Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0612435B2 - 放射線感光部材の処理法およびその処理装置 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0612435B2 - 放射線感光部材の処理法およびその処理装置 - Google Patents

放射線感光部材の処理法およびその処理装置

Info

Publication number
JPH0612435B2
JPH0612435B2 JP58196271A JP19627183A JPH0612435B2 JP H0612435 B2 JPH0612435 B2 JP H0612435B2 JP 58196271 A JP58196271 A JP 58196271A JP 19627183 A JP19627183 A JP 19627183A JP H0612435 B2 JPH0612435 B2 JP H0612435B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
radiation
conductivity
changing
developing solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58196271A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59131930A (ja
Inventor
レスリ−・エドワ−ド・ロ−ソン
ミカエル・イングハム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=10533758&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0612435(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS59131930A publication Critical patent/JPS59131930A/ja
Publication of JPH0612435B2 publication Critical patent/JPH0612435B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3071Process control means, e.g. for replenishing

Landscapes

  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
  • Near-Field Transmission Systems (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Time Recorders, Dirve Recorders, Access Control (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、基材上に放射線感光塗膜をもつ放射線感光部
材の処理法およびその処理装置に関する。
そのような放射線感光部材は、例えば印刷版、特に平版
印刷版、印刷回路及び集積回路の製造に使用される。平
版印刷版の製造に使用するための放射線感光部材は、適
切な親水性を有する表面を提供するべく機械的又は化学
的に処理され且つ該放射線感光塗膜を担持する金属支持
シートから通常成る。
使用において、該部材は、適当な主題の透明陽面又は陰
画を使用して、該部材に化学作用を引き起こす放射線に
より画像露光処理される。
ここで該部材に化学作用を引き起こす放射線とは、用い
られた放射線が化学的変化を生み出すようなものである
ことを意味する。言い換えれば、必ずしも全ての放射線
感光物質が同じ波長の放射線に影響を受けるものではな
い。放射線に放射線感光物質を曝すときには、放射線が
放射線感光物質に影響を及ぼすように、使用する放射線
感光物質に適当な波長を有する放射線を使用することが
重要なことである。即ち、使用する放射線が放射線感光
物質を反応させるようなものであることを意味する。
該化学作用を引き起す放射線の効果は、該放射線感光塗
膜の溶解性を変えることにある。該画像露光した部材
は、その後加工工程で現像処理される。該処理工程は、
該画像露光した部材を現像液と接触せしめて該支持シー
トから望まない塗膜面域を選択的に除去して該支持シー
ト上に残る塗膜面域により構成される画像を残すように
する工程から成る。他の形式の印刷版及び印刷回路及び
集積回路も、同様の方法で製造される。該現像処理工程
後、該部材は洗浄され、又、平版印刷版の場合は仕上げ
剤液/不感脂化剤液で処理される。この薬剤液での処理
の主目的は、該非画像面域を保護し及び/又はこれに親
水性を与えることにある。
使用される精密な処理作業及び処理液は、処理される放
射線感光塗膜の溶解性と化学特性に依存する。又、該処
理作業は人手でなされてもよいが、自動加工処理機で行
なわれることが増大している。
除去可能塗膜を現像するために3つの形式の液がよく使
用される。即ち、それは、アルカリ性現像液、溶剤性現
像液及び水溶性現像液である。
アルカリ性現像液はキノンジアジド類をベースとしたボ
ジティブワーキング塗膜用に使用され、例えばけい酸
塩、りん酸塩又は水酸化物等の適当なアルカリ水溶液か
ら成る。溶剤性現像液は、例えばけい皮酸PVであるフ
ォト架橋性材をベースにしたネガティブワーキング塗膜
用に用いられ、例えば、グリコールエーテル又はブチロ
ラクトンの様な適当な溶剤と界面活性剤並びに必要に応
じ鉱酸から成る。水溶性現像液はジアゾレジンをベース
としたネガティブワーキング塗膜用に用いられ、界面活
性剤の水溶液から成る。
露光した放射線感光部材を現像液で処理するときに起き
る問題は、該現像液がその使用で、もはや該塗膜と支持
体から適当に除去せしめる能力がなくなるまで、漸次劣
化することである。
この劣化は漸進性であり、それ故、平版印刷版の場合、
該現像液が完全に消耗される前に誤った現像がよく起こ
る。
又、現像ずみの部材を仕上げ剤液/不感脂化剤液で処理
するときにも、該仕上げ剤液/不感脂化剤液の粘度が、
蒸発のため、経時的に増大する傾向がある。しかし乍
ら、該仕上げ剤液/不感脂化剤液が、正確な粘度である
ことは重要である。若し、それが薄すぎるならば、それ
は、適確に非画像面域の不感脂化をすることができず、
又、濃すぎるならば、それは該版に不均一に作用し、画
像面域のインキ付きの劣化(ブラインドblind)をもた
らす。
例えば、現像液及び仕上げ剤液/不感脂化剤液等の画像
露光した放射線感光部材用の現像液の実効状態がその導
電率を測定することによりモニターし得ることが、今や
知見した。
本発明の1つの特徴によれば、平版印刷版、印刷回路及
び集積回路の製造に用いられる、それぞれが画像露光さ
れた放射線感光塗膜を担持した基材からなる複数枚の画
像露光された放射線感光部材を処理する方法であって、
与えられた処理条件の基に該放射線感光部材を現像液に
順次接触させる工程と、該放射線感光部材の処理中現像
液の導電率をモニターする工程と、該導電率の変化に応
じて該放射線感光部材が現像液に接触する処理条件を変
化させて、現像液の特性を維持する工程とから成るもの
において、現像液が、基材から望ましくない塗膜を選択
的に除去するものでありその選択除去性が処理感光部材
の数が増加すると変化するものであることと、該感光部
材が現像液に接触している時間を変化させることによっ
て、及び/又は、現像液に更なる現像液を補充すること
によって、及び/又は、現像液の攪拌の程度を変えて放
射線感光部材に現像液を接触させることによって、及び
/又は、現像液の温度を変えることによって、処理条件
を換えることとから成る処理法である。
本発明の他の特徴によれば、平版印刷版、印刷回路及び
集積回路の製造に用いられる、画像露光された放射線感
光部材の処理装置であって、(i)現像液用の容器(1)(21)
と、(ii)該放射線感光部材を装置内を通る通路(6)に沿
って移動するための手段(2,2a,3,3a)であって、該感光
部材を与えられた処理条件の基で現像液に接触させるも
のと、(iii)現像液の導電率をモニターし、該導電率の
変化に応じて出力信号を出すための手段(5)(28)と、(i
v)前記出力信号により制御される処理条件を変更する手
段からなるものにおいて、該処理条件を変更する手段
が、該感光部材が現像液と接触する時間を現像液の導電
率に依存して変えるように駆動手段を駆動する可変速モ
ータ(4)(40)からなり、及び/又は、該処理条件を変更
する手段が、更なる現像液を貯蔵し且つその更なる現像
液をそこから導電率に応じて該容器に供給することを可
能にする弁(1b)(21b)を有するタンク(1a)(21a)からな
り、及び/又は、該処理条件を変更する手段が、放射線
感光部材に接触する現像液の攪拌の程度が導電率に依存
して変えられるように放射線感光部材に接触する現像液
を攪拌するための攪拌ローラ(23)(23a)を駆動する変速
モータ(24)からなり、及び/又は、該処理条件を変更す
る手段が、現像液の温度が導電率に依存して変わるよう
に現像液中に浸漬されて温度を変えるヒーター/クーラ
ーユニット(8)(29)から成る処理装置である。
処理条件は、例えば、該部材が処理される度合を変える
ことにより、及び/又は現像液の温度を変えることによ
り、及び/又は該現像液に新しい現像液を補充するか新
しい現像液で置換するか、さもなければ、その組成を変
えることにより、変えることができる。かくして、これ
ら処理条件を変える手段は、例えば、該部材が現像液に
より処理される時間の度合を変えるための手段、及び/
又は現像液の温度を変えるための手段、及び/又は該現
像液にこれと同じ新しい液又はその他の液を添加するた
めの手段、及び/又は現像液の攪拌の程度を変える手段
である。
本発明装置の1実施例において、該出力信号は、部材移
動手段を駆動するためのモータを制御するために使用さ
れる。この様に、該部材が装置内に存在する時間は該出
力信号に、即ち、導電率に、それ故、現像液の活性度に
依存する。かくして、該部材が処理されるべきに度合
は、該現像液の導電率の作用に従って変えられる。これ
に加え、或は、これに代り、該部材が処理される度合
は、該出力信号を使用して、該部材と接触状態の現像液
を攪拌するべく設けられたローラの駆動用モータを制御
することにより変えることができるが、該ローラの回転
速度は該出力信号に、言い変えれば、該現像液の活性度
に依存している。
他の実施例において、該装置は、該出力信号に応じて、
該現像液の温度を変えるための加熱及び冷却ユニットを
含む。
更に他の実施例において、該装置は、現像液と同じ溶液
或はそれと異なった溶液、或はより濃い濃度の溶液等か
ら成る補充現像液用のタンクを含み、該補充液の該装置
内の現像液主体への流入は、例えば、ソレノイドバルブ
により該出力信号に従って制御される。
現像液が充分に高い誘電率を有しない場合は、溶液中で
イオン化する、例えば、硝酸ナトリウム等の平版印刷不
活性材がそれに添加される。
本発明のより良い理解のため、並に、それが如何に実施
されるかを示すため、添付図面を参考に次にその実施例
を説明する。
第1図において、装置は現像液を収容するための容器
(1)と、1対のゴム被覆の導入ローラー(2)及び(2a)と、
1対のゴム被覆の導出ローラー(3)及び(3a)と、該ロー
ラー(2)(2a)を駆動するべく接続された変速DC電動モ
ータ(4)とから成る。(該ローラー(3)(3a)は、又、所望
ならば該モータ(4)から駆動されるようにしてもよ
い。)導電率検知セル(5)は該現像液内に存するように
該容器(1)内に設けられる。補充現像液を貯蔵するため
の貯蔵タンク(1a)が容器(1)の上に設置される。ヒータ
/クーラーユニット(8)も又設けることができる。
第2図において、電気制御回路は、集積回路電圧調整器
の形式の定電圧電源(9)と、該導電率検知セル(5)を組み
込んだ電圧変換器(10)と、その出力が制御機能を有する
DCサイリスタ制御器の形式のサーボ機構器(11)とから
成る。
第3図において、該電源(9)からの調整電圧は、導電率
検知セル(12)を介して1対のDC増幅器(13)及び(14)に
供給される。該現像液の導電率の変化は、該増幅器(13)
への入力電力の変化をもたらす。該増幅器(14)の出力
は、サーボ機構(11)に接続される。可変抵抗(15)は、該
増幅器(13)のゲインを変えるために設けられる。
使用において、画像露光した放射線感光部材は、導入ロ
ーラー(2)(2a)内へ連続供給され、これらローラはこれ
を通路(6)に沿い該装置内を通過せしめ、次で、導出ロ
ーラー(3)(3a)を介して該装置の外へ移行せしめる。こ
の通路(6)に沿っての移動中に、これら感光部材は、容
器(1)内の現像液に浸漬され、これによりこれらの画像
露光した放射線感光塗膜の比較的に溶解性の強い面域が
選択的に除去される。該現像液の導電率に依存して、該
サーボ機構からの出力信号は該モータ(4)の速度を変え
るべく、ヒーター/クーラーユニットを作動することに
より該現像液の温度を変えるべく、及び/又は該補充用
液貯蔵タンクの制御弁(1b)を作動するべく使用される。
明らかに、1つのタイプの現像液の導電率パラメーター
は、他のタイプのものと同じでない。
測定範囲の適当な変更がポテンショメータ(15)を調節す
ることにより得られる。
第4図において、装置は、1対のゴム被覆の導入ローラ
(20)及び(20a)と、1対のゴム被覆の導出ローラ(30)及
び(30a)と、該ローラ(20)(20a)を駆動するための変速D
C電動モータ(40)とを含む。該装置は、別に現像液を収
容するための容器(21)と、別個の変速モータ(24)により
駆動される1対のプラッシュ被覆の攪拌ローラ(23)及び
(23a)間に位置せしめたスプレーバー(26)に現像液を供
給するためのポンプ(25)とを含む。平坦面部材(22)は、
これらローラ(23)(23a)及びバー(26)の下に存せしめら
れ、又捕捉トレー(27)が処理液を該容器(21)にもどすべ
く設けられる。
貯蔵タンク(21a)は、補充液用に設けられる。ヒーター
/クーラーユニット(29)は該容器(21)内に設けられる。
該装置は、第1図の装置に類似の導電率検知セル(28)を
含み、而してこれは、好ましくは、図示のように該容器
(21)内に位置せしめる。該装置は又第2図及び第3図示
の形式の電気制御回路を含み、又該回路のサーボ機構か
らの出力はモータ(40)及び/或はモータ(24)、及び/又
はヒーター/クーラーユニット(29)、及び/又は該貯蔵
タンク(21a)内の制御弁(21b)に供給される。使用におい
て、画像露光した放射線感光部材は、1対の導入ローラ
(20)(20a)の間と、1対のローラ(23)(23a)と該平坦面部
材(22)の間、次で、導出ローラ(30)(30a)の間の通路に
沿い上向きに供給される。該感光部材の露光した放射線
感光塗膜は1対のローラ(23)(23a)により接触され而し
て現像がこすり作用と溶解作用の組み合わせ作用により
行なわれる。
該感光部材が処理される度合(即ち、装置内のその存在
時間及び/又は該現像液が感光部材と接触状態でローラ
(23)により攪拌される程度)及び/又は現像液の濃度
は、処理工程中の現像液の導電率の変化に依存して制御
される。
本発明を下記実施例で説明する。
実施例1 第1図示の形式の処理装置は、メタけい酸ナトリウム、
リン酸二ナトリウム及び界面活性剤から成る22℃の現
像液で満された。ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テルとノボラック樹脂の放射線感光混合物で被覆された
砂目を立てられ且つ陽極酸化したアルミニウム基材から
夫々が成る多数枚のポジティブワーキングPS版は、連
続階調ステップ−ウェッジ及びフォグラ(Fogra)プレシ
ジョンストリップ(PMS1)の下で紫外線に曝された。
言い換えれば、これらPS版の夫々は連続階調ステップ
−ウェッジとフォグラプレシジョン測定ストリップPM
S1の双方を用いて放射線に曝された。これらは放射線
感光物質の感光性と現像性を評価するために用いられ
る。従って、連続階調ステップ−ウェッジとフォグラプ
レシジョン測定ストリップPMS1は印刷版の露光中
は、印刷版と放射線源との間に介在する。連続階調ステ
ップ−ウェッジには使用される放射線に対して徐々に不
透明度の増加する複数の不連続なゾーンが含まれてい
る。よって、より不透明なこれらのゾーンは、より透明
なゾーンよりも下にある放射線感光塗膜に放射線を到達
させることはできない。このことから異なるステップ−
ウェッジのゾーンの下にある放射線感光塗膜は異なる量
の放射線を受容し、そしてその後に使用される現像液に
対し異なる溶解性を有する。ステップ−ウェッジの各ゾ
ーンは参照番号を有しており、下記表1の欄頭に記載さ
れた「クリア/ソリッド」の数字は充分な放射線の通過
を許容し、下にある放射線感光塗膜を完全に溶解するこ
とができるゾーンの参照番号と該塗膜を溶解させない最
大量の放射線を通過させるゾーンの参照番号である。ま
た、フォグラプレシジョン測定ストリップPMS1は、
前記と同様の目的で使用され、表1において欄頭に記載
された「PMS1」の数字は、印刷版の現像の効き目の
測定値である。また、下記説明および表1において現像
液の導電率の欄頭に記載された「μS/cm」は「マイク
ロジーメンス/cm」とも表し、ジーメンスはコンダクタ
ンスのSI単位であって、通常記号はSで、1S=1/
Ωである。
これらのPS版は、該装置を通過させた。該現像液の導
電率は、60,000μS/cmのフルスケールのふれをもつ導
電率測定器を使用してモニターされた。導電率が1,000
μS/cm減少する毎にステップウェッジとPMS1の値
を読んだ。その結果は下記表1の通りであった。
処理装置は、新鮮な現像液で再び満され、更に、これら
のPS版は導電率が45,000μS/cmに落ちるまで処理さ
れた。該現像液は次で導電率が再び50,000μS/cmとな
るまで加熱された。追加の1枚のPS版が処理され、夫
々3/9及び8,8のステップ−ウェッジとPMS1の
読みを示した。
該現像液は、22℃(導電率45,000μS/cm)に冷却さ
れた。その他のPS版が3/9及び8,8のステップウ
ェッジとPMS1の読みが得られるまでその後のよりゆ
るやかな速度で処理された。1枚のPS版には50%増
加の現像時間が与えられねばならないことが分った。最
後に、補充現像液が導電率を50,000μS/cmにもどすべ
く該処理装置に加えられた。このとき該処理装置を通過
したPS版は再び3/9及び8,8のステップ−ウェッ
ジとPMS1の読みを示した。
実施例2 現像液が水酸化ナトリウムと界面活性剤を含む水溶液か
ら成ることを除いて、実施例1と同様に繰り返された。
初めの導電率は60,000μS/cmであり、又、夫々3/9
及び8,8のステップ−ウェッジとPMS1の読みを示
した。有効に使われた現像液の導電率は50,000μ/cm
(ステップ−ウェッジは3/7、PMS1は10,8)
であった。現像液は導電率が60,000μS/cmになるまで
加熱され、ステップ−ウェッジとPMS1の値が回復し
た。
現像液をその導電率が50,000μS/cmになるまで冷却す
ると、PS版がステップ−ウェッジとPMS1の正しい
読みを得るためには45%増加の現像時間が与えられね
ばならなかった。
再び60,000μS/cmになるまで補充された現像液で現像
されたPS版は、3/9及び8,8のステップ−ウェッ
ジとPMS1の値となった。
実施例3 多数の版が英国特許第1591988号の実施例1に従
って露光され且つ現像されていわゆるスクリンレス版或
は連続階調版を生成した。現像液の導電率は初めは32,0
00μS/cmであった、又、初めに現像された版は1.65の
濃度範囲を有していた。多数のPS版が処理された後、
導電率は25,000μS/cmに低下し、そして、その時のP
S版の濃度範囲は僅か1.3であった。
現像液を導電率が再び32,000μS/cmとなるまで加熱す
ると、濃度範囲が1.65に回復した。
冷却された現像液(導電率25,000μS/cm)は55%の
割増の現像時間を要した。新しい現像液を補充して現像
液を32,000μS/cmの導電率にもどすことにより1.65の
濃度範囲が再び得られた。
実施例4 第4図に示す形式の処理装置の貯留タンクは、界面活性
剤、安息香酸ナトリウム及びカプリル酸ナトリウムを含
む水溶液から成る水溶性現像液で満された。新鮮な現像
液の導電率は、24,500μS/cmであった。ジアゾ樹脂コ
ーティングをもつ非露光版を、該処理装置を通過させ而
してこれら版が、インクを付けたときの汚れ(スカミン
グ)を生ずるきざしを示すまで、導電率が連続的にモニ
ターされた。現像液の導電率は、その時15,200μS/cm
であった。更にこれら版は、その後のよりゆるやかな速
度で処理された。而してきれいな版を生成せしめるため
には35%以上の現像時間を増さねばならないことが分
った。
実施例5 この実施例は、主に外気からの水による汚染のために劣
化する溶剤性現像液で処理する。実施例4に使用したと
同じ形式の処理装置が2−メトキシエチルアセテートと
界面活性剤とリン酸とから成る現像液で満された。現像
液の導電率は、14,100μS/cmであった。汚染をシュミ
レートするべく、水が0.5%添加されて現像液の導電
率がモニターされ、その一方でケイ皮酸PVを基材とす
るコーティングをもつ非露光版を該処理装置に通過せし
めた。
6%の水分含有量において、導電率は46,500μS/cmと
なり、現像された版はスカミングのきざしを示した。
更なる版はその後のゆるやかな速度で処理された。きれ
いな版を生成するためには現像時間を40%以上増さね
ばならないことが分った。
かくして、第1発明の放射線感光部材の処理法によると
きは、現像液に生ずる導電率の変化が、該現像液の特性
の劣化の目安として使用され、この劣化は導電率の変化
に従ってこの劣化が、温度、時間、こすり作用及び現像
液組成等の処理条件を変えることにより補償することが
できるから、放射線感光部材の現像中に現像液の特性が
劣化しても、その劣化を導電率の変化で捕らえて放射線
感光部材の現像を適正な処理条件で処理することができ
る効果がある。
また、第2発明の放射線感光部材の処理装置によるとき
は、現像液用容器と、放射線感光部材を該現像液用容器
内を移動させて現像液により接触させる手段と、該現像
液の導電率を測定し、且つその導電率に依存した信号出
力を生成せしめるための手段と、該出力信号に応じて処
理条件を変える手段を備えているから、放射線感光部材
の現像中に現像液の特性が劣化しても、その劣化を導電
率の変化で捕らえて放射線感光部材の現像を適確に行え
る処理装置を提供できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施の1例の装置の線図、第2図
は、第1図の装置の制御回路のブロック線図、第3図は
第2図示の制御回路の1部の回路線図、第4図は本発明
の他の実施例の装置の線図を示す。 (1)(21)……現像液用容器 (1a)(21a)……貯蔵タンク (1b)(21b)……弁 (2)(2a)……導入ローラ (3)(3a)……導出ローラ (4)……増幅器 (5)(28)……導電率検知セル (8)(29)……ヒーター/クーラーユニット (20)(20a)(23)(23a)……ローラ (24)(40)……変速モータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミカエル・イングハム 英国リ−ズ・エルエス13 2テイ−エ−・ ブラムリ−ブロ−ドリア・アベニユ−7 (56)参考文献 特開 昭54−56431(JP,A) 特開 昭53−110532(JP,A)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】平版印刷版、印刷回路及び集積回路の製造
    に用いられる、それぞれが画像露光された放射線感光塗
    膜を担持した基材からなる複数枚の画像露光された放射
    線感光部材を処理する方法であって、与えられた処理条
    件の基に該放射線感光部材を現像液に順次接触させる工
    程と、該放射線感光部材の処理中現像液の導電率をモニ
    ターする工程と、該導電率の変化に応じて該放射線感光
    部材が現像液に接触する処理条件を変化させて、現像液
    の特性を維持する工程とから成るものにおいて、現像液
    が、基材から望ましくない塗膜を選択的に除去するもの
    でありその選択除去性が処理感光部材の数が増加すると
    変化するものであることと、該感光部材が現像液に接触
    している時間を変化させることによって、及び/又は、
    現像液に更なる現像液を補充することによって、及び/
    又は、現像液の攪拌の程度を変えて放射線感光部材に現
    像液を接触させることによって、及び/又は、現像液の
    温度を変えることによって、処理条件が変えられること
    を特徴とする画像露光された放射線感光部材の処理法。
  2. 【請求項2】現像液が、溶液中でイオン化して導電率を
    増大せしめる平版的に不活性な材料を含んでいることを
    特徴とする特許請求の範囲1に記載の放射線感光部材の
    処理法。
  3. 【請求項3】平版印刷版、印刷回路及び集積回路の製造
    に用いられる、画像露光された放射線感光部材の処理装
    置であって、(i)現像液用の容器(1)(21)と、(ii)該放射
    線感光部材を装置内を通る通路(6)に沿って移動するた
    めの手段(2,2a,3,3a)であって、該感光部材を与えられ
    た処理条件の基で現像液に接触させるものと、(iii)現
    像液の導電率をモニターし、該導電率の変化に応じて出
    力信号を出すための手段(5)(28)と、(iv)前記出力信号
    により制御される処理条件を変更する手段からなるもの
    において、該処理条件を変更する手段が、該感光部材が
    現像液と接触する時間を現像液の導電率に依存して変え
    るように駆動手段を駆動する可変速モータ(4)(40)から
    なり、及び/又は、該処理条件を変更する手段が、更な
    る現像液を貯蔵し且つその更なる現像液をそこから導電
    率に応じて該容器に供給することを可能にする弁(1b)(2
    1b)を有するタンク(1a)(21a)からなり、及び/又は、該
    処理条件を変更する手段が、放射線感光部材に接触する
    現像液の攪拌の程度が導電率に依存して変えられるよう
    に放射線感光部材に接触する現像液を攪拌するための攪
    拌ローラ(23)(23a)を駆動する変速モータ(24)からな
    り、及び/又は、該処理条件を変更する手段が、現像液
    の温度が導電率に依存して変わるように現像液中に浸漬
    されて温度を変えるヒーター/クーラーユニット(8)(2
    9)からなることを特徴とする放射線感光部材の処理装
    置。
JP58196271A 1982-10-21 1983-10-21 放射線感光部材の処理法およびその処理装置 Expired - Lifetime JPH0612435B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8230105 1982-10-21
GB8230105 1982-10-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59131930A JPS59131930A (ja) 1984-07-28
JPH0612435B2 true JPH0612435B2 (ja) 1994-02-16

Family

ID=10533758

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58196271A Expired - Lifetime JPH0612435B2 (ja) 1982-10-21 1983-10-21 放射線感光部材の処理法およびその処理装置

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4577948A (ja)
EP (1) EP0107454B2 (ja)
JP (1) JPH0612435B2 (ja)
AT (1) ATE49066T1 (ja)
AU (1) AU576737B2 (ja)
CA (1) CA1208062A (ja)
DE (1) DE3381022D1 (ja)
DK (1) DK164567C (ja)
ES (1) ES8501677A1 (ja)
FI (1) FI76647C (ja)
NO (1) NO166207C (ja)
ZA (1) ZA837724B (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4621037A (en) * 1984-07-09 1986-11-04 Sigma Corporation Method for detecting endpoint of development
JPS6161164A (ja) * 1984-08-31 1986-03-28 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法
JPS61188542A (ja) * 1985-02-15 1986-08-22 Sharp Corp 自動現像機
JP2516022B2 (ja) * 1987-07-17 1996-07-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法
US4796042A (en) * 1987-07-31 1989-01-03 Hoechst Celanese Corp. Printing plate processor having recirculating water wash reclamation
JP2585784B2 (ja) * 1989-02-03 1997-02-26 株式会社東芝 自動現像装置および方法
DE3921564A1 (de) * 1989-06-30 1991-01-17 Peter Luettgen Verfahren zur regelung der konzentration von entwickler- bzw. entschichterloesung fuer leiterplatten und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPH0359662A (ja) * 1989-07-28 1991-03-14 Konica Corp 感光材料処理装置
JP2696759B2 (ja) * 1990-04-19 1998-01-14 富士写真フイルム株式会社 補充制御方法
DE4204691A1 (de) * 1992-02-17 1993-09-02 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum entwickeln von strahlungsempfindlichen, belichteten druckformen
US5294955A (en) * 1992-05-18 1994-03-15 Eastman Kodak Company Apparatus and method for washing light sensitive material
US5578430A (en) * 1994-07-30 1996-11-26 Eastman Kodak Company Method of processing photographic silver halide materials without replenishment
GB9415429D0 (en) * 1994-07-30 1994-09-21 Kodak Ltd Method of processing photographic colour silver halide materials
US6143479A (en) * 1999-08-31 2000-11-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates
CN1267790C (zh) * 2000-01-31 2006-08-02 富士胶片株式会社 自动显影装置及补充显影补充液的方法
US6391530B1 (en) 2000-11-03 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics, Llc Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors
JP2004212681A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の自動現像方法及びその自動現像装置
JP2005077781A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Toppan Printing Co Ltd 現像時間の管理装置及び現像時間の管理方法
US20050076801A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Miller Gary Roger Developer system
US7078162B2 (en) * 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
US7088932B2 (en) * 2003-12-31 2006-08-08 Samsung Electronics Co., Ltd System and method for measuring charge/mass and liquid toner conductivty contemporaneously

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2390497A (en) * 1942-12-31 1945-12-11 James T Campbell Lithographic plate making apparatus
US3515000A (en) * 1968-08-06 1970-06-02 Controlotron Corp Liquid gauge
DE2207137A1 (de) * 1972-02-16 1973-08-30 Werner Merz Anlage zur entwicklung fotografischen materials
GB1388257A (en) * 1972-04-01 1975-03-26 Gerdts Gustav F Kg Measuring liquid levels by electrical means
DE2648538C2 (de) * 1976-10-27 1978-12-21 Fernsteuergeraete Kurt Oelsch Kg, 1000 Berlin Verfahren zur automatisch geregelten Konstanthaltung der Zusammensetzung von Bädern und Vorrichtung zur Durchfährung des Verfahrens
JPS53110532A (en) * 1977-03-09 1978-09-27 Ricoh Co Ltd Automatic controller of developer concentrations of wet type diazo copiers
DE2861444D1 (en) * 1977-08-18 1982-02-11 Vickers Ltd Apparatus and method for the controlled processing of radiation sensitive devices in dependence upon the temperature of the developer liquid
DE2835413A1 (de) * 1978-08-12 1980-02-21 Hoechst Ag Einrichtung zur elektrischen standueberwachung einer entwicklerloesung in einem vorratsgefaess
DE2836837A1 (de) * 1978-08-23 1980-03-06 Agfa Gevaert Ag Verfahren zur elektrofotografischen entwicklung von elektronenradiografischen folien, und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
GB2046931B (en) * 1979-02-27 1983-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd Method of developing positive-acting photosensitive lithographic printing plate precursor
DE2908283C3 (de) * 1979-03-03 1982-02-04 Mathias Bäuerle GmbH, 7742 St Georgen Elektrisch betriebenes Gerät, insbesondere Vervielfältigungsgerät, mit einem mit Flüssigkeit zum chemischen Behandeln von Gegenständen aufnehmenden Behälter
US4310238A (en) * 1979-09-08 1982-01-12 Ricoh Company, Ltd. Electrostatic copying apparatus
FR2505520A1 (fr) * 1981-05-06 1982-11-12 Pictorial Service Dispositif de regeneration d'un fluide contenu dans un bac
JPS5895349A (ja) * 1981-11-30 1983-06-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性プレ−トの現像補充液補充方法

Also Published As

Publication number Publication date
NO166207B (no) 1991-03-04
ES526604A0 (es) 1984-12-01
DK164567C (da) 1992-11-30
EP0107454B1 (en) 1989-12-27
NO833831L (no) 1984-04-24
NO166207C (no) 1991-06-12
EP0107454A2 (en) 1984-05-02
FI833837A0 (fi) 1983-10-20
FI833837L (fi) 1984-04-22
EP0107454A3 (en) 1986-03-12
DE3381022D1 (de) 1990-02-01
AU2041783A (en) 1984-05-03
ES8501677A1 (es) 1984-12-01
DK164567B (da) 1992-07-13
DK482083A (da) 1984-04-22
EP0107454B2 (en) 1993-06-09
JPS59131930A (ja) 1984-07-28
FI76647C (fi) 1988-11-10
ZA837724B (en) 1984-06-27
DK482083D0 (da) 1983-10-20
FI76647B (fi) 1988-07-29
AU576737B2 (en) 1988-09-08
CA1208062A (en) 1986-07-22
ATE49066T1 (de) 1990-01-15
US4577948A (en) 1986-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0612435B2 (ja) 放射線感光部材の処理法およびその処理装置
JP2516022B2 (ja) 感光性平版印刷版自動現像装置の現像補充液補充方法
US4537496A (en) Method of replenishing a developer for photosensitive plate
EP0000995B1 (en) Apparatus and method for the controlled processing of radiation sensitive devices in dependence upon the temperature of the developer liquid
JPH0141974B2 (ja)
JP2534102B2 (ja) 感光性平版印刷版現像処理装置
JPS6273271A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JPS61110142A (ja) 感光性印刷版用自動現像機における現像補充液の補充方法
JPS61162050A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JP2532275B2 (ja) 感光性平版印刷版自動現像機の現像補充液補充方法
JPS6161165A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JPS61162049A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JP2577615B2 (ja) 感光性平版印刷版の製版方法
JPH02118577A (ja) 感光性平版印刷版の現像処理方法
JPS6236671A (ja) 現像補充液の補充方法
Bokelberg et al. Manufacturing requirements for a single-wafer develop process
JPH01303440A (ja) 現像処理方法及び装置
GB1599301A (en) Processing of radiation sensitive devices
JPH01223448A (ja) 感光材料の処理方法
JPH04304458A (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版の処理方法
JPS6161166A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JPH1184679A (ja) 感光性樹脂の連続現像方法及び現像開始剤
JPS6177854A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JPH04296861A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法及び自動現像機
JPS6161167A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法