JPH06102749B2 - Epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents
Epoxy resin composition and cured product thereofInfo
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- JPH06102749B2 JPH06102749B2 JP23500690A JP23500690A JPH06102749B2 JP H06102749 B2 JPH06102749 B2 JP H06102749B2 JP 23500690 A JP23500690 A JP 23500690A JP 23500690 A JP23500690 A JP 23500690A JP H06102749 B2 JPH06102749 B2 JP H06102749B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、各種樹脂組成物の成分、各種樹脂の改質剤な
どとして好適に用いられる耐熱衝撃性に優れたエポキシ
樹脂組成物及びその硬化物に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent thermal shock resistance, which is suitably used as a component of various resin compositions, a modifier of various resins, and the like, and a cured product thereof. .
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 近年、半導体パッケージの薄型化に伴い種々の問題が発
生している。例えばフラットパッケージをプリント基板
に実装する際、パッケージが高温の半田槽に浸漬される
ため、従来の樹脂では熱衝撃によるパッケージにクラッ
クが入るという問題がある。2. Description of the Related Art In recent years, various problems have occurred as semiconductor packages have become thinner. For example, when a flat package is mounted on a printed circuit board, the package is immersed in a high temperature solder bath, so that the conventional resin has a problem that the package is cracked by thermal shock.
更に、最近ではプリント基板に実装する前にパッケージ
が吸湿していた場合、高温の半田槽に浸漬させると、パ
ッケージ中で水蒸気爆発が起こり、クラックが入る問題
も指摘されている。Further, recently, it has been pointed out that when the package absorbs moisture before being mounted on a printed circuit board, when it is immersed in a high temperature solder bath, steam explosion occurs in the package and cracks occur.
しかし、この種の問題の対策としてフレームと樹脂の両
面から改良することが種々検討されているが、まだ完全
なものは見出されていない。However, various measures have been studied to improve both the frame and the resin as a measure against this kind of problem, but a perfect one has not yet been found.
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、耐熱衝撃性
に優れたエポキシ樹脂組成物及びその硬化物を提供する
ことを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an epoxy resin composition having excellent thermal shock resistance and a cured product thereof.
課題を解決するための手段及び作用 本発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、下記式(1) (但し、式中Xは水素原子又はハロゲン原子であり、R
はアルキル基、l,mはそれぞれ0〜50の整数で、かつl
=0のときmは1〜50の整数、m=0のときlは1〜50
の整数である。) で示されるt−ブチル基含有エポキシ樹脂に、1分子中
にけい素原子に結合したビニル基を少なくとも2個含有
するオルガノポリシロキサンと、1分子中にけい素原子
に結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハ
イドロジェンポリシロキサンと、白金系触媒とを主成分
とする硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物を
分散させたものをエポキシ樹脂としてエポキシ樹脂組成
物に添加することにより、その組成物が優れた耐熱衝撃
性を有する硬化物を与えることを見出し、本発明を完成
させたものである。Means and Actions for Solving the Problems As a result of extensive studies conducted by the present inventor to achieve the above object, the following formula (1) (However, in the formula, X is a hydrogen atom or a halogen atom, and R is
Is an alkyl group, l and m are each an integer of 0 to 50, and l
When = 0, m is an integer from 1 to 50, and when m = 0, l is 1 to 50
Is an integer. ) An organopolysiloxane having at least two vinyl groups bonded to a silicon atom in one molecule and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in at least one molecule in the t-butyl group-containing epoxy resin represented by By adding a dispersion of a cured product of a curable organopolysiloxane composition containing two organohydrogenpolysiloxanes and a platinum-based catalyst as main components to the epoxy resin composition as an epoxy resin, the composition is obtained. The present invention has been completed by finding that the product gives a cured product having excellent thermal shock resistance.
この場合、t−ブチル基を有するエポキシ樹脂は、オル
ガノポリシロキサンの硬化物を均一分散させる特徴があ
り、このオルガノポリシロキサン硬化物を分散させたt
−ブチル基含有エポキシ樹脂をエポキシ樹脂組成物に添
加すると、エポキシマトリックス中で均一分散した粒子
として存在し、衝撃緩和材として有効に働き、耐衝撃性
の良好なエポキシ樹脂組成物が得られるものである。In this case, the epoxy resin having a t-butyl group is characterized in that the cured product of the organopolysiloxane is uniformly dispersed.
When the butyl group-containing epoxy resin is added to the epoxy resin composition, it exists as particles uniformly dispersed in the epoxy matrix, effectively acts as a shock absorber, and an epoxy resin composition having good impact resistance can be obtained. is there.
従って、本発明は、上記式(1)のエポキシ樹脂中に (a)1分子中にけい素原子に結合したビニル基を少な
くとも2個含有するオルガノポリシロキサンと、 (b)1分子中にけい素原子に結合した水素原子を少な
くとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンと、 (c)白金系触媒と を主成分として含有する硬化性オルガノポリシロキサン
組成物の硬化物を分散させてなるエポキシ樹脂を含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物及びその硬化物
を提供する。Accordingly, the present invention provides (a) an organopolysiloxane containing at least two vinyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and (b) a silicone resin in one molecule in the epoxy resin of the above formula (1). An epoxy resin obtained by dispersing a cured product of a curable organopolysiloxane composition containing (c) a platinum-based catalyst as a main component, and an organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms bonded to elementary atoms. Provided is an epoxy resin composition characterized by containing it and a cured product thereof.
以下、本発明につき更に詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化
剤、無機質充填剤、硬化触媒等を配合してなり、エポキ
シ樹脂として後述する特定のオルガノポリシロキサンの
硬化物が分散したt−ブチル基含有エポキシ樹脂を配合
する。The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, a curing catalyst, etc., and is a t-butyl group-containing epoxy in which a cured product of a specific organopolysiloxane described below is dispersed as an epoxy resin. Add resin.
ここで、本発明のエポキシ樹脂組成物に使用されるエポ
キシ樹脂は、下記式(1) で示され、式中Xは水素又はハロゲン原子であり、Rは
アルキル基、例えばメチル基,エチル基,n−プロピル
基,イソプロピル基,n−ブチル基,t−ブチル基,n−ヘキ
シル基,シクロヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル
基,l,mはそれぞれ0〜50の整数で、かつl=0のときm
は1〜50の整数、m=0のときlは1〜50の整数であ
る。Here, the epoxy resin used in the epoxy resin composition of the present invention has the following formula (1) Wherein X is hydrogen or a halogen atom, R is an alkyl group such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a cyclohexyl group, l and m are each an integer of 0 to 50, and when l = 0, m
Is an integer of 1 to 50, and when m = 0, l is an integer of 1 to 50.
このような(1)式のt−ブチル基含有エポキシ樹脂と
して具体的には、下記式(2)〜(4)のエポキシ樹脂
を挙げることができる。Specific examples of the t-butyl group-containing epoxy resin of the formula (1) include epoxy resins of the following formulas (2) to (4).
更に、これらエポキシ樹脂は軟化点が50〜100℃でエポ
キシ当量が100〜400を有するものが望ましい。 Further, it is desirable that these epoxy resins have a softening point of 50 to 100 ° C. and an epoxy equivalent of 100 to 400.
本発明では、上述した(1)式のt−ブチル基含有エポ
キシ樹脂に、(a)ビニル基含有オルガノポリシロキサ
ンと、(b)オルガノハイドロジェンポリシロキサン
と、(c)白金系触媒とを主成分として含有する硬化性
オルガノポリシロキサン組成物の硬化物を分散させる。In the present invention, (a) a vinyl group-containing organopolysiloxane, (b) an organohydrogenpolysiloxane, and (c) a platinum-based catalyst are mainly added to the above-mentioned t-butyl group-containing epoxy resin of the formula (1). A cured product of the curable organopolysiloxane composition contained as a component is dispersed.
ここで、(a)成分のビニル基含有オルガノポリシロキ
サンは、1分子中にけい素原子に結合したビニル基を少
なくとも2個有するもので、このオルガノポリシロキサ
ンとしては、例えば(CH2=CH)SiO1.5単位、R1SiO1.5
単位、R1(CH2=CH)SiO単位、R1 2SiO単位、R1 2(CH2=
CH)SiO0.5単位、R1 2SiO0.5単位からなり、R1がメチル
基,エチル基,プロピル基,ブチル基などのアルキル
基、フェニル基,トリル基などのアリール基、シクロヘ
キシル基などのシクロアルキル基、ベンジル基,β−フ
ェニルエチル基などのアラルキル基またはこれらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部まは全部をハロゲン
原子、シアノ基などで置換したクロロメチル基,2−シア
ノエチル基,3,3,3−トリフルオロプロピル基などから選
択されるビニル基などの脂肪族不飽和基を除く炭素数1
〜10、好ましくは炭素数1〜8の非置換または置換一価
炭化水素基であるものが例示される。Here, the vinyl group-containing organopolysiloxane as the component (a) has at least two vinyl groups bonded to a silicon atom in one molecule. Examples of the organopolysiloxane include (CH 2 ═CH) SiO 1.5 unit, R 1 SiO 1.5
Unit, R 1 (CH 2 = CH) SiO unit, R 1 2 SiO unit, R 1 2 (CH 2 =
CH) SiO 0.5 units, consists R 1 2 SiO 0.5 units, R 1 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an alkyl group such as butyl group, a phenyl group, an aryl group such as a tolyl group, a cycloalkyl such as cyclohexyl group Groups, benzyl groups, aralkyl groups such as β-phenylethyl groups, or chloromethyl groups and 2-cyanoethyl groups in which some or all of the hydrogen atoms bonded to carbon atoms of these groups are replaced with halogen atoms, cyano groups, etc. C1 excluding aliphatic unsaturated groups such as vinyl group selected from 3,3,3,3-trifluoropropyl group
-10, Preferably it is a C1-C8 unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group.
更にこのオルガノポリシロキサンは、その分子構造が直
鎖状、分子鎖状、環状のいずれであってもよい。また、
このオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端が
ジメチルビニルシリル基,ジビニルメチルシリル基,ト
リビニルシリル基,ビニルメチルフェニルシリル基等で
封鎖された直鎖状のものが好適であるが、このビニル基
は鎖中に含まれていてもよく、また、ビニル基量は0.1
モル%以上であることが好ましいが、このビニル基以外
の有機基は50モル%以上がメチル基であることが好まし
い。Furthermore, the molecular structure of this organopolysiloxane may be linear, molecular chain or cyclic. Also,
As this organopolysiloxane, a linear one having both ends of its molecular chain blocked with a dimethylvinylsilyl group, a divinylmethylsilyl group, a trivinylsilyl group, a vinylmethylphenylsilyl group or the like is preferable. The group may be contained in the chain, and the vinyl group content is 0.1
The content of the organic group other than the vinyl group is preferably 50% by mole or more, and the methyl group is preferably 50% by mole or more.
このようなビニル基含有オルガノポリシロキサンとして
は、具体的に下記構造式のものが例示され、これらは単
独で使用しても、あるいは2種類以上の混合物であって
もよい。Specific examples of such vinyl group-containing organopolysiloxanes include those having the following structural formulas, which may be used alone or as a mixture of two or more kinds.
なお、上記ビニル基含有オルガノポリシロキサンと共に
ビニル基含有化合物であるアリルグリシジエルエーテ
ル、スチレン、グリシジメメタクリレート等の単量体や
アルケニル基含有エポキシ樹脂の添加も可能であり、そ
の添加量は、ビニル基含有オルガノポリシロキサンのビ
ニル基に対して0〜50モル%のビニル基量に相当する量
とすることができる。 The vinyl group-containing organopolysiloxane may be added together with a vinyl group-containing compound such as allyl glycidyl ether, styrene, or a monomer such as glycidimemethacrylate, or an alkenyl group-containing epoxy resin. The amount can correspond to 0 to 50 mol% of the vinyl group based on the vinyl group of the group-containing organopolysiloxane.
次に、(b)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンは、1分子中にけい素原子に結合した水素原子を少
なくとも2個以上含有するものである。このオルガノハ
イドロジェンポリシロキサンとしては、例えばHSiO1.5
単位、R2SiO1.5単位、R2HSiO単位、R2 2SiO単位、R2 2HSi
O0.5単位、R2 3SiO0.5単位等からなり、R2は前記したR1
と同じ群から選択されるものが例示される。Next, the organohydrogenpolysiloxane as the component (b) contains at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. Examples of this organohydrogenpolysiloxane include HSiO 1.5
Unit, R 2 SiO 1.5 unit, R 2 HSiO unit, R 2 2 SiO unit, R 2 2 HSi
O 0.5 unit, R 2 3 SiO 0.5 unit, etc., and R 2 is the above R 1
The one selected from the same group is exemplified.
更に、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、
分子構造が直鎖状でも、分子鎖状、環状のいずれであっ
てもよく、また、けい素原子に結合した水素原子(≡Si
H結合)は一般的には分子鎖中に含まれたものが好まし
いが、分子鎖末端であってもよい。なお、この≡SiH結
合の量は通常3モル%以上であることが好ましいが、こ
の≡SiH結合以外の有機基はその50モル%以上がメチル
基であることが好ましい。Further, this organohydrogenpolysiloxane is
The molecular structure may be linear, molecular chain or cyclic, and the hydrogen atom bonded to the silicon atom (≡Si
Generally, the H-bond) is preferably contained in the molecular chain, but may be at the end of the molecular chain. The amount of this ≡SiH bond is usually preferably 3 mol% or more, but it is preferable that 50 mol% or more of the organic groups other than the ≡SiH bond are methyl groups.
このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンとし
ては、下記式で示されるものが好適である。As such an organohydrogenpolysiloxane, those represented by the following formula are preferable.
また、(c)成分の白金系触媒は、上記した(a)成分
と(b)成分とを付加反応させるために使用されるもの
で、公知のものが使用でき、具体的には白金酸、シリカ
などに担持させた白金又は塩化白金酸、塩化白金酸のア
ルコール化合物、塩化白金酸とアルデヒド、各種オレフ
ィン、ビニルシロキサンとの錯塩などの白金化合物が例
示される。 The platinum-based catalyst of the component (c) is used for the addition reaction of the above-mentioned components (a) and (b), and known ones can be used. Specifically, platinum acid, Examples thereof include platinum or chloroplatinic acid supported on silica or the like, alcohol compounds of chloroplatinic acid, platinum compounds such as chloroplatinic acid and aldehydes, various olefins, and complex salts of vinylsiloxane.
この(a),(b),(c)各成分からなるオルガノポ
リシロキサン組成物は、これらの所定量を混合すること
によって得ることができる。この場合、この(a)成分
と(b)成分との配合比は、これらの分子量、更には硬
化後のエラストマーとして要求される物性によって広範
囲に変えることができるが、通常は(a)成分中のけい
素原子に結合したビニル基(≡SiCH=CH2)と(b)成
分中の≡SiH結合とのモル比が4:1〜1:4の範囲となるよ
うにすることが望ましい。また、(c)成分の添加量は
触媒量とすればよく、(a),(b)成分の合計量に対
し0.1〜1000ppm、特に1〜100ppmとすることが好まし
い。(c)成分の添加量が0.1ppm以下ではこの反応が充
分でなくなる場合があり、1000ppm以上では反応が速す
ぎるし、不経済となる場合がある。The organopolysiloxane composition comprising the components (a), (b) and (c) can be obtained by mixing these predetermined amounts. In this case, the compounding ratio of the component (a) and the component (b) can be varied over a wide range depending on their molecular weight and the physical properties required as an elastomer after curing. It is desirable that the molar ratio of the vinyl group (≡SiCH = CH 2 ) bonded to the silicon atom and the ≡SiH bond in the component (b) is in the range of 4: 1 to 1: 4. The amount of the component (c) added may be a catalytic amount, and is preferably 0.1 to 1000 ppm, particularly preferably 1 to 100 ppm with respect to the total amount of the components (a) and (b). If the addition amount of the component (c) is 0.1 ppm or less, this reaction may not be sufficient, and if it is 1000 ppm or more, the reaction may be too fast and uneconomical.
本発明において、(1)式のエポキシ樹脂に上述した硬
化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化物を分散させ
る方法としては、例えば(1)式のt−ブチル基含有エ
ポキシ樹脂を溶解後、まず上記した(a)成分のビニル
基含有オルガノポリシロキサンと(b)成分のオルガノ
ハイドロジェンポリシロキサンの所定量を添加してエポ
キシ樹脂中にオルガノポリシロキサンを均一に分散させ
た後、(c)成分である白金系触媒を添加し、この硬化
性オルガノポリシロキサンを硬化させることが好まし
く、この方法により、オルガノポリシロキサン組成物の
硬化物がエポキシマトリックス中で50ミクロン以下の粒
径で均一分散した粒子として存在する。In the present invention, as a method for dispersing the cured product of the above-mentioned curable organopolysiloxane composition in the epoxy resin of the formula (1), for example, after dissolving the t-butyl group-containing epoxy resin of the formula (1), After adding a predetermined amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane of the component (a) and the organohydrogenpolysiloxane of the component (b) to uniformly disperse the organopolysiloxane in the epoxy resin, It is preferable to add a platinum-based catalyst to cure the curable organopolysiloxane, and by this method, a cured product of the organopolysiloxane composition is obtained as particles uniformly dispersed in the epoxy matrix with a particle size of 50 microns or less. Exists.
この場合、上記反応温度は80〜150℃、特に100〜120
℃、反応時間は0.5〜6時間、特に1〜2時間とするこ
とが好ましい。なお、この反応はトルエン等の溶剤中で
反応を行なうと、オルガノポリシロキサンの硬化物が分
離し、エポキシ樹脂に相溶しない場合があるので、この
反応系は無溶剤下が好ましい。In this case, the reaction temperature is 80 to 150 ° C, especially 100 to 120 ° C.
The reaction temperature is 0.5 to 6 hours, preferably 1 to 2 hours. If this reaction is carried out in a solvent such as toluene, the cured product of the organopolysiloxane may separate and may not be compatible with the epoxy resin. Therefore, the reaction system is preferably solventless.
なお、上記硬化性オルガノポリシロキサンは、(1)式
のエポキシ樹脂100重量部に対し1〜50重量部、特に10
〜20重量部の範囲で配合することが好ましく、配合量が
1重量部未満では十分な耐衝撃性を得ることができない
場合があり、50重量部を越えると機械的強度が低下する
場合がある。The curable organopolysiloxane is used in an amount of 1 to 50 parts by weight, particularly 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin represented by the formula (1).
It is preferable to mix in an amount of up to 20 parts by weight. If the amount is less than 1 part by weight, sufficient impact resistance may not be obtained, and if it exceeds 50 parts by weight, mechanical strength may decrease. .
また、本発明では(1)式のエポキシ樹脂に加えて他の
エポキシ樹脂を使用することも可能であり、他のエポキ
シ樹脂としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、
グリシジル型エポキシ樹脂等が挙げられる。なお、難燃
化のためにブロム化エポキシ樹脂を使用することもでき
る。Further, in the present invention, it is possible to use other epoxy resin in addition to the epoxy resin of the formula (1). Examples of the other epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, novolac type epoxy resin, and alicyclic type. Epoxy resin,
Examples thereof include glycidyl type epoxy resin. Brominated epoxy resin may be used for flame retardancy.
更に、本発明においては、フェノール樹脂をエポキシ樹
脂の硬化剤として配合することが好ましく、フェノール
樹脂としては、例えばフェノールノボラック樹脂、クレ
ゾールノボラック樹脂、トリフェノールメタンなどのフ
ェノール性水酸基を2個以上有するものが挙げられる。
更に、本発明では、前記フェノール樹脂の中でも軟化点
が60〜120℃、水酸基当量が90〜150のものが望ましい。Further, in the present invention, it is preferable to add a phenol resin as a curing agent for the epoxy resin, and the phenol resin has, for example, two or more phenolic hydroxyl groups such as phenol novolac resin, cresol novolac resin and triphenol methane. Is mentioned.
Further, in the present invention, among the phenolic resins, those having a softening point of 60 to 120 ° C. and a hydroxyl equivalent of 90 to 150 are desirable.
また、このフェノール樹脂の使用量はエポキシ樹脂のエ
ポキシ基とフェノール樹脂の水酸基の当量比が0.5から
2の範囲であることが好ましく、この範囲であれば如何
なる量でも良いが、通常エポキシ樹脂100重量部に対し3
0〜100重量部、好ましくは40〜70重量部である。使用量
が30重量部未満では十分な強度が得られない場合があ
り、一方100重量部を越えると未反応のフェノール樹脂
が残って耐湿性を低下させる場合がある。The amount of the phenolic resin used is preferably such that the equivalent ratio of the epoxy groups of the epoxy resin to the hydroxyl groups of the phenolic resin is in the range of 0.5 to 2, and any amount may be used as long as it is within this range. 3 for department
The amount is 0 to 100 parts by weight, preferably 40 to 70 parts by weight. If the amount used is less than 30 parts by weight, sufficient strength may not be obtained, while if it exceeds 100 parts by weight, unreacted phenol resin may remain and moisture resistance may be reduced.
更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には、封止材の膨張
係数を小さくし、半導体素子に加わる応力を低下させる
ために無機質充填剤を配合することが好ましい。Furthermore, it is preferable to add an inorganic filler to the epoxy resin composition of the present invention in order to reduce the expansion coefficient of the encapsulant and reduce the stress applied to the semiconductor element.
ここで、無機質充填剤としては、例えば破砕状、球状の
形状を持った溶融シリカ、結晶性シリカ等が主に用いら
れるが、この他にアルミナ、チッ化ケイ素、チッ化アル
ミニウムなども使用可能である。なお、硬化物の低膨張
化と成形性を両立させるためには球状と破砕品のブレン
ド、あるいは球状品のみを用いた方がよい。Here, as the inorganic filler, for example, crushed particles, fused silica having a spherical shape, crystalline silica, etc. are mainly used, but in addition to these, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, etc. can also be used. is there. In order to achieve both low expansion of the cured product and moldability, it is better to use a blend of spherical and crushed products, or use only spherical products.
また、無機質充填剤の平均粒径としては5〜20ミクロン
であることが好ましい。The average particle size of the inorganic filler is preferably 5 to 20 microns.
更に、無機質充填剤の充填量はエポキシ樹脂100重量部
に対して200〜1600重量部が好ましく、200重量部未満で
は膨張係数が大きくなって半導体素子に加わる応力が増
大し、素子特性の劣化を招く場合があり、また1600重量
部を越えると成形時の粘度が高くなって成形性が悪くな
る場合がある。Furthermore, the filling amount of the inorganic filler is preferably 200 to 1600 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, and if it is less than 200 parts by weight, the expansion coefficient increases and the stress applied to the semiconductor element increases, resulting in deterioration of element characteristics. If it exceeds 1600 parts by weight, the viscosity at the time of molding becomes high and the moldability may deteriorate.
なおまた、この種の無機質充填剤はあらかじめシランカ
ップリング剤で表面処理した方がより好適である。Furthermore, it is more preferable that the inorganic filler of this kind is surface-treated with a silane coupling agent in advance.
本発明の組成物には、硬化触媒として例えばイミダゾー
ルもしくはその誘導体、ホスフィン誘導体、シクロアミ
ジン誘導体等を配合することが好ましい。The composition of the present invention preferably contains, for example, imidazole or a derivative thereof, a phosphine derivative, a cycloamidine derivative and the like as a curing catalyst.
この場合、硬化触媒の配合量は、エポキシ樹脂100重量
部に対し0.001〜5重量部、特に0.1〜2重量部とするこ
とが好ましく、配合量が0.001重量部未満では短時間で
硬化させることができない場合があり、5重量部を越え
ると硬化速度が早すぎて良好な成形品が得られない場合
がある。In this case, the compounding amount of the curing catalyst is preferably 0.001 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin, and if the compounding amount is less than 0.001 part by weight, it can be cured in a short time. If it exceeds 5 parts by weight, the curing rate may be too fast to obtain a good molded product.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、低応力化のため有機
樹脂とシリコーンポリマーとのブロックポリマーなどの
シリコーン系の可撓性付与剤を添加することができる。A silicone-based flexibility-imparting agent such as a block polymer of an organic resin and a silicone polymer can be added to the epoxy resin composition of the present invention to reduce stress.
通常この種の低応力化剤の使用量は、全系の0.5〜10
%、望ましくは1〜5%であり、使用量が0.5%未満で
は十分な耐衝撃性を与えない場合があり、10%を越える
と機械的強度が不十分となる場合がある。Usually, the amount of this type of stress reducing agent used is 0.5 to 10 of the total system.
%, Preferably 1 to 5%. If the amount used is less than 0.5%, sufficient impact resistance may not be given, and if it exceeds 10%, mechanical strength may become insufficient.
本発明の組成物には、必要に応じてカルナバワックス、
高級脂肪酸、合成ワックス類などの離型剤、更にシラン
カップリング剤、酸化アンチモン、リン化合物などを配
合しても良い。The composition of the present invention, if necessary, carnauba wax,
Release agents such as higher fatty acids and synthetic waxes, as well as silane coupling agents, antimony oxide and phosphorus compounds may be added.
本発明の組成物は、上記した各成分を加熱ロールによる
溶融混練、ニーダーによる溶融混練、連続押し出し機に
よる溶融混練などで製造することができる。The composition of the present invention can be produced by melt-kneading the above-mentioned components with a heating roll, melt-kneading with a kneader, melt-kneading with a continuous extruder, or the like.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、成形材料、粉体塗装用
材料として好適に使用し得るほか、IC、LSI、トランジ
スター、サイリスタ、ダイオード等の半導体装置の封止
用、プリント回路板の製造などにも有効に使用できる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The epoxy resin composition of the present invention can be suitably used as a molding material and a powder coating material, as well as for encapsulating semiconductor devices such as ICs, LSIs, transistors, thyristors and diodes, and for manufacturing printed circuit boards. Can also be used effectively.
発明の効果 本発明のエポキシ樹脂組成物は、耐熱衝撃性が高く、高
温での機械的強度及び耐熱水性に優れ、しかも低応力性
で加工性に優れた硬化物を与える。従って、本発明組成
物は、近年のエポキシ樹脂組成物の使用条件を十分満た
すもので、各種電気絶縁材料、構造材料、接着剤、粉体
塗装用材料、半導体封止用材料等として有効である。EFFECT OF THE INVENTION The epoxy resin composition of the present invention provides a cured product having high thermal shock resistance, excellent mechanical strength at high temperature and hot water resistance, and low stress and excellent workability. Therefore, the composition of the present invention sufficiently satisfies the use conditions of recent epoxy resin compositions and is effective as various electrical insulating materials, structural materials, adhesives, powder coating materials, semiconductor encapsulating materials, and the like. .
次に、実施例、比較例を示すに先立ち、実施例、比較例
で用いた成分の合成例を示す。Next, prior to showing Examples and Comparative Examples, synthesis examples of components used in Examples and Comparative Examples will be shown.
〔合成例1〕 温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を付けた四
つ口フラスコにt−ブチル基含有エポキシ樹脂ESX221
(住友化学(株)製)100gを入れ、窒素雰囲気下で120
℃に加熱し溶解させた。溶解後、攪拌しながら、分子鎖
両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖されているジメ
チルシロキサン単位96モル%とメチルビニルシロキサン
単位4モル%からなる粘度が200csのメチルビニルポリ
シロキサン20g、分子鎖両末端がトリメチルシリル基で
封鎖されているメチルハイドロジェンシロキサン単位95
モル%とジメチルシロキサン単位5モル%からなる粘度
が28csのメチルハイドロジェンポリシロキサン1gを添加
した。なお、≡SiH/Si−CH=CH2のモル比は1.0であっ
た。[Synthesis Example 1] Epoxy resin containing t-butyl group ESX221 in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser.
(Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 100g, 120 under nitrogen atmosphere
It was heated to 0 ° C. and dissolved. After dissolution, while stirring, 20 g of methylvinylpolysiloxane with a viscosity of 200cs consisting of 96 mol% of dimethylsiloxane units whose both ends are blocked with dimethylvinylsilyl groups and 4 mol% of methylvinylsiloxane units, both molecular chains Methylhydrogen siloxane unit 95 with ends blocked by trimethylsilyl groups
1 g of methylhydrogenpolysiloxane with a viscosity of 28 cs consisting of mol% and 5 mol% of dimethylsiloxane units was added. The molar ratio of ≡SiH / Si-CH = CH 2 was 1.0.
添加後、1時間攪拌しオルガノポリシロキサンを均一に
分散させた後、塩化白金酸を0.06g添加した。After the addition, the mixture was stirred for 1 hour to uniformly disperse the organopolysiloxane, and then 0.06 g of chloroplatinic acid was added.
塩化白金酸を添加し、120℃で2時間攪拌後、硬化した
オルガノポリシロキサンが均一に分散したエポキシ樹脂
(合成物A)120gを得た。この合成物Aはエポキシ当量
257、粘度730cs、硬化したオルガノポリシロキサンの平
均粒径は5μmであった。Chloroplatinic acid was added, and after stirring at 120 ° C. for 2 hours, 120 g of an epoxy resin (synthetic compound A) in which the cured organopolysiloxane was uniformly dispersed was obtained. This compound A has an epoxy equivalent
The viscosity was 257, the viscosity was 730 cs, and the average particle size of the cured organopolysiloxane was 5 μm.
〔合成例2〕 温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を付けた四
つ口フラスコにt−ブチル基含有エポキシ樹脂ESX221
(住友化学(株)製)100gを入れ、窒素雰囲気下で120
℃に加熱し溶解させた。溶解後、攪拌しながら、分子鎖
両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖されているジメ
チルシロキサン単位100モル%からなる粘度が600csのメ
チルビニルポリシロキサン20g、ジメチルハイドロジェ
ンシロキサン単位〔(CH3)2HSiO0.5〕60モル%とSiO2単
位40モル%からなるメチルハイドロジェンポリシロキサ
ン1.0gを添加した。なお、≡SiH/Si−CH=CH2のモル比
は1.0であった。[Synthesis Example 2] A t-butyl group-containing epoxy resin ESX221 was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser.
(Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 100g, 120 under nitrogen atmosphere
It was heated to 0 ° C. and dissolved. After dissolution, while stirring, 20 g of methylvinylpolysiloxane having a viscosity of 600 cs and consisting of 100 mol% of dimethylsiloxane units whose both molecular chain ends are blocked with dimethylvinylsilyl groups, dimethylhydrogensiloxane unit [(CH 3 ) 2 1.0 g of methylhydrogenpolysiloxane consisting of 60 mol% HSiO 0.5 ] and 40 mol% SiO 2 units was added. The molar ratio of ≡SiH / Si-CH = CH 2 was 1.0.
添加後、1時間攪拌しオルガノポリシロキサンを均一に
分散させた後、塩化白金酸を0.06g添加した。After the addition, the mixture was stirred for 1 hour to uniformly disperse the organopolysiloxane, and then 0.06 g of chloroplatinic acid was added.
塩化白金酸を添加して120℃で2時間攪拌後、硬化した
オルガノポリシロキサンが均一に分散したエポキシ樹脂
(合成物B)118gを得た。この合成物Bはエポキシ当量
256、粘度1080cs、硬化したオルガノポリシロキサンの
平均粒径は8μmであった。Chloroplatinic acid was added and the mixture was stirred at 120 ° C. for 2 hours to obtain 118 g of an epoxy resin (synthetic product B) in which the cured organopolysiloxane was uniformly dispersed. This compound B has an epoxy equivalent
The viscosity was 256, the viscosity was 1080cs, and the average particle size of the cured organopolysiloxane was 8 μm.
〔合成例3〕 温度計、攪拌器、滴下ロート及び還流冷却器を付けた四
つ口フラスコにt−ブチル基含有エポキシ樹脂ESX221
(住友化学(株)製)100gを入れ、窒素雰囲気下で120
℃に加熱し溶解させた。溶解後、攪拌しながら、分子鎖
両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖されているジメ
チルシロキサン単位100モル%からなる粘度が600csのメ
チルビニルシロキサン10g、アリルグリシジルエーテル5
g、ジメチルハイドロジェンシロキサン単位〔(CH3)2HSi
O0.5〕60モル%とSiO2単位40モル%からなるメチルハイ
ドロジェンポリシロキサン2.0gを添加した。[Synthesis Example 3] A t-butyl group-containing epoxy resin ESX221 was placed in a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser.
(Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 100g, 120 under nitrogen atmosphere
It was heated to 0 ° C. and dissolved. After dissolution, while stirring, 10 g of methyl vinyl siloxane with a viscosity of 600 cs consisting of 100 mol% of dimethyl siloxane units in which both ends of the molecular chain are blocked with dimethyl vinyl silyl groups, allyl glycidyl ether 5
g, dimethyl hydrogen siloxane unit [(CH 3 ) 2 HSi
2.0 g of methylhydrogenpolysiloxane consisting of 60 mol% of O 0.5 ] and 40 mol% of SiO 2 unit was added.
添加後、1時間攪拌しオルガノポリシロキサンを均一に
分散させた後、塩化白金酸を0.06g添加した。After the addition, the mixture was stirred for 1 hour to uniformly disperse the organopolysiloxane, and then 0.06 g of chloroplatinic acid was added.
塩化白金酸を添加して120℃で2時間攪拌後、硬化した
オルガノポリシロキサンが均一に分散したエポキシ樹脂
(合成物C)119gを得た。この合成物Cはエポキシ当量
226、粘度1051cs、硬化したオルガノポリシロキサンの
平均粒径は5μmであった。After adding chloroplatinic acid and stirring at 120 ° C. for 2 hours, 119 g of an epoxy resin (Compound C) in which the cured organopolysiloxane was uniformly dispersed was obtained. This compound C has an epoxy equivalent
226, viscosity 1051cs, average particle size of the cured organopolysiloxane was 5 μm.
〔合成例4〕 エポキシ樹脂としてエポキシ化オルソクレゾールノボラ
ック樹脂(EOCN1020(65),日本化薬(株)製)を用い
て合成例1と同様の方法で合成物Dを得た。この合成物
の硬化オルガノポリシロキサンは不均一分散であり、平
均粒径は200μmであった。[Synthesis Example 4] A synthetic product D was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 using an epoxidized orthocresol novolac resin (EOCN1020 (65), manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as an epoxy resin. The cured organopolysiloxane of this composition was non-uniformly dispersed and had an average particle size of 200 μm.
〔合成例5〕 エポキシ樹脂としてビスフェノール型エポキシ樹脂(RE
310S,日本化薬(株)製)を用いて合成例1と同様の方
法で合成物Eを得た。この合成物Eの硬化オルガノポリ
シロキサンは不均一分散であり、平均粒径は250μmで
あった。[Synthesis Example 5] Bisphenol type epoxy resin (RE
A compound E was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 using 310S, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. The cured organopolysiloxane of this composite E was non-uniformly dispersed and had an average particle size of 250 μm.
〔合成例6〕 エポキシ樹脂としてエポキシ化トリフェノールメタン
(EPPN501H,日本化薬(株)製)を用いて合成例1と同
様の方法で合成物Fを得た。この合成物Fの硬化オルガ
ノポリシロキサンは不均一分散であり、平均粒径は350
μmであった。[Synthesis Example 6] A synthetic product F was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 using epoxidized triphenolmethane (EPPN501H, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as an epoxy resin. The cured organopolysiloxane of Compound F was non-uniformly dispersed and had an average particle size of 350.
was μm.
〔合成例7〕 リフラックスコンデンサー、温度計、窒素導入管を備え
た1の四つ口フラスコにトルエン200mlと合成例2で
用いたオルガノポリシロキサン(メチルビニルシロキサ
ン100g、メチルハイドロジェンポリシロキサン5g、塩化
白金酸0.3g)を入れ、110℃で6時間反応させた。6時
間後、溶剤を除去することにより、硬化オルガノポリシ
ロキサンの固形物(合成物G)を得た。この固形物を粉
砕し、比較例5のエポキシ樹脂組成物に使用した。[Synthesis Example 7] To a four-necked flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a nitrogen inlet tube, 200 ml of toluene and the organopolysiloxane used in Synthesis Example 2 (100 g of methylvinylsiloxane, 5 g of methylhydrogenpolysiloxane, Chloroplatinic acid (0.3 g) was added, and the mixture was reacted at 110 ° C for 6 hours. After 6 hours, the solvent was removed to obtain a solid product of cured organopolysiloxane (synthetic product G). This solid was crushed and used for the epoxy resin composition of Comparative Example 5.
次に実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。
なお、以下の例において部はいずれも重量部である。Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
In the following examples, all parts are parts by weight.
第1表に示す成分の他にγ−グリシドキシプロビルトリ
メトキシシラン1.5部、カーボンブラック1.0部、トリフ
ェニルホスフィン8部を加え、得られた配合物を熱2本
ロールで溶融混合して、17種のエポキシ樹脂組成物(実
施例1〜11、比較例1〜6)を得た。In addition to the components shown in Table 1, 1.5 parts of γ-glycidoxyprobiyl trimethoxysilane, 1.0 part of carbon black, and 8 parts of triphenylphosphine were added, and the resulting blend was melt mixed with a hot two-roll mill. , 17 kinds of epoxy resin compositions (Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6) were obtained.
合成例1で使用したオルガノポリシロキサン(メチルビ
ニルシロキサン100g、メチルハイドロジェンポリシロキ
サン5g、塩化白金酸0.3g)の混合物(混合物A)をその
ままエポキシ樹脂として使用した。A mixture (mixture A) of the organopolysiloxane used in Synthesis Example 1 (100 g of methyl vinyl siloxane, 5 g of methyl hydrogen polysiloxane, 0.3 g of chloroplatinic acid) was used as an epoxy resin as it was.
これらのエポキシ樹脂組成物について、以下の(イ)〜
(ホ)の諸特性を測定した。Regarding these epoxy resin compositions, the following (a) to
Various characteristics of (e) were measured.
(イ)スパイラルフロー EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃,70kg/cm2の条
件で測定した。(A) Spiral flow Using a mold conforming to the EMMI standard, measurement was performed under the conditions of 175 ° C. and 70 kg / cm 2 .
(ロ)機械的強度(曲げ強度、曲げ弾性率) JISK6911に準じて175℃,70kg/cm2,成形時間2分の条件
で10×100×4mmの抗折棒を成形し、180℃で4時間ポス
トキュアーしたもので測定した。(B) Mechanical strength (flexural strength, flexural modulus) According to JIS K6911, a 10 × 100 × 4 mm bending bar was molded under the conditions of 175 ℃, 70 kg / cm 2 , molding time of 2 minutes, and 180 ℃ 4 It was measured with a post-cured material for a period of time.
(ハ)ガラス転移温度、膨張係数 175℃,70kg/cm2,成形時間2分の条件で4×4×15mmの
試験片を成形し、180℃で4時間ポストキュアーしたも
のを用い、ディラトメーターにより毎分5℃で昇温させ
ることにより測定した。(C) Glass transition temperature, expansion coefficient of 175 ° C, 70 kg / cm 2 , molding time of 2 minutes, 4 × 4 × 15 mm test piece was molded, and post-cured at 180 ° C for 4 hours. It was measured by raising the temperature at 5 ° C. per minute with a meter.
(ニ)吸湿後の半田クラック性及び耐湿性 175℃,70kg/cm2,成形時間2分の条件でアルミニウム配
線腐食測定用の耐湿性試験半導体装置を厚さ2mmのフラ
ットパッケージに封止し、180℃で4時間ポストキュア
ーした。このパッケージを85℃/85%RHの雰囲気中で72
時間放置して吸湿処理を行なった後、これを260℃の半
田浴に10秒浸漬した。この時に発生するパッケージのク
ラック発生率を確認した後、良品のみを120℃の飽和水
蒸気雰囲気中に400時間放置し、不良発生率を調べた。(D) Solder cracking and moisture resistance after moisture absorption Moisture resistance test for aluminum wiring corrosion measurement under the conditions of 175 ° C, 70kg / cm 2 and molding time of 2 minutes. A semiconductor device is sealed in a flat package with a thickness of 2mm. Post-cure at 180 ° C. for 4 hours. 72 this package in the atmosphere of 85 ℃ / 85% RH
After being left for a period of time to perform a moisture absorption treatment, this was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds. After confirming the crack occurrence rate of the package generated at this time, only the non-defective product was left in a saturated steam atmosphere at 120 ° C. for 400 hours to examine the defect occurrence rate.
(ホ)接着性 42アロイ板に15mmφ、高さ5mmの円柱状に175℃、70kg/c
m2,成形時間2分の条件で成形し、180℃で4時間ポス
トキュアーした後、ブッシュブルゲージで成形物と42ア
ロイ板の剥離力を測定した。(E) Adhesiveness 175 ℃, 70kg / c in a cylindrical shape with 15mmφ and 5mm height on 42 alloy plate
After molding under conditions of m 2 and molding time of 2 minutes and post-curing at 180 ° C. for 4 hours, the peeling force between the molded product and the 42 alloy plate was measured with a bush bull gauge.
第1表の結果より、t−ブチル基含有エポキシ樹脂の溶
融状態で硬化性オルガノポリシロキサンを反応させるこ
とにより得られる硬化オルガノポリシロキサンの均一分
散したt−ブチル基含有エポキシ樹脂組成物(実施例1
〜11)は、曲げ強度、吸湿後の半田クラック、接着性に
優れた効果のあることが確認された。 From the results of Table 1, a t-butyl group-containing epoxy resin composition in which a cured organopolysiloxane obtained by reacting a curable organopolysiloxane in a molten state of a t-butyl group-containing epoxy resin is uniformly dispersed (Examples 1
It was confirmed that the materials No. 11 to 11) have excellent effects on bending strength, solder cracks after moisture absorption, and adhesiveness.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−227423(JP,A) 特開 平2−191659(JP,A) 特開 平2−182746(JP,A) 特開 平1−256514(JP,A) 特開 昭62−187721(JP,A) 特開 平2−212514(JP,A) 特開 平2−208314(JP,A) 特開 平2−208313(JP,A)Continuation of front page (56) Reference JP-A-2-227423 (JP, A) JP-A-2-191659 (JP, A) JP-A-2-182746 (JP, A) JP-A-1-256514 (JP , A) JP 62-187721 (JP, A) JP 2-212514 (JP, A) JP 2-208314 (JP, A) JP 2-208313 (JP, A)
Claims (2)
キル基、t-Buはt−ブチル基であり、l,mはそれぞれ0
〜50の整数で、かつl=0のときmは1〜50の整数、m
=0のときlは1〜50の整数である。) で示されるエポキシ樹脂中に、 (a)1分子中にけい素原子に結合したビニル基を少な
くとも2個含有するオルガノポリシロキサンと、 (b)1分子中にけい素原子に結合した水素原子を少な
くとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンと、 (c)白金系触媒と を主成分として含有する硬化性オルガノポリシロキサン
組成物の硬化物を分散させてなるエポキシ樹脂を含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。1. The following formula (1) (In the formula, X is a hydrogen atom or a halogen atom, R is an alkyl group, t-Bu is a t-butyl group, and l and m are 0 respectively.
Is an integer of -50, and when l = 0, m is an integer of 1-50, m
When = 0, l is an integer of 1 to 50. ) In the epoxy resin represented by, (a) an organopolysiloxane containing at least two vinyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and (b) a hydrogen atom bonded to a silicon atom in one molecule. And an epoxy resin obtained by dispersing a cured product of a curable organopolysiloxane composition containing (c) a platinum-based catalyst as a main component. Epoxy resin composition.
硬化物。2. A cured product obtained by curing the composition according to claim 1.
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