプコネクタの
不利を解決しようとする試みもあるが、これを使
用した接続は熱可塑性樹脂が高温時(例えば+70
℃)には接着力が極度に低下するし、またこうし
た弱点を補うためには接続部分を圧縮保持する機
構を追加する必要があるなど充分な性能を有する
ものはなく、さらにはここに使用されている導電
性成分としては数10μmの直径を有するものを使
用する必要があり、これらがランダムに混合され
ているものであることから、微小ピツチにおいて
は、隣接する電極同志の絶縁性が損なわれて横導
通による不良をひきおこす不利があり、接続ピツ
チは0.2mmが限界といわれている。
In contrast, by using an anisotropic conductive heat connector in which conductive components such as metal powder, graphite powder, carbon fiber, etc. are blended and dispersed in a low-melting thermoplastic resin, the zebra Although some attempts have been made to overcome the disadvantages of type connectors, connections using these types of
℃), the adhesion strength is extremely reduced, and to compensate for these weaknesses, it is necessary to add a mechanism to compress and hold the connected parts. It is necessary to use conductive components with a diameter of several tens of micrometers, and since these components are randomly mixed, the insulation between adjacent electrodes may be impaired in minute pitches. This has the disadvantage of causing defects due to lateral conduction, and the connection pitch is said to be limited to 0.2mm.

また、この接続については第3図に示したよう
に、ICチツプ11上のボンデイング・パツド1
2と長尺のポリイミドフイルム13に銅箔14を
張り付け、これをエチチングして配線基板と接続
するための導線を形成したTAB方式も知られて
いる。これは導線がICチツプや配線基板と一括
して位置合せされるために位置決め精度が高く、
かつ接続に要する作業時間が短いという利点があ
るほか、ICチツプとそれが接続される配線基板
との熱膨張率の差違によるストレスをこの導線7
が吸収するという利便性があるが、その反面、予
めICチツプのボンデイング・パツドにめつきな
どによつて突起状電極(バンプ)を設けるか、も
しくは導線のICチツプと接続する部分をエツチ
ング等によつて凸状部を形成しなければならず、
ICチツプの製品歩留まりを低下させるなどコス
トアツプは免れない。さらに、TAB−ICのアウ
ターリードをガラス基板にボンデイングしようと
する場合には、ガラス基板のITO膜パターンを
Cr、Ni、Au等の金属でめつきしてボンデイング
可能なものとする必要があり、コスト的に満足の
いくものにはならない。
Regarding this connection, as shown in FIG.
A TAB method is also known in which a copper foil 14 is attached to a long polyimide film 13 and etched to form a conductive wire for connection to a wiring board. This has high positioning accuracy because the conductor wires are aligned with the IC chip and wiring board all at once.
In addition to having the advantage of shortening the work time required for connection, this conductor 7 also reduces the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the IC chip and the wiring board to which it is connected.
However, on the other hand, it is necessary to provide protruding electrodes (bumps) on the bonding pad of the IC chip in advance by plating, or to etch the part of the conductor that connects to the IC chip. Therefore, a convex portion must be formed,
It is inevitable that costs will increase, such as by lowering the product yield of IC chips. Furthermore, when bonding the outer leads of TAB-IC to a glass substrate, the ITO film pattern on the glass substrate must be
It is necessary to make it bondable by plating with metal such as Cr, Ni, Au, etc., which is not satisfactory in terms of cost.

なお、以上のような方法ではICチツプの他に
パツケージや導線などのスペースが必要であり、
電子機器を小型・軽量の物とするには至らなかつ
たことから、第4図に示したようにICチツプ1
1のボンデイング・パツド12の上に半田合金に
よるバンプ15を設けて、配線基板16上の電極
17と電気的接続をして実装面積をICチツプの
大きさとほぼ等しくしたフリツプチツプ法が提案
されているが、この方法では半田バンプの数が多
くなるとその特性や形状にばらつきが生じ、ま
た、配線基板の平面度の良否によつて接合強度も
不均一になるし、これについては上記したように
配線基板とICチツプの熱膨張率の差によつて生
ずるストレスが半田バンプを破壊するおそれがあ
り、電気的に信頼性のある接続とは言いがたいと
いう不利があり、また、ガラス基板に接続するた
めには前記した様なめつき処理が必要であり、小
型軽量化とコストダウンを両立させることは困難
である。
Note that the above method requires space for the package, conductors, etc. in addition to the IC chip.
Since it was not possible to make electronic equipment small and lightweight, the IC chip 1 was developed as shown in Figure 4.
A flip-chip method has been proposed in which bumps 15 made of solder alloy are provided on bonding pads 12 of 1 and electrically connected to electrodes 17 on a wiring board 16 so that the mounting area is approximately equal to the size of an IC chip. However, with this method, as the number of solder bumps increases, their characteristics and shapes vary, and the bonding strength also becomes uneven depending on the flatness of the wiring board. There is a disadvantage that the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the board and the IC chip may destroy the solder bumps, making it difficult to say that the connection is electrically reliable. In order to achieve this, the above-mentioned plating process is required, and it is difficult to achieve both size reduction and cost reduction.

さらにガラス基板上にICチツプを直接実装す
る方法として、例えばポリイミドフイルムなどの
プラスチツクフイルムにICチツプのボンデイン
グ・パツドに合わせた穴を明け、この中にカーボ
ンブラツクを添加した導電性エラストマーを充填
して作つた導電性ゴムコネクタをガラス基板と
ICチツプの間に置いて位置合せをしたのち、バ
ネ性を持つた押え金具で固定する方法が提案され
ているが、これにはプラスチツクフイルムにフア
インピツチで小径の穴を明けるのが難しく、打ち
抜き金型等も非常に高価なものとなるという不利
があるために、このガラス基板上へのICチツプ
の直接実装法は未だに満足すべきものが確立され
ていない。
Furthermore, as a method for directly mounting an IC chip on a glass substrate, for example, holes are made in a plastic film such as polyimide film to match the bonding pads of the IC chip, and the holes are filled with a conductive elastomer containing carbon black. The conductive rubber connector we made was connected to a glass substrate.
A method has been proposed in which the chips are placed between the IC chips, aligned, and then fixed with a spring-loaded presser metal fitting. Because of the disadvantage that the mold etc. are very expensive, a satisfactory method of directly mounting IC chips on a glass substrate has not yet been established.

そのため、本発明者らはICチツプのボンデイ
ング・パツドと配線基板の電極とを弾性を有する
導電性突状体(ゴムバンプ)を介して接続してな
る半導体装置を提案し(特願昭61−299639号明細
書参照)、これによればICチツプと配線基板との
接続が簡単で作業時間が短縮されるにもかかわら
ず、高い信頼正で薄型化が達成されるけれども、
これについてはそのゴムパツドの形成がICチツ
プの表面に硬化後にゴム弾性を示すようになる導
電性ゴム組成物を含有する導電性インクを塗布し
たのち、この上にボンデイング・パツドの配置と
同様の開口部を有するニツケル板、ステンレス板
等の金属板からなるマスク板をボンデイング・パ
ツドに位置合せして重ね、ついでこのマスク板の
開口部をキセノンランプ、ハロゲンランプなどで
スポツト加熱するか、この開口部に水銀ランプか
らの紫外光をスポツト照射してこの開口部に面し
た導電性インクを層を硬化させ、つぎにこのマス
ク板を取り外してボンデイング・パツドと接して
いない部分の未硬化導電性インク層を溶剤を用い
て溶剤除去するか、あるいはICチツプの表面に
位置合せして重ねたマスク板開口部に上記した導
電性インクをスクリーン印刷し、マスク板を取り
外して導電性インクを硬化または乾燥するという
方法で作られるので、これが工業的にかなりの困
難を伴うという不利がある。すなわちこれに使用
するスクリーン版については印刷されたゴムバン
プが±5μm程度の高度な位置精度を必要とする
ことと、その高さを20〜50μmとしなければなら
ないために、ニツケル板や、ステンレス板にエツ
チング法で所定位置に穴を明けてパターニングし
た物を使用するのが好適とされているが、これを
利用したスクリーン版では、ICチツプに対して
高精度に位置合わせすることが困難であることが
わかる。つまり、このスクリーン版が前記した様
な金属板を使用するため被印刷物であるICチツ
プのボンデイング・パツドを透かし見て確認しな
がら位置合わせすることができず、さらに、スク
リーン印刷を実行するためには、被印刷物である
ICチツプとスクリーン版との間に少なくとも1
mm程度のクリアランスを設ける必要があるが、ク
リアランスのある状態で位置合わせが完全にでき
たとしても、スキージがある一定の印圧でこのク
リアランスに相当するだけスクリーン版を引き伸
ばしながら印刷されるために、スクリーン版の引
き伸ばされた状態を再現できるわけではなく、そ
の位置合わせは不充分なもので、この方法によれ
ば上記したような±5μm程度の高度な印刷物を
得ることは困難と言わざるを得ない。
Therefore, the present inventors proposed a semiconductor device in which the bonding pads of an IC chip and the electrodes of a wiring board are connected via elastic conductive protrusions (rubber bumps) (Japanese Patent Application No. 61-299639). According to this method, the connection between the IC chip and the wiring board is easy and the working time is shortened, and a thinner structure is achieved with high reliability.
In this case, the rubber pads are formed by applying a conductive ink containing a conductive rubber composition that exhibits rubber elasticity after curing to the surface of the IC chip, and then forming an opening similar to the arrangement of the bonding pad on the surface of the IC chip. A mask plate made of a metal plate, such as a nickel plate or a stainless steel plate, is aligned and overlapped with the bonding pad, and then the openings of this mask plate are spot-heated with a xenon lamp, halogen lamp, etc., or the openings are The conductive ink layer facing this opening is cured by spot irradiation with ultraviolet light from a mercury lamp, and then the mask plate is removed and the uncured conductive ink layer is exposed to the area not in contact with the bonding pad. Either use a solvent to remove the conductive ink, or screen print the conductive ink described above on the opening of the mask plate aligned and stacked on the surface of the IC chip, remove the mask plate, and cure or dry the conductive ink. Since it is produced by this method, it has the disadvantage of being industrially quite difficult. In other words, for the screen plate used for this, the printed rubber bumps require a high degree of positional accuracy of about ±5 μm, and the height must be 20 to 50 μm, so we used nickel or stainless steel plates. It is said that it is preferable to use a screen plate that has been patterned by drilling holes at predetermined positions using the etching method, but it is difficult to align the screen plate with high precision with respect to the IC chip using this method. I understand. In other words, since this screen plate uses a metal plate like the one described above, it is not possible to align the bonding pads of the IC chip to be printed by looking through them, and furthermore, in order to perform screen printing, is the substrate to be printed
At least 1 unit between the IC chip and the screen version
It is necessary to provide a clearance of about mm, but even if the alignment is completed with the clearance, the squeegee will print while stretching the screen plate by the amount equivalent to this clearance with a certain printing pressure. However, it is not possible to reproduce the stretched state of the screen plate, and the alignment is insufficient, so it must be said that it is difficult to obtain high-quality printed matter of about ±5 μm as described above using this method. I don't get it.

(発明の構成) 本発明はこの弾性を有する導電性突状体を使用
するICチツプのボンデイング・パツドと配線基
板との接続方法の改良に関するものであり、これ
は易剥離性フイルム上に導電性インク層を印刷
し、これを半導体集積回路チツプの入出力端子ま
たは配線基板の電極に当接加熱してこの導電性イ
ンク層を弾性を有する導電性突状体として半導体
集積回路の入出力端子または配線基板の電極上に
転写したのち易剥離性フイルムを剥離し、ついで
これに配線基板の電極または半導体集積回路の入
出力端子を当接し、加熱することを特徴とするも
のである。
(Structure of the Invention) The present invention relates to an improvement in a method for connecting an IC chip bonding pad and a wiring board using this elastic conductive protrusion. An ink layer is printed, and it is brought into contact with an input/output terminal of a semiconductor integrated circuit chip or an electrode of a wiring board and heated, and the conductive ink layer is used as an elastic conductive protrusion to be applied to an input/output terminal of a semiconductor integrated circuit or an electrode of a wiring board. After being transferred onto the electrodes of the wiring board, the easily peelable film is peeled off, and then the electrodes of the wiring board or the input/output terminals of the semiconductor integrated circuit are brought into contact with the film and heated.

すなわち、本発明者らは半導体集積回路チツプ
の出入力端子と配線基板の電極とを弾性を有する
導電性突状体(以下これをゴムバンプと略記す
る)で接続する方法における前記した不利を解決
する方法について種々検討した結果、ポリエチレ
ン樹脂、ポリプロピレン樹脂などのような易剥離
性フイルム上にICチツプのボンデイング・パツ
ドまたは配線基板上の電極の配置と同様の開口部
を化学エツチング法によつて開口させた金属板の
開口部に硬化したときにゴム状弾性体を示す導電
性インキを注入して易剥離性フイルムのボデイン
グ・パツドまたは電極の配置と同様の位置に導電
性インキ層を設けたのち、これをICチツプまた
は配線基板上に当接し、この裏側からホツトプレ
スするとこの導電性インク層が硬化してゴムバン
プになると共に、これがICチツプまたは配線基
板上に転写されるので、これから易剥離性フイル
ムを剥離し、ついでICチツプと配線基板とを当
接し加熱するとこのゴムバンプが溶解してICチ
ツプまたは配線基板に接着一体化されるのでこの
ゴムバンプを介してICチツプと配線基板とが電
気的に完全に接触されたものになるということを
見出し、こゝに使用する易剥離性フイルム、導電
性インキの組成物などについての研究を進めて本
発明を完成させた。
That is, the present inventors solved the above-mentioned disadvantages in the method of connecting input/output terminals of a semiconductor integrated circuit chip and electrodes of a wiring board using elastic conductive protrusions (hereinafter referred to as rubber bumps). As a result of various studies on methods, we found that openings similar to the bonding pads of IC chips or electrodes on wiring boards were created on easily peelable films such as polyethylene resin and polypropylene resin using a chemical etching method. After injecting a conductive ink that exhibits a rubber-like elastic body when cured into the opening of the metal plate, a conductive ink layer is provided at the same position as the bodying pad or electrode of the easily peelable film. When this is brought into contact with an IC chip or wiring board and hot pressed from the back side, this conductive ink layer hardens and becomes a rubber bump, and this is transferred onto the IC chip or wiring board, so that an easily peelable film is formed. When the IC chip and wiring board are peeled off and then brought into contact with each other and heated, this rubber bump melts and is bonded and integrated with the IC chip or wiring board, so that the IC chip and wiring board are completely electrically connected via this rubber bump. The present invention was completed by conducting research on the composition of the easily peelable film and conductive ink to be used in this process.

以下これを添付の図面にもとづいて説明する
が、第1図aは本発明の方法によりICチツプに
ゴムバンプを形成させたICチツプと配線基板と
の接続を示す縦断面図、第1図bは本発明の方法
により配線基板にゴムバンプを形成させた配線基
板とICチツプと接続を示す縦断面図を示したも
のである。第1図aにおけるICチツプ1にはそ
の表面に存在するボンデイング・パツド2に上記
の方法でゴムバンプ3が接着一体化されており、
これが配線基板4の電極と接触されており、これ
らが封止用樹脂6で封止されて半導体装置とされ
るのであるが、第1図bではこのゴムバンプ3が
配線基板5の上に接着一体化されてこれがICチ
ツプ1のボンデイング・パツド2と接触させられ
ている。
This will be explained below based on the attached drawings. FIG. 1a is a longitudinal cross-sectional view showing the connection between an IC chip and a wiring board in which rubber bumps are formed on the IC chip by the method of the present invention, and FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing the connection between an IC chip and a wiring board in which rubber bumps are formed on the wiring board by the method of the present invention. In the IC chip 1 shown in FIG. 1a, a rubber bump 3 is bonded and integrated with a bonding pad 2 existing on the surface thereof by the method described above.
This is in contact with the electrodes of the wiring board 4, and these are sealed with a sealing resin 6 to form a semiconductor device. In FIG. This is brought into contact with the bonding pad 2 of the IC chip 1.

なお、このゴムバンプ3の易剥離性フイルムへ
の設置方法は例えば第2図に示したように易剥離
性フイルム7を金属性保持枠8に緊張して接着さ
せたのち、このフイルム上にICチツプのボンデ
イング・パツドまたは配線基板上の電極の配置と
同じ位置に化学エツチングで開口部を設けたニツ
ケル、ステンレスなどで製造した金属プレートを
設け、この開口部に導電性インクを注入してこの
フイルム上に導電性インク層を設けたのち、ホツ
トプレスするようにすればよい。
The method for installing the rubber bumps 3 on the easily peelable film is, for example, as shown in FIG. A metal plate made of nickel, stainless steel, etc. is provided with openings made by chemical etching at the same positions as the bonding pads or electrodes on the wiring board, and conductive ink is injected into the openings to coat the film. After providing a conductive ink layer on the surface, hot pressing may be performed.

本発明の方法で使用される半導体集積回路チツ
プは従来公知のボンデイング・パツドを設けた
ICチツプとすればよく、この配線基板も公知の
ものでよく、これはフリツプチツプ方式、TAB
方式など従来のチツプオンボード法によつては接
続することが不可能であるLCDのようなガラス
基板であつてもよいが、銅張エポキシ樹脂積層
板、銅張ポリイミド樹脂積層板、銅張ポリイミド
樹脂フルムなどのような従来用いられている配線
基板でもよい。
The semiconductor integrated circuit chip used in the method of the present invention is provided with conventionally known bonding pads.
It may be an IC chip, and this wiring board may also be a known one, such as a flip-chip method, a TAB
Glass substrates such as LCDs, which cannot be connected using conventional chip-on-board methods, may be used, but copper-clad epoxy resin laminates, copper-clad polyimide resin laminates, copper-clad polyimide A conventionally used wiring board such as a resin film may be used.

また、本発明の方法で使用されるゴムバンプを
形成する導電性インクは弾性のある導電性ゴム層
を形成すると共に、加熱時にICチツプまたは配
線基板に接着一体化されることが必要とされるの
で、エチエン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)、
エチレン−アクリル酸エチル共重合樹脂
(EEA)、アイオノマー樹脂、スチレン−ブタジ
エン共重合樹脂、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂などの熱
可塑性樹脂、Bステージ状態にある可撓性エポキ
シ樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、合
成ゴムなどがあげられ、これらは金、銀、銅、ニ
ツケルなどの金属粉またはこれらの合金粉、ケツ
チエンブラツク、グラフアイトなどのカーボン系
の導電粉、あるいは表面を金やニツケルなどで金
属めつきしたガラスビーズなどを導電性付与剤と
して10〜60容量%添加したものから作られたもの
とすればよいが、これに更に公知の有機過酸化
物、酸無水物、アミンなどの硬化剤、またこれら
のゴム成分をプラスチツク、金属、ガラス等に接
着するためのプライマー組成物、紫外増感剤、光
開始剤、老化防止剤、酸化防止剤などを添加した
ものとするのが好ましい。
Furthermore, the conductive ink forming the rubber bumps used in the method of the present invention forms an elastic conductive rubber layer and is required to be adhesively integrated with the IC chip or wiring board when heated. , ethene-vinyl acetate copolymer resin (EVA),
Thermoplastic resins such as ethylene-ethyl acrylate copolymer resin (EEA), ionomer resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinyl acetate resin, acrylic resin, polyester resin, vinyl chloride resin, flexible epoxy in B-stage state These include resins, thermoplastic resins such as silicone rubber, synthetic rubbers, etc. These include metal powders such as gold, silver, copper, and nickel, or powders of their alloys, carbon-based conductive powders such as ketschen black, graphite, etc. Alternatively, it may be made of glass beads whose surface is plated with gold or nickel, etc., to which 10 to 60% by volume is added as a conductivity imparting agent, and in addition, known organic peroxides, Addition of curing agents such as acid anhydrides and amines, primer compositions for adhering these rubber components to plastics, metals, glass, etc., ultraviolet sensitizers, photoinitiators, anti-aging agents, antioxidants, etc. It is preferable that the

また、この易剥離性の樹脂フイルムについては
ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、テフロン樹脂のほ
か、特に寸法変化の少ないものとしてポリアリレ
ート樹脂やポリイミド樹脂などを使用すればよ
い。
Further, for this easily peelable resin film, in addition to polyethylene resin, polypropylene resin, polyurethane resin, epoxy resin, and Teflon resin, polyarylate resin and polyimide resin may be used as those having particularly little dimensional change.

本発明の方法は上記したようにICチツプまた
は配線基板にICチツプのボンデイング・パツド
また電極の位置に対応する位置に導電性インク層
を設けた易剥離性フイルムを当接し、これを硬化
させてゴムバンプを作つたのちに易剥離性フイル
ムを剥離し、ついでこれをICチツプまたは配線
基板に接着一体化させるものであるが、この場合
に易剥離性フイルムとして透明なものを使用すれ
ばICチツプと容易に位置合わせをすることがで
きるばかりか、この方法によればスクリーン印刷
のようにクリアランスを設ける必要がないので
ICチツプのボンデイング・パツドと高い精度で
位置合わせをすることができ、これをスクリーン
版の如く金属製保持枠10に緊張して接着した物
を使用すれば、バンプ形成の際のゴム状導電性樹
脂をキユアーするとき、またこの導電性ゴムバン
プをICチツプに転写するときなどに加えられる
熱ストレスによるこの易剥離性フイルムの寸法変
化を極小に抑えることができる。また、この様な
易剥離性フイルムであればその寸法変化が低く抑
えられているので多数回繰り返して使用すること
も可能であり、コストダウンに寄与することは疑
いもない。
As described above, the method of the present invention involves contacting an IC chip or a wiring board with an easily peelable film provided with a conductive ink layer at positions corresponding to the bonding pads or electrodes of the IC chip, and curing the film. After making the rubber bumps, the easily peelable film is peeled off, and then the film is bonded and integrated with the IC chip or wiring board. Not only can alignment be done easily, but this method also eliminates the need for clearance unlike screen printing.
It is possible to align with the bonding pad of the IC chip with high precision, and if you use something like a screen plate that is glued under tension to the metal holding frame 10, it is possible to use a rubber-like conductive pad when forming bumps. Dimensional changes in this easily peelable film due to heat stress applied when curing the resin or transferring the conductive rubber bumps to an IC chip can be minimized. Further, since such an easily peelable film can suppress dimensional changes to a low level, it can be used repeatedly many times, which undoubtedly contributes to cost reduction.

なお、このようにして得られた半導体装置は、
パツケージレスであるために占有面積がICチツ
プのサイズと等しくなるのでこの方法を使用した
電子部品は小型化することができるし、従来のチ
ツプオンボード方式では、実装・ボンデイングす
る前にICの検査・スクリーニングをすることが
できなかつたが、この方法によれば適切な圧力を
加えれば外部回路と容易に導通することができる
ので、検査スクリーニングを簡便に行うことが出
来るという利便性が与えられる。また、導電性ゴ
ムバンプがゴム弾性を有しているので、ICチツ
プとガラス基板との熱膨張係数が整合していなく
ても、バンプがそのストレスを吸収し導電路が破
壊されることがないために高い信頼性が得られ、
またガラス基板が平面性の劣るものであつても、
ゴム弾性によつてこれに追従させることもでき、
さらにこの接続法によれば、極めて簡単な構成で
あるので安価に製造することができるという有利
性が与えられる。
Note that the semiconductor device obtained in this way is
Because it is packageless, the area it occupies is equal to the size of the IC chip, so electronic components using this method can be made smaller.・Although it was not possible to perform screening, this method provides the convenience of easily conducting inspection screening because it is possible to easily establish continuity with an external circuit by applying appropriate pressure. In addition, since the conductive rubber bumps have rubber elasticity, even if the thermal expansion coefficients of the IC chip and the glass substrate do not match, the bumps absorb the stress and the conductive paths are not destroyed. High reliability is obtained,
Furthermore, even if the glass substrate has poor flatness,
This can also be followed by rubber elasticity,
Furthermore, this connection method has the advantage that it has an extremely simple configuration and can be manufactured at low cost.

つぎに本発明の実施例をあげるが、例中の部は
重量部を示したものである。
Next, examples of the present invention will be given, and parts in the examples indicate parts by weight.

実施例 厚さ50μmのポリイミドフイルム・カプトンV
タイプ200V〔東レ・デユポン(株)製商品名〕をスク
リーン版用アルミニウム製枠に10Kg/cm2で緊張接
着したのち、この面にニツケル版にICチツプの
ボンデイング・パツドと同様の穴を化学エツチン
グ法で開孔したスクリーン版を設け、こゝにスチ
レン−エチレン−ブタジエン−スチレン共重合体
樹脂・クレイトン−G1657〔シエル化学(株)製商品
名〕60部、粘着性付与剤としてのテンペルフエノ
ール共重合樹脂・YSポリスターT115〔安原油脂
工業(株)製商品名〕40部、老化防止剤としてのアミ
ン−ケトン系樹脂・ノクラツクAW−N〔大内新
興化学工業(株)製商品名〕2部を適当量のトルエン
に溶解したのち、350メツシユ以下のニツケル粉
700部、カーボンブラツク・ケツチエンブラツク
EC〔ライオンアクゾ(株)製商品名〕10部を加えてら
い潰機で混合し、三本ロールで混練りして得た導
電性インクを注入してポリイミドフイルム上に導
電性インク層を印刷したのち、これを120℃、30
分で加熱してこの導電性インク層を硬化させてゴ
ムバンプとした。
Example: Polyimide film Kapton V with a thickness of 50 μm
Type 200V [trade name manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] is tension-bonded to the aluminum frame for the screen plate at 10 kg/cm 2 , and then chemically etched holes similar to the bonding pads for IC chips on the nickel plate are made on this surface. A screen plate with holes made by the method was prepared, and 60 parts of styrene-ethylene-butadiene-styrene copolymer resin Kraton-G1657 (trade name, manufactured by Ciel Chemical Co., Ltd.) and tempelphenol as a tackifier were added. Polymer resin - YS Polyster T115 [trade name manufactured by Yasushi Oil Industries Co., Ltd.] 40 parts, amine-ketone resin as an anti-aging agent - Nokrac AW-N [trade name manufactured by Ouchi Shinko Kagaku Kogyo Co., Ltd.] 2 parts After dissolving in an appropriate amount of toluene, make nickel powder of less than 350 mesh
700 copies, carbon black/button black
Add 10 parts of EC (trade name manufactured by Lion Akzo Co., Ltd.), mix in a crusher, knead with three rolls, inject the obtained conductive ink, and print a conductive ink layer on the polyimide film. After that, heat it at 120℃ for 30
The conductive ink layer was cured into a rubber bump by heating for 20 minutes.

つぎに、このポリイミドフイルムのゴムバンプ
層をICチツプに接合したところ、ゴムバンプ層
がICチツプのボンデイング・パツドに接合した
のでこれからポリイミドフイルムを剥離したの
ち、これにガラス基板を重ねガラス基板上の電極
部をゴムバンプ層に接合させ、これに150℃に加
熱されている熱板を圧接したところ、ゴムバンプ
が溶解してこれがICチツプのボンデイング・パ
ツドに接合一体化されたので、この半導体装置に
エポキシ樹脂・アラルダイトAY101〔日本チバガ
イギー(株)製商品名〕および硬化剤・HY950〔同社
製商品名〕の混合物を滴下して封止したところ、
上記したゴムバンプ層で導電接着がより強固とな
つた半導体装置が得られた。
Next, when the rubber bump layer of this polyimide film was bonded to the IC chip, the rubber bump layer was bonded to the bonding pad of the IC chip, so after peeling off the polyimide film, a glass substrate was placed on top of this and the electrode section on the glass substrate. When the rubber bump layer was bonded to the rubber bump layer and a hot plate heated to 150℃ was pressed against it, the rubber bump melted and was integrated into the bonding pad of the IC chip. When a mixture of Araldite AY101 [trade name manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.] and curing agent HY950 [trade name manufactured by the same company] was dropped and sealed,
A semiconductor device was obtained in which the conductive adhesion was made stronger by the rubber bump layer described above.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図a,bは本発明の方法で得られた半導体
装置の縦断面図、第2図は本発明方法における易
剥離性フイルムに導電性インク層を設ける方法を
示した縦断面図、第3図、第4図は従来公知の方
法によるICチツプの実装方法の縦断面図を示し
たものである。 11……ICチツプ、2,12……ボンデ
イング・パツド、3……ゴムバンプ、4,6……
配線基板、5,17……電極、6……封止用樹
脂、7……易剥離性フイルム、8……金属製保持
枠、13……ポリイミドフイルム、14……銅
箔、15……ハンダ合金バンプ。
FIGS. 1a and 1b are longitudinal cross-sectional views of a semiconductor device obtained by the method of the present invention, and FIG. 3 and 4 are longitudinal cross-sectional views of a method of mounting an IC chip using a conventionally known method. 1 , 11 ...IC chip, 2,12...Bonding pad, 3...Rubber bump, 4,6...
Wiring board, 5, 17... Electrode, 6... Sealing resin, 7... Easily peelable film, 8... Metal holding frame, 13... Polyimide film, 14... Copper foil, 15... Solder Alloy bump.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 易剥離性フイルム上に導電性インク層を印刷
し、これを半導体集積回路チツプの入出力端子ま
たは配線基板の電極に当接加熱してこの導電性イ
ンク層を弾性を有する導電性突条体として半導体
集積回路の入出力端子または配線基板の電極上に
転写したのち易剥離性フイルムを剥離し、ついで
これに配線基板の電極または半導体集積回路の入
出力端子を当接し、加熱することを特徴とする半
導体装置の接続方法。
1. A conductive ink layer is printed on an easily peelable film, and this is brought into contact with input/output terminals of a semiconductor integrated circuit chip or electrodes of a wiring board and heated to form an elastic conductive protrusion. The film is transferred onto the input/output terminals of a semiconductor integrated circuit or the electrodes of a wiring board, the easily peelable film is peeled off, and then the electrodes of the wiring board or the input/output terminals of the semiconductor integrated circuit are brought into contact with the film and heated. A method for connecting semiconductor devices.
JP62133966A 1987-05-29 1987-05-29 Connection of semiconductor device Granted JPS63299242A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62133966A JPS63299242A (en) 1987-05-29 1987-05-29 Connection of semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62133966A JPS63299242A (en) 1987-05-29 1987-05-29 Connection of semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63299242A JPS63299242A (en) 1988-12-06
JPH0567058B2 true JPH0567058B2 (en) 1993-09-24

Family

ID=15117245

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62133966A Granted JPS63299242A (en) 1987-05-29 1987-05-29 Connection of semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63299242A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0666355B2 (en) * 1988-12-16 1994-08-24 松下電器産業株式会社 Semiconductor device mounting body and mounting method thereof
JPH02185050A (en) * 1989-01-12 1990-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Mounting method for semiconductor device
JP5340318B2 (en) * 2009-02-04 2013-11-13 信越ポリマー株式会社 Capacitance type input switch

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63299242A (en) 1988-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3622665B2 (en) Connection structure, electro-optical device and electronic apparatus
US6101708A (en) Method for electrically connecting terminals to each other
KR20010034625A (en) Method of packaging semiconductor device using anisotropic conductive adhesive
JPH06310839A (en) Method of mounting electronic part on flexible printed-circuit board
JPH0645024A (en) Anisotropic conductive adhesive film
JPH0793342B2 (en) Method of forming electrodes
JPS63150930A (en) Semiconductor device
JPH0628121B2 (en) Anisotropic conductive film
JP2003336016A (en) Anisotropic conductive double-sided tape and electronic component mounting method using the same
JPH1187429A (en) Semiconductor chip mounting method
JPH11121682A (en) Tape carrier package semiconductor device and liquid crystal panel display device using the same
JPH0567058B2 (en)
JP2001230001A (en) Connection structure, electro-optical device and electronic equipment
JP2003297516A (en) Connection method of flexible board
JP2006286790A (en) WIRING BOARD BONDING METHOD, WIRING BOARD BOND STRUCTURE, AND ELECTRIC CIRCUIT DEVICE PROVIDED WITH WIRING BOARD BOND
CN101233608A (en) Manufacturing method of connection structure
JPH0618909A (en) Flexible circuit board with electric conductive anisotropic film
JPH06224256A (en) Semiconductor device
JP2000047244A (en) Liquid crystal device and method of manufacturing the same
JP3545178B2 (en) Disconnection test method
JPH07244291A (en) Anisotropic conductive film, liquid crystal display device and electronic printing device using the same
JP3349365B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP3100436B2 (en) Anisotropic conductive film
JP3229902B2 (en) Liquid crystal display device connection method and liquid crystal display device manufacturing apparatus
JPH09191026A (en) Liquid crystal display