JPH0570927B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、回路が高度に集積された半導体デバ
イスを製造するためのリングラフイ工程、特に転
写工程において使用されるＸ線転写装置に関す
る。

回路の集積度合が高まるに従つて回路パターン
を構成する線の幅はミクロンそしてサブミクロン
のオーダーが要求される様になつて来ており、こ
れを達成するため回路パターンを転写するための
照射エネルギーも紫外線、遠紫外そして軟Ｘ線と
波長が増々短いものが使用されている。

軟Ｘ線を使用したリソグラフイ装置は既に10年
以上に渡つて実用化の努力がなされているが、今
日になつても未だ実用的な半導体デバイス生産用
のＸ線転写装置は完成していない。この原因は実
用化の要件である焼付分解能、アライメント精
度、スループツト、装置の信頼性、操作性、装置
価格等のバランス又は適正化が不十分なためであ
ると考えられる。

しかしながらＸ線転写装置を実現するため要件
をより詳細に検討すると、問題の１つは軟Ｘ線の
取扱いが可視光あるいは紫外光に比べて遥かに困
難な点にある。周知の通り軟Ｘ線は真空容器中で
発生させなければならないから、極近接もしくは
密着状態に置かれたマスクとウエハ上へ軟Ｘ線を
照射するために真空容器にベリリユウム箔の窓を
通して軟Ｘ線を導出させる。ベリリユウムは軟Ｘ
線を吸収する比率が極めて小さいため選ばれたも
のではあるが、容器内の高真空とマスク及びウエ
ハの置かれた大気圧との気圧差に耐えられる様に
50ミクロン程度の厚さが要求される。ベリリウム
箔はこの程度の厚さになると軟Ｘ線の吸収率が50
％にもなつてしまい不利である。

更にこれに加えて以下の様な難点が本件の発明
者達によつて注目された。第２４図は加速した電
子線をターゲツトに照射して発生させた軟Ｘ線の
強度（縦軸）とエネルギとの関係を示したもので
ある。なめらかな右下がりの曲線は連続線で、途
中突出したピークが特性線である。特性線はター
ゲツトの材質に関係する。

ここで約4KeVより小さい方の側が感材の照射
に利用されるが、破線より左側の領域はベリリユ
ウムで吸収されてしまうため、実際に照射に利用
されるエネルギは約4KeVの位置と破線で挾まれ
た領域に過ぎない。

即ち、軟Ｘ線を真空部分から取出す際に大きな
エネルギー損失を伴うわけである。

また別の問題の１つは発散性の軟Ｘ線でマスク
を照射することから生じる。マスクとウエハが極
近接状態で維持され、これに発散性の軟Ｘ線が当
たる場合、もし仮りにウエハが傾いたとすると、
マスクとウエハが近づいた部位と遠ざかつた部位
ではマスク像の寸法が変化する。従つて、マスク
とウエハの平行度を厳密に維持する必要はある
が、機械的に実現するのは著しく困難である。ま
た、発散束で照射した場合、中心部と周辺部でマ
スク像の寸法が異なる特性があるから、転写の度
にマスクとウエハの整合のみならず、マスクの中
心とＸ線源の軸とを性格に合わせる必要がある。

更に他の問題の１つはパターンの転写を終了し
たウエハにエツチング等の化学処理を施した時に
ウエハに伸縮が起きることである。特に、最近ウ
エハ径の拡大化が著しく、６インチあるいは８イ
ンチの直径のウエハに転写が行われることが要望
されており、ウエハの伸縮を無視することはでき
ない。このためパターン像に及ぼすウエハの伸縮
の影響をできる限り少なくする必要がある。

それ故本発明の主要な目的は、Ｘ線源からのエ
ネルギをマスクの照射に効果的に利用することが
できるＸ線転写装置を提供することにある。

一方、真空中に物質を放置した場合、その物質
の表面層に吸蔵されていたガスが放出されるため
真空度を著しく損ない、あるいはＸ線発生源のタ
ーゲツト部で発生したガスが他の部所に悪影響を
与える恐れがあるが、本発明はこの種の難点を除
去することをも更なる目的としている。

次に添付の図面を参照して本発明の好ましい実
施例を説明する。第１図は本発明に従つて構成さ
れたＸ線転写装置を全体的に示した図である。こ
のＸ線転写装置は、メインチヤンバ１と、メイン
チヤンバ１の両側にそれぞれ配置されたウエハロ
ードカセツト収容チヤンバ２およびウエハアンロ
ードカセツト収納チヤンバ３と、同じくメインチ
ヤンバ１の片側にウエハアンロードカセツト収納
チヤンバ３と並んで配置されたマスクカセツト収
納チヤンバ４と、照射チヤンバ５ａ，５ｂと、サ
ブチヤンバ６とから構成されている。

メインチヤンバ１は、両側にロード用収納チヤ
ンバ２およびアンロード用収納チヤンバ３がそれ
ぞれ連結されている第１のメインチヤンバ部分７
と、マスク用収納チヤンバ４が片側に連結されて
いる第２のメインチヤンバ部分８とから構成され
ている。第１のメインチヤンバ部分７とロード用
収納チヤンバ２およびアンロード用収納チヤンバ
３の各々との連結部、並びに第２のチヤンバ部分
８とマスク用収納チヤンバ４との連結部はそれぞ
れが独立して真空状態を維持できるように構成さ
れている。

照射チヤンバ５ａ，５ｂとメインチヤンバ１お
よびサブチヤンバ６の各々との連結部もそれぞれ
真空状態を維持できるように構成されており、又
両者の間には都合に応じて各チヤンバをお互いに
隔離するための仕切弁９が配置されている。例え
ば照射チヤンバ５ａ，５ｂ内のＸ線管球を取り替
え又は修理等の必要が生じた場合には、仕切弁９
を閉じてから作業をおこなうことにより他のチヤ
ンバ１，６内の真空状態を維持することができ
る。これにより作業後Ｘ線転写装置の作動を再び
開始する前に照射チヤンバ５ａ，５ｂだけを排気
すれば良く、必要な排気時間を極めて短縮するこ
とができる。なお各チヤンバ１，２，３，４，５
ａ，５ｂ，６の好適面には排気用真空ポンプ（図
示せず）と各チヤンバを接続するための管１０が
取り付けられている。

ここで前述したチヤンバ内に収容されている装
置並びにチヤンバ内で行なわれる作業を主要なも
のについて第２図、第３図および第４図を参照し
て概略的に説明する。第４図に示されているよう
にウエハロードカセツト収納チヤンバ２には、Ｘ
線転写装置によつて回路パターンを転写するため
に予め面上にフオトレジストを塗布された複数枚
のウエハ１２を収納したカセツト１３を載置させ
るための装置が設けられている。この装置はカセ
ツト１３を上下方向へ昇降させることができ、複
数枚のウエハを第１のメインチヤンバ部分７内へ
順次搬入するのに寄与する。

第１のメインチヤンバ部分７内には、チヤンバ
２内のカセツト１３からウエハを一枚ずつチヤン
バ７内へ搬入するための搬入装置がチヤンバ２に
近接して配置されている。更にメインチヤンバ部
分７の長さ方向中央付近にはウエハの平行平面出
し装置が配置されており、ここで照射台上に支持
されたウエハホルダの基準面に対してウエハの表
面が平行になるようにウエハの位置を調整し固定
する。又ウエハアンロードカセツト収納チヤンバ
３に近接した第１のメインチヤンバ部分７内の位
置には、ウエハの全面に回路パターンを転写する
工程を終了したウエハを、チヤンバ３内へ搬出す
るための搬出装置が設けられている。

ここでチヤンバ３にはチヤンバ２と同じく、ウ
エハを収納するカセツト１４を載置させるための
装置が配置されている。この装置はカセツト１４
を上下方向へ昇降させることができ、照射作業を
終えたウエハを一枚ずつカセツトに収容するのに
寄与する。

次に第３図を参照してマスク収納チヤンバ２お
よび第２のメインチヤンバ部分８に関連した主要
な装置、作業について説明する。マスク収納チヤ
ンバ４はその内部にマスクカセツト１５を有し、
一方このマスクカセツト１５内には複数のマスク
１６が保持されている。更に転写工程に従つて複
数のマスクのうちの任意のマスク１６をマスク取
り出し位置へ割り出すためにマスクカセツト１５
を回転させる装置も設けられている。

第２のメインチヤンバ部分８内にはマスクチヤ
ンバ４に近接した位置に、マスクをカセツトから
取り出すあるいはマスクをカセツトへ戻すときに
使用されるマスク移動装置が配置されている。そ
して第２のチヤンバ部分８の内部上方にはマスク
ホルダーを保持するための上下動可能なマスクハ
ンドラがある。第２のチヤンバ部分８の長さ方向
中央付近上部にはマスクとウエハの粗い位置合わ
せを行なうためのプリアライメント用光学顕微鏡
１７が取り付けられている。一方第２のチヤンバ
部分８の上部にはプリアライメント用光学顕微鏡
１７と近接した位置に、マスクとウエハの精密な
位置合わせを行なうためのフアインアライメント
用電子顕微鏡１８が取り付けられている。更に第
２のチヤンバ部分８の内側にはチヤンバ部分８の
長さ方向に亘つて移動できる粗微動装置が配置さ
れ、プリアライメントおよびフアインアライメン
トの際にはこの粗微動装置を使用してマスクおよ
びウエハの位置を移動させる。

サブチヤンバ６に関連した主要な装置および作
業については、マスクをカセツトから取り出すあ
るいはマスクをカセツトへ戻すときに使用される
マスク移動装置を有していない点を除き、第２の
メインチヤンバ部分８に関連して上述した説明と
同様である。

第２図に示されているとおり照射チヤンバ５
ａ，５ｂは内部にＸ線管球を有しており、マスク
およびウエハは台にのせられてこのチヤンバを通
過するとき移動しながら照射される。このときマ
スクのパターンはウエハに転写される。

ここでウエハを４つの照射区域に分割した場合
を例にとつて、Ｘ線転写装置の全体的な作動を概
略的に説明する。

第５図にはマスク１６の平面図が示されている
が、このマスク１６はＸ線透過性の基板に回路パ
ターン２０および一組のアライメントマーク２１
をＸ線非透過性物質によつて形成したものであ
る。第６図に示されたウエハは直交する破線２
２，２３によつて照射区域を４つに分割されてい
る。照射は４つに分割されたウエハの照射区域の
うちの一つとマスク１６とを重ね合わせた状態で
行なわれ、従つてウエハの全面を照射するために
照射工程を４回実施しなければならない。なおウ
エハ側にもアライメントマークを予め形成してお
いても良く、アライメントマーク２４，２５，２
６は各照射区域に一組ずつ形成されている。

このようなアライメントマーク２４，２５，２
６を形成されたウエハ１２はウエハロードカセツ
ト１３に複数枚重ねて収容されている。ウエハ１
２は搬入装置によつてチヤンバ７内へ一枚ずつ引
き取られた後、ウエハのオリフラ部２７が所定の
方向を向くように位置調整される。次にウエハを
照射台上に支持されたウエハホルダ内へ移し替
え、平行平面出し装置によつてウエハホルダの基
準面に対してウエハの表面が平行で所定の高さに
なるようにウエハ１２の位置を調整する。その結
果ウエハホルダに載せられるマスクホルダによつ
て保持されたマスク１６とウエハ１２とは対向す
る面が平行で所定の間隔になる。

ここでウエハを載せた照射台を第２のチヤンバ
部分８の中央部プリアライメント位置へ移動させ
る。

一方、マスクカセツト１５から取り出され、マ
スクハンドラによつて挾持されたマスクホルダー
に固着されたマスク１６は、粗微動装置によつて
マスクハンドラからマスクホルダとともに受け取
られる。粗微動装置はマスクホルダをプリアライ
メント位置に待期している照射台上のウエハホル
ダ上へ持つていき両者を重ね合わせる。ここでマ
スク１６とウエハ１２の第１の照射域との粗い位
置合わせを行ない、続いて一層精密な位置合わせ
を行なうために隣接したフアインアライメント位
置へ照射台を移動させる。

このようにして精密に位置合わせされたマスク
１６とウエハ１２は照射台に乗せられて照射チヤ
ンバ５ａ内へ移送され、Ｘ線によつて走査照射さ
れる。なおこのときウエハ１２は第１の照射域以
外が照射されることのないように、第２、第３お
よび第４の照射域は遮へいされている。

照射台が照射チヤンバ５ａを通過してサブチヤ
ンバ６へ移送されたところで、ウエハの照射域を
切り換える。照射域の切り換え操作によつてマス
クとウエハの第２の照射域とを重ね合わせたら、
照射台をプリアライメント位置およびフアインア
ライメント位置へ順次移動させる。これによつて
マスクとウエアの第２照射域との粗い位置合わせ
および精密な位置合わせがおこなわれる。

次に前述したのと同様にマスクとウエハは照射
台にのせられて照射チヤンバ５ｂ内へ移送され、
Ｘ線によつて走査照射される。このとき第１、第
３および第４の照射域は遮へいされており、第２
の照射域以外が照射されることはない。

照射台が照射チヤンバ５ｂを通過して第２のメ
インチヤンバ部分８へ移送されたところで、ウエ
ハの照射域を再び切り換える。このようにして前
述の操作を繰り返し、ウエハの第３および第４の
照射域も照射し終わり、ウエハ全面の照射が完了
したら、第２のメインチヤンバ部分８から第１の
チヤンバ部分７へ照射台を移動させる。そしてウ
エハの全面に回路パターンを転写されたウエハ１
２は、搬出装置によつてチヤンバ３内のウエハア
ンロードカセツト１４に一枚ずつ収容される。な
おマスク１６の交換の必要があればマスク移動装
置によつてマスクをカセツト１５へ戻し、別のマ
スクをカセツトから取り出すことができる。

以上一枚のウエハの照射処理について説明した
が、本発明のＸ線転写装置においては、複数の照
射台を使用して複数枚のウエハ１２を平行して照
射処理することができる。

続いて前述したＸ線転写装置の全体的な作動を
一層明確に理解するため、重要な項目について以
下に詳細に説明する。

(1) ウエハのロード、平行平面出しおよびアンロ
ード 第４図に示されているように第１のメインチ
ヤンバ部分７の両側部に、ウエハローダカセツ
ト収納チヤンバ２およびウエハアンロードカセ
ツト収納チヤンバ３がそれぞれ連結されてい
る。ロード用チヤンバ２の内部には、予めＸ線
に反応するレジストを塗布した複数枚のウエハ
１２を収容したウエハカセツト１３を載置する
ための台３０が設けられており、この台３０は
昇降装置３１によつて支持されている。台上は
支持されたカセツト１３は、ウエハを第１のメ
インチヤンバ部分７内へ一枚搬入したらその都
度順次垂直方向下方へ昇降装置３１によつて降
下される。

カセツト１３から第１のメインチヤンバ部分
７内へのウエハの搬入は第７図に示されたウエ
ア搬入装置３２によつて行なわれる。搬入装置
３２は、ウエハ１２を上面に載せてカセツト１
３から引き出す台３３およびこの台３３をガイ
ド３４に沿つて水平方向へ摺動させるための摺
動部３５を有している。台３３上に載置された
ウエハ１２は、摺動部３５を移動させることに
よつてウエハ押上げ装置３６の上方まで移され
る。押上げ装置３６は、回転可能なウエハ支承
面３７およびこの面から一段下がつた位置に取
り付けられたオリフラ検出器３８を有してい
る。ここで押上げ装置３６を駆動させてウエハ
支承面３７を上昇させ、この支承面３７によつ
て台３３からウエハ１２を受けとる。このとき
ウエハ１２の位置は、オリフラ検出器３８を使
用しオリフラ２７を所定の方向に向けるように
支承面３７を回転させて位置決めされる。

押し上げ装置３６を駆動させて、上昇した位
置に面３７によつて支承されたウエハ１２は、
第８図に示されたウエハハンド４０によつて周
囲を挾持される。このハンド４０は、ガイド４
１に沿つて摺動する摺動部４２に連結されてお
り、又同じく上下動可能な上下シリンダー４３
にも連結されている。

ハンド４０はウエハ支承面３７上方の位置ま
で摺動部４２をガイド４１に沿つて摺動させる
ことにより移動し、この位置で上下シリンダー
４３を作動させることにより降下させられる。
そしてハンド４０はウエハ１２を支承面３７か
ら受けとつた後再びシリンダー４３を作動させ
て上昇し、同じく摺動部４２をガイド４１に沿
つて移動させることにより、ウエハの平行平面
出し位置４４（第４図）まで動かされる。

この平行平面出し位置４４には、レール４
５，４５に沿つて移動する照射台４６が待期し
ている。第９図に示されている様にこの照射台
４６にはその上面にウエハホルダー４７が取り
付けられており、一方ホルダー４７の内部には
その底面から上方に向かい順次、照射域移動台
４８、球面座４９、ウエハチヤツク５０が配置
されている。

照射台４６およびホルダー４７の底部にはピ
エゾ素子５１を挿通させるための開口５２，５
３がそれぞれ形成されている。この開口５２，
５３は好ましくは３個形成される。ピエゾ素子
５１は上下動可能な素子支持台５４の上面に好
ましくは３本前述の開口に対向して垂直に取り
つけられている。

一方チヤツク５０の底部には棒状突起５５が
保持されており、開口５２，５３を通してホル
ダー４７内へ挿通された素子５１の上端と当接
するようになつている。又球面座４９はチヤツ
ク５０に固定されており、その周囲には球面座
４９の位置を固定するためのピエゾ素子５６が
当接している。

平行平面出し位置４４にはメインチヤンバー
部分７の上面に設置された昇降装置５７によつ
て上下動するキヤリブレーター５８が配置され
ている。このキヤリブレーター５８は底板５９
を有し、底板５９にはギヤツプセンサー６０挿
通用開口６１およびチヤツク賦勢段６２挿通用
開口６３が形成されている。

ここで前述したように平行平面出し位置４４
までハンド４０によつて運ばれたウエハ１２
は、同じく位置４４に待期しているウエハホル
ダー４７とキヤリブレーター５８との間に位置
することになる。次に上下シリンダー４３を作
動させてウエハハンド４０をチヤツク５０へ向
けて降下させ、ウエハがチヤツク５０の上面付
近に達したらハンド４０を作動させてウエハを
解放し、チヤツク５０の面上に載せる。ウエハ
１２は静電方式によつてチヤツク５０に固着さ
れる。

ハンド４０はウエハ１２をチヤツク５０へ受
け渡した後上下シリンダー４３の作動により上
昇し、摺動部４２をガイド４１に沿つて移動さ
せることによりチヤンバ２の方向へ移される。

このようにしてチヤツク５０の上に固着され
たウエハ１２の平行平面出しの機構について説
明する。まず昇降装置５７を作動させてキヤリ
ブレーター５８をその底板５９の下面がホルダ
ー４７の上端基準面６５と当接するまで降下さ
せる。

次に素子支持台５４を駆動してピエゾ素子５
１を開口５２，５３を通して上昇させ、棒状突
起５５の下端面を突きあげる。このときギヤツ
プセンサー６０を用いて、ウエハ１２の上面と
ホルダー４７の上端基準面６５との間隔を測定
する。測定の結果に応じて素子５１の上下微調
整をおこない、ウエハの平行平面出し作業が終
わつたら、素子５６を作動させて球面座４９の
周囲に突き当て球面座４９、従つてチヤツク５
０の位置を固定する。

続いて昇降装置５７を作動させてキヤリブレ
ーター５８を上昇位置に、また素子支持台５４
を作動させてピエゾ素子を降下位置まで移動さ
せる。しかる後ホルダー４７をのせた照射台４
６は、駆動装置（図示せず）を作動させること
によりレール４５，４５に沿つて平行平面出し
位置４４からプリアライメント位置へ移動す
る。

次に照射を終了したウエハのアンロードにつ
いて説明する。ウエハアンロードカセツト収納
チヤンバ３にはウエハロードカセツト収納チヤ
ンバ２と同じくウエハを収納するカセツト１４
を載置するための台３０が設けられており、こ
の台３０は昇降装置３１によつて支持されてい
る。台３０上に支持されたカセツト１４は、第
１のメインチヤンバ部分７からウエハを収納し
た後垂直上方へ昇降装置３１によつて順次上昇
される。

第１のメインチヤンバ部分７からカセツト１
４へのウエハの収容は、第８図に示されたのと
同じ構成を有するウエハハンドおよび第１０図
に示されたウエハ搬出装置６６を使用すること
によつておこなわれる。装置６６は、台６７お
よび摺動部６８を有している。

第１１図に示されているように照射を終了し
た照射台４６上からマスクホルダー７０をホル
ダーハンド７１によつて取り除いた後、照射台
４６はレール４５，４５に沿つてウエハハンド
に向かつて進み停止する。ここでハンドによつ
てウエハチヤツク５０上に載置されたウエハ１
２の周囲を挾持し、ウエハ搬出装置６６の台６
７上へ移し代える。台６７上にウエハをのせた
状態で摺動部６８はガイド６９に沿つてチヤン
バ３内のカセツト１４に向かつて進む。以上の
手順を繰り返すことにより照射を終えたウエハ
は順次アンロードカセツト収納チヤンバ３内の
カセツト１４に収容される。

(2) マスクのロードおよびアンロード 次にマスクのロード、アンロードを第３図お
よび第１１図を参照して説明する。

マスクカセツト収納チヤンバ４内へ収納され
たマスクカセツト１５ａ，１５ｂを、カセツト
ふたあけ装置７２を作動させてカセツト１５の
下ぶた１５ｂを降下させる。

カセツト１５は上ぶた１５ａと下ぶた１５ｂ
を組み合わせた構成を有し、その内部に複数の
マスク１６を上ぶた１５ａ側に磁力で保持して
いる。

マスクの上ぶた１５ａは回転装置７４を駆動
することにより回転可能であり、前述した複数
のマスク１６のうち所望のものを取り出し位
置、収納位置へ割り出すことができる。

チヤンバ４の排気は、チヤンバ４ふた７５を
あけてカセツト１５をチヤンバ４内へ収納しふ
た７５を閉じた後排気装置（図示せず）を作動
させることによつて行なわれる。チヤンバ４内
の真空度が所定の値に達したら、閉じていたス
ライド弁７６をあけてマスク移動部材を第２の
メインチヤンバー部分８側よりチヤンバ４内へ
挿通させる。マスク移動部材の先端には、カセ
ツトの上ぶた１５ａ側に磁力で保持されたマス
ク１６を引き出すつめが形成されている。前記
つめを選択された任意のマスク１６に当接させ
たら上ぶた１５ａを上ぶた昇降機７４ｂを作動
させて上昇させマスク１６を上ぶた１５ａから
取り外し、第２のメインチヤンバ部分８内に向
かつてマスク移動部材を引込め、マスク１６を
チヤンバ４内からメインチヤンバ部分８内のマ
スクステージ７７へ移動させる。

マスクステージ７７には、マスク１６を保持
するためのマスクハンドラ７８およびマスクの
位置を検知するためのマスク位置センサ７９、
更にはマスクハンドラ７８によつて保持された
マスクをその状態で垂直上方へ押し上げるため
のマスク押し上げ装置８０が設けられている。

マスクハンドラ７８は移動部材上に載せられ
てステージ７７に位置したマスクを保持し、又
一方センサ７９によりマスクの位置を検知した
結果に応じてマスクの位置ぎめをおこなうべく
回転することができる。

このようにしてマスクの正確な位置決めが終
了したらマスクハンドラ７８によつてマスク１
６を保持し、押し上げ装置８０を作動させて、
マスクハンドラ７８を垂直上方へ移動させる。

ここでセンサ７９は水平方向に移動でき、マ
スクの位置を検知する際にはハンドラ７８によ
つて保持されたマスクの上方に位置し、マスク
の正確な位置ぎめが終了した後には再びもとの
位置へ引込み、マスクハンドラ７８の垂直方向
への移動にあたつて障害とはならない。

マスクステージ７７の垂直上方にはマスクホ
ルダーハンド７１が配置されている。このマス
クホルダーハンド７１は、マスクホルダ７０を
両側からはさみつけるための当接部材８１，８
１と、マスクホルダ７０を当接部材８１，８１
の間にはさみつけた状態で上下に移動させるた
めの軸部材８２，８２とから構成されている。
この軸部材８２，８２はメインチヤンバー部分
８の上部に設置された昇降装置８３によつて上
下動させられる。又当接部材８１，８１は軸部
材８２，８２に対して回動自在に連結されてお
り、照射を終了して送られてくるマスクホルダ
ー７０を受けとる際に回動して、いつたんホル
ダー７０を一方の当接部材８１に対して当接す
る位置まで通過させる。しかる後、前述のとお
り回動してマスクホルダ７０の移動径路から離
れていた当接部材８１を、再び回動させてホル
ダ７０を２つの当接部材８１，８１によつて挾
持する。

このようにしてハンド７１によつて挾持され
るマスクホルダ７０には、マスクハンドラ７８
によつて保持された状態で垂直上方へ移動して
くるマスクを部分的に収容するための開口部８
４と、マスクを磁力で保持するために底部に埋
設された磁性体とを有している。従つてハンド
ラ７８によつて保持された状態でマスク押し上
げ装置８０によつて垂直上方へ移動してきたマ
スクは、マスクホルダ７０によつて保持され、
一方ハンドラ７８はマスクを解放して後マスク
押し上げ装置８０の作動により垂直下方へ降下
する。

次に前述したのとは反対にマスクホルダ７０
によつて保持されているマスク１６をマスクカ
セツト１５内へ収納する手順について説明す
る。

まず押上げ装置８０を作動させてマスクハン
ドラ７８をマスクホルダ７０の下側に保持され
ているマスク１６の近傍まで移動させる。そし
てハンドラ７８を作動させマスクの周囲を挾持
させる。ここでホルダ７０の底部に設けられた
磁性体を消磁する。このようにしてホルダ７０
からマスクを引きはなしてから押上げ装置８０
を駆動させて、ハンドラ７８によつて挾持した
状態でマスクを垂直下方に移動させる。

次にマスク移動部材の先端に形成されたつめ
によつて、ハンドラ７８により挾持されマスク
ステージ７７に位置しているマスクを受けと
る。このときつめがマスクを受けとつたらハン
ドラ７８を作動させてマスクからはなれるよう
にする。この後マスク移動部材をチヤンバ４内
へ挿通するように移動し、カセツト１５の上ぶ
た１５ａと下ぶた１５ｂの間に先端を位置させ
る。ここでカセツトの上ぶた１５ａに設けられ
た磁性体を使つてマスク移動部材の先端に位置
したマスク１６を上ぶた１５ａの下面に吸着、
保持する。

(3) 照射台および移動台 第１２図を使つて移動台および照射台を説明
する。図中、８５は移動台で、縦移動レール８
６，８６上を不図示の駆動装置により自由に移
動する。縦移動レール８６，８６は移動台８５
がフアインアライメント位置Ａとマスク着脱位
置Ｃを移動できる長さになつている。移動台８
５上には横移動レール４５，４５が固設され、
横移動レール４５，４５上を照射台４６が自由
に移動する。横移動レール４５，４５の一端
は、照射台４６がフアインアライメント位置Ａ
に在る時、中継レール８７，８７に接続され、
他端は、照射台４６が横移動レール上を移動し
た時、ウエハロード位置Ｄおよびウエハアンロ
ード位置Ｅを占める様に決められている。即
ち、移動台８５がプリアライメント位置Ｂに在
り、その位置から照射台４６が横移動レール４
５，４５上を移動するとウエハロード位置Ｄに
達することができる。又移動台８５がマスク着
脱位置Ｃにあり、その位置から照射台４６がレ
ール４５，４５を移動するとウエハアンロード
位置Ｅに達する。照射台４６上にマグネツトチ
ヤツクで保持される部材４７はウエルホルダ
で、正方形の窪みが設けられており、照射域移
動台４８が窪み中を移動し得る。ウエハホルダ
４７と照射域移動台４８の相対移動ついては後
述する。台４８上にはウエハチヤツク５０が設
けられていて、ウエハをチヤツキングする。

第６図Ａ移動台８５と照射台４６の上方には
第１３図に示す横方向に移動可能な粗微動装置
８８が配置される。この粗微動装置８８はマス
クとウエハをアライメントするために使用する
もので、横移動レール８６，８６と平行に設け
られた別の横移動レール８９，８９に案内され
て移動する。

第１４図は粗微動装置８８の詳細を描いてい
る。９０は粗微動枠で、横移動レール８９，８
９が貫通する梁から４ケ所で釣り下げられ、両
者の間には衝突エネルギー吸収用圧縮バネが挿
入されていて枠を下方で固定している。そして
枠の内部にマスクホルダ７０とウエハホルダ４
７が不図示の移動台押上げ機構（詳細は後述）
で押上げられて進入する。粗微動枠９０の外側
には積層されたピエゾ素子で支えられた粗動機
構９１ａ，９１ｂ等が設けられており、粗動機
構９１ａ…のプツシユロツド９２ａは枠９０の
内部へ突出している。粗動機構９１ａは第１５
図に示されているように粗動モータ９３ａの回
転力が例えばラツク・ピニオンの組合せにより
プツシユロツド９２ａの直線移動に変換される
構造となつている。プツシユロツド９２ａの軸
承は、Ｖ字カツトのなされたブロツク９４ａと
プツシユロツド９２ａを上側から押圧する片持
ち状の板バネ９５ａから形成されている。板バ
ネ９５ａは更にピエゾ素子棒９６ａで加圧され
る構成となつており、ピエゾ素子棒９６ａに通
電されると、プツシユロツド９２ａは板バネ９
５ａを介して押圧され、ブロツク９４ａにクラ
ンプされる。９７，９７は積層されたピエゾ素
子で、粗動機構９１ａを微小量前後させる機能
を持ち、一端は粗動機構９１ａに固定され、他
端は粗微動枠９０の外部に固定される。又以上
と同様の粗動機構９１ｂ…が積層されたピエゾ
素子で粗微動枠９０の外部に固定される。

次に第１６図を使つて粗微動調整について説
明する。図中、９２ａ〜９２ｅは粗微動枠９０
の上段から突出したプツシユロツドでマスクホ
ルダ７０に当接し、９２ｆ〜９２ｊは下段から
突出したプツシユロツドでウエハホルダ４７に
当接する。即ちプツシユロツド９２ａと９２ｂ
はマスクホルダ７０の一辺に当接し、その対辺
にはプツシユロツド９２ｄが当接してマスクホ
ルダ７０を挾持し、左右の辺には各々９２ｃと
９２ｅが当接して挾持する。ウエハホルダ４７
も同様にプツシユロツド９２ｆとプツシユロツ
ド９２ｈと９２ｉが対向し、又プツシユロツド
９２ｇとプツシユロツド９２ｊが対向して挾持
する。例えばマスクホルダ７０のＸ、Ｙ、θの
調整をする場合、Ｘ方向の調整ではプツシユロ
ツド９２ｃと９２ｅを若干緩めてプツシユロツ
ド９２ａと９２ｂの組及びプツシユロツド９２
ｄを相互に押出し、引き込むことで実現する。
その際、初期状態では粗動モータ９３ａを駆動
してプツシユロツド９２ａを前後させて粗い調
整を行つた後、ピエゾ素子棒９６ａを駆動して
プツシユロツド９２ａをクランプする。次いで
積層されたピエゾ素子９７へ通電すると粗動機
構９１ａ全体が微細に前後してマスクホルダ７
０の位置を精密に位置決めすることができる。
またＹ方向の調整ではプツシユロツド９２ｅと
プツシユロツド９２ｃを相互に押し引きして位
置決めすることができる。

一方、θ方向の調整の際はプツシユロツド９
２ｃと９２ｅを若干緩め、プツシユロツド９２
ａとプツシユロツド９２ｂの突出量を変えれば
プツシユロツド９２ｄの先端を中心にマスクホ
ルダ７０は回転することになる。ウエハホルダ
４７についても上述と同様の操作で位置調整が
可能である。

(4) プリアライメントおよびフアインアライメン
ト 第１２図へ戻つてプリアライメント及びフア
インアライメントの説明を行う。まず、マスク
着脱位置Ｃで、マスクを装着されたマスクホル
ダ７０を粗微動装置８８に取付ける工程が行わ
れる。そのためマスクホルダーハンド７１を一
旦下降させた後、粗微動装置８８をマスク着脱
位置Ｃまで移動させて、粗微動装置８８をマス
クホルダ７０の上方に整合させる。次いでマス
クホルダーハンド７１を上昇させてマスクホル
ダ７０を粗微動装置８８の粗微動枠９０にはめ
込み、各プツシユロツド９２ａ〜９２ｅを突出
させてマスクホルダ７０を挾持する。

一方、ウエハロード位置Ｄでウエハチヤツク
５０にウエハが装着され、また前述の平行平面
出し工程が終了すると、照射台４６は横移動レ
ール４５，４５上を移動してプリアライメント
位置Ｂに位置する。この時、粗微動装置８８は
縦移動レール８９，８９（第１３図）に沿つて
移動し、プリアライメント位置Ｂで停止し、ウ
エハホルダ４７と整合される。

第３図に示された照射台押上げ機構９８で、
移動台８５の中央に開けられた図示されない開
口を通して３本の爪をもつ押上げ棒で照射台４
６を押上げ、照射台４６の基準面４６ａ，４６
ｂを粗微動装置の枠９０の基準下面に押付けて
高さを定めるとともにイコライジングを行う。

第１７図はマスクホルダ７０とウエハホルダ
４７を図示されない静電チヤツクで結合した様
子を描いており、前述した通りウエハ表面の平
行平面出し及びウエハホルダ４７の上端面６５
（基準面）からの間隔決定が成されているから、
マスクホルダ７０の下端面（基準面）と正確に
当接させればマスク１６の下面とウエハ１２の
表面は数ミクロン程度の間隔を置いて極近接設
定される。ここで照射台４６とウエハホルダ４
７間のマグネツトチヤツク９９は解除され、第
１６図を使つて前述した操作に従つてマスクと
ウエハのアライメントが行われる。

ウエハ上のアライメントマークは、ウエハを
有効に利用するためにスクライブ線上に配置さ
れるが、一方、マスクとウエハの最終アライメ
ントは0.1ミクロンあるいはそれ以上の精度が
要求されるため、本例では走査型電子顕微鏡を
使用して実現される。従つて、アライメントを
行う際に電子線でウエハ上のアライメントマー
クを走査することになるが、もし電子線がスク
ライブ線幅より大きく振れると実素子の形成さ
れる領域を照射する不都合がある。従つて、ア
ライメントマークを占有の区域に配置する場
合、あるいは機械的初期設定精度に比べて実素
子間隔が大きく取れる場合を除けば、マスクと
ウエハのアライメント度合を10ミクロンオーダ
ーの誤差に追い込んでおくのが望ましい。

第１８図および第１９図はプリアライメント
用の光学顕微鏡１７の構成を概略的に示した図
である。この光学顕微鏡１７は、マスク１６の
アライメントマーク２１，２１を検知する２本
の顕微鏡と、ウエハ１２上のアライメントマー
ク２６，２６を検知する２本の顕微鏡とから構
成されている（第１８図では各々１つのみ図
示）。４本の顕微鏡はそれぞれ対物レンズ系１
００、結像レンズ系１０２、TV撮像装置１０
３を有している。前述したようにマスクホルダ
７０とウエハホルダ４７は粗微動装置８８によ
つてそれぞれ独立に位置調整がおこなわれ、マ
スク１６のアライメントマーク２１，２１とウ
エハ１２のアライメントマークは目盛板１０１
の基準マークに合わされる。マスクとウエハの
プリアライメントが終了するとマスクホルダ７
０とウエハホルダ４７は静電チヤツクによつて
一且結合され、粗微動装置８８のプツシユロー
ド９２ａ〜９２ｊはマスクホルダ７０とウエハ
ホルダ４７から離れてこれらを解放する。続い
て照射台押上げ機構９８の押上げ棒は下降し、
照射台４６を移動台８５上に接地させる。

ここで移動台８５が照射台４６をチヤツクす
ると、移動台８５はフアインアライメント位置
Ａまで移動する。その際、粗微動装置８８もフ
アインアライメント位置Ａに移動しており、フ
アインアライメント位置Ａの照射台押上げ機構
１０４が作動して照射台４６を押上げる。押上
げ機構１０４は例えばカムにより上下する構造
を採用するのが好ましく、そうすれば最も上昇
した位置で加速度が零になるからマスクホルダ
７０とウエハホルダ４７が急激に衝突すること
は避けられる。

粗微動装置８８のプツシユロツド９２ａ〜９
２ｊが再びマスクホルダ７０とウエハホルダ４
７を把持し、マスクホルダ７０とウエハホルダ
４７間及びウエハホルダ４７と照射台４６間の
固着用磁力が消去されると、フアインアライメ
ント用電子顕微鏡１８によるアライメントマー
クの検知が行われる。

第２０図にフアインアライメント用電子顕微
鏡１８の概略図を示す。フアインアライメント
用電子顕微鏡１８は独立に作動する４本の走査
型電子顕微鏡を有し、このうち２本はマスク１
６のアライメントマーク２１，２１を検知し、
他の２本はマスクホルダ７０の窓１０５を通し
てウエハ１２のアライメントマーク２６，２６
を検知する（第２０図には各々１本のみ図示）。
なおこの窓１０５は照射チヤンバ５ａ，５ｂで
ウエハを照射するときには閉じられるようにな
つている。

１０６は電子銃で電子ビームを発生する。１
０７はコンデンサーレンズ、１０８は対物レン
ズ、１０９は２次元方向に電子ビームを振る静
電偏向機である。二次元走査電子ビームは基準
プレート１１０のスリツトを通してマスク１６
およびウエハ１２上のアライメントマークへ向
けられる。マスク、ウエハからの反射電子は反
射電子検出器１１１によつて検出され、この検
出信号に基いてマスク、ウエハのアライメント
マークが基準プレート１１０のスリツト中央に
位置するように移動される。

この際も、粗微動装置８８のプツシユロツド
９２ａ〜９２ｊがマスクホルダ７０及びウエハ
ホルダ４７の位置を規制し、各アライメントマ
ークが夫々対応する電子顕微鏡の軸に一致させ
られ、フアインアライメントが終了する。

マスクとウエハのフアインアライメントが終
了するとマスクホルダ７０とウエハホルダ４７
はマグネツトチヤツクによつて結合される。粗
微動装置８８のプツシユロツド９２ａ〜９２ｊ
はマスクホルダ７０とウエハホルダ４７から離
れてこれらを解放する。ウエハホルダ４７と照
射台４６のチヤツキングもおわつたら照射台押
上げ機構１０４の押上げ棒は下降し、照射台４
６を移動台８５上に接地させ両者をチヤツクす
る。

(5) 照射 次に第１図と第２図を使つて照射部を説明す
る。照射部は他から独立した真空チヤンバ中に
設置されており、メインチヤンバ１、サブチヤ
ンバ６とは気密仕切弁９，９とベローズ様の自
在継手１１２，１１２を介して結合されてい
る。仕切弁９は通常開放されているが、例えば
照射部内を修理する必要がある場合、メインチ
ヤンバ１等の他のチヤンバの真空を維持するた
めに閉鎖される。

Ｘ線照射系はＸ線管１１３とソーラースリツ
ト１１４ａ，１１４ｂから成り、Ｘ線管１１３
は第２図の画面に垂直に延びたターゲツト１１
５とその両側斜め上方に配された長い電子銃１
１６，１１６そして偏向板１１７から成る。偏
向板１１７は電子銃１１６，１１６で発生した
電子線を偏向させてターゲツト１１５の底部へ
誘導する機能を持つ。尚、電子銃とターゲツト
の長さは照射されるマスクの幅より若干長くな
る様に決定されている。

１１４ａと１１４ｂはそれぞれソーラースリ
ツトで、ターゲツト１１５から発生した放射状
軟Ｘ線の内、平行な成分を取り出すコリメータ
の作用を持つ。このソーラースリツトは、例え
ばミリメーター・オーダーの厚さを持ち、10ミ
クロンオーダーの微細穴を無数に具えたガラス
あるいは金属板で、発生した軟Ｘ線束の内、微
細穴を通過する平行成分以外の成分を遮断す
る。ソーラースリツトは平行の度合に応じて複
数個配置され、高解像力が要求されるマスク程
平行性の良い軟Ｘ線で照射する様にし、あまり
高い解像力が要求されないマスクを使用する場
合は多少平行度を落しても照射量の増加を計
り、照射時間の短縮を計ることができる。１１
８はソーラースリツトの切替機構で、ハウジン
グの外から、高い平行度の軟Ｘ線が得られるソ
ーラースリツト１１４ａと通常の平行度の得ら
れるソーラースリツト１１４ｂを真空を低下さ
せることなく切替えられる様にしている。

次に８７は第１２図に描いた中継レールで、
仕切弁９と９の内側で延びており、照射台４６
がウエハホルダとマスクホルダを乗せたまま定
速で移動するのに役立つ、つまりマスクとウエ
ハは極近接状態に保持されたまま、図面に垂直
な方向へ延びた軟Ｘ線の平行束を横切つて走査
されることになり、マスクは全面照射される。

(6) 照射域移動 照射が完了すると照射台４６は照射域移動位
置Ｆへ向う。第１２図に示す様にもう一つの移
動台８５が配置されており、縦移動レール１１
９，１１９上を移動し得る様になつている。移
動台８５の上には横移動レール１２０，１２０
が設けられており、移動台８５が移動すればそ
れと共に移動する。これら部材は気密性のサブ
チヤンバ６内に収納されている。このサブチヤ
ンバ６には他にプリアライメント装置およびフ
アインアライメント装置等が設けられており、
マスクやウエハの着脱部を除けばメインチヤン
バ１と類似の構造になつている。

第１２図の第２の移動台８５は、照射台４６
が中継レール８７，８７の端末に来た時、これ
らレールの延長上に横移動レール１２０，１２
０が整列する位置に静止している。７１は第２
のマスクホルダーハンドで、前述したマスクホ
ルダーハンドと同様にマスクホルダ７０を把持
し、ウエハホルダ４７から持ち上げる機能を持
つ。

照射域移動位置Ｆには第２のマスクホルダー
ハンド７１の他に照射域移動リフトが配置され
ている。第２１図において照射台４６、横移動
レール１２０，１２０、移動台８５、縦移動レ
ール１１９，１１９は前述の通りである。これ
に対し第２の移動台８５には中央に開口があ
り、その部分に凹状の取付具１２１が設けられ
ている。そしてこの取付具１２１には積層され
たピエゾ素子１２２ａと１２２ｂが取付けられ
ており、その上部には更にソレノイド１２３ａ
と１２３ｂが夫々設けられている。

一方、照射域移動台４８の底には下面が磁性
を有する材料で作られた吸着板１２４が支柱を
介して固定されており、支柱はウエハホルダ４
７と照射台４６の底部にあけられた開口を貫通
し、また吸着板１２４は開口中を移動し得る。
照射域移動台４８とウエハホルダ４７間の着磁
力を消去した後、ピエゾ素子１２２ａに通電す
るとピエゾ素子は伸長し、ソレノイド１２３ａ
の頭部は吸着板１２４を押し上げるので、照射
域移動台４８はウエハホルダ４７から100分の
２、３ミリメートル程度離間する。この段階
で、ソレノイド１２３ａを作動させて照射域移
動台４８を移動台８５に固定し、照射台４６を
横移動レール１２０，１２０に沿つて規定量送
れば、ウエハホルダ４７も照射台４６と伴に移
動するから、照射域移動台４８はウエハホルダ
４７に対して移動したことになる。即ち照射域
が変更されたわけである。

その後、ソレノイド１２３ａへの通電を停止
し、次いでピエゾ素子１２２ａへの給電をやめ
れば、ピエゾ素子１２２ａは収縮し、照射域移
動台４８はウエハホルダ４７上に接地する。再
び照射域移動台４８とウエハホルダ４７を吸着
させれば、第２のプリアライメント位置Ｇへの
移動準備が終了する。尚、もう一組のピエゾ素
子１２２ｂとソレノイド１２３ｂは照射台が２
回目に回つて来た時の照射域移動に使用され
る。以後前述したのと同じ作業が繰り返され
る。即ち、マスクホルダ７０を不図示の第２の
粗微動装置が把持してプリアライメント位置Ｇ
に移動し、その位置で移動台８５に乗せられた
ウエハホルダ４７と合体されてプリアライメン
トされ、フアインアライメントの後、照射が行
われる。

照射域の移動はウエハアンロード位置Ｅにお
いても行なわれる。第４図に示された１２５は
照射域移動リフトで、操作は前述したリフトと
同様である。第２２図Ａにおいてチヤンバ７の
下面に取付けられた軸１２６上には積層された
ピエゾ素子１２７とソレノイド１２８が積み重
ねて取付けられている。ピエゾ素子１２７の伸
長でソレノイド１２８は吸着板１２４を押上げ
る。しかる後第２２図Ｂに示す様に照射台４６
とウエハホルダ４７そして移動台８５を縦移動
レール８６に沿つて移動させる。その結果、照
射域移動台４８の位置をウエハホルダ４７に対
して変位させることができる。次にソレノイド
１２８、ピエゾ素子１２７への給電を断ち、照
射域移動台４８とウエハホルダ４７との結合を
行なう。

前述の実施例では循環路に沿つて配置された
照射チヤンバ５ａと５ｂはそれぞれ固有のＸ線
管を具備していたが、１つのＸ線管から複数の
方向を照射し得る構成を備えた照射チヤンバに
替えることもできる。

第２３図Ａ，Ｂに於いて、１１５′はターゲ
ツト、１１６′，１１６′は電子銃である。電子
銃１１６′，１１６′を発した電子線はターゲツ
ト１１５′に当り、軟Ｘ線を発散する。１１
４′と１１４″はＸ線発散角内に配置されたソー
ラースリツトで、その作用は前述と同様であ
る。但し、ソーラースリツト１１４′，１１
４″の軸は傾斜しているから、照射台４６を内
向きに傾斜させた状態で走査する必要がある。
本例では中継レール８７，８７の内、内側のレ
ールを中心に全体を傾斜させられる傾斜台１３
０を設け、照射台４６が横移動レール４５から
中継レール８７に乗り移つた処でこれらを傾け
る。走査が終了すると再び水平状態に戻して照
射台４６が次の横移動レール１２０に乗移るの
を可能にする。尚、残りのソーラースリツト１
１４″の下を通る搬送路も同様の構成となつて
おり、これらを収容した照射チヤンバをメイン
チヤンバ１とサブチヤンバ６の間に連結すれば
転写装置を構成することができる。

又、第１図に示す実施例では、メインチヤン
バ１とサブチヤンバ６の間に１個づつ照射チヤ
ンバを配したが、各々２個あるいはそれ以上並
べて配置しても良い。この様にすれば走査速度
を速めることが可能であり、あるいは仮にＸ線
管の１本が故障しても、残りを使つて照射工程
を続けることができる。

更にウエハロードカセツト収納チヤンバ２は
外界に対してメインチヤンバ１内の高真空を破
らない為のみならず、外界から搬入されるウエ
ハ表面に吸蔵されていたガスを十分に放出させ
るに十分な時間だけ待機させている。しかしな
がら、ウエハが前工程のレジフト塗布装置か
ら、内部を真空に維持された大型管内を搬送さ
れて来るのであれば、チヤンバ２は搬送管とメ
インチヤンバ内の真空度の相違を調定するため
に使用されるか、あるいは省略され得る。

以上説明したとおり本発明のＸ線転写装置にお
いては、エネルギ発生源とマスクとの間にエネル
ギを導出させる窓の様な部材が無いからマスクは
極めて有効に照射され、Ｘ線発生源の給電量を減
少させあるいは照射時間を短縮して高スループツ
トを達成することができる。

尚、上述の実施例ではメインチヤンバに搬入さ
れる前に、マスクおよびウエハはカセツト収納チ
ヤンバの真空中に一旦放置されるから、マスクお
よびウエハの吸蔵ガスはこのチヤンバ内で放出さ
れ、従つてメインチヤンバの真空度が乱されるこ
とはない。また、マスクと照射系のターゲツトと
の間にはソーラースリツトを有する隔壁が配さ
れ、ソーラースリツトの開口は極めて微細である
から、ターゲツト附近で生じたガスがマスク側に
悪影響を与えることはない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従つて構成されたＸ線転写
装置の平面図、第２図は、第１図の−線に沿
つた図、第３図は、第１図の−線に沿つた
図、第４図は第１図の−線に沿つた図、第５
図はマスクの平面図、第６図はマスクとウエハを
重ねた状態を示した図、第７図はウエハ搬入装置
の概略図、第８図はウエハハンドの概略図、第９
図はウエハの平行平面出し機構を説明するための
図、第１０図はウエハ搬出装置の概略図、第１１
図はウエハのアンロードを説明するための図、第
１２図は移動台および照射台を照射するための
図、第１３図は粗微動装置の斜視図、第１４図は
粗微動装置の詳細図、第１５図は粗動機構の詳細
図、第１６図は粗微動調整を説明するための図、
第１７図はマスクホルダとウエハホルダを重ね合
せた状態を示した図、第１８図はプリアライメン
ト用の光学顕微鏡の光学系の概略図、第１９図は
プリアライメント用の光学顕微鏡でマスクとウエ
ハのアライメントをしている状態を示した図、第
２０図はフアインアライメント用電子顕微鏡の概
略図、第２１図は照射域移動位置Ｆにおける照射
域移動を説明するための図、第２２図ＡおよびＢ
はそれぞれ、照射域移動リフトによるウエハの照
射域移動を説明するための図、第２３図Ａおよび
Ｂはそれぞれ、１つのＸ線源によつて複数のマス
クを照射するための構成を示した図、第２４図は
Ｘ線の強度とエネルギとの関係を示した図であ
る。 １……メインチヤンバ、２……ウエハロードカ
セツト収納チヤンバ、３……ウエハアンロードカ
セツト収納チヤンバ、４……マスクカセツト収納
チヤンバ、５ａ，５ｂ……照射チヤンバ、６……
サブチヤンバ、１２……ウエハ、１６……マス
ク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ マスクおよびウエハにＸ線を照射することに
   よつて、マスクに形成されたパターンをウエハに
   露光転写するＸ線転写装置であつて、 マスクおよびウエハを内部に収容し、内部を減
   圧した状態で、Ｘ線源から生成されたＸ線を収容
   するマスクおよびウエハに照射するための照射チ
   ヤンバと、 複数のウエハを収納する収納部を内部に有し、
   前記照射チヤンバとは独立して内部を減圧し得る
   収納チヤンバと、 前記照射チヤンバと前記収納チヤンバとの間で
   ウエハを移送する搬送機構と を有することを特徴とするＸ線転写装置。 ２ マスクおよびウエハにＸ線を照射することに
   よつて、マスクに形成されたパターンをウエハに
   露光転写するＸ線転写装置であつて、 マスクおよびウエハを内部に収容し、内部を減
   圧した状態で、Ｘ線源から生成されたＸ線を収容
   するマスクおよびウエハに照射するための照射チ
   ヤンバと、 複数のマスクを収納する収納部を内部に有し、
   前記照射チヤンバとは独立して内部を減圧し得る
   収納チヤンバと、 前記照射チヤンバと前記収容チヤンバとの間で
   マスクを移送する搬送機構と を有することを特徴とするＸ線転写装置。