JPH06103780B2 - Method for manufacturing laser diode unit - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、新規な構造のレーザダイオードユニットを製
造する方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of manufacturing a laser diode unit having a novel structure.
〈従来の技術〉 第11図には従来のレーザダイオードユニット100が示さ
れており、ステム101には3本のリード端子102,104,106
がステム101の厚さ方向に貫通させて設けられている。
リード端子102の突出端はレーザダイオード108と電気的
に接続され、レーザダイオード108へ電流を供給させる
機能を有し、リード端子104はフォトダイオードから出
力される電流を取り出す機能を有する。<Prior Art> FIG. 11 shows a conventional laser diode unit 100, and a stem 101 has three lead terminals 102, 104, 106.
Are provided so as to penetrate in the thickness direction of the stem 101.
The protruding end of the lead terminal 102 is electrically connected to the laser diode 108 and has a function of supplying a current to the laser diode 108, and the lead terminal 104 has a function of extracting a current output from the photodiode.
すなわち、レーザダイオード108から発せられたレーザ
光はフォトダイオード110で受光され、その受光された
光量に比例した電流がフォトダイオード110からリード
端子104に出力される。従って、その電流の値に基づい
てレーザダイオード108の発光パワーを自動制御するこ
とが可能となる。なお、リード端子106は、レーザダイ
オード108とフォトダイオード110とを接地接続させる機
能を有する。That is, the laser light emitted from the laser diode 108 is received by the photodiode 110, and a current proportional to the amount of the received light is output from the photodiode 110 to the lead terminal 104. Therefore, it becomes possible to automatically control the light emission power of the laser diode 108 based on the value of the current. The lead terminal 106 has a function of connecting the laser diode 108 and the photodiode 110 to the ground.
そして、ステム101にはリング状の連結部材112が取り付
けられて一体化されており、連結部材112にはレーザダ
イオード108等を封入するための一端が開口された有底
円筒状のキャップ113が取り付けられている。なお、ス
テム101と連結部材112、および連結部材112とキャップ1
13とは、各々抵抗溶接等により一体化される。A ring-shaped connecting member 112 is attached to and integrated with the stem 101, and a closed-end cylindrical cap 113 having one end opened for enclosing the laser diode 108 and the like is attached to the connecting member 112. Has been. The stem 101 and the connecting member 112, and the connecting member 112 and the cap 1
13 and 13 are integrated by resistance welding or the like.
また、キャップ113の有底面には開口窓113Aが形成さ
れ、開口窓113Aはガラスカバー114により閉塞されてい
るので、レーザダイオード108のレーザ光は、開口窓113
Aから外部へ出射される。なお、以上のように構成され
たレーザダイオードユニット100の内部には、一般に窒
素ガス等の不活性ガスが充填され、特にレーザダイオー
ド108の発光端面の酸化防止が図られている。Further, since the opening window 113A is formed on the bottom surface of the cap 113 and the opening window 113A is closed by the glass cover 114, the laser light of the laser diode 108 is emitted from the opening window 113A.
It is emitted from A to the outside. The inside of the laser diode unit 100 configured as described above is generally filled with an inert gas such as nitrogen gas, and in particular, oxidation of the light emitting end surface of the laser diode 108 is prevented.
〈発明が解決しようとする課題〉 上記のように従来のレーザダイオードユニットは複雑な
構造のものであり、リード端子、レーザダイオード、フ
ォトダイオードの配設やボンディングワイヤの接続とい
った各工程の作業を複雑に入り組んだ構造の中で行わざ
るを得なかった。そして、従来では個々のレーザダイオ
ードユニット毎にこのような困難な作業工程を多々行う
ことから、多数のレーザダイオードユニットを製造しよ
うとする場合には特に生産能率が悪いという問題があっ
た。<Problems to be Solved by the Invention> As described above, the conventional laser diode unit has a complicated structure, and the work of each process such as arrangement of lead terminals, laser diodes, photodiodes and bonding wire connection is complicated. I had to do it in a complicated structure. In the prior art, many such difficult working steps are performed for each individual laser diode unit, so that there is a problem that the production efficiency is particularly low when a large number of laser diode units are to be manufactured.
本発明は上記従来の事情に鑑みなされたもので、レーザ
ダイオードユニットを能率良く量産することができるレ
ーザダイオードユニットの製造方法を提供することを目
的とする。The present invention has been made in view of the above conventional circumstances, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a laser diode unit, which enables efficient mass production of the laser diode unit.
〈課題を解決するための手段〉 本発明に係るレーザダイオードユニットの製造方法は、
基板に1つのレーザダイオードユニットを構成する区画
を複数設ける工程と、各区画毎の基板上に第1のリード
部と第2のリード部とを設ける工程と、レーザ光出力を
検出するフォトダイオードを有したサブマウント用基台
を各区画毎の基板上に取り付ける工程と、各サブマウン
ト基台上にレーザダイオードチップをそれぞれ取り付け
る工程と、各レーザダイオードチップを当該区画内にお
いて電流供給用の第1のリード部に接続すると共にフォ
トダイオードの電流検出用の第2のリード部に接続する
工程と、基板を各区画毎に分割する工程とを備えたこと
を特徴とする。<Means for Solving the Problems> A method for manufacturing a laser diode unit according to the present invention,
A step of providing a plurality of sections forming one laser diode unit on the substrate, a step of providing a first lead section and a second lead section on the board for each section, and a photodiode for detecting laser light output are provided. A step of mounting the submount base that has been provided on the substrate for each section, a step of mounting a laser diode chip on each submount base, and a first step for supplying current to each laser diode chip in the section. And a second lead portion for detecting the current of the photodiode, and a step of dividing the substrate into each section.
〈作用〉 本発明では、1つの基板を複数に区画して各区画毎にレ
ーザダイオードユニットを組み立て、レーザダイオード
が組み上がったところで基板を各区画毎に分割して複数
のレーザーダイオードユニットを製造する。すなわち、
各レーザダイオードユニットを製造工程を1つの基板上
で同時に行い、最終的にレーザダイオードユニットが組
み上がったところで各レーザダイオードユニットを互い
に切り離す。<Operation> In the present invention, one substrate is divided into a plurality of sections, a laser diode unit is assembled in each section, and when the laser diode is assembled, the substrate is divided into each section to manufacture a plurality of laser diode units. . That is,
The manufacturing process of each laser diode unit is simultaneously performed on one substrate, and when the laser diode units are finally assembled, the laser diode units are separated from each other.
〈実施例〉 まず、本発明の一実施例に係る製造方法で製造したレー
ザダイオードユニット(以下、単にユニットと略称す
る)を説明する。<Example> First, a laser diode unit (hereinafter simply referred to as a unit) manufactured by a manufacturing method according to an example of the present invention will be described.
第1図には当該ユニット1の全体概略図を、第2図には
第1図におけるII-II線断面図をそれぞれ示す。FIG. 1 shows an overall schematic view of the unit 1, and FIG. 2 shows a sectional view taken along the line II-II in FIG.
図示のように、シリコン等の導電性材料で板状に形成さ
れたサブマウント用導電性基台3が基板9上に取り付け
固定されている。As shown in the drawing, a submount conductive base 3 formed in a plate shape with a conductive material such as silicon is attached and fixed onto the substrate 9.
基板9はいわゆる高熱伝導タイプのプリント基板であっ
て、アルミニウム等の板状部材9Aに絶縁膜9Cを介してそ
れぞれ銅膜9Bから成るリード部(レーザダイオードへ電
流を供給する機能を有する第1のリード部)11、リード
部(フォトダイオードから出力される電流を検出する機
能を有する第2のリード部)13、リード部(レーザダイ
オードとフォトダイオードとを接地接続させる機能を有
する)15が形成されている。The substrate 9 is a so-called high thermal conductivity type printed circuit board, and has lead portions (first function having a function of supplying a current to the laser diode) formed of a copper film 9B on a plate-shaped member 9A such as aluminum via an insulating film 9C. A lead portion 11, a lead portion (second lead portion having a function of detecting a current output from the photodiode) 13, and a lead portion (having a function of connecting the laser diode and the photodiode to the ground) 15 are formed. ing.
一方、基台3上にはレーザダイオード5が取り付け固定
されており、レーザダイオード5と基台3とはワイヤ17
により接続されている。On the other hand, a laser diode 5 is attached and fixed on the base 3, and the laser diode 5 and the base 3 are connected by a wire 17
Connected by.
また、実施例では、基台3はシリコンSiで形成され、第
1図中点線で示された領域2には、基台3をN領域とし
た場合に、P領域となるように不純物が拡散されてPN接
合が形成されており、その結果、基台3自体がフォトダ
イオードとしての機能を有している。なお、別途フォト
ダイオードを形成し、そのフォトダイオードの受光面を
露呈させた状態で基台3の領域2に埋設してもよい。Further, in the embodiment, the base 3 is made of silicon Si, and in the region 2 shown by the dotted line in FIG. 1, when the base 3 is the N region, impurities are diffused so as to become the P region. As a result, a PN junction is formed, and as a result, the base 3 itself has a function as a photodiode. Alternatively, another photodiode may be formed and embedded in the region 2 of the base 3 with the light receiving surface of the photodiode exposed.
そして、レーザダイオードチップ5が設けられている基
台3の一側面3Aは二酸化シリコンSiO2で被覆されてお
り、また、レーザダイオードチップ5へ電流を供給する
アルミニウム配線4と、基台3に生じた電流を取り出す
アルミニウム配線6とが設けられている。Then, one side surface 3A of the base 3 on which the laser diode chip 5 is provided is covered with silicon dioxide SiO2, and the aluminum wiring 4 for supplying a current to the laser diode chip 5 and the base 3 are formed. Aluminum wiring 6 for taking out a current is provided.
アルミニウム配線4の一端部にはレーザダイオードチッ
プ5が接続されているとともに、アルミニウム配線4の
他端部にはワイヤ19の一端部が接続され、さらにワイヤ
19の他端部はリード部11に接続されている。A laser diode chip 5 is connected to one end of the aluminum wiring 4, and one end of a wire 19 is connected to the other end of the aluminum wiring 4.
The other end of 19 is connected to the lead 11.
アルミニウム配線6の一端部は領域2部分と接合されて
いるとともに、アルミニウム配線6の他端部はワイヤ21
の一端部に接続され、さらにワイヤ21の他端部はリード
部13に接続されている。One end of the aluminum wiring 6 is joined to the region 2 and the other end of the aluminum wiring 6 is connected to the wire 21.
Of the wire 21, and the other end of the wire 21 is connected to the lead portion 13.
そして、各リード部11、13、15が他の電気回路(図示し
ない)と接続される部分を除き、レーザダイオード5、
フォトダイオード7、基台3、ワイヤ17、19、21、各リ
ード部11、13、15の一部は、誘電性を有する酸化アルミ
ニウムA1203等の保護膜26で被覆されており、特にレー
ザダイオード5の発光端面やリード部11、13、15等の酸
化防止と、ユニット1の耐湿性向上等が図られている。The laser diode 5, except for the portions where the lead portions 11, 13, 15 are connected to other electric circuits (not shown),
The photodiode 7, the base 3, the wires 17, 19, 21 and part of each of the lead portions 11, 13, 15 are covered with a protective film 26 such as aluminum oxide A1203 having a dielectric property. The light emitting end surface of the device, the lead portions 11, 13, 15 and the like are prevented from being oxidized, and the moisture resistance of the unit 1 is improved.
さらに、基板9にはレーザダイオード5の機械的破壊等
を防止する保護カバー23が設けられており、この保護カ
バー23は断面略コ字状に形成されて、レーザダイオード
5の発光端面を残してユニット1の主要な機能部分が保
護されるように設定されている。なお、保護カバー23の
両端面側をガラス等レーザ光が通過可能な部材で閉塞す
るとともに、保護カバー23内に窒素ガス等の不活性ガス
を封入して、レーザダイオード5の端面等の酸化防止を
さらに向上させることもユニット1の構成としては好適
である。Further, the substrate 9 is provided with a protective cover 23 for preventing mechanical destruction or the like of the laser diode 5. The protective cover 23 is formed in a substantially U-shaped cross section, and the light emitting end surface of the laser diode 5 is left. The main functional parts of the unit 1 are set to be protected. It should be noted that both end surfaces of the protective cover 23 are closed by a member such as glass that allows laser light to pass therethrough, and an inert gas such as nitrogen gas is sealed in the protective cover 23 to prevent oxidation of the end surface of the laser diode 5. It is also suitable for the configuration of the unit 1 to further improve
そして、保護カバー23は、適宜な透明樹脂にルチル等の
反射率の高い金属を含有させた高反射樹脂で形成される
とともに、その裏面側には、フォトダイオード7の位置
に対応させた位置に、テーパ面25Aを有する反射部25が
一体に形成されている。この反射部25のテーパ面25Aの
傾きは、レーザダイオード5のレーザ光が、効率良くフ
ォトダイオード7の受光面方向へ反射されるように設定
されている。The protective cover 23 is formed of a highly reflective resin in which a metal having a high reflectance such as rutile is contained in an appropriate transparent resin, and is provided at a position corresponding to the position of the photodiode 7 on the back surface side thereof. The reflecting portion 25 having the tapered surface 25A is integrally formed. The inclination of the tapered surface 25A of the reflecting portion 25 is set so that the laser light of the laser diode 5 is efficiently reflected toward the light receiving surface of the photodiode 7.
従って、上記構成のレーザダイオードユニット1によれ
ば、リード部11、15を電源(図示せず)に接続してレー
ザダイオード5に電流を供給することによりレーザダイ
オード5の一方の発光端面(第2図中の左端面)からレ
ーザ光を発振させることができる。そして、これと共に
レーザダイオード5の他方の発光端面(第2図中の右端
面)からもレーザ光が発信されて反射部25を介してフォ
トダイオード7で受光され、このフォトダイオード7の
出力をリード部13から検出してレーザダイオード5への
供給電流を制御することにより、レーザダイオード5か
ら発振されるレーザ光強度を安定させている。Therefore, according to the laser diode unit 1 having the above-described configuration, the lead portions 11 and 15 are connected to a power source (not shown) to supply a current to the laser diode 5, whereby one of the light emitting end faces (second Laser light can be oscillated from the left end face in the figure). Along with this, laser light is also emitted from the other light emitting end surface (right end surface in FIG. 2) of the laser diode 5 and is received by the photodiode 7 via the reflecting portion 25, and the output of this photodiode 7 is read. The intensity of the laser light oscillated from the laser diode 5 is stabilized by controlling the supply current to the laser diode 5 detected by the section 13.
次に、上記構成のレーザダイオードユニット1を製造す
る本発明の一実施例に係る方法を各工程を順次示す第3
図〜第10図を参照しながら説明する。Next, a method according to an embodiment of the present invention for manufacturing the laser diode unit 1 having the above structure will be described.
This will be described with reference to FIGS.
まず、第3図に示すように、基板9に仕切溝9Eを等間隔
に形成してこの基板9を複数の区画に仕切ると共に、溝
9Eで仕切られた区画のそれぞれにリード部11、13、15を
設ける。これらリード部11、13、15は、第2図に示した
ように、板状部材9Aの上面に絶縁膜9Cを形成し、更にそ
の上に導電性薄膜9Bを形成し、エッチング等の公知の手
段により余分な導電性薄膜9Bを除去することにより、形
成されている。なお、各リード部11、13、15は電気的短
絡を防止するために、互いに適宜な間隔をもって形成さ
れている。First, as shown in FIG. 3, partition grooves 9E are formed on the substrate 9 at equal intervals to partition the substrate 9 into a plurality of partitions, and
Lead sections 11, 13, and 15 are provided in each of the sections partitioned by 9E. As shown in FIG. 2, these lead portions 11, 13, 15 have an insulating film 9C formed on the upper surface of the plate-shaped member 9A, and a conductive thin film 9B formed on the insulating film 9C. It is formed by removing the excess conductive thin film 9B by means. The lead portions 11, 13, 15 are formed at appropriate intervals with respect to each other in order to prevent an electrical short circuit.
次いで、各区画毎のリード部15の先端部15Aを接合材
(インジウム等)30でコーティングした後、第4図に示
すように、それぞれの接合材30の上にサブマウント用基
台3を載せる。そして、サブマウント用基台3を基板9
側へ押圧しながら接合材30の融点(インジウムでは約16
3℃)まで一旦加熱し、サブマウント用基台3をリード
部15に接続した状態で基板9上に取り付ける。なお、サ
ブマウント用基台3には予めフォトダイオード2を設け
てあると共に、サブマウント用基台3の上面3Aは予め二
酸化シリコンSiO2で被覆されている。更にまた、SiO2膜
上にはレーザダイオードへの電流供給用の配線4と領域
2に接続した配線6とが予め設けられていると共に、基
台3の先端部には配線6に接続した接合材(金と錫の合
金等)32が予めコーティングされている。なお、SiO2膜
の一部は後のワイヤボンディング用に剥離されている。Next, after coating the tip portion 15A of the lead portion 15 for each section with a bonding material (indium or the like) 30, the submount base 3 is placed on each bonding material 30, as shown in FIG. . Then, the submount base 3 is mounted on the substrate 9
While pressing to the side, the melting point of the bonding material 30 (about 16 for indium)
It is once heated to 3 ° C.) and mounted on the substrate 9 in a state where the submount base 3 is connected to the lead portion 15. The submount base 3 is provided with the photodiode 2 in advance, and the upper surface 3A of the submount base 3 is previously covered with silicon dioxide SiO2. Furthermore, a wiring 4 for supplying a current to the laser diode and a wiring 6 connected to the region 2 are provided in advance on the SiO2 film, and a bonding material connected to the wiring 6 is provided at the tip of the base 3. 32 (such as an alloy of gold and tin) is pre-coated. A part of the SiO2 film is peeled off for later wire bonding.
次いで、第5図に示すように、レーザダイオードチップ
5を公知のバキュウム搬送機等を用いて各区画毎の接合
材32上に載せる。そして、レーザダイオードチップ5を
基台3側へ押圧しながら接合材32の融点(金と錫の合金
では約230℃)まで一旦加熱し、レーザダイオードチッ
プ5を配線6に接続した状態でサブマウント用基台3上
に取り付ける。Next, as shown in FIG. 5, the laser diode chip 5 is placed on the bonding material 32 for each section by using a known vacuum carrier or the like. Then, while pressing the laser diode chip 5 toward the base 3 side, it is once heated to the melting point of the bonding material 32 (about 230 ° C. for an alloy of gold and tin), and the submount with the laser diode chip 5 connected to the wiring 6. Attach it on the base 3.
次いで、第6図に示すように、加熱条件下(例えば120
℃)で各区画毎にワイヤ17、19、21によるボンディング
を行う。すなわち、レーザダイオードチップ5の上面と
SiO2膜の剥離部で露呈した基台3とをワイヤ17で接続
し、リード部11と配線4とをワイヤ19で接続し、リード
部13と配線6とをワイヤ21で接続する。Then, as shown in FIG. 6, under heating conditions (for example, 120
Bonding with wires 17, 19 and 21 for each section at (° C). That is, the upper surface of the laser diode chip 5
The base 3 exposed at the peeled portion of the SiO2 film is connected by the wire 17, the lead portion 11 and the wiring 4 are connected by the wire 19, and the lead portion 13 and the wiring 6 are connected by the wire 21.
次いで、第7図に示すように、各区画のリード部11、1
3、15の後端部をテープ36で覆う。Then, as shown in FIG. 7, the lead portions 11, 1 of each section are
The tape 36 covers the rear ends of the tapes 3, 15.
次いで、第8図に示すように、保護膜26をスパッタリン
グにより形成した後、テープ36を取り除いて他の電気回
路との接続用にリード部11、13、15の一部を保護膜26か
ら露呈させる。Next, as shown in FIG. 8, after the protective film 26 is formed by sputtering, the tape 36 is removed to expose a part of the lead parts 11, 13, 15 from the protective film 26 for connection with other electric circuits. Let
次いで、第9図に示すように、各区画において基板9に
貫通孔9Dを形成した後、保護カバー23に突設したエンボ
ス23Aをそれぞれ貫通孔9Dに挿通させてエンボス23Aの先
端を基板9の裏面から突出させ、この突出したエンボス
23Aの先端をカシメることにより保護カバー23を各区画
毎に取り付ける。Next, as shown in FIG. 9, after forming through-holes 9D in the substrate 9 in each section, the embossments 23A protruding from the protective cover 23 are inserted into the through-holes 9D, respectively, and the tip of the embossing 23A is attached to the substrate 9. Embossed from the back, this embossed
The protective cover 23 is attached to each section by crimping the tip of 23A.
上記一連の工程により基板9上には溝9Eで仕切られた複
数のレーザダイオードユニット1が形成される。そし
て、この状態で各区画の素子に例えば70℃で20時間5mW
の電流を供給してその動作試験を行うと共に光学的特性
の試験を行い、安定且つ良質な素子を選別する。Through the series of steps described above, a plurality of laser diode units 1 partitioned by the groove 9E are formed on the substrate 9. Then, in this state, the elements of each section are exposed to 5mW for 20 hours at 70 ° C
Current is supplied to perform the operation test and the optical characteristic test to select a stable and high-quality element.
次いで、第10図に示すように、基板9を仕切溝9Eで分割
し、各レーザダイオードユニット1を切り離して製造工
程を完了する。Next, as shown in FIG. 10, the substrate 9 is divided by the partition grooves 9E, and each laser diode unit 1 is separated to complete the manufacturing process.
〈効果〉 本発明に係るレーザダイオードユニットの製造方法によ
れば、簡単な作業の工程により1つの基板上で複数のユ
ニットを同時に製造することができるため、多数のレー
ザダイオードユニットを能率良く製造することができ、
大幅なコスト低減をも実現することができる。<Effect> According to the method for manufacturing a laser diode unit of the present invention, a plurality of units can be manufactured simultaneously on one substrate by a simple operation process, and therefore a large number of laser diode units can be manufactured efficiently. It is possible,
Significant cost reduction can also be realized.
第1図は本発明の一実施例に係るレーザダイオードユニ
ットの全体概略構成図、第2図は第1図におけるII-II
矢視断面図、第3図〜第10図はそれぞれ本発明の一実施
例に係る製造方法を各工程毎に示す概念図、第11図は従
来のレーザダイオードユニットの概略構成図である。 1はレーザダイオードユニット、 2は領域(フォトダイオード)、 3はサブマウント用基台、 5はレーザダイオードチップ、 9は基板、 9Eは仕切溝、 11は第1のリード部、 13は第2のリード部である。FIG. 1 is an overall schematic configuration diagram of a laser diode unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is II-II in FIG.
Sectional views taken in the direction of the arrows, FIGS. 3 to 10 are conceptual diagrams each showing a manufacturing method according to one embodiment of the present invention for each step, and FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a conventional laser diode unit. 1 is a laser diode unit, 2 is a region (photodiode), 3 is a submount base, 5 is a laser diode chip, 9 is a substrate, 9E is a partition groove, 11 is a first lead portion, 13 is a second It is a lead part.
Claims (1)
構成する区画を複数設ける工程と、各区画毎の基板上に
第1のリード部と第2のリード部とを設ける工程と、レ
ーザ光出力を検出するフォトダイオードを有したサブマ
ウント用基台を各区画毎の基板上に取り付ける工程と、
各サブマウント基台上にレーザダイオードチップをそれ
ぞれ取り付ける工程と、各レーザダイオードチップを当
該区画内において電流供給用の第1のリード部に接続す
ると共にフォトダイオードの電流検出用の第2のリード
部に接続する工程と、基板を各区画毎に分割する工程と
を備えたことを特徴とするレーザダイオードユニットの
製造方法。1. A step of providing a plurality of sections forming one laser diode unit on a substrate, a step of providing a first lead section and a second lead section on the substrate for each section, and a laser beam output. A step of mounting a submount base having a photodiode for detection on a substrate for each section,
Attaching the laser diode chip to each submount base, and connecting each laser diode chip to the first lead portion for current supply in the section and the second lead portion for current detection of the photodiode. A method of manufacturing a laser diode unit, comprising: a step of connecting to a substrate; and a step of dividing the substrate into sections.
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|---|---|---|---|
| JP63318149A JPH06103780B2 (en) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | Method for manufacturing laser diode unit |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP63318149A JPH06103780B2 (en) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | Method for manufacturing laser diode unit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02163985A JPH02163985A (en) | 1990-06-25 |
| JPH06103780B2 true JPH06103780B2 (en) | 1994-12-14 |
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ID=18096038
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP63318149A Expired - Fee Related JPH06103780B2 (en) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | Method for manufacturing laser diode unit |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06103780B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1988
- 1988-12-16 JP JP63318149A patent/JPH06103780B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12573811B2 (en) * | 2020-04-21 | 2026-03-10 | Hisense Laser Display Co., Ltd | Laser device and laser projection apparatus |
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|---|---|
| JPH02163985A (en) | 1990-06-25 |
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