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JPH0611419B2 - Film forming method - Google Patents
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JPH0611419B2 - Film forming method - Google Patents

Film forming method

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Publication number
JPH0611419B2
JPH0611419B2 JP20894586A JP20894586A JPH0611419B2 JP H0611419 B2 JPH0611419 B2 JP H0611419B2 JP 20894586 A JP20894586 A JP 20894586A JP 20894586 A JP20894586 A JP 20894586A JP H0611419 B2 JPH0611419 B2 JP H0611419B2
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group
film
forming method
carbon atoms
compound
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正和 上北
弘 淡路
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、高分子化合物の製膜方法に関するものであ
り、さらに詳しくは、修飾された高分子化合物をラング
ミュア・ブロジェット法で製膜する方法に関するもので
ある。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a polymer compound film, and more particularly to a method for forming a modified polymer compound film by the Langmuir-Blodgett method. Is.

従来の技術 すでに1930年代、炭素数16〜22くらいの脂肪酸
が水面上に単分子膜をつくり、それを基質状に累積でき
ることがラングミュア・ブロジェットにより見出された
が、技術的応用についての検討が行われはじめたのは最
近のことである。
Conventional technology In the 1930s, it was found by Langmuir-Blodgett that fatty acids having about 16 to 22 carbon atoms could form a monomolecular film on the surface of water and accumulate it as a substrate. It has only recently started.

これまでの研究の概要については、固体物理17(12)45(1
982)Thin Solid Films 68 No.1(1980),ibid,99 No.1.2.
3(1983)Insoluble monolayers at liquid-gas interfac
es(G.L.Gains,Interscience Publishers,New York,196
6)などにまとめられているが、従来の直鎖飽和脂肪酸の
ラングミュア・ブロジェット膜(以下「LB膜」とい
う)は耐熱性、機械的強度に欠点があり実用的応用には
そのままでは使えないという問題点がある。
For an overview of previous research, see Solid State Physics 17 (12) 45 (1
982) Thin Solid Films 68 No.1 (1980), ibid, 99 No.1.2.
3 (1983) Insoluble monolayers at liquid-gas interfac
es (GLGains, Interscience Publishers, New York, 196
As described in 6), the conventional straight chain saturated fatty acid Langmuir-Blodgett film (hereinafter referred to as “LB film”) has defects in heat resistance and mechanical strength, and cannot be used as it is for practical applications. There is a problem.

これらを改善するものとして不飽和脂肪酸、例えばω−
トリコセン酸、ω−ペプタデセン酸やα−オクタデシル
アクリル酸や脂肪酸の不飽和エステル、例えばステアリ
ン酸ビニル,オクタデシルアクリレートのほか、ジアセ
チレン誘導体などの重合膜が検討されているが、耐熱性
は充分とはいえないし、電気的にもすぐれたものとはい
えない。ポリマーにもポリ酸,ポリアルコール,エチル
アクリレート,ポリペプチドなど親水性基をもつ高分子
に成膜性のあるものが知られているが、特にラングミュ
ア・ブロジェット膜用の材料として、修飾された高分子
はこれまで検討されていないし、すぐれたLB膜材料と
言えるものはない。
To improve these, unsaturated fatty acids such as ω-
Unsaturated esters of tricosenoic acid, ω-peptadecenoic acid, α-octadecyl acrylic acid and fatty acids, such as vinyl stearate and octadecyl acrylate, as well as polymer films of diacetylene derivatives have been studied, but heat resistance is not sufficient. No, it cannot be said that it is electrically superior. Polymers with hydrophilic groups such as polyacids, polyalcohols, ethyl acrylates, and polypeptides are known to have film-forming properties, but they have been modified as materials for Langmuir-Blodgett films. Polymers have not been studied so far, and there is no excellent LB film material.

一方、耐熱性フィルムとしてポリイミドがあるが、スピ
ンコートなどの方法によってはせいぜい1000Å以上
で通常は1μm以上で1000Å以下のピンホールのな
い耐熱性薄膜を作成するのは非常に困難である。
On the other hand, polyimide is used as a heat-resistant film, but it is very difficult to form a heat-resistant thin film of 1000 Å or more and usually 1 μm or more and 1000 Å or less without pinholes by a method such as spin coating.

発明が解決しようとする問題点 本発明は、本来、ラングミュア・ブロジェット法では製
膜が困難である高分子化合物を修飾することにより同法
による製膜を可能にすることであり、耐熱製、耐薬品
性、接着力などの機械的特性の改善された一般的には製
膜が難しい厚みの高分子薄膜を提供することである。
Problems to be Solved by the Invention The present invention is to enable film formation by the same method by modifying a polymer compound that is originally difficult to form by the Langmuir-Blodgett method. It is an object of the present invention to provide a polymer thin film having improved mechanical properties such as chemical resistance and adhesive strength, which is generally difficult to form into a film.

問題点を解決するための手段 高分子化合物の繰返し単位中に疎水性を付与するため炭
素数1〜9,好ましくは4〜9の置換基を導入し、この
修飾された高分子化合物と公知のラングミュア膜化合物
と混合してラングミュア・ブロジェット法によって製膜
することによってなされる。
Means for Solving the Problems In order to impart hydrophobicity to a repeating unit of a polymer compound, a substituent having 1 to 9 carbon atoms, preferably 4 to 9 carbon atoms is introduced, and this modified polymer compound and known compounds are known. It is made by mixing with a Langmuir film compound to form a film by the Langmuir-Blodgett method.

詳細な議論 本発明において使用するLB膜材料の1つは、少なくと
も2個の炭素原子を有する少なくとも2価の第1の有機
基R1と、少なくとも2個の炭素原子を有する少なくとも
2価の第2の有機基R2とが2価の結合基によって交互に
連結されている線状の繰返し単位を有し、かつ共有結合
によって同じ繰返し単位へ結合した、置換基を含むこと
もある炭素数10〜30の炭化水素含有基R3を少なくと
も1つ含んでいる高分子化合物である。
Detailed Discussion One of the LB film materials used in the present invention is at least a divalent first organic group R 1 having at least two carbon atoms and an at least divalent first organic group R 1 having at least two carbon atoms. 10 carbon atoms, which may have a substituent group, having linear repeating units in which the two organic groups R 2 are alternately linked by a divalent linking group, and which are bound to the same repeating unit by a covalent bond Polymer compounds containing at least one hydrocarbon-containing group R 3 of ˜30.

さらに詳しく説明すれば、本発明の高分子化合物は基本
骨格となる線状の繰り返し単位として から構成される。
More specifically, the polymer compound of the present invention has a linear repeating unit serving as a basic skeleton. Composed of.

ここでR1は少なくとも2個の炭素原子を含有する少なく
とも2価の第1の有機基であり、R2は少なくとも2個の
炭素原子を含有する少なくとも2価の第2の有機基であ
る。さらに好ましくはR1,R2のいずれか一方または両方
が少なくとも6個の炭素原子数を有するベゼンノイド不
飽和によって特徴づけられた基である。
Here, R 1 is at least a divalent first organic group containing at least 2 carbon atoms, and R 2 is an at least divalent second organic group containing at least 2 carbon atoms. More preferably, one or both of R 1 and R 2 is a group characterized by benzenoid unsaturation having at least 6 carbon atoms.

(1)〜(3)式におけるAB,BAは、O,N,S,P,Bなどのヘ
テロ原子を含む酸性基Aと塩基性基Bの反応によって出
来た2価の結合基である。さらに具体的には、−COOR,
(Rはアルキル基または水素原子、以下同じ)−COX,
(XはClまたはBr、以下同じ)−NCO,−NCS,−CN,−
CONHRなどの酸性基Aと、−NHR,−OR,−SR,−X等の
塩基性基Bの反応によってできた基で、 ABは、 等であり、 BAは、 等である。
AB and BA in the formulas (1) to (3) are divalent linking groups formed by the reaction between the acidic group A containing a hetero atom such as O, N, S, P and B and the basic group B. More specifically, −COOR,
(R is an alkyl group or a hydrogen atom, the same applies hereinafter) -COX,
(X is Cl or Br, the same applies hereinafter) -NCO, -NCS, -CN,-
A group formed by the reaction of an acidic group A such as CONHR with a basic group B such as -NHR, -OR, -SR, -X, where AB is And BA is Etc.

本発明の高分子化合物は、(1)〜(3)の基本骨格の同じ繰
返し単位中にそれへ共有結合した、置換基を有すること
もある炭素数1〜9,好ましくは炭素数4〜9の炭化水
素含有基R3の少なくとも1つ、好ましくは2つを含有す
るように修飾されたものである。
The polymer compound of the present invention has 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent covalently bonded to the same repeating unit of the basic skeleton of (1) to (3), preferably 4 to 9 carbon atoms. Modified to contain at least one, and preferably two, of the hydrocarbon-containing groups R 3 of.

このような修飾を実現する方法には3つの方法が考えら
れる。
There are three possible methods for realizing such modification.

〔I〕(1)〜(3)式の線状の繰返し単位中のAB,BAの基に
含まれる原子にR3を置換する方法。
[I] A method of substituting R 3 for an atom contained in the groups AB and BA in the linear repeating units of the formulas (1) to (3).

〔II〕R1,R2に直接R3を置換する方法と、 さらには、 〔III〕R1,R2の線状繰返し単位を作るのに使われてい
る以外のR1,R2の置換基を通してR3を置換する方法であ
る。
[II] A method of directly substituting R 3 for R 1 and R 2 , and further, [III] R 1 and R 2 other than those used to make linear repeating units of R 1 and R 2 . It is a method of substituting R 3 through a substituent.

勿論〔I〕〔II〕〔III〕を併用してもさしつかえな
い。また、R3が2つ以上のときは同一でも異なってもよ
い。
Of course, it may be possible to use [I], [II], and [III] together. When R 3 is 2 or more, they may be the same or different.

〔I〕〔II〕〔III〕について具体的に例示すれば、
〔I〕は、 上表のようにAB,BAの窒素原子上の水素原子の代わりに
R3を置換する方法である。
Specific examples of [I], [II], and [III] are as follows.
[I] is Instead of the hydrogen atom on the nitrogen atom of AB and BA as shown in the table above
This is a method of replacing R 3 .

〔II〕の方法は、R1,R2に直接R3を置換する方法で、 はその具体例の一部である。The method of [II] is a method of directly substituting R 3 for R 1 and R 2 , Are some of the examples.

さらに多くの可能性を含む方法は〔III〕の方法であ
る。これについて詳しく説明する。
The method with more possibilities is that of [III]. This will be described in detail.

〔III〕の方法は、R1,R2として少なくとも一方は少な
くとも3価の有機基を用いる方法で、R1,R2を含む繰返
し単位を作るのに使われている以外の置換基を通してR3
を置換する方法で、勿論これに限定されるわけではない
が、R1がR2と価数が等しいか、多い場合について価数が
6までを例示すると、 R1の価数 R2の価数 3 2 4 2 5 2 6 2 3 3 4 3 5 3 6 3 4 4 5 4 6 4 5 5 6 5 6 6である。
The method [III] is a method in which at least one of R 1 and R 2 is at least a trivalent organic group, and R 1 and R 2 are substituted through a substituent other than those used to form the repeating unit containing R 1 and R 2. 3
In the method of replacing the, but not of course limited thereto, or R 1 is R 2 and valence are equal, the valence case often illustrate to 6, the valence R 2 of R 1 valence The numbers 3 2 4 2 5 2 6 2 3 3 4 3 5 3 6 6 3 4 4 5 4 6 4 5 5 6 5 6 6 6.

ここにはR1,R2が5価以上の例もリストアップされてい
るが、R1,R2は4価までが特に好ましい例である。
Although examples in which R 1 and R 2 have a valence of 5 or more are also listed here, it is particularly preferable that R 1 and R 2 have a valence of 4 or more.

R1=3,R2=2価 R1=4,R2=3価 R1=4,R2=2 R1=4,R2=4 R1=3,R2=3 について可能な具体例について列挙すると、 R1=3,R2のとき、 R1=4,R2=2のときは、 R1=3,R2=3のときは、 R1=4,R2=3のときは、 R1=4,R2=4のときは、 である。(4)〜(75)式には線状の繰返し単位を作るの
に使われていないA/Bが存在するが、〔III〕の方法
はこの置換基を通してR3を置換する方法である。例えば
(4)〜(75)でAなら−COOR3,−CONHR3,−NHCOOR3
−NHCSOR3等、Bなら、−NHR3,−OR3,−SR3等によっ
て置換するとができる。
R 1 = 3, R 2 = divalent R 1 = 4, R 2 = trivalent R 1 = 4, R 2 = 2 R 1 = 4, R 2 = 4 R 1 = 3, R 2 = 3 To give a concrete example, when R 1 = 3 and R 2 , When R 1 = 4 and R 2 = 2, When R 1 = 3 and R 2 = 3, When R 1 = 4 and R 2 = 3, When R 1 = 4 and R 2 = 4, Is. In formulas (4) to (75), A / B which is not used to form a linear repeating unit exists, but the method [III] is a method of substituting R 3 through this substituent. For example, if (4) to (75) is A, -COOR 3 , -CONHR 3 , -NHCOOR 3 ,
If -NHCSOR 3 etc., B can be replaced by -NHR 3 , -OR 3 , -SR 3 etc.

一般式ににおけるR1,R2は少なくとも2個の炭素原子を
含有する、好ましくは5〜20個の炭素原子を含有する
4価の基であり、芳香族の基であってもよく、環状脂肪
族の基であってもよく、芳香族の基と脂肪族の基との結
合した基であってもよく、さらにはこれらの基が炭素数
1〜30の脂肪族の基、環状脂肪族の基あるいは芳香族
の基と脂肪族の基とが結合した基、それらの基がハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、
アセトキシ基などの1価の基で、あるいは該1価の基が
-O-,-COO-,-NHCO-,-CO-,-S-,-CSS-,-NHCS-,-CS-
などに結合した基で置換され誘導体となった基であって
もよい。しかし、R1,R2が少なくとも6個の炭素原子数
を有するベンゼノイド不飽和によって特徴づけられた基
である場合には、耐熱性、耐薬品性や機械的特性などの
点から好ましい。
R 1 and R 2 in the general formula are tetravalent groups containing at least 2 carbon atoms, preferably 5 to 20 carbon atoms, and may be aromatic groups, cyclic It may be an aliphatic group, or may be a group in which an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and further, these groups may be an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or a cycloaliphatic group. Group or a group in which an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and those groups are a halogen atom, a nitro group, an amino group, a cyano group, a methoxy group,
A monovalent group such as an acetoxy group, or the monovalent group
-O-, -COO-, -NHCO-, -CO-, -S-, -CSS-, -NHCS-, -CS-
It may be a group which is substituted with a group bonded to the group to become a derivative. However, when R 1 and R 2 are groups characterized by benzenoid unsaturation having at least 6 carbon atoms, they are preferable in terms of heat resistance, chemical resistance, mechanical properties, and the like.

本明細書にいうベンゼノイド不飽和とは、炭素環式化合
物の構造に関してキノイド構造と対比して用いられる術
語で、普通の芳香族化合物に含まれる炭素環と同じ形の
構造をいう。
The benzenoid unsaturation referred to in the present specification is a term used in comparison with a quinoid structure with respect to the structure of a carbocyclic compound, and refers to a structure having the same shape as the carbocycle contained in a common aromatic compound.

R1,R2についてさらに詳しく述べるために好適なものを
例示すれば以下のとおりである。
The following is a suitable example for describing R 1 and R 2 in more detail.

ここでR4は −(CH2)p− p=1〜3, −O−,−CO−,−S−, −SO2−, R5:アルキルまたはアリール基 −(CH2)q-(q=2〜10), −(CH2)10CH−CH3−(CH2)3-0-(CH2)2-0-(CH2)3-, (R4は前出に同じ) (R4は前出に同じ) 以上の中からR1,R2のさらに好ましい例をあげれば (R4は前出に同じ)である。以上での例でR1,R2の結合
手がR1,R2を構成する隣接する2個の炭素原子に存在す
る場合には、ヘテロ環を含む5員環または6員環を生成
しやすく望ましい。
Where R 4 is-(CH 2 ) p-p = 1-3, -O -, - CO -, - S-, -SO 2 -, R 5 : alkyl or aryl group - (CH 2) q- (q = 2~10), − (CH 2 ) 10 CH−CH 3 , -(CH 2 ) 3 -0- (CH 2 ) 2 -0- (CH 2 ) 3- , (R 4 is the same as above) (R 4 is the same as above) From the above, more preferable examples of R 1 and R 2 will be given. (R 4 is the same as above). Bonds of R 1, R 2 is when present two carbon atoms adjacent constituting R 1, R 2 generates a 5- or 6-membered ring containing a hetero ring in the example above Easy and desirable.

R3は炭素数1〜9,好ましくは4〜9の炭化水素含有基
であるが、脂肪族,環状脂肪族と脂肪族、芳香族と脂肪
族の結合、それらの置換体から選ばれた1価の基は好ま
しい具体的な例であり、列挙すれば (CH3)(CH2)n-1 ここでn=1〜9,好ましくは4〜9等であり、直鎖系
脂肪族単価水素基が特に好ましい例である。
R 3 is a hydrocarbon-containing group having 1 to 9 carbon atoms, preferably 4 to 9 carbon atoms, which is selected from aliphatic, cycloaliphatic and aliphatic, aromatic and aliphatic bonds, and substituted products thereof. Valuable groups are preferred specific examples and are listed by (CH 3 ) (CH 2 ) n -1 , Here, n = 1 to 9, preferably 4 to 9 and the like, and a linear aliphatic monovalent hydrogen group is a particularly preferable example.

これらに対する置換基としてはハロゲン原子,ニトロ
基,アミノ基,シアン基,メトキシ基,アセトキシ基等
があるが必須ではない。しかしフッ素原子は水素原子よ
り疎水性を向上させるので場合により使われることが望
ましい。
Substituents for these include a halogen atom, a nitro group, an amino group, a cyan group, a methoxy group and an acetoxy group, but they are not essential. However, since the fluorine atom improves the hydrophobicity over the hydrogen atom, it is desirable to use it in some cases.

また、R3が2量化または重合可能な不飽和結合を含む場
合は同時に疎水性をも付与できるので好ましい。このよ
うな具体例としてはたとえば、 CH2=CH(CH2)n CH3=CH(CH2)lC≡C−C≡C(CH2)m l+m=n−1 (nはいずれも1〜9,好ましくは4〜9) などが挙げられる。これらの具体例では2量化または重
合可能な部分は親水性が強い部分となっているのでこの
部分の炭素数はnに含まれていない。
Further, when R 3 contains a dimerizable or polymerizable unsaturated bond, hydrophobicity can be imparted at the same time, which is preferable. As such a specific example, for example, CH 2 ═CH (CH 2 ) n CH 3 ═CH (CH 2 ) l C≡C—C≡C (CH 2 ) m l + m = n−1 (N is 1 to 9, preferably 4 to 9) and the like. In these specific examples, the dimerizable or polymerizable portion is a highly hydrophilic portion, so the carbon number of this portion is not included in n.

本発明の製膜方法に適用可能な高分子化合物の具体的な
例は(1)〜(75)式にR1,R2,R3,A,B,AB,BAの具体
例およびR3を置換する方法の具体例をそれぞれ代入する
ことによて明らかになる。(1)〜(75)には共重合体は
含まれていないが、これらから類推される共重合体も勿
論本発明に含まれる。
Specific examples of the polymer compound applicable to the film forming method of the present invention include specific examples of R 1 , R 2 , R 3 , A, B, AB and BA in formulas (1) to (75) and R 3 It becomes clear by substituting each specific example of the method of substituting. Copolymers are not included in (1) to (75), but copolymers inferred from these are of course included in the present invention.

本発明の高分子化合物の分子量については特に限定はな
い。しかし分子量が低くても、本発明の製膜方法によっ
て製膜は可能であるが、良好な耐熱性,機械的強度,耐
薬品性を得ることはできない。また一方分子量が多きす
ぎると、粘度が高すぎて製膜がうまくいかない。
The molecular weight of the polymer compound of the present invention is not particularly limited. However, even if the molecular weight is low, film formation is possible by the film formation method of the present invention, but good heat resistance, mechanical strength, and chemical resistance cannot be obtained. On the other hand, if the molecular weight is too high, the viscosity will be too high and film formation will not be successful.

従って、数平均分子量が2,000〜300,000程度のものが望
ましい。
Therefore, those having a number average molecular weight of about 2,000 to 300,000 are desirable.

(1)〜(75)式から誘導される本発明の高分子化合物の実
用的な具体例をあげると以下のとおりである。
The practical specific examples of the polymer compound of the present invention derived from the formulas (1) to (75) are as follows.

式中、→は異性を表す。 In the formula, → represents isomerism.

例えば、下式(78)で説明すれば、 および を表す。For example, if the following equation (78) is used, and Represents

本発明は(78-1) (78-2)が単独である場合(78-1) (78-
2)が共存する場合を含んでいる。
In the present invention, when (78-1) (78-2) is alone (78-1) (78-
Including the case where 2) coexists.

他の例は、例えば神戸博太郎編,高分子の耐熱性(培風
館,S45.3.5),高分子の熱分解と耐熱性(培風館、S4
9.3.15)等の成書に求めることができる。
Other examples are, for example, Hirotaro Kobe, heat resistance of polymers (Baifukan, S45.3.5), thermal decomposition and heat resistance of polymers (Baifukan, S4).
9.3.15) etc. can be requested.

これらの修飾された高分子化合物の製造方法を説明する
ために(80)式でR3=CH3(CH2)7−の場合について述べ
る。ピロメリット酸ジ無水物のアルコリシスによって得
られる を実質的に無水の条件下で、有機極性溶剤中で温度−2
0℃以上でチオニルクロライドでアシル化し、これにジ
アミノジフェニルエーテルを温度−20℃以上で反応さ
せることによって製造される。アシル化およびアミド化
の反応は通常0℃以下−10℃程度で行われるが、本発
明ではアルキル基の長さが炭素1〜9であるので、通常
の条件で特に限定されることなく行うことができる。
In order to explain the method for producing these modified polymer compounds, the case of R 3 ═CH 3 (CH 2 ) 7 − in formula (80) is described. Obtained by alcoholysis of pyromellitic dianhydride At a temperature of -2 in an organic polar solvent under substantially anhydrous conditions.
It is produced by acylating with thionyl chloride at 0 ° C or higher and reacting it with diaminodiphenyl ether at a temperature of -20 ° C or higher. The acylation and amidation reactions are usually carried out at 0 ° C. or lower and about −10 ° C., but in the present invention, since the alkyl group has a carbon length of 1 to 9, it may be carried out under ordinary conditions without particular limitation. You can

勿論以上の場合に、異なった置換基をもつ原料を混合し
て共重合体としたり、0〜30%程度の置換基のない、
テトラカルボン酸ジ無水物やジアミンと混合してもよ
い。
Of course, in the above case, a raw material having different substituents is mixed to form a copolymer, or 0 to 30% of substituents are absent.
You may mix with tetracarboxylic dianhydride and diamine.

以上のように製造された両性ポリイミド前駆体について
は分離精製してラングミュア・ブロジェット膜材料とし
ても、製造後クロロホルム,ベンゼンなどを添加して直
接ラングミュア・ブロジェット膜展開液としてもよい。
The amphoteric polyimide precursor produced as described above may be separated and purified as a Langmuir-Blodgett film material, or after production, chloroform, benzene or the like may be added directly to obtain a Langmuir-Blodgett film developing solution.

次に本発明に用いるラングミュア・ブロジェット膜の製
法について説明する。
Next, a method for producing the Langmuir-Blodgett film used in the present invention will be described.

ラングミュア・ブロジェット膜の製法としては、膜を形
成する物質を水面上に展開し、水面上に展開された物質
を一定の表面圧で圧縮して単分子膜を形成し、その膜を
基板上に移しとる方法のほか、水平付着法,回転円筒法
などの方法(新実験化学講座,第18巻、界面とコロイ
ド、498−508)などがあげられ、通常行われてい
る方法であればとくに限定されることなく使用すること
ができる。
The Langmuir-Blodgett film is produced by spreading the substance forming the film on the water surface, compressing the substance spread on the water surface at a constant surface pressure to form a monomolecular film, and then placing the film on the substrate. In addition to the transfer method, the horizontal attachment method, the rotating cylinder method and the like (New Experimental Chemistry Course, Volume 18, Interfaces and Colloids, 498-508) and the like can be mentioned. It can be used without limitation.

ラングミュア・ブロジェット法は配向した、しかも厚み
を数十Å単位で制御できる方法で200Å以下さらには
1000Å以下、数百Å、数十Åの薄膜を形成するのに
すぐれた方法であり、本発明の基板上の薄膜もこの特徴
をもつ。しかし10,000Åまたはそれ以上の厚みの
膜もこの方法で製膜し得る。
The Langmuir-Blodgett method is an excellent method for forming a thin film of 200 Å or less, further 1000 Å or less, hundreds of Å, tens of Å by a method in which the thickness can be controlled in units of several tens of Å. The thin film on the substrate also has this feature. However, films with a thickness of 10,000Å or more can also be formed by this method.

本発明は、本発明の修飾された高分子化合物が公知のラ
ングミュア・ブロジェット膜化合物と混合することによ
って製膜可能となることを見出し本発明に到った。
The present invention has found that the modified polymer compound of the present invention can be formed into a film by mixing it with a known Langmuir-Blodgett film compound, and has reached the present invention.

公知のラングミュア・ブロジェット膜化合物とは、先に
引用された文献などにも記載され、当業界で公知の化合
物である。特に炭素数が16から22位いの炭化水素基
と親水基とからなる下式の化合物が好ましい。
The known Langmuir-Blodgett film compound is a compound described in the documents cited above and known in the art. Particularly preferred is a compound of the following formula, which comprises a hydrocarbon group having 16 to 22 carbon atoms and a hydrophilic group.

混合比率については特に限定はないが、公知のLB膜化
合物が多く使われるほど製膜性能は良くなり望ましい。
等モルから5倍モル程度が好ましく使われる。
The mixing ratio is not particularly limited, but the more the known LB film compound is used, the better the film forming performance, which is desirable.
An equimolar to 5-fold molar amount is preferably used.

CH3(CH2)n-1Z CH2=CH(CH2)n-2Z CH≡C−(CH2)n-2Z CH3(CH2)lC≡C C≡C(CH2)mZ ここで,n=16〜22,l+m=n−5,Z=OH,NH
2,NHR',NR'R',COOH,CONH2,CONHR',CONR'R',COO
R'(R'は低級脂肪族炭化水素である) さらに公知のラングミュア・ブロジェット膜化合物では
ないが、次のようなものも本発明に好適である。
CH 3 (CH 2 ) n-1 Z CH 2 = CH (CH 2 ) n-2 Z CH≡C- (CH 2 ) n-2 Z CH 3 (CH 2 ) l C≡C C≡C (CH 2 ) mZ where n = 16 to 22, l + m = n-5, Z = OH, NH
2 , NHR ', NR'R', COOH, CONH 2 , CONHR ', CONR'R', COO
R '(R' is a lower aliphatic hydrocarbon) Although not a known Langmuir-Blodgett film compound, the following compounds are also suitable for the present invention.

等である。 Etc.

製膜性の改善のためにはCH3(CH2)n-1Zの式で表される
ものがコスト面ですぐれているが、不飽和結合を含むも
のは光や放射線などを照射することによって重合させる
ことができる特徴を有する。
In order to improve the film forming property, the one represented by the formula of CH 3 (CH 2 ) n-1 Z is superior in terms of cost, but those containing unsaturated bonds should be irradiated with light or radiation. It has a feature that can be polymerized by.

これらから選ばれた少なくとも1つの化合物と高分子化
合物との混合比率については特に限定はない。本発明の
高分子化合物から選ばれた少なくとも2つが製膜に使わ
れてもよい。
The mixing ratio of at least one compound selected from these and the polymer compound is not particularly limited. At least two selected from the polymer compounds of the present invention may be used for film formation.

ラングミュア・ブロジェット法により膜を形成する成分
を水面上に展開する際、一般には溶媒として水には溶け
ないで気相中に蒸発してしまうベンゼン,クロロホルム
などが使用されるが、本発明の高分子化合物の場合は、
溶解度をあげるために有機極性溶剤を併用することが望
ましい。好ましい有機極性溶剤は、N,N-ジメチルホルム
アミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルホル
ムアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジメチルメ
トキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチル
−2-ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサ
メチルホスホルアミド、テトラメチレンスルホン、ジメ
チルテトラメチレンスルホンなどである。
When a film-forming component is spread on the water surface by the Langmuir-Blodgett method, benzene, chloroform, etc., which do not dissolve in water but evaporate in the gas phase, are generally used as the solvent. For high-molecular compounds,
It is desirable to use an organic polar solvent in combination to increase the solubility. Preferred organic polar solvents are N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylformamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2. -Pyrrolidone, pyridine, dimethyl sulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylene sulfone, dimethyl tetramethylene sulfone and the like.

従って、本発明の高分子化合物と公知のラングミュア・
ブロジェット膜化合物を展開する際にも、ベンゼン,ク
ロロホルムなどの溶媒と有機極性溶剤との混合溶剤を使
用することが望ましい。
Therefore, the polymer of the present invention and known Langmuir
It is desirable to use a mixed solvent of a solvent such as benzene and chloroform and an organic polar solvent also when developing the compound of the blow jet film.

ベンゼン,クロロホルムなどと有機極性溶剤を併用した
ときには、膜を展開時ベンゼン,クロロホルム等は気相
中に蒸発し、有機極性溶剤は大量の水に溶解すると考え
られる。
When benzene, chloroform, etc. are used in combination with an organic polar solvent, it is considered that benzene, chloroform, etc. evaporate in the gas phase when the film is developed, and the organic polar solvent is dissolved in a large amount of water.

本発明に使用される基板については本発明の薄膜を何に
応用するかということによって限定されるが、その他大
きく限定されることはなく、ガラス,アルミナ,石英な
どのような一般的無機の基板のほか、金属,プラスチッ
クやSi,GaAs,ZnSのようなIV族,III−V,II−VI族等
の半導体、PbTiO3,BaTiO3,LiNbO3,LiTaO3のような強
誘電体や磁性体等も基板として用いることができる。ま
た、通常行われるような表面処理を施したものも勿論使
うことができる。
The substrate used in the present invention is limited depending on what the thin film of the present invention is applied to, but is not particularly limited, and is a general inorganic substrate such as glass, alumina, and quartz. In addition to metals, plastics, semiconductors such as IV, III-V and II-VI groups such as Si, GaAs and ZnS, ferroelectrics and magnetic substances such as PbTiO 3 , BaTiO 3 , LiNbO 3 and LiTaO 3. Etc. can also be used as the substrate. Further, it is of course possible to use a product which has been subjected to a surface treatment which is usually carried out.

勿論、上記のような基板上の金属薄膜が応用に適したよ
うにパターン化されていてもよいし、Si,GaAs,ZnSの
ような半導体や、強誘電体製の基板が前もって加工さ
れ、素子が形成されているものでもよい。また、通常行
われるような表面処理を施したものも勿論使うことがで
きる。
Of course, the metal thin film on the substrate as described above may be patterned so as to be suitable for the application, or a semiconductor such as Si, GaAs, ZnS or a substrate made of a ferroelectric substance may be processed in advance to obtain a device. May be formed. Further, it is of course possible to use a product which has been subjected to a surface treatment which is usually carried out.

本発明のポリイミド前駆体の場合には、ガラス、石英、
Si、SiO2などの表面には接着強度が弱い傾向があり、シ
ランカップリング剤、特にアミノ基やエポキシ基とアル
コキシ基を有するシランカップリング剤(例えばUCCのA
-1100やA-187など)で処理するか、アルミニウム金属を
含むキレートで処理し酸化アルミの層を形成させると製
膜特性や接着強度が改善され、本発明の好ましい実施態
様である。勿論、当業界で行われるように基板が高級脂
肪酸の金属で数層処理されてもよい。
In the case of the polyimide precursor of the present invention, glass, quartz,
Adhesive strength tends to be weak on the surface of Si, SiO 2 etc., and silane coupling agents, especially silane coupling agents having amino groups or epoxy groups and alkoxy groups (eg UCC
-1100, A-187, etc.) or a chelate containing aluminum metal to form an aluminum oxide layer improves the film forming characteristics and adhesive strength, and is a preferred embodiment of the present invention. Of course, the substrate may be treated with several layers of higher fatty acid metal as is done in the art.

本発明の特徴は、よい耐熱性をもった高分子化合物をラ
ングミュア・ブロジェット法で基板上に薄膜を形成でき
ることであるが、さらにあるものは、この薄膜を部分的
にあるいは完全に閉環させることによってさらに耐熱性
の向上した薄膜を基板上に形成できるという特徴をも
つ。
A feature of the present invention is that a polymer compound having good heat resistance can be formed into a thin film on a substrate by the Langmuir-Blodgett method, but another one is that the thin film is partially or completely closed. The feature is that a thin film with further improved heat resistance can be formed on the substrate.

(76)〜(95)の例のうち(78)〜(90)はヘテロ原子を含む5
員環または6員環へ部分的にあるいは完全に閉環させる
ことができる例であり、完全閉環後の構造は次のように
なる。
Of the examples of (76) to (95), (78) to (90) include a hetero atom 5
This is an example in which the ring can be partially or completely closed to a member ring or a 6-membered ring, and the structure after complete ring closure is as follows.

閉環の方法については特に限定されないが、例えば先の
(80)式の異体例であるイミド化の場合には300〜40
0℃近辺の温度に加熱することによって(80)式の高分子
化合物 の反応が起こって閉環が達成される。このとき、疎水化
のために導入した基がアルコールとして脱離するが、こ
の脱離した炭素数1〜9のアルコールは300゜〜40
0℃近辺の温度で必要ならガス流れの下に置くか、真空
下に置くことによって容易に飛散させることができるの
で非常に耐熱性のよいポリイミド薄膜を得ることができ
る。
The method of ring closure is not particularly limited.
In the case of imidization, which is a variant of formula (80), it is 300 to 40.
By heating to a temperature near 0 ° C, the polymer compound of formula (80) And the ring closure is achieved. At this time, the group introduced for hydrophobization is eliminated as alcohol, and the eliminated alcohol having 1 to 9 carbon atoms is 300 to 40 ° C.
It can be easily scattered by placing it under a gas flow or under a vacuum at a temperature near 0 ° C. if necessary, so that a polyimide thin film having very good heat resistance can be obtained.

また、炭素数が1〜9であるのでイミド化により減少す
る重量も少なく好ましい。
Further, since the carbon number is 1 to 9, it is preferable because the weight reduced by imidization is small.

このように閉環によって耐熱性のよい薄膜を得る場合に
は、混合する公知のラングミュア・ブロジェット膜化合
物として、閉環反応条件下、飛散させることができるも
のを先に挙げた例のな中から選ぶことが望ましい。
When a thin film having good heat resistance is obtained by ring-closing in this way, as the known Langmuir-Blodgett film compound to be mixed, one that can be scattered under the ring-closing reaction condition is selected from the examples given above. Is desirable.

次にこれら薄膜の用途について述べる。Next, applications of these thin films will be described.

本発明の薄膜は、耐熱性,耐薬品性,機械的特性がすぐ
れ、非常に薄い膜であるという特徴を生かしてエレクト
ロニクス分野,エネルギー変換や物質分離など広範な分
野で使うことができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The thin film of the present invention has excellent heat resistance, chemical resistance, and mechanical properties, and can be used in a wide range of fields such as the electronics field, energy conversion, and substance separation by taking advantage of the fact that it is a very thin film.

導電性,光導電性,光学特性,絶縁性,熱特性や化学反
応性を生かしたエレクトロニクス分野で光学記録膜,レ
ジスト膜,絶縁膜,キャパシター用薄膜,液晶配向膜,
偏光膜,センサー膜などとして、特に絶縁膜としてはI
CやLSIの絶縁層として各種半導体や金属と組み合わ
せたMIS,MIMなどの構造をもつ電気電子素子中の絶縁層
として使うことができ、電界効果トランジスター光電変
換素子,発光素子、受光素子,光検出素子、熱電子トラ
ンジスター等を構成できる。とくに本発明の薄膜はトン
ネル効果を利用したMIS,MIMデバイスに有効であり、J
Jの絶縁膜としても使用できる。
Optical recording film, resist film, insulating film, thin film for capacitors, liquid crystal alignment film, in the electronics field that takes advantage of conductivity, photoconductivity, optical properties, insulation properties, thermal properties and chemical reactivity.
As a polarizing film, a sensor film, etc., especially as an insulating film,
It can be used as an insulating layer of C and LSI, and it can be used as an insulating layer in electric and electronic devices having a structure such as MIS and MIM combined with various semiconductors and metals, and it can be used as an insulating layer in field effect transistors, photoelectric conversion elements, light emitting elements, light receiving elements, and light detection. Devices, thermionic transistors, etc. can be configured. In particular, the thin film of the present invention is effective for MIS and MIM devices utilizing the tunnel effect.
It can also be used as an insulating film for J.

そのほか、ウエイブガイド用のクラッド材あるいは光学
回路成分としても応用が考えられる。
In addition, it can be applied as a clad material for a wave guide or an optical circuit component.

あらゆる分野での保護用コーティング材料としても好適
であろうし、一般的にLB膜の分野で使われる機能性の
LB材料と脂肪酸の混合膜,積層膜の手法を、本発明の
混合物を脂肪酸のかわりに使うことによって種々の機能
性を発現でき、これを使った用途が考えられる。例えば
色素,酸素を含んだ膜を作成することによって、光電変
換素子やバイオセンサーを作ることができる。
It may be suitable as a protective coating material in all fields, and the method of a mixed film or a laminated film of a functional LB material and a fatty acid generally used in the field of an LB film is used instead of the mixture of the present invention for the fatty acid. Various functionalities can be expressed by using it, and the application using this can be considered. For example, a photoelectric conversion element or a biosensor can be manufactured by forming a film containing a dye and oxygen.

また、この薄膜を使った物質分離の分野での用途も考え
られる。
In addition, applications in the field of substance separation using this thin film are also conceivable.

次に本発明の高分子化合物の製法と製膜の方法を実施例
に基づき説明する。
Next, a method for producing a polymer compound and a method for forming a film of the present invention will be described based on examples.

実施例1 ピロメリット酸ジ無水物10.91gとオクチルアルコ
ール26.0gを120℃で3時間反応させ、粗生成物
をエタノールで洗浄し未反応オクチルアルコールを除い
たのち200mlエタノールで再結晶してジオクチルピロ
メリテートを得た。
Example 1 10.91 g of pyromellitic dianhydride and 26.0 g of octyl alcohol were reacted at 120 ° C. for 3 hours, the crude product was washed with ethanol to remove unreacted octyl alcohol, and then recrystallized with 200 ml of ethanol. Dioctyl pyromellitate was obtained.

このジオクチルピロメリテート2.39gを60ccのヘ
キサメチレンホスファミドに溶解して5℃に冷却してチ
オニルクロライド1.19を約5℃で滴下し、滴下後約
1時間保持し、反応を終了させた。その後ジメチルアセ
トアミド30ccに溶解させた1.0gジアミノジフェニ
ルエーテルを約10℃で滴下し、約20℃に反応温度を
あげて2時間反応させた後、400ccのエタノールに注
いで反応生成物を析出させた。析出物をロ過、40℃で
乾燥して約2.9gの淡黄色粉末を得た。
2.39 g of this dioctylpyromellitate was dissolved in 60 cc of hexamethylenephosphamide, cooled to 5 ° C., thionyl chloride 1.19 was added dropwise at about 5 ° C., and the mixture was kept for about 1 hour after the addition to complete the reaction. Let After that, 1.0 g of diaminodiphenyl ether dissolved in 30 cc of dimethylacetamide was added dropwise at about 10 ° C., the reaction temperature was raised to about 20 ° C., the reaction was performed for 2 hours, and then poured into 400 cc of ethanol to precipitate a reaction product. . The precipitate was filtered and dried at 40 ° C. to obtain about 2.9 g of a pale yellow powder.

IRスペクトル分析、熱分析(TGA-DTA)、GPCによる分
子量測定を行ったところ下記の結果が得られた。
IR spectrum analysis, thermal analysis (TGA-DTA), and molecular weight measurement by GPC gave the following results.

IRスペクトル分析 KBr disc法でとられたIRチャートにはエステル、アミド
I,II,III、アルキル鎖およびエーテルの特徴的な吸
収があらわれた。
IR spectrum analysis The IR chart obtained by the KBr disc method showed characteristic absorptions of ester, amide I, II, III, alkyl chain and ether.

熱分析(TGA-DTA) 理学電機製RTG-DTA(H)タイプでフルスケールTGA10
mg,DAT100μV,温度1000℃で昇温10℃/mi
n,窒素気流(30m/min)中で測定された結果が図2
のとおりである。TGAには192,270,318,3
95,580℃に変曲点があるが、DTAには特徴的なピ
ークは存在しない。
Thermal analysis (TGA-DTA) RTG-DTA (H) type full-scale TGA10 manufactured by Rigaku Denki
mg, DAT 100μV, temperature rises at 1000 ℃ 10 ℃ / mi
Figure 2 shows the results measured in a nitrogen stream (30 m / min).
It is as follows. 192,270,318,3 in TGA
Although there is an inflection point at 95,580 ° C, DTA has no characteristic peak.

GPCによる分子量測定 クロロホルム、N,N−ジメチルアセトアミド(8:2)
混合溶媒で測定された数平均分子量はポリスチレン換算
で約25,000であった。
Molecular weight measurement by GPC Chloroform, N, N-dimethylacetamide (8: 2)
The number average molecular weight measured with the mixed solvent was about 25,000 in terms of polystyrene.

実施例2 実施例1の生成物55.1mgを蒸留したクロロホルム/
ジメチルアセトアミド=8/2(容量比)の混合液に溶
かして25mlのLB膜用展開液を調製した。
Example 2 55.1 mg of the product of Example 1 distilled chloroform /
It was dissolved in a mixed solution of dimethylacetamide = 8/2 (volume ratio) to prepare 25 ml of a developing solution for LB membrane.

再蒸溜水上、20℃で表面圧と繰返し単位当たりの面積
との関係を測定したところ、液体膨張膜が得られ、良好
な凝縮膜を生成しなかった。
When the relationship between the surface pressure and the area per repeating unit was measured at 20 ° C. on redistilled water, a liquid expanded film was obtained and a good condensed film was not formed.

上記の溶液と同じモル濃度のステアリルアルコールの溶
液を同じ容量まぜ合わせ、実施例1の生成物の繰返し単
位の数とステアリルアルコールの分子数の合計が等しく
なるようにして表面圧面積曲線を評価したところ曲線が
かなり立ち上がり、凝縮膜が得られた。実施例1の生成
物の繰返し単位の数に対してステアリルアルコールの分
子数が多くなると凝縮膜はさらに安定化していくことも
明らかになった。
A solution of stearyl alcohol having the same molar concentration as the above solution was mixed in the same volume, and the surface pressure area curve was evaluated so that the number of repeating units of the product of Example 1 and the total number of molecules of stearyl alcohol were equal. However, the curve rose considerably and a condensed film was obtained. It was also revealed that the condensed film was further stabilized as the number of molecules of stearyl alcohol increased with respect to the number of repeating units of the product of Example 1.

アルミニウムを蒸着したガラス基板上への累積は、ステ
アリルアルコールを添加するしないにかかわらずY型で
あり、良好な累積膜が得られた。
The accumulation on the glass substrate on which aluminum was vapor-deposited was Y-type regardless of addition of stearyl alcohol, and a good accumulated film was obtained.

さらに実施例1の生成物とステアリルアルコールの1:
1(モル比)の混合物をゲルマニウム基板上に累積し、
400℃、窒素気流下、1時間加熱すると、FT−AT
R−IR法によりステアリル基の消失と1790,17
10cm-1の5員環イミドの出現が観測された。
Furthermore, the product of Example 1 and stearyl alcohol 1:
1 (molar ratio) of the mixture is accumulated on the germanium substrate,
FT-AT when heated at 400 ° C under nitrogen flow for 1 hour
Disappearance of stearyl group and 1790,17 by R-IR method
The appearance of a 10-cm −1 5-membered ring imide was observed.

実施例3 実施例2と同様にステアリルアルコールのかわりに、ス
テアリン酸、ω−ヘプタデセン酸、オクタデカンを用い
て表面圧面積曲線を評価したところ、いずれの場合もス
テアリルアルコールの場合と同じように曲線の立ち上が
りが急になり、崩壊圧も上昇することがわかった。
Example 3 In the same manner as in Example 2, stearic acid, ω-heptadecenoic acid, and octadecane were used in place of stearyl alcohol, and the surface pressure area curve was evaluated. It was found that the rising speed became steep and the collapse pressure also increased.

ステアリン酸、ω−ヘプタデセン酸の崩壊圧はステアリ
ルアルコールとほぼ同じで、オクタデカンよりも優れて
いた。
The disintegration pressures of stearic acid and ω-heptadecenoic acid were almost the same as those of stearyl alcohol, and were superior to those of octadecane.

まだ、ステアリン酸、ω−ヘプタデセン酸、オクタデカ
ンを添加した膜は、アルミニウムを蒸着したガラス基板
上へY型で累積され、良好な累積膜が得られた。
The film to which stearic acid, ω-heptadecenoic acid, and octadecane had been added was accumulated in Y-type on the glass substrate on which aluminum was vapor-deposited, and a good accumulated film was obtained.

発明の効果 本発明によるとLB膜法により製膜できるように修飾さ
れた高分子化合物が、公知のLB膜材料とともに水面上
でさらに安定な膜を形成し、基板上に良好に累積できる
ようになる。また部分的あるいは完全に環化させること
により、同時に混合した公知のLB膜化合物を飛散させ
ることにより、耐熱性の極めて良好で、耐薬品性、機械
的特性のよい一般的には作成が難しい厚み、すなわち1
0,000Å以下、望むなら10〜1000Åの超薄膜
を得ることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a polymer compound modified so that it can be formed into a film by the LB film method can form a more stable film on the water surface together with a known LB film material, and can be well accumulated on the substrate. Become. Further, by partially or completely cyclizing, a known LB film compound mixed at the same time is scattered, resulting in extremely good heat resistance, good chemical resistance, and good mechanical properties. , Ie 1
Ultra-thin films of 10,000 Å or less, or 10 to 1000 Å can be obtained if desired.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも2個の炭素原子を有する少なく
とも2価の第1の有機基R1と、少なくとも2個の炭素原
子を有する少なくとも2価の第2の有機基R2とが2価の
結合基によって交互に連結されている線状の繰返し単位
を有し、かつ共有結合によって同じ繰返し単位へ結合し
た、置換基を含むこともある炭素数1〜9,好ましくは
4〜9の炭化水素含有基R3を少なくとも1つ含んでいる
高分子化合物と公知のラングミュア・ブロジェット膜化
合物との混合物をラングミュア・ブロジェット法によっ
て累積膜に形成することを特徴とする製膜法。
1. A divalent first organic group R 1 having at least two carbon atoms and a divalent second organic group R 2 having at least two carbon atoms are divalent. Hydrocarbons having linear repeating units alternately linked by a linking group, and optionally having a substituent, which are bonded to the same repeating unit by a covalent bond, and have 1 to 9 carbon atoms, preferably 4 to 9 carbon atoms. A film-forming method comprising forming a mixture of a polymer compound containing at least one containing group R 3 and a known Langmuir-Blodgett film compound into a cumulative film by the Langmuir-Blodgett method.
【請求項2】繰返し単位当たり炭化水素含有基R3を2つ
含んでいる第1項記載の製膜法。
2. The film forming method according to claim 1, which contains two hydrocarbon-containing groups R 3 per repeating unit.
【請求項3】第1および第2の有機基R1およびR2のいず
れか一方または両方が少なくとも6個の炭素を有するベ
ンゼノイド基である第1項ないし第2項の製膜法。
3. The film forming method according to claim 1, wherein one or both of the first and second organic groups R 1 and R 2 is a benzenoid group having at least 6 carbons.
【請求項4】炭化水素含有基R3が、脂肪族基、環状脂肪
族と脂肪族の結合した基、または芳香族と脂肪族の結合
した基、またはそれらの置換体を含有している第1また
は第2項の製膜法。
4. A hydrocarbon-containing group R 3 containing an aliphatic group, a cycloaliphatic-aliphatic bonded group, an aromatic-aliphatic bonded group, or a substitution product thereof. The film forming method according to item 1 or 2.
【請求項5】分子中に少なくとも1個の2量化または重
合可能な不飽和結合を含む高分子化合物である第1項ま
たは第2項の製膜法。
5. The film forming method according to claim 1 or 2, which is a polymer compound containing at least one dimerizable or polymerizable unsaturated bond in the molecule.
【請求項6】繰返し単位がヘテロ原子を含む5員環また
は6員環を生成する前駆体構造を備えている第1項ない
し第4項のいずれかの製膜法。
6. The film forming method according to any one of claims 1 to 4, wherein the repeating unit has a precursor structure which produces a 5-membered ring or a 6-membered ring containing a hetero atom.
【請求項7】累積膜を加熱してヘテロ原子を含む5員環
または6員環を生成させる工程を含む第5項の製膜法。
7. The film forming method according to claim 5, which includes a step of heating a cumulative film to generate a 5-membered ring or a 6-membered ring containing a hetero atom.
【請求項8】前記炭化水素含有基R3の炭素数が16〜2
2である第1項ないし第6項のいずれかの製膜法。
8. The hydrocarbon-containing group R 3 has 16 to 2 carbon atoms.
2. The film forming method according to any one of 1 to 6, which is 2.
【請求項9】公知のラングミュア・ブロジェット膜化合
物が炭素数16から22の炭化水素基と親水性基からな
る化合物である第1項ないし第7項のいずれかの製膜
法。
9. The film-forming method according to any one of claims 1 to 7, wherein the known Langmuir-Blodgett film compound is a compound having a hydrocarbon group having 16 to 22 carbon atoms and a hydrophilic group.
【請求項10】公知のラングミュア・ブロジェット膜化
合物が炭素数16〜22の炭化水素基と親水性基からな
り、かつ2量化または重合可能な不飽和結合を含んでい
る化合物である第5項の製膜法。
10. A known Langmuir-Blodgett film compound, which is a compound comprising a hydrocarbon group having 16 to 22 carbon atoms and a hydrophilic group and containing a dimerizable or polymerizable unsaturated bond. Film forming method.
JP20894586A 1986-09-04 1986-09-04 Film forming method Expired - Lifetime JPH0611419B2 (en)

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