JPH06102690B2 - 芳香脂肪族スルホニウム塩及びその用途 - Google Patents
芳香脂肪族スルホニウム塩及びその用途Info
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- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 26
- -1 nitro, phenyl Chemical group 0.000 claims description 111
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 82
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 81
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 24
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 14
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 6
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims description 5
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 7
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 claims 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 123
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical class O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 42
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 38
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 35
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 35
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 35
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 33
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 33
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 20
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 20
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 16
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N DMSO Substances CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 7
- LUFPJJNWMYZRQE-UHFFFAOYSA-N benzylsulfanylmethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CSCC1=CC=CC=C1 LUFPJJNWMYZRQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 6
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol;7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1.C1C(C(=O)O)CCC2OC21.C1C(C(=O)O)CCC2OC21 NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-methyl-PhOH Natural products CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DAQRZDDIMCDMPZ-UHFFFAOYSA-N 1-(naphthalen-1-ylmethylsulfanylmethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CSCC=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 DAQRZDDIMCDMPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ITVKOVQVBCQQGY-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[(4-chlorophenyl)methylsulfanylmethyl]benzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1CSCC1=CC=C(Cl)C=C1 ITVKOVQVBCQQGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 3
- PBLNHHSDYFYZNC-UHFFFAOYSA-N (1-naphthyl)methanol Chemical compound C1=CC=C2C(CO)=CC=CC2=C1 PBLNHHSDYFYZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHAHHJZFYPIGCP-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-[(3,4-dichlorophenyl)methylsulfanylmethyl]benzene Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC=C1CSCC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 UHAHHJZFYPIGCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NZKBBQPICNBGHO-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2-[(2,6-dichlorophenyl)methylsulfanylmethyl]benzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1CSCC1=C(Cl)C=CC=C1Cl NZKBBQPICNBGHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C=C1 JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBYNVUSDGMXEO-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-[(4-methylphenyl)methylsulfanylmethyl]benzene Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1CSCC1=CC=C(C)C=C1 KGBYNVUSDGMXEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSXGEIHFRWKWMQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1-[(2,4-dichlorophenyl)methylsulfanylmethyl]benzene Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1CSCC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OSXGEIHFRWKWMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBHODFSFBXJZNY-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=C(Cl)C=C1Cl DBHODFSFBXJZNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLHSXVJSEYABFA-UHFFFAOYSA-N 2-(naphthalen-2-ylmethylsulfanylmethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(CSCC=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)=CC=C21 YLHSXVJSEYABFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRIHRKWZYRCVRB-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tribenzylsulfanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C=1C=CC=CC=1C[S+](CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 QRIHRKWZYRCVRB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHLKXBJTJHRTTE-UHFFFAOYSA-N Chlorobenside Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1CSC1=CC=C(Cl)C=C1 ZHLKXBJTJHRTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 2
- UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N benzyl thiol Chemical class SCC1=CC=CC=C1 UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004698 dichlorobenzyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- WKNYUELYQQYMTN-UHFFFAOYSA-M hydron;tribenzylsulfanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C=1C=CC=CC=1C[S+](CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WKNYUELYQQYMTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-methyl phenol Natural products CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N pentene-2 Natural products CCC=CC QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M sodium bisulfate Chemical compound [Na+].OS([O-])(=O)=O WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000342 sodium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- WKKHCCZLKYKUDN-UHFFFAOYSA-N (2,6-dichlorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=C(Cl)C=CC=C1Cl WKKHCCZLKYKUDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTHGDVCPCZKZKR-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(Cl)C=C1 PTHGDVCPCZKZKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIPJZPPOFWCJRC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=CC(Cl)=C1Cl AIPJZPPOFWCJRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZIFVWOCPGPNHB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 YZIFVWOCPGPNHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUAGGMPIKOZAJZ-UHFFFAOYSA-N 1,3,6-trioxocane Chemical compound C1COCOCCO1 AUAGGMPIKOZAJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005207 1,3-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVHAWXAAVLMPLW-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethoxycyclohexane Chemical compound COC1CCC(OC)CC1 SVHAWXAAVLMPLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMHZDOTYAVHSEH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(CCl)C=C1 DMHZDOTYAVHSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWGTKZEDLCVIG-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=CC=CC2=C1 XMWGTKZEDLCVIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWNXKZVIZARMME-UHFFFAOYSA-N 1-[[5-[2-[(2-chloropyridin-4-yl)amino]pyrimidin-4-yl]-4-(cyclopropylmethyl)pyrimidin-2-yl]amino]-2-methylpropan-2-ol Chemical compound N=1C(NCC(C)(O)C)=NC=C(C=2N=C(NC=3C=C(Cl)N=CC=3)N=CC=2)C=1CC1CC1 AWNXKZVIZARMME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- UGHIQYNKFXEQPU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-1,4-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=C(C)C(Cl)=C1Cl UGHIQYNKFXEQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRSVDHPYXFLLDS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C=C1Cl IRSVDHPYXFLLDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUHJZSZTSCSTCC-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(CBr)=CC=C21 RUHJZSZTSCSTCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRWYHCYGVIJOEC-UHFFFAOYSA-N 2-(octoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCOCC1CO1 HRWYHCYGVIJOEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OCC1OC1 CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGEFBYKPGMWSLT-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-3-phenylpropane-1-thiol Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC(CS)CC1=CC=CC=C1 VGEFBYKPGMWSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiirane Chemical compound CC1CS1 MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1(CCl)COC1 CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyloxetane Chemical compound CC1(C)COC1 RVGLUKRYMXEQAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPWYTMFWRRIFLK-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydro-2h-pyran-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1CCC=CO1 NPWYTMFWRRIFLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGVOCGNHYMDLS-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxy)propan-1-amine Chemical compound COCCOCCCN PWGVOCGNHYMDLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPBBNNDDQOWPJ-UHFFFAOYSA-N 4-[1,2,2-tris(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 HDPBBNNDDQOWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxycyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CC(O)CCC1C(C)(C)C1CCC(O)CC1 CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXOZSQDJJNBRC-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Cl)C=C1 VZXOZSQDJJNBRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTDMTZBNYGUNX-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzyl alcohol Chemical compound CC1=CC=C(CO)C=C1 KMTDMTZBNYGUNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIROYDNZEPTFOL-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)NC(=O)NC1=O YIROYDNZEPTFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZASAAIJIFDWSB-CKPDSHCKSA-N 8-[(1S)-1-[8-(trifluoromethyl)-7-[4-(trifluoromethyl)cyclohexyl]oxynaphthalen-2-yl]ethyl]-8-azabicyclo[3.2.1]octane-3-carboxylic acid Chemical compound FC(F)(F)C=1C2=CC([C@@H](N3C4CCC3CC(C4)C(O)=O)C)=CC=C2C=CC=1OC1CCC(C(F)(F)F)CC1 PZASAAIJIFDWSB-CKPDSHCKSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZFIVKAOQEXOYFY-UHFFFAOYSA-N Diepoxybutane Chemical compound C1OC1C1OC1 ZFIVKAOQEXOYFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical class CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001079 Thiokol (polymer) Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LKMCJXXOBRCATQ-UHFFFAOYSA-N benzylsulfanylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CSC1=CC=CC=C1 LKMCJXXOBRCATQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- HEZQRPHEDDAJTF-UHFFFAOYSA-N chloro(phenyl)methanol Chemical compound OC(Cl)C1=CC=CC=C1 HEZQRPHEDDAJTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006849 chlorophenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 125000006286 dichlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- XNFVGEUMTFIVHQ-UHFFFAOYSA-N disodium;sulfide;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].[S-2] XNFVGEUMTFIVHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJWJCQLFAYQGBG-UHFFFAOYSA-L disodium;sulfite;hydrate Chemical compound [OH-].[Na+].[Na+].OS([O-])=O RJWJCQLFAYQGBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-O oxonium Chemical compound [OH3+] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N thiirane Chemical compound C1CS1 VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFWIOCISOYDPPX-UHFFFAOYSA-N tris[(2,6-dichlorophenyl)methyl]sulfanium Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C[S+](CC=1C(=CC=CC=1Cl)Cl)CC1=C(Cl)C=CC=C1Cl ZFWIOCISOYDPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
塩、それらのカチオン重合性化合物含有硬化性混合物中
への使用及びこれらの混合物中から熱硬化により得られ
る製品に関する。
硬化促進剤としてスルホニウム塩を使用することは知ら
れている。ジャーナル オブ コーティングス テクノ
ロジー(Journal of Coatings Technology)第53巻,No.
675,1981年4月,第43〜51頁から知られている硬化剤、
例えばα−フェネチル−置換スルホニウム テトラフル
オロボレートは貯蔵中に除々に分解し、そのためこれら
のスルホニウム塩を用いて製造された硬化性混合物は相
対的に短い可使時間(ポットライフ)しか有しない。
(Journal of Applied Polymer Science)第32巻第5727
〜5732頁(1986年)に記載されそしてモノベンジルスル
ホニウム塩を含有するエポキシド配合物は、長い可使時
間によって際立っているけれども、それらを完全に硬化
させるためには、相対的に長時間の従って非経済的な硬
化時間を必要とする。
オン重合性有機化合物と混合された時に室温において著
しい潜伏力(latency)を有し、そのため広範な加工限
界を許すこと、及び本発明の化合物を100℃以上まで加
熱することにより速い硬化が起きることが見い出され
た。
ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数4ないし10の
シクロアルキルアルキル基、非置換の又は炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノ
キシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有
するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12
のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフェニル基を表
わし、 Ar、Ar1及びAr2は互に独立して各々非置換の又は炭素原
子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原
子を有するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1な
いし12のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフェニル
基を表わすか、或は非置換の又は炭素原子数1ないし8
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、
アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有するアル
コキシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12のアシル
基でモノ−又はポリ置換されたナフチル基を表わし、 各アリーレン基は非置換の又は炭素原子数1ないし8の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ア
ルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12のアシル基
でモノ−又はポリ置換されたフェニレン基を表わすか、
或は非置換の又は炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、アルコキシ基中
に1ないし4個の炭素原子を有するアルコキシカルボニ
ル基又は炭素原子数1ないし12のアシル基でモノ−又は
ポリ置換されたナフチレン基を表わし、そして Q はSbF6 -,AsF6 -又はSbF5OH-を表わす〕で表わされ
るスルホニウム塩に関する。
素原子数3ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数4
ないし10のシクロアルキルアルキル基、非置換の又は炭
素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル
基、フェノキシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭
素原子を有するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数
1ないし12のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフェ
ニル基を表わし、 Ar、Ar1及びAr2は互に独立して各々非置換の又は炭素原
子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原
子を有するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1な
いし12のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフェニル
基を表わすか、或は非置換の又は炭素原子数1ないし8
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、
アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有するアル
コキシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12のアシル
基でモノ−又はポリ置換されたナフチル基を表わし、そ
して Q はSbF6 -、AsF6 -又はSbF5OH-を表わす〕で表わされ
るスルホニウム塩に関する。
の又はハロゲン原子又は炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基を表わし、Ar、Ar1及びAr2
が互に独立して各々非置換の又は炭素原子数1ないし8
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
Cl又はBrでモノ−又はポリ置換されたフェニル基を表わ
し、そしてQ がSbF6 -又はSbF5OH-を表わすのが好まし
く、例えばジベンジルエチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネートが好ましい。
独立して各々非置換の又は炭素原子数1ないし8のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、Cl又は
Brで置換されたフェニル基を表わし、そしてQ がSbF6
-又はSbF5OH-を表わす化合物であり、例えばトリベンジ
ルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートが特に
好ましい。
は直鎖状か枝分れ状であり得る。例えばAはメチル基、
エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル
基、第三ブチル基、n−オクチル基又はn−ドデシル基
を表わすことができる。
ロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロオクチル基
である。
メチル基及びシクロヘキシルエチル基である。
は、同一又は異なるもので置換されたフェニル又はナフ
チル基であり得る。例えばp−トリル基、キシリル基、
エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、p−クロロフェニル基、2,4−、3,4−又は2,6
−ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、アセチルフ
ェニル基、トリメチルフェニル基、メチルナフチル基、
メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、クロロナフ
チル基、ブロモナフチル基及びビフェニル基が挙げられ
る。
は、例えばメチルフェニレン基、エチルフェニレン基、
メトキシフェニレン基、エトキシフェニレン基、クロロ
フェニレン基、ジクロロフェニレン基、ブロモフェニレ
ン基、アセチルフェニレン基、トリメチルフェニレン
基、メチルナフチレン基、メトキシナフチレン基、エト
キシナフチレン基、クロロナフチレン基又はブロモナフ
チレン基であり得る。好ましくはアリーレン基は非置換
のフェニレン又はナフチレン基である。
ーベン−ヴェイル(Houben-Weyl)の「メトデン デル
オルガニッシェン ヒェミー(Methoden der Organis
chen Chemie/英国:Methods of Organish Chemistry)」
第IX巻、頁171ff(1955年)に記載されている方法の一
つにより、例えば次式V Ar-CH2-S-CH2-Ar1 (V) (式中、Ar及びAr1は式I又はIIのどちらかにおいて定
義された意味を表わす) で表わされるスルフィドに、 (a)次式VI (式中、Aは式Iにおいて定義された意味を表わし、Z-
はQ-、SbCl6 -、BF4 -又はPF6を表わす) で表わされるオキソニウムのモル量を反応させて式I又
は次式Ia (式中、Za-はSbCl6 -、BF4 -又はPF6 -を表わす) で表わされる化合物を生じさせ、続いて式Iaの化合物を
アルカリ金属塩又は次式VII Y+Q- (VII) 〔式中、Y+はアルカリ金属カチオン又はN(R)4 +(Rは水
素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す)を表わし、そしてQ-はは式Iにおいて定義された意
味を表わす〕で表わされる第四アンモニウム塩とアニオ
ン交換により反応させて式Iの化合物を生じさせるか、
或は (b)強酸の存在下、次式VIII Ar2-CH2-OH (VIII) (式中、Ar2は式IIにおいて定義された意味を表わす) で表わされるアルコールの少なくとも1モル量と反応さ
せて次式IIa で表わされる酸のスルホニウム塩を生じさせ、続いて式
IIaのスルホニウム塩にアルカリ金属塩又は式VIIで表わ
される第四アンモニウム塩を反応させて式IIで表わされ
る化合物を生じさせることにより製造することができ
る。
は、例えば次式IX Ar-CH2-S-CH2−アリーレン−CH2-S-CH2-Ar1 (IX) (式中、Ar及びAr1は式III又はIVのどちらかで定義され
た意味を表わす) で表わされる化合物1モルに、 (c)式VIで表わされるオキソニウム塩2モルを反応さ
せて式III又は次式IIIa (式中、Za-はSbCl6 -、BF4 -又はPF6を表わす) で表わされる化合物を生じさせ、続いて式IIIaで表わさ
れる化合物をアルカリ金属塩又は式VIIで表わされる第
四アンモニウム塩とアニオン交換により反応させて式II
Iで表わされる化合物を生じさせるか、或は (d) 強酸の存在下、式VIIIで表わされるアルコール
を反応させて次式IVa で表わされる該酸のジスルホニウム塩を生じさせ、続い
て式IVaで表わされるジスルホニウム塩をアルカリ金属
塩又は式VIIで表わされる第四アンモニウム塩と反応さ
せて式VIで表わされる化合物を生じさせることにより製
造することができる。
物であり、そのうちの幾つかは市販されている。
(Houben-Weyl)第9巻、第93頁(1955年)、又は第E11
巻、第158頁(1985年)中に記載されており、またフル
カ(Fluka)及びアルドリッチ(Aldrich)社から市販さ
れている。
ヴェイル第613巻、第328頁(1965年)又は米国特許第3,
585,227号から知られている。
ム塩例えばNaSbF6、NaAsF6又はNH4AsF6は、例えばモー
トン チオコール社(Morton Thiokol Co.)から市販さ
れている。同様に式VIIIで表わされるアルコール例えば
ベンジルアルコール又は塩素化ベンジルアルコールも市
販されている。
ルアリーレン1モルにアルカリ金属水酸化物溶液の存在
下で次式XI Ar-CH2SH又はAr1-CH2-CH (IX) で表わされる非置換又は置換メルカプタン2モルを反応
させて式IXで表わされる化合物を生じさせることにより
公知の方法で製造することができる。
わすか、又はエチレン基と一緒になって炭素原子数12ま
でのアルキル基又は炭素原子数8までのシクロアルキル
基を表わす) で表わされる基である式I又はIIの化合物はまた、式V
で表わされるスルフィドを強酸の存在下、次式XIII R′−CH=CH−R″ (XIII) で表わされるオレスィンの少なくとも1モル量と反応さ
せて次式XIV又はXV で表わされるスルホニウム塩を生じさせ、続いて式XIV
又はXVで表わされる化合物をアルカリ金属塩又は式VII
で表わされる第四アンモニウム塩と反応させて、Aが式
XIIで表わされる基である式I又はIIIの化合物を生じさ
せることにより製造することもできる。
ピレン、1−ブテン、2−ブテン、イソブチレン、1−
ペンテン、2−ペンテン、シクロブテン、シクロペンテ
ン又はシクロヘキセンであり、そして使用される強酸は
例えばH2SO4、HPF6、HBF4、HClO4又はCH3SO3Hである。
る本発明の化合物は、カチオン重合性化合物の熱硬化用
の価値ある硬化剤及び硬化触媒である。
わされるスルホニウム塩の少なくとも1種と、(b)カ
チオン重合性有機材料の少なくとも1種とを含有する硬
化性混合物に関する。
ム塩の少なくとも1種を含有するのが好ましい。
は例えば以下に示すタイプのものであり、これらの材料
はそれら自身のみで又は少なくとも二成分の混合物とし
て使用されてよい。
化合物。これらには以下のものが包含される。
レン、ブタジエン、イソプレン、スチレン、α−メチレ
ン、ジビニルベンゼン、N−ビニルピリロドン、N−ビ
ニルカルバゾール及びアクロレイン。
ソブチルビニルエーテル、トリメチロールプロパン、ト
リビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテ
ル;環状ビニルエーテル例えば3,4−ジヒドロ−2−ホ
ルミル−(2H)−ピラン(二量体化アクロレイン)及び
3,4−ジヒドロ−(2H)−ピラン−2−カルボン酸の2
−ヒドロキシメチル−3,4−ジヒドロ−(2H)−ピラン
エステル。
ルステアレート。
オキシド、プロピレンオキシド、エピクロロヒドリン、
一価のアルコール又はフェノールのクリシジルエーテル
例えばN−ブチルグリシジルエーテル、n−オクチルグ
リシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル及びク
レジルグリシジルエーテル;グリシジル アクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、スチレンオキシド及び
シクロヘキセンオキシド;オキセタン例えば3,3−ジメ
チルオキセタン及び3,3−ジ(クロロメチル)オキセタ
ン;テトラヒドロフラン;ジオキソラン、トリオキサン
及び1,3,6−トリオキサシクロオクタン;ラクトン例え
ばβ−プロピオラクトン、γ−バレロラクトン及びε−
カプロラクトン;チイラン例えばエチレンスルフィド及
びプロピレンスルフィド;エポキシ樹脂;側鎖中にグリ
シジル基を有する線状及び枝分れ状ポリマー例えばポリ
アクリレート及びポリメタクリレートグリシジルエステ
ルのホモポリマー及びコポリマー。
あり、特にジエポキシド及びポリエポキシド及び、架橋
エポキシ樹脂を製造するのに使用されるタイプのエポキ
シ樹脂プレポリマーである。ジエポキシド及びポリエポ
キシドは脂肪族、環式脂肪族又は芳香族化合物であり得
る。これら化合物の例としては脂肪族及び環式脂肪族ジ
オール又はポリオールのグリシジルエーテル及びβ−メ
チルグリシジルエーテル、例えばエチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4
−ブタジオール、ジエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、グリセロー
ル、ドリメチロールプロパン又は1,4−ジメトキシシク
ロヘキサン又は2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキ
シル)プロパンのグリシジルエステル及びβ−メチルグ
リシジルエステル;ジフェノール及びポリフェノール例
えばレゾルシノール、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
メタン、2,2−(4,4′−ジヒドロキシジフェニル)プロ
パンノボラック及び1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタンのグリシジルエーテルが挙げられ
る。他の例としてはN−グリシジル化合物例えばエチレ
ン尿素、1,3−プロピレン尿素又は5,5−ジメチルヒダン
トイン又は4,4′−メチレンビス(5,5′−ジメチルヒダ
ントインのジグリシジル化合物、又はトリグリシジルイ
ソシアヌレートのような化合物が挙げられる。
ジ−及びポリカルボン酸のグリシジルエステルである。
このような例として、コハク酸、アジピン酸、アゼライ
ン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラフタル酸、テトラ
−及びヘキサヒドロフタル酸、イソフタル酸又はトリメ
リット酸の、或は二量体化脂肪酸のグリシジルエステル
が挙げられる。
ルシクロヘキセン及びジシクロペンタジエンのジエポキ
シド、3−(3′,4′−エポキシシクロヘキシル)−8,
9−エポキシ−2,4−ジオキサスピロ[5.5]ウンデカ
ン、3′,4′−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ブタジエン
ジエポキシド又はイソプレンジエポキシド、エポキシ化
リノール酸誘導体又はエポキシ化ポリブタジエンであ
る。
され得る、二価フェノール又は炭素原子数2ないし4の
二価脂肪族アルコールのジグリシジルエーテルである。
特に好ましいのは、予め延伸され得る、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン及びビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタンである。
る。
ら製造されたレゾールである。適当なフェノールにはフ
ェノール自身、レゾルシノール、2,2−ビス(p−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、p−クロロフェノール、各
々炭素原子数1ないし9のアルキル基1又は2個で置換
されたフェノール例えばo−,m−及びp−クレゾール、
キシレノール、p−第三ブチルフェノール及びp−ノニ
ルフェノール及びまたフェニル置換フェノール、特にp
−フェニルフェノールが包含される。フェノールと縮合
するアルデヒドはホルムアルデヒドが好ましいが、他の
アルデヒド例えば酸アルデヒド及びフルフラールもまた
適当である。所望によりこれらの硬化性フェノール/ア
ルデヒド樹脂が使用できる。
ル、レゾルシノール又はo−,m−又はp−クレゾールと
ホルムアルデヒドの縮合生成物である。
も、例えば均一液体混合物として、又は均一もしくは不
均一のガラス状で、得ることができる。均一なガラス状
製品は、それ自体公知の方法により、例えば固体重合性
有機材料を、ふさわしければ適当な溶媒を添加して液化
し、それらのガラス転移温度以上の温度に加熱し、式I
又はIIで表わされる硬化剤を添加し、そして得られた混
合物を冷却することにより得ることができる。
(b)の量に対して一般的に0.05ないし5重量%であ
る。
ポリカルボン酸無水物又はポリフェノールを本発明の硬
化性混合物中に、特にはカルオン重合性化合物としてエ
ポキシ樹脂の存在している混合物中に、存在させること
ができる。しかしながらこれらの硬化剤には、スルホニ
ウム塩によるカチオン硬化を干渉又は抑制する官能基、
例えばアミノ基、ニトロ基又はホスフィノ基があっては
ならない。そのような硬化剤の相対的量は、(b)を完
全に硬化させるのに必要な他の硬化剤の化学量論的量よ
り少ない。
合物例えば環状エーテル又は環状ラクトンを反応性溶媒
としてまだなお含むことができる。これらの反応性溶媒
は例えばプロピレンカーボネート、ε−カプロラクト
ン、γ−ブチロラクトン又はテトラヒドロフルフリルア
ルコールである。これらの重合性化合物にもまたカチオ
ン硬化を干渉又は抑制する基があってはならない。共重
合性化合物が用いられる場合、それらの相対的な量は成
分(b)の量に対して一般的に1〜50重量%であり、ま
た成分(a)の量は成分(b)の量と共重合性化合物の
量に対して一般的に0.05ないし5%である。
用されている他の公知添加剤を含有することができる。
これらの添加剤の例として顔料、染料、充填剤及び強化
剤、ガラス繊維及び他の繊維、難燃剤、滞電防止剤、流
れ改良剤、酸化防止剤及び光安定剤が挙げられる。
を有しており、それは複雑な施工において加工される時
に特に有利である。
造のために用いることができ、また特に特定の応用分野
に適合する配合物に、例えば塗料、ラッカー、成形コン
パウンド、浸漬被覆樹脂、注型樹脂、含浸樹脂、積層樹
脂、1−又は2成分接着剤又はマトリックス樹脂の形態
で用いることができる。
とができる。一般的に20ないし200℃、好ましくは60な
いし180℃、特には80°ないし150℃の温度が硬化のため
に用いられる。本発明の混合物はその硬化性組成物がゲ
ルになるまで最初低温度で予備硬化させた後、高めた温
度で硬化させることができる。
は高いTG値と耐熱性で際立っている。従って本発明は更
に、本発明の混合物を熱硬化することによって得られた
製品にも関し、その製品は固体で不溶性及び非溶融性の
三次元に架橋された製品である。
るための成形と一緒に行なわれる。
クロライド20ml中のトリエチルオキソニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート1.70g(5ミリモル)の混合物を
窒素ガス下、室温(RT)で 攪拌する。その無色溶液を水で抽出し、有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥する。ロータリーエバポレータで溶媒
を除去し、その結晶残渣を少量のトルエンで洗浄し、室
温にて真空乾燥する。
ロアンチモネート2.20g(理論量の92%)が融点119〜12
1℃の無色結晶の形で得られる。
H);7.53(多重線,10H); 実施例2 a) ジベンジルスルフィド21.4g(0.1モル)及び酢酸
300ml中のベンジルアルコール10.8gを最初、攪拌機、温
度計及び滴下ロートを揃えた750ml反応フラスコ内に入
れる。攪拌しながら濃硫酸20mlを5分間に亘って滴下し
て加える。次いで反応混合物を油浴中で内部温度(insi
de temperature)70℃まで加熱し、2時間攪拌する。酢
酸の大部分を留去し、残渣を水200ml中に注ぐ。その懸
濁物を0〜5℃で1/2時間放置し、その結晶残渣を過
し、室温で減圧乾燥する。硫酸水素トリベンジルスルホ
ニウム36.5g(理論量の91%)が融点170℃(分解)の無
色結晶の形で残る。
1モル)を温めたメタノール750ml中に溶解する。その曇
った溶液に固体のヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウ
ム16.04g(0.062モル)を加え、それを室温で1時間攪
拌する。活性短のスパチュラ(spatula)を加えた後、
混合物を過し、透明な液に水750mlを加える。沈殿
した結晶を過し、乾燥し、エーテル100mlで洗浄し、
そして再び乾燥する。これによりトリベンジルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート16.41g(理論量の
74%)が融点170℃(分解)の無色結晶の形態で得られ
る。
酸50ml中のベンジルアルコール5.4g(0.050モル)を最
初、攪拌機、温度計及び滴下ロートを備えた350ml反応
容器中に導入し、そして混合物を油浴中で50℃に加熱す
る。
5.4g(0.186モル)の溶液を、攪拌しながら滴下して加
える。酢酸の大部分をロータリーエバポレーター中で蒸
留して除去し、そして水100ml及びメチレンクロライド5
0mlを残渣に加える。その混合物を振盪し、メチレンク
ロライド層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥しそして
ロータリーエバポレータ中で、残った黄色油23.6g(理
論量の99%)を濃縮する。該油をトルエン130ml中に攪
拌し結晶化させる。濾過及び乾燥後、トリベンジルスル
ホニウム p−トルエンスルホネート11.1g(理論量の4
7%)が無色結晶の形で残る。
重線,19H) b) トリベンジルスルホニウム p−トルエンスルホ
ネート9.53g(0.020モル)を、メタノール60mlと水40ml
の混合物中に、僅かに暖めることによって溶解する。室
温にて、固体のカリウム ヘキサフルオロアルセネート
6.84g(0.030モル)を加え、そして懸濁液を2時間攪拌
する。結晶固体を濾過し室温で減圧乾燥する。これによ
りトリベンジルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート 9.48g(理論量の96%)が無色結晶の形で得られ
る。
45モル)と硫酸水素テトラブチルアンモニウム(相間移
動触媒)6.0gの溶液を、攪拌機、温度計及び滴下ロート
を備えた反応容器に入れる。50℃で溶融する、この温度
に維持された4−クロロベンジルクロライド96.6g(0.6
0モル)を、激しく攪拌しながら50分に亘って滴下して
加えるがその間、内部温度は40〜50℃に保つ。別に3時
間室温で攪拌を続け、その混合物をジエチルエーテル20
0mlで抽出し、エーテル層を塩化ナトリウム水溶液(半
飽和)で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
しそしてロータリエバポレータ中でエーテルを除去す
る。その残渣をメタノール100mlに懸濁し、混合物を濾
過し、そして濾過残渣を乾燥する。これにより融点42〜
44℃の固体で無色のジ(4−クロロベンジル)スルフィ
ド79.7g(理論量の94%)が得られる。
gを、メチレンクロライド64ml中にジ(4−クロロベン
ジル)スルフィド22.7g(0.080モル)とクロロベンジル
アルコール13.7g(0.096モル)が溶けた溶液に、内部温
度が15℃と25℃の間にとどまるような速度で攪拌しなが
ら滴下して加える。別に室温で2時間攪拌し、その混合
物をメチレンクロライドで希釈し、そして有機相を半飽
和塩化ナトリウム溶液で3回洗浄する。それを硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、過し、そしてロータリーエバポレ
ータ上で溶媒を留去する。固体残渣をトルエン80ml中に
懸濁し、その懸濁液を過する。残渣を乾燥した後に、
そのトリス(4−クロロベンジル)スルホニウム テト
ラフルオロボレートが融点154〜156℃の無色結晶の形で
残る。
ラフルオロボレート66.95g(0.135モル)を、窒素ガス
下にて500ml丸底フラスコ内のメチレンクロライド300ml
中に溶解し、次いで混合物を0ないし5℃に冷却する。
次いでヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム26.0g
(0.24モル)を加え、同温度で4時間攪拌し続け、次い
でその懸濁液を過する。
を水300mlに室温にて2 1/4時間攪拌し、その残渣を過
し水で2回洗浄する。粗生成物を高真空下で室温にて一
夜乾燥する。これにより粗組成物91.8g(理論量の115.3
%)が得られる。
し、その溶液を0〜5℃に冷却する。沈殿した結晶を
過し、小量の冷却イソプロパノール(0〜5℃)で洗浄
する。その残渣を高真空ポンプで室温にて一夜乾燥す
る。こうして融点132〜134℃の乾燥トリス(4−クロロ
ベンジル)スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト74.4g(理論量の93.5%)が得られる。
水素テトラブチルアンモニウム(相間移動触媒)12.0g
を水300mlに溶かした溶液を、攪拌機及び温度計を備え
た反応容器内に入れる。4−メチルベンジルクロライド
212.6g(1.52モル)を、40℃以下で激しく攪拌しながら
30分間にわたり滴下して加える。反応混合物を室温で4
1/2時間、そして50〜60℃で1/2時間攪拌する。反応混合
物を0〜5℃に冷却し、この温度に1/2時間保つ。反応
混合物を過し、その残渣を酢酸エチル約2l中に溶解す
る。有機相を脱イオン水(pH〜6)で二度抽出し、MgSO
4で乾燥する。ロータリーエバポレータで酢酸エチルを
除去する。残渣を高真空下、室温で一夜乾燥する。これ
によりジ−(p−メチルベンジル)スルフィド174.8g
(理論量の95%)が、融点74〜76℃の僅かに黄白色の結
晶の形で得られる。
H) b) ジ(p−メチルベンジル)スルフィド85.1g(0.3
51モル)及びメチレンクロライド250ml中のp−メチル
ベンジルアルコール51.5g(0.421モル)を最初、攪拌機
と温度計を備えた反応容器(750ml)内へN2雰囲気下で
入れる。約54重量%HBF4のジエチルエーテル溶液142.7g
を、内部温度20〜30℃で攪拌しながら40分間にわたり滴
下して加える。その反応混合物を室温で2時間攪拌す
る。反応混合物をメチレンクロライドで希釈し、脱イオ
ン水(pH5〜6)で4回抽出する。有機相をMgSO4で乾燥
し、ロータリーエバポレータでメチレンクロライドを除
去する。メチレンクロライドが完全に無くなった生成物
をトルエン250ml中に入れ室温で1時間、次いで0〜5
℃で1時間攪拌する。沈殿した結晶を吸引過し、少量
のトルエンで洗浄する。高真空中19時間室温で乾燥させ
る。こうしてトリス−(p−メチルベンジル)スルホニ
ウム テトラフルオロボレート118.6gが、融点168〜170
℃の白色結晶の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 2.33(一重線,9H);4.83(一重線,6H);7.25(四重線,1
2H) c) 実施例4c)と同様にして、トリス(p−メチルベ
ンジル)スルホニウム テトラフルオロボレート100g
(230ミリモル)をヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウム119.0g(460ミリモル)と反応させる。イソプロパ
ノール中で再結晶化すると、トリス(p−メチルベンジ
ル)スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート117.
1g(理論量の87%)が融点88〜91℃の白色結晶の形で得
られる。
2H) 実施例6 a) ベンジルフェニルスルフィド75.0g(0.374モ
ル)、ベンジルアルコール60.73g(0.561モル)及びメ
チレンクライド350mlの溶液を、攪拌機及び温度計を備
えた反応容器内に入れる。54重量%HBF4ジエチルエーテ
ル溶液182.45(1.12モル)を、内側温度20〜30℃で攪拌
しながら35分間に亘って滴下して加える。次いで反応混
合物を室温で2時間攪拌する。反応混合物をメチレンク
ロライド300〜400mlで希釈し、水(pH〜6)で4回抽出
する。次いで有機相をMgSO4で乾燥し、ロータリーエバ
ポレータで溶媒を除去する。残った黄褐色油をトルエン
400ml中で攪拌し、そして生成物を0〜5℃で1時間結
晶化させる。その懸濁液を過し、そして残渣を少量の
冷却したトルエン(0〜5℃)で洗浄する。純生成物を
高真空中室温で一夜乾燥させる。こうしてジベンジルフ
ェニルスルホニウム テトラフルオロボレート123.8g
(理論量の87%)が融点110〜115℃の白色結晶の形で得
られる。1 H‐NMR(d6−アセトン,100MHz)ppm: 5.30(四重線,4H);7.22-8.02(多重線,15H) b) メチレンクロライド400ml中のジベンジルフェニ
ルスルホニウム テトラフルオロボレート123.0g(0.32
5モル)の混合物を、2l丸底フラスコ中、窒素ガス下、
室温にて透明な溶液が得られるまで溶解させる。次いで
ヘキサヒドロアンチモン酸ナトリウム117.8gを加え、そ
の混合物を室温で 攪拌する。その懸濁液をシリカゲルに通して過し、そ
して液から溶媒をロータリーエバレータで除く。僅か
に赤色がかった粘性質の残渣を再びメタノール250ml中
に溶解し、そして水250mlを加えた後、生成物を室温で
1〜2時間結晶化させる。その懸濁液を過し、残渣を
水で洗浄する。次いで生成物を高真空中、室温で一夜乾
燥する。これによりジベンジルフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート163.9g(理論量の95%)
が融点105〜109℃の白色結晶の形で得られる。
ジル)スルフィド5.66g(20ミリモル)を、実施例6a)
に記載されているようにベンジルアルコール2.6g(24ミ
リモル)及びメチレンクロライド20ml中の54重量%HBF4
8.13gと反応させる。これによりジ(4−クロロベンジ
ル)フェニルスルホニウム テトラフルオロボレート7.
44g(理論量の80%)が融点123〜125℃の白色結晶の形
で得られる。1 H‐NMR(100MHz,CDCl3)ppm: 4.71(一重線,6H);7.27(二重線,12H) b) ジ−(4−クロロベンジル)フェニルスルホニウ
ム テトラフルオロボレート7.0g(15.2ミリモル)とメ
チレンクロライド25mlの混合物を100ml丸底フラスコ中
で、窒素ガス下、透明な溶液が生成するまで攪拌し、次
いでそれを0〜5℃に冷却する。この温度でヘキサフル
オロアンチモン酸ナトリウム5.9g(22.8ミリモル)を加
え、その混合物を約3時間攪拌する。反応混合物を過
し、ロータリーエバポレータで液から溶媒を除去す
る。次いで脱イオン水50mlを残渣に加え、そして0〜5
℃で1〜2時間、生成物を結晶化させる。過して得ら
れる結晶を水で洗浄し、高真空中、室温で一夜乾燥させ
る。これによりジ(4−クロロベンジル)フェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート8.26gが融点7
5〜77℃の白色結晶の形で得られる。
モル)、硫酸水素ナトリウム47.4g(0.197モル)及び水
60ml中の硫酸水素テトラブチルアンモニウム2.5gを実施
例5a)のように反応させる。これによりビス(2,4−ジ
クロロベンジル)スルフィド45.9g(理論量の99%)が
黄色透明溶体の形で得られる。
(20ミリモル)、2,4−ジクロロベンジルアルコール4.7
5g(26.8ミリモル)及びメチレンクロライド16mlに入れ
た54重量%HBF4(ジエチルエーテルに溶かしたもの)9.
26g(57ミリモル)を実施例5b)のように反応させる。
これによりトリス(2,4−ジクロロベンジル)スルホニ
ウム テトラフルオロボレート3.76g(理論量の31%)
が融点180〜182℃の白色結晶の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 5.22(一重線,6H);7.2-7.85(多重線,9H) c) 実施例5b)により得られる生成物3.5g(5.8ミリ
モル)を実施例7c)のようにメチレンクロライド35ml中
のヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム2.99g(11.6
ミリモル)と反応させて粗生成物3.99g(理論量の91.9
%)を生じさせる。粗生成物をイソプロパノール10mlに
懸濁させ、その混合物を室温で1時間攪拌する。次いで
懸濁液を0〜5℃に冷却し、過し、そして残渣で高真
空中、室温で一夜乾燥する。これによりトリス(2,4−
ジクロロベンジル)スルホニウム テトラヒドロフルオ
ロアンチモネート3.45g(理論量の79.5%)が融点158〜
160℃の白色結晶の形で得られる。
素テトラブチルアンモニウム8.74g及び水145mlの混合物
を攪拌機と温度計を備えた反応容器中で、溶液が得られ
るまで室温で攪拌する。3,4−ジクロロベンジルクロラ
イド141.67g(0.72モル)を、内側温度が50℃を越えな
いような速度で、激しく攪拌しながら10分間に亘って加
える。次いでその反応混合物を室温で3 1/2時間攪拌す
る。反応混合物を過し、そして残渣を高真空ポンプで
乾燥する。粗生成物を還流する酢酸エチル160ml中に溶
解し、次いで0〜5℃で1〜2時間結晶化させる。結晶
生成物を過し、高真空中、室温で一夜乾燥させる。こ
れによりビス(3,4−ジクロロベンジル)スルフィド98.
37g(理論量の77.6%)が融点98〜99℃の白色結晶の形
で得られる。1 H‐NMR(100MHz,CDCl3)ppm: 3.53(一重線,4H);7.03-7.42(多重線,6H) b) ビス(3,4−ジクロロベンジル)スルフィド14.08
g(40ミリモル)及びメチレンクロライド50ml中の3,4−
ジクロロベンジルアルコール10.47g(58.8ミリモル)を
最初、攪拌機と温度計を備えた反応容器内にN2雰囲気下
で導入する。その溶液にテトラフルオロ硼酸(54%ジエ
チルエーテル溶液)20.15g(123.9ミリモル)を内部温
度20〜30℃で攪拌しながら10分間に亘り滴下して加え、
そして反応混合物を室温で4時間攪拌する。別のテトラ
フルオロ硼酸(54%ジエチルエーテル溶液)1.13gを反
応混合物に加え、室温で3時間攪拌し続ける。次いで反
応混合物を過し、高真空中、室温で乾燥する。粗生成
物を再び室温にて水100mlに攪拌し、過し、残渣を高
真空中室温で一夜乾燥する。これによりトリス(3,4−
ジクロロベンジル)スルホニウム テトラフルオロボレ
ート18.3g(理論量の76.41%)が融点201〜203℃の白色
結晶の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,DMSO)ppm: 4.8(一重線,6H);7.32-7.64(多重線,9H) c) トリス(3,4−ジクロロベンジル)スルホニウム
テトラフルオロボレート7.5g(12.71ミリモル)とア
セトン220mlの混合物を、約30℃にて三ツ首フラスコ中
で、溶液が得られるまで攪拌し、そしてヘキサフルオロ
アンチモン酸ナトリウム4.93g(19.06ミリモル)を加え
る。反応混合物を室温で3時間攪拌し、次いでメチレン
クロライド220mlを加え、その混合物を室温で1時間攪
拌する。その懸濁液をケイソウ土に通して過し、ロー
タリエバポレータで液から溶媒を除去する。残渣を再
び水50ml中で室温にて攪拌し、混合物を過し、そして
固体生成物を高真空中室温で乾燥する。こうして白色結
晶(粗生成物1)9.46g(理論量の99.47%)が得られ
る。
る。窒素ガス下でヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウ
ム4.2g(16ミリモル)を加え、混合物を室温で3/4時間
攪拌する。メチレンクロライド100mlを加え、25分後に
反応混合物をケイソウ土に通して過し、ロータリーエ
バポレータで液から溶媒を除去する。残渣を室温で水
50mlに攪拌し、混合物を過し、そして残渣を高真空
中、室温で一夜乾燥する。こうして白色結晶(粗生成物
2)8.42gが得られる。
50mlを加える。その懸濁液を室温で3時間攪拌し、0〜
5℃に冷却し、過し、そして残渣を少量の水で洗浄す
る。純生成物を高真空中、室温で一夜乾燥する。これに
よりトリス(3,4−ジクロロベンジル)スルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート7.74g(理論量の81%)
が融点164〜166℃の白色結晶の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 5.17(一重線,6H);7.44-7.67(多重線,9H) 実施例10 a) 硫化ナトリウム98.8g(0.411モル)、硫酸水素テ
トラブチルアンモニウム5.0g及び水110mlの混合物を、
溶液が得られるまで攪拌機、温度計及び加熱可能な滴下
漏斗を備えた反応容器中で攪拌する。溶融させた2,6−
ジクロロベンジルクロライド107.2gを、内部温度が55℃
を越えない速度で25分間に亘り激しく攪拌しながら加え
る。反応混合物を実施例9a)のように後処理するとビス
(2,6−ジクロロベンジル)スルフィド77.6g(理論量の
80%)が融点128〜130℃の白色結晶の形で得られる。
6−ジクロロベンジル)スルフィド14.1g(40ミリモル)
及び2,6−ジクロロベンジルアルコール9.5g(53.6ミリ
モル)をメチレンクロライド72ml中にN2雰囲気下で溶解
させる。テトラフルオロ硼酸(54%ジエチルエーテル溶
液)18.53g(114ミリモル)を内側温度20〜30℃で20分
間に亘り攪拌しながら滴下して加え、その反応混合物を
4時間攪拌する。その後、反応混合物に別のHBF42.26g
(13.9ミリモル)を室温で加え、1時間攪拌し続ける。
反応混合物を過し、ロータリエバポレータで溶媒を除
去する。残渣を室温で水100ml中に攪拌し、混合物を
過し、その残渣を高真空中、室温にて一夜乾燥する。こ
れによりトリス(2,6−ジクロロベンジル)スルホニウ
ム テトラフルオロボレート17.49g(理論量の74.25
%)が分解点185〜195℃の白色結晶の形で得られる。
テトラフルオロボレート15.0g(25ミリモル)をメチ
レンクロライド250mlに入れた混合物を、溶液が得られ
るまで30℃にて三ッ首フラスコ中で攪拌し、次いで実施
例9c)のように室温でヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウムと反応させる。実施例9c)に従って反応混合物を
後処理するとトリス(2,6−ジクロロベンジル)スルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネ12.6g(理論量の67.
4%)が融点216〜218℃の白色結晶の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,CDCl3)ppm: 5.61(一重線,6H);7.67(一重線,9H) 実施例11 攪拌機及び温度計を備えた反応容器中で、4−クロロチ
オフェノール15.64g(0.108モル)、4−クロロベンジ
ルクロライド16.10g(0.100モル)、トルエン100ml及び
硫酸水素テトラブチルアンモニウム0.3gを、溶液が得ら
れるまで室温で攪拌する。次いで30%水酸化ナトリウム
水溶液を20.0g(0.15モル)を、攪拌しながら分別して
加え、そして反応混合物を室温で3時間攪拌する。それ
を少量の水で希釈し、有機相を中性水で3回抽出し、そ
の有機相をMgSO4で乾燥する。ロータリエバポレータで
溶媒を除去し、残渣を30mlのメタノール/水(9:1)中
に攪拌し、混合物を過し、そして純生成物を高真空
中、室温で4時間乾燥する。これにより4−クロロフェ
ニル4−クロロベンジルスルフィド24.1g(理論量の89
%)が融点67〜69℃の無色結晶の形で得られる。
ド5.2g(19.4ミリモル)、4−クロロベンジルアルコー
ル4.14g(29.0ミリモル)及びメチレンクロライド20ml
中のテトラフルオロ硼化水素酸(54%ジエチルエーテル
溶液)14.15g(87ミリモル)を実施例6a)のように反応
させると、4−クロロフェニルビス(4−クロロベンジ
ル)スルホニウムテトラフルオロボレート7.23g(理論
量の77.4%)が融点147〜148℃の白−ベージュ色結晶の
形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 5.4(四重線,4H);7.34-8.12(多重線,12H) c)三ッ首フラスコ中で、4−クロロフェニレンビス
(4−クロロベンジル)スルホニウムテトラフルオロボ
レート6.88g(14.3ミリモル)を窒素ガス下室温でメチ
レンクロライド50mlに溶解させる。ヘキサフルオロアン
チモン酸ナトリウム5.54g(21.4ミリモル)を加え、反
応混合物を室温で 攪拌する。その懸濁液を過し、ロータリエバポレータ
で液から溶媒を除去する。残渣をメタノール50ml中で
攪拌し、そして水100mlを加える。その懸濁液を室温で1
/2時間、そあて0〜5℃で1/2時間攪拌してから過
し、その残渣を高真空中室温で一夜乾燥する。これによ
り4−クロロフェニルビス(4−クロロベンジル)スル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート8.0g(理論量
の88.7%)が融点130〜132℃の白色結晶の形で得られ
る。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 5.45(四重線,4H);7.34-8.13(多重線,12H) 実施例12 a) 攪拌機と温度計を備えた反応容器内で、硫化ナト
リウム水和物108.23(0.45モル)及び硫酸水素テトラブ
チルアンモニウム6.0gを水120ml中に室温で溶解する。
1−クロロメチルナフタレン105.96g(0.6モル)をトル
エン200mlに溶解し、該溶液を最初に入れた混合物に、
内部温度が40〜50℃となるような速度で1/2時間に亘り
滴下して加える。滴下添加後、反応混合物の攪拌を 続け、次いで混合物を過する。残渣をメチレンクロラ
イド約500mlに溶解し、その溶液を水で3回洗浄する。
次いで有機層をMgSO4で乾燥し、そしてロータリーエバ
ポレータで溶媒を除去する。生じた残渣に次いでイソプ
ロパノール250mlを加える。該混合物を室温で、次いで
0〜5℃で、各 づつ攪拌してから過し、そして残渣を高真空中、室温
で一夜乾燥させる。乾燥した粗生成物69.9gを、還流す
るイソプロパノール/アセトン(1:1)785ml中に溶解さ
せ、次いで0〜5℃で3時間結晶化させる。懸濁液を
過し、そして残渣を少量のイソプロパノールで洗浄す
る。次いでそれを高真空中、室温で一夜乾燥する。これ
によりビス(1−ナフチルメチル)スルフィド53.2g
(理論量の76%)が融点104〜106℃の白色結晶の形で得
られる。
5.9ミリモル)とメチレンクロライド30ml中のトリエチ
ルオキソニウム ヘキサフルオロアンチモネート5.93g
(17.5ミリモル)を実施例1a)に従って反応させると、
ビス(1−ナフチルメチル)エチルスルホニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート9.07g(理論量の98%)が融
点101〜105℃の白色結晶の形で得られる。
H);7.49-8.15(多重線,14H) 実施例13 a) ビス(1−ナフチルメチル)スルフィド13.25g
(42.14モル)及びメチレンクロライド50ml中の1−ヒ
ドロキシメチルナフタレン8.0g(50.6ミリモル)を最
初、攪拌機及び温度計を備えた反応容器内へN2雰囲気
下、室温にて導入する。内部温度が30℃を越えない速度
で、25分間に亘りHBF4(54%、ジエチルエーテル中)1
7.2g(105.4ミリモル)を滴下して加える。次いで混合
物を室温で、そして30〜35℃で各2時間づつ攪拌する。
反応混合物に、メチレンクロライド5ml中に溶解した1
−ヒドロキシメチルナフタレン2gを10分間に亘り滴下し
て加え、そして 30〜35℃で反応を終了させる。反応混合物をメチレンク
ロライドで希釈し、そして水(pH〜7)で4回洗浄す
る。次いで有機相をMgSO4で乾燥し、ロータリエバポレ
ータで溶媒を除去する。過が容易な結晶が単離できる
ようになるまで、残渣を0〜5℃にて少しづつトルエン
と攪拌する。過した残渣を高真空中、室温にて約20時
間乾燥する。これにより、トリス(1−ナフチルメチ
ル)スルホニウム テトラフルオロボレート21.37g(理
論量の93.5%)が融点115〜120℃(分解)の白灰色結晶
の形で得られる。
ウム テトラフルオロボレート15.0g(27.7ミリモル)
をメチレンクロライド100mlに加えた混合物を、攪拌機
と温度計を備えた反応容器内へN2雰囲気下室温で導入
し、そしてヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム10.7
3g(41.5ミリモル)を加える。懸濁物を4時間攪拌し、
次いで過し、液を蒸発乾燥させる。残渣を0〜5℃
にて、メタノール/水(1:1)50ml中で約1時間攪拌
し、混合物を過し、残渣をメタノール50ml中で再び0
〜5℃にて2時間攪拌する。過後、残渣を高真空中、
室温で一夜乾燥する。これによりトリス(1−ナフチル
メチル)スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート
10.3g(理論量の53.8%)が分解点120〜125℃の白灰色
結晶の形で得られる。
リウム水和物20.4g(84.8ミリモル)及び硫酸水素テト
ラブチルアンモニウム1.0gを室温にて水25ml中に溶解す
る。2−ブロモメチルナフタレン25.0g(113ミリモル)
をトルエン35mlに溶解し、そして反応混合物の内部温度
が40〜50℃となるような速度で20分間に亘り滴下して加
える。滴下添加後、反応混合物を室温で 攪拌する。反応混合物をトルエンで希釈し、そして有機
相を水で3回洗浄する。有機相をMgSO4で乾燥し、そし
てロータリエバポレータで溶媒を除去する。還流するア
セトン/イソプロパノール(1:1)315mlに粗生成物を溶
解させ、熱いうちに過し、そして溶液を室温に冷却す
る。次いで生成物を0〜5℃で 結晶化させる。その混合物を過し、その残渣を高真空
中、室温で一夜乾燥する。これによりビス(2−ナフチ
ルメチル)スルフィド13.25g(理論量の74.5%)が融点
119〜121℃の白色結晶の形で得られる。
5.9ミリモル)及びメチレンクロライド40ml中のトリエ
チルオキソニウム ヘキサフルオロアンチモネート5.93
g(17.49ミリモル)を窒素ガス下、室温で4時間攪拌す
る。その無色溶液をメチレンクロライドで希釈し、そし
て水(pH〜7)で抽出する。次いで有機相をMgSO4で乾
燥し、そしてロータリエバポレータでメチレンクロライ
ドを除去する。粗生成物をトルエン40ml中で室温にて1
時間攪拌し、過した残渣を高真空中、室温で一夜乾燥
する。これによりビス(2−ナフチルメチル)エチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート8.68gが融
点152〜153℃の白色結晶(理論量の94.25%)の形で得
られる。
H);7.55−8.14(多重線,14H) 実施例15 a) 攪拌機と温度計を備えた反応容器内で、ジベンジ
ルスルフィド10.72g(50ミリモル)を室温にてメチレン
クロライド25mlに溶解し、その溶液を0〜5℃に冷却す
る。N2雰囲気下、HBF4(54%、ジエチルエーテル中)1
2.19gを5分間に亘り滴下して加え、そしてプロピレン
ガスの導入を開始する。プロピレンガスの導入は反応混
合物中にベンジルスルフィドが実質的にもはや検知され
なくなるまで続ける(検知方法:薄層:シリカゲル
F60;移動相:メチレンクロライド/メタノール(95:
5))。反応混合物をメチレンクロライドで希釈し、そ
して水(pH〜7)で3回洗浄する。有機相をMg2SO4で乾
燥し、ロータリーエバポレータで溶媒を除去し、そして
残渣をトルエン50ml中、0〜5℃で約2時間攪拌する。
後にその懸濁液を過し、そして残渣を高真空中、室温
で一夜乾燥する。これによりジベンジルイソプロピルス
ルホニウムテトラフルオロボレート9g(理論量の52.3
%)が融点67〜69℃の白色結晶の形で得られる。
トラフルオロボレート3.44g(10ミリモル)とメチレン
クロライド15mlの混合物を窒素ガス下、室温にて三ッ首
フラスコ内に導入し、そして0〜5℃に冷却する。ヘキ
サフルオロアンチモン酸ナトリウム3.88g(15ミリモ
ル)を加えた後、反応混合物を0〜5℃で2〜3時間攪
拌する。その懸濁液を過し、そして液からロータリ
エバポレータでメチレンクロライドを除去する。残渣を
水20ml中で再び1時間攪拌し、混合物を過し、そして
残渣を高真空中、室温で一夜乾燥する。こうしてジベン
ジルイソプロピルスルホニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート4.33g(理論量の88%)が融点103〜106℃の白
色結晶の形で得られる 元素分析 計算値:(%)C=41.4 H=4.29 S=6.5 実測値:(%)C=41.8 H=4.4 S=6.74 実施例16 a) 攪拌機と温度計を備えた反応容器内で、α,α−
ジクロロ−p−キシレン8.75g(50ミリモル)及びベン
ジルメルカプタン18.6g(150ミリモル)をトルエン60ml
に、透明な溶液が得られるまで攪拌する。硫酸水素テト
ラブチルアンモニウム200mgを50%水酸化ナトリウム水
溶液14gに部分的に溶解し、その混合物を反応混合物
に、内部温度が45℃を越えないような速度で10分間に亘
り滴下して加える。その反応混合物にトルエン10ml及び
水5mlを加え、次いでそれを室温で 攪拌する。反応混合物をトルエンで希釈し、その有機相
を水(pH〜7)で数回抽出する。それをMgSO4で乾燥
し、ロータリエバポレータで溶媒を除去し、そして残渣
を2日間放置する。粗生成物を還流するイソブロパノー
ル100ml中に溶解し、そして混合物を室温まで冷却させ
る。次いで生成物を0〜5℃で3時間結晶化させる。そ
の懸濁物を過し、その残渣を高真空中、室温で一夜乾
燥する。これにより融点64〜66℃のp−キシリレンジ
(ベンジルスルフィド)15.32g(理論量の87.4%)が得
られる。
(5ミリモル)とメチレンクロライド20mlの混合物を三
ッ首フラスコ内で、溶液が得られるまで窒素ガス下室温
で攪拌する。その混合物にトリエチルオキソニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート2.73g(8.1ミリモル)を加
え、次いでそれを4時間攪拌する。別のトリエチルオキ
ソニウム ヘキサフルオロアンチモネート0.5g(1.43ミ
リモル)を加え、反応混合物を一夜攪拌する。反応混合
物を0〜5℃に冷却し過する。その残渣を水25ml中で
1時間攪拌し、混合物を過し、そして粗生成物を高真
空中、室温で一夜乾燥する。粗生成物をメタノール90ml
中に懸濁させ、還流溶媒中で3〜5分間加熱する。懸濁
物を室温に冷却し、生成物を0〜5℃で2時間結晶化さ
せ、懸濁物を過しそして残渣を高真空中、室温で一夜
乾燥する。これによりp−キシリレンジ(ベンジルエチ
ルスルホニウム)ジ(ヘキサフルオロアンチモネート)
2.53g(理論量の59.9%)が融点157〜158℃の白色結晶
の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 1.45(三重線,2H);3.55(四重線,1H);4,95(一重,4
H);4.98(一重線,4H);7.5−7.69(多重線,14H) 実施例17 a) 実施16a)のp−キシリレンジ(ベンジルスルフ
ィド)3.51g(10ミリモル)、ベンジルアルコール2.7g
(25ミリモル)及びHBF4(54%、ジエチルエーテル中)
4.88g(30ミリモル)を含むメチレンクロライド15ml及
び水50mlを実施例9b)と同様に反応させることにより、
p−キシリレンジ(ジベンジルスルホニウム)ジ(テト
ラフルオロボレート)4.37g(理論量の61.7%)が融点1
59〜161℃の白色結晶の形で得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 4.91(一重線,12H);7.4(多重線,24H) b) p−キシリレンジ(ジベンジルスルホニウム)ジ
(テトラフルオロボレート)4.0g(5.65ミリモル)の混
合物を、3ツ首フラスコ内でアセトン550ml中に僅かに
温めて溶解させる。室温でヘキサフルオロアンチモン酸
ナトリウム4.38g(16.94ミリモル)を加え、その混合物
を4時間攪拌する。メチレンクロライド600mlを加えた
後、反応混合物を0〜5℃で 攪拌し、過する。液から溶媒をロータリーエバポレ
ータで除去し、残渣を水50ml中で室温にて3時間攪拌す
る。懸濁物を再び過し、残渣を高真空中、室温で12時
間攪拌する。これによりp−キシリレンジ(ジベンジル
スルホニウム)ジ(ヘキサフルオロアンチモネート)5.
2g(理論量の91%)が融点130〜133℃の無色結晶の形で
得られる。1 H‐NMR(100MHz,d6−アセトン)ppm: 4.95(一重線,12H);7.40(多重線,24H) 使用実施例 実施例A エポキシ分5.25当量/kgのビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル70g、エポキシ分7.1当量/kgの3′,4′−エ
ポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート30g及び実施例1のジベンジルエ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート2gを
三本ロールミルで均質化して微細な懸濁物にする。この
混合物のゲル化時間を熱い金属プレート(ゲル時間プレ
ート)上にて120℃で測定する。混合物の反応性及びガ
ラス転移温度(TG)を示差走査熱量計(DSC)、スイス
国グライフェンゼー(Greifensee)のメトラー社(Mett
ler AG)製のDSC TA3000装置で次のように測定した。
ンタルピーピークの最大温度(ピーク温度)及び反応エ
ンタルピー(ΔH)の測定。
ルタルピージャンプ(平均値)に基づくTGの測定。
ウム ヘキサフルオロアンチモネート2gを用い実施例A
のようにして混合物を製造した。ゲル化時間、ピーク温
度、ΔH及びTGをこの混合物についても測定した。測定
結果を第1表に示す。
オロアンチモネート1gをメチルヘキサヒドロフタル酸無
水物20g中に溶解して透明溶液を得る。この溶液を実施
例Aと同様にしてビスフェノールAジクリシジルエーテ
ル70g及びエポキシ分7.1当量/kgの3′,4′−エポキシ
シクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート30gと混合し、均一な液体を得る。ゲル
化時間、ピーク温度、ΔH及びTGをこの配合剤について
も測定する。測定結果を第1表に示す。
ウム ヘキサフルオロアンチモネート1gを用い、実施例
Cのようにして混合物を製造する。この混合物について
もゲル化時間、ピーク温度、ΔH及びTGを測定する。測
定結果を第1表に示す。
ウム ヘキサフルオロアルセネートを用い、実施例Cの
ようにして混合物を製造する。ゲル化時間、ピーク温
度、ΔH及びTGをこの混合物についても測定する。測定
結果を第1表に示す。
及び実施例2のトリベンジルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート1gを約50℃に加熱することによって
均一な溶液を製造する。ゲル化時間、ピーク温度、ΔH
及びTGをこの混合物についても測定する。測定した結果
を第1表に示す。
ロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート100g及び実施例2のトリベンジルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート1gを50℃に加熱する
ことにより均一な溶液を製造する。この混合物のゲル化
時間、ピーク温度、ΔH及びTGに関する測定結果を第1
表に示す。
各場合、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物20g中に溶
解し、必要であれば100℃以下に加熱し、そしてビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル70g及び3′,4′−エ
ポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキシシクロヘキ
サンカルボキシレート30gと混合することにより均一な
溶液を得る。これら混合物の測定結果を第2表に示す。
キサヒドロフタル酸無水物20gに溶解し、必要により100
℃以下に加熱し、そしてビスフェノールAジグリシジル
エーテル50g及びエポキシ分6.1当量/kgのビスフェノー
ルFジグリシジルエーテル50gと混合し均一な液体を得
る。測定結果を第3表に示す。
てビスフェノールAジグリシジルエーテル50g及びビス
フェノールFジグリシジルエーテル50gと混合して均一
な液体を得る。測定結果を第4表に示す。
Claims (13)
- 【請求項1】次式I、II、III又はIV 〔各式中、 Aは炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3
ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数4ないし10の
シクロアルキルアルキル基、非置換の又は炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノ
キシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有
するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12
のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフェニル基を表
わし、 Ar、Ar1及びAr2は互に独立して各々非置換の又は炭素原
子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原
子を有するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1な
いし12のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフェニル
基を表わすか、或は非置換の又は炭素原子数1ないし8
のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、
アルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有するアル
コキシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12のアシル
基でモノ−又はポリ置換されたナフチル基を表わし、 各アリーレン基は非置換の又は炭素原子数1ないし8の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、ア
ルコキシ基中に1ないし4個の炭素原子を有するアルコ
キシカルボニル基又は炭素原子数1ないし12のアシル基
でモノ−又はポリ置換されたフェニレン基を表わすか、
或は非置換の又は炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基、アルコキシ基中
に1ないし4個の炭素原子を有するアルコキシカルボニ
ル基又は炭素原子数1ないし12のアシル基でモノ−又は
ポリ置換されたナフチレン基を表わし、そして Q はSbF6 -,AsF6 -又はSbF5OH-を表わす〕で表わされ
るスルホニウム塩。 - 【請求項2】Aが炭素原子数1ないし12のアルキル基、
炭素原子数3ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数
4ないし10のシクロアルキルアルキル基、非置換の又は
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニ
ル基、フェノキシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の
炭素原子を有するアルコキシカルボニル基又は炭素原子
数1ないし12のアシル基でモノ−又はポリ置換されたフ
ェニル基を表わし、Ar、Ar1及びAr2が互に独立して各々
非置換の又は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、フェニル基、フェノキシ基、アルコキシ基中に1
ないし4個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基
又は炭素原子数1ないし12のアシル基でモノ−又はポリ
置換されたフェニル基を表わすか、或は非置換の又は炭
素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル
基、フェノキシ基、アルコキシ基中に1ないし4個の炭
素原子を有するアルコキシカルボニル基又は炭素原子数
1ないし12のアシル基でモノ−又はポリ置換されたナフ
チル基を表わし、そしてQ がSbF6 -、AsF6 -又はSbF5OH
-を表わす請求項1記載の式I又はIIで表わされるスル
ホニウム塩。 - 【請求項3】Aが炭素原子数1ないし12のアルキル基を
又は、非置換の又はハロゲン原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニル基を表わし、A
r,Ar1及びAr2が互に独立して各々非置換の又は炭素原子
数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、Cl又はBrでモノ−又はポリ置換されたフェ
ニル基を表わし、そしてQ がSbF6 -又はSbF5OH-を表わ
す請求項1記載の式I又はIIで表わされるスルホニウム
塩。 - 【請求項4】Ar,Ar1及びAr2が互に独立して各々非置換
の又は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基、Cl又はBrで置換されたフェ
ニル基を表わし、そしてQ がSbF6 -又はSbF5OH-を表わ
す請求項1記載の式IIで表わされるスルホニウム塩。 - 【請求項5】トリベンジルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリス(p−メチルベンジル)スル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、トリス(p
−クロロベンジル)スルホニウム ヘキサフルオロアン
チモネート及びジベンジルフェニルスルホニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート。 - 【請求項6】(a)請求項1記載の式I、II、III又はI
Vで表わされるスルホニウム塩の少なくとも1種と、 (b)カチオン重合性有機材料の少なくとも1種を含有
する硬化性混合物。 - 【請求項7】式I又はIIで表わされるスルホニウム塩を
含有する請求項6記載の硬化性混合物。 - 【請求項8】Aが炭素原子数1ないし12のアルキル基を
表わし、Ar,Ar1及びAr2が互に独立して各々非置換の又
は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基、Cl又はBrでモノ−又はポリ置換
されたフェニル基を表わし、そしてQ がSbF6 -又はSbF
5OH-を表わす式I又はIIで表わされるスルホニウム塩を
含有する請求項6記載の硬化性混合物。 - 【請求項9】スルホニウム塩としてトリベンジルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネートを含有する請求
項6記載の硬化性混合物。 - 【請求項10】カチオン重合性有機材料としてエポキシ
樹脂を含有する請求項6記載の硬化性混合物。 - 【請求項11】更に(c)熱硬化剤を含有する請求項6
記載の硬化性混合物。 - 【請求項12】熱硬化剤としてポリカルボン酸無水物を
含有する請求項11記載の硬化性混合物。 - 【請求項13】請求項6記載の混合物を熱硬化して得ら
れた重合有機材料。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH12989 | 1989-01-16 | ||
| CH129/89-8 | 1989-01-16 | ||
| CH364989 | 1989-10-06 | ||
| CH3649/89-5 | 1989-10-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02232215A JPH02232215A (ja) | 1990-09-14 |
| JPH06102690B2 true JPH06102690B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=25683608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006978A Expired - Fee Related JPH06102690B2 (ja) | 1989-01-16 | 1990-01-16 | 芳香脂肪族スルホニウム塩及びその用途 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5013814A (ja) |
| EP (1) | EP0379464B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06102690B2 (ja) |
| KR (1) | KR0152265B1 (ja) |
| CA (1) | CA2007638C (ja) |
| DE (1) | DE59000858D1 (ja) |
| ES (1) | ES2045878T3 (ja) |
| FI (1) | FI104322B1 (ja) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE59007932D1 (de) * | 1989-10-18 | 1995-01-19 | Ciba Geigy Ag | Heisshärtbare Gemische. |
| EP0473547A1 (de) * | 1990-08-27 | 1992-03-04 | Ciba-Geigy Ag | Olefinisch ungesättigte Oniumsalze |
| JPH055006A (ja) * | 1990-11-16 | 1993-01-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | カチオン重合性有機材料組成物および当該組成物の安定化法 |
| EP0508952B1 (de) * | 1991-04-08 | 1996-04-03 | Ciba-Geigy Ag | Epoxidharz-Stoffgemische, insbesondere zur Herstellung lagerfähiger Prepregs |
| EP0508951B1 (de) * | 1991-04-08 | 1996-08-21 | Ciba-Geigy Ag | Thermisch härtbare Zusammensetzungen |
| EP0527107B1 (de) * | 1991-06-19 | 1997-08-13 | Ciba SC Holding AG | Neue Harzsysteme mit niedrigeren Formtemperaturen |
| WO1993009112A1 (en) * | 1991-11-06 | 1993-05-13 | Ciba-Geigy Ag | A process for the production of cyclic sulfonium salts |
| TW237466B (ja) * | 1992-07-21 | 1995-01-01 | Giba Gerigy Ag | |
| JPH06107913A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-04-19 | Siemens Ag | 反応樹脂混合物 |
| JP4539644B2 (ja) * | 1993-07-29 | 2010-09-08 | 日立化成工業株式会社 | 回路接続材料とその接続材料を用いた回路の接続方法 |
| JP4228652B2 (ja) * | 1993-07-29 | 2009-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 回路接続材料とその接続材料を用いた回路の接続方法 |
| US5747599A (en) * | 1994-12-12 | 1998-05-05 | Kansai Paint Company, Limited | Thermosetting coating composition |
| DE19523897C2 (de) * | 1995-06-30 | 2002-10-24 | Bosch Gmbh Robert | Verwendung von Silicon-modifizierten Epoxidharzen als Vergußmassen für elektrotechnische oder elektronische Bauteile |
| EP0846681B1 (en) * | 1995-08-22 | 2003-12-03 | Nippon Soda Co., Ltd. | Novel sulfonium salt compounds, polymerization initiator, curable composition, and curing method |
| EP0776917B1 (de) | 1995-11-29 | 2002-05-29 | Vantico AG | Core/Shell-Partikel und diese enthaltende härtbare Epoxidharzzusammensetzungen |
| EP0799682A3 (de) * | 1996-04-04 | 1998-01-21 | Ciba SC Holding AG | Herstellung von Formkörpern aus Epoxidharzen mit Hilfe der automatischen Druckgeliertechnik |
| US6093493A (en) * | 1997-07-03 | 2000-07-25 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Method for the coating or encapsulation of fluidizable substrates |
| US6764616B1 (en) | 1999-11-29 | 2004-07-20 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Hydrophobic epoxide resin system |
| CA2449198A1 (en) * | 2001-05-21 | 2002-11-28 | Vantico Ag | Processes for the production of components of electronic apparatuses |
| WO2004090646A1 (ja) * | 2003-04-09 | 2004-10-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | ホログラフィック記録メディア及びその記録方法 |
| EP1754733A1 (en) | 2005-07-26 | 2007-02-21 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) GmbH | Composition |
| US20070117041A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Christoph Noelscher | Photosensitive coating for enhancing a contrast of a photolithographic exposure |
| JP5685189B2 (ja) * | 2008-08-12 | 2015-03-18 | ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー | 熱硬化性組成物 |
| SG185053A1 (en) | 2010-04-29 | 2012-12-28 | Huntsman Adv Mat Switzerland | Curable composition |
| KR101229312B1 (ko) * | 2011-01-03 | 2013-02-04 | 금호석유화학 주식회사 | 술포늄 화합물, 광산발생제 및 이의 제조방법 |
| KR20140010398A (ko) | 2011-02-23 | 2014-01-24 | 바스프 에스이 | 술포늄 술페이트, 그의 제조법 및 용도 |
| KR101682786B1 (ko) * | 2012-04-19 | 2016-12-05 | 바스프 에스이 | 술포늄 화합물, 그의 제조법 및 용도 |
| DE102014219844A1 (de) * | 2014-09-30 | 2016-03-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Isolationssystem für elektrische Maschinen |
| CA2988827C (en) | 2015-06-16 | 2023-08-22 | Huntsman Advanced Materials Licensing (Switzerland) Gmbh | Epoxy resin composition |
| HUE045364T2 (hu) | 2015-07-02 | 2019-12-30 | Huntsman Adv Mat Licensing Switzerland Gmbh | Szabadtéri tárgyak elõállítására alkalmas hõre keményedõ epoxigyanta készítmény és az ebbõl elõállított tárgyak |
| US12129359B2 (en) | 2019-09-04 | 2024-10-29 | Innomotics Gmbh | Tape accelerator and use thereof, solid insulating material, and anhydride-free insulation system |
| WO2024129836A1 (en) * | 2022-12-16 | 2024-06-20 | Villanova University | Biscationic quaternary phosphonium compounds as soft antimicrobial agents |
| US20240279523A1 (en) * | 2023-02-10 | 2024-08-22 | Westlake Epoxy Inc. | Epoxy resin compositions and methods of making |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4173476A (en) * | 1978-02-08 | 1979-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
| US4154872A (en) * | 1978-05-09 | 1979-05-15 | W. R. Grace & Co. | Process for preparing catalytic solutions of sulfonium salts |
| US4336363A (en) * | 1979-02-12 | 1982-06-22 | General Electric Company | Heat curable compositions containing sulfonium salts |
| US4230814A (en) * | 1979-02-12 | 1980-10-28 | General Electric Company | Heat curable compositions |
| US4554342A (en) * | 1984-07-30 | 1985-11-19 | Shell Oil Company | Heat-curable compositions comprising an epoxy resin, an amine and a sulfonium salt |
| US4544732A (en) * | 1984-12-24 | 1985-10-01 | Shell Oil Company | Heat-curable composition |
| DE3721740A1 (de) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen |
| US4874833A (en) * | 1988-08-22 | 1989-10-17 | Shell Oil Company | Composition containing epoxy resin and alkyl hindered polyaromatic diamine and monoaromatic amine curing agents |
-
1990
- 1990-01-08 EP EP90810015A patent/EP0379464B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-01-08 ES ES90810015T patent/ES2045878T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-01-08 DE DE9090810015T patent/DE59000858D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-09 US US07/462,252 patent/US5013814A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-01-12 CA CA002007638A patent/CA2007638C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-12 FI FI900194A patent/FI104322B1/fi not_active IP Right Cessation
- 1990-01-16 JP JP2006978A patent/JPH06102690B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-16 KR KR1019900000444A patent/KR0152265B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2045878T3 (es) | 1994-01-16 |
| EP0379464A1 (de) | 1990-07-25 |
| CA2007638C (en) | 2000-04-25 |
| US5013814A (en) | 1991-05-07 |
| CA2007638A1 (en) | 1990-07-16 |
| JPH02232215A (ja) | 1990-09-14 |
| FI104322B (fi) | 1999-12-31 |
| KR900011721A (ko) | 1990-08-02 |
| FI104322B1 (fi) | 1999-12-31 |
| KR0152265B1 (ko) | 1998-10-15 |
| DE59000858D1 (de) | 1993-03-25 |
| EP0379464B1 (de) | 1993-02-10 |
| FI900194A0 (fi) | 1990-01-12 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
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|
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