JPH0613838B2 - 地下構造物の構築方法 - Google Patents
地下構造物の構築方法Info
- Publication number
- JPH0613838B2 JPH0613838B2 JP1150149A JP15014989A JPH0613838B2 JP H0613838 B2 JPH0613838 B2 JP H0613838B2 JP 1150149 A JP1150149 A JP 1150149A JP 15014989 A JP15014989 A JP 15014989A JP H0613838 B2 JPH0613838 B2 JP H0613838B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tunnel
- roof
- shield machine
- underground structure
- shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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Landscapes
- Underground Structures, Protecting, Testing And Restoring Foundations (AREA)
- Lining And Supports For Tunnels (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は大深度の地中に大空間を構成する地下構造物
の外郭を構築する、地下構造物の構築方法に関するもの
である。
の外郭を構築する、地下構造物の構築方法に関するもの
である。
（発明が解決しようとする課題） 地上における敷地確保の困難さから大深度の地中に、居
住空間としての大規模な構造物を建設する計画が現実化
しつつある中で、施工中の振動や騒音等の環境公害の発
生とその近隣地域への影響の抑制、及び地上に占める工
事面積の狭小化の要件を満たす構築方法を出願人は提案
している。
住空間としての大規模な構造物を建設する計画が現実化
しつつある中で、施工中の振動や騒音等の環境公害の発
生とその近隣地域への影響の抑制、及び地上に占める工
事面積の狭小化の要件を満たす構築方法を出願人は提案
している。
この地中構造物は地上から鉛直に形成され、施工開始の
拠点となる立坑よりシールド機を掘進させてまず屋根部
となるトンネルを作り、その後トンネルの周囲に側壁を
施工し、内部の土砂を排出して構築されるものである
が、本発明はこの既出願発明を派生させたもので、屋根
部の新たな構築方法を加えて提案しようとするものであ
る。
拠点となる立坑よりシールド機を掘進させてまず屋根部
となるトンネルを作り、その後トンネルの周囲に側壁を
施工し、内部の土砂を排出して構築されるものである
が、本発明はこの既出願発明を派生させたもので、屋根
部の新たな構築方法を加えて提案しようとするものであ
る。
（課題を解決するための手段） 本発明では目標とする地下構造物の中央部に形成される
中央立坑の側面よりシールド機を傾斜させて掘進させ、
屋根用トンネルを造成した後、屋根用トンネルの側面か
らシールド機を円弧状に同一レベルで周回させる作業を
順次レベル差を付けて繰り返し、互いに深さ方向に距離
をおいて隣接する複数のリングトンネルを平面的に同心
円状に形成することによりドーム状の屋根部を構築す
る。
中央立坑の側面よりシールド機を傾斜させて掘進させ、
屋根用トンネルを造成した後、屋根用トンネルの側面か
らシールド機を円弧状に同一レベルで周回させる作業を
順次レベル差を付けて繰り返し、互いに深さ方向に距離
をおいて隣接する複数のリングトンネルを平面的に同心
円状に形成することによりドーム状の屋根部を構築す
る。
地下構造物の外周部からは外周立坑が形成され、この外
周立坑の側面よりシールド機を平面的に円弧状に掘進さ
せて側壁用トンネルが造成され、側壁用トンネルから鉛
直下方へ施工して側壁が円筒状に構築される。
周立坑の側面よりシールド機を平面的に円弧状に掘進さ
せて側壁用トンネルが造成され、側壁用トンネルから鉛
直下方へ施工して側壁が円筒状に構築される。
この側壁とリングトンネルとにより地下構造物の外郭が
構築される。
構築される。
（実施例） 以下本発明を一実施例を示す図面に基づいて説明する。
この発明は第１図，第２図に示すように目標とする地下
構造物Ｂの外周部と中央部の上層より地盤を鉛直に掘削
して形成されるそれぞれ外周立坑11，中央立坑12よりシ
ールド機２を別々に掘進させて側壁用トンネル３と屋根
用トンネル４を造成し、これらのトンネル３，４から側
壁用の掘削機７とリングトンネル用のシールド機２を掘
進させることにより地下構造物Ｂを構築する方法であ
る。
構造物Ｂの外周部と中央部の上層より地盤を鉛直に掘削
して形成されるそれぞれ外周立坑11，中央立坑12よりシ
ールド機２を別々に掘進させて側壁用トンネル３と屋根
用トンネル４を造成し、これらのトンネル３，４から側
壁用の掘削機７とリングトンネル用のシールド機２を掘
進させることにより地下構造物Ｂを構築する方法であ
る。
外周立坑11と中央立坑12は第３図−Ｉに示すように地中
連続壁の施工の要領で孔壁の安定を図りながら地盤を鉛
直に掘削し、鉄筋篭の挿入，コンクリートの打設により
構築される。
連続壁の施工の要領で孔壁の安定を図りながら地盤を鉛
直に掘削し、鉄筋篭の挿入，コンクリートの打設により
構築される。
屋根部Ｒは図示するようにドーム状の形態をなして構築
されることから外周立坑11の下端は中央立坑12の下端位
置より深くまで掘削される。
されることから外周立坑11の下端は中央立坑12の下端位
置より深くまで掘削される。
この外周立坑11と中央立坑12の側面からは第１図に示す
ようにシールド機２の掘進によりそれぞれ側壁Ｗ構築，
屋根部Ｒ構築の拠点となる側壁用トンネル３と屋根用ト
ンネル４とが造成される。
ようにシールド機２の掘進によりそれぞれ側壁Ｗ構築，
屋根部Ｒ構築の拠点となる側壁用トンネル３と屋根用ト
ンネル４とが造成される。
側壁用トンネル３は外周立坑11よりシールド機２を側壁
Ｗ構築場所の天端位置に平面的に円弧状に掘進させて周
回させることにより、一方屋根用トンネル４は中央立坑
12より傾斜させて掘進させることにより形成される。
Ｗ構築場所の天端位置に平面的に円弧状に掘進させて周
回させることにより、一方屋根用トンネル４は中央立坑
12より傾斜させて掘進させることにより形成される。
側壁用トンネル３構築時のシールド機２は第２図，第３
図−IIに示すように外周立坑11の地下構造物Ｂの空間
に、ボーリングを行いながら地山にパイプを水平に挿入
し、その内外にセメントミルクを注入する、パイプルー
フ工法等により形成される横坑13から発進される。
図−IIに示すように外周立坑11の地下構造物Ｂの空間
に、ボーリングを行いながら地山にパイプを水平に挿入
し、その内外にセメントミルクを注入する、パイプルー
フ工法等により形成される横坑13から発進される。
横坑13完成後、ここにシールド機２を設置し、セグメン
ト５で覆工しながら水平方向に掘進させ、側壁用トンネ
ル３がリング状に構築される。セグメント５は側壁用ト
ンネル３内から側壁Ｗを構築するためのガイドウォール
５ａを有している。
ト５で覆工しながら水平方向に掘進させ、側壁用トンネ
ル３がリング状に構築される。セグメント５は側壁用ト
ンネル３内から側壁Ｗを構築するためのガイドウォール
５ａを有している。
屋根用トンネル４は第１図，第２図に示すように中央立
坑11下端位置の側面からシールド機２を傾斜させて発進
させ、横坑13まで到達させることにより平面的に部分円
弧状に、立面的に傾斜して構築される。
坑11下端位置の側面からシールド機２を傾斜させて発進
させ、横坑13まで到達させることにより平面的に部分円
弧状に、立面的に傾斜して構築される。
側壁用トンネル３の直上の屋根用トンネル４の下端から
はシールド機２発進時の様子を示す第４図−Ｉ，IIのよ
うに、側壁用トンネル３の構築と同様にシールド機２を
水平方向に掘進させ、平面的に円弧状に同一レベルで周
回させることによりリング状のリングトンネル６が形成
される。
はシールド機２発進時の様子を示す第４図−Ｉ，IIのよ
うに、側壁用トンネル３の構築と同様にシールド機２を
水平方向に掘進させ、平面的に円弧状に同一レベルで周
回させることによりリング状のリングトンネル６が形成
される。
続いてシールド機２をこの既造成のリングトンネル６よ
り高いレベルまで後述の要領で上昇させ、既造成の下段
側のリングトンネル６より小さい径の円弧状にシールド
機２を周回させることにより上下に隣接するリングトン
ネル６，６を造成し、引き続いてこの作業を順次レベル
差を付けて繰り返すことにより図示するように深さ方向
に互いに距離をおいて隣接し、上方側が小径となる、平
面的に同心円状のドーム状の屋根部Ｒが構築される。第
５図は第４図−Ｉの一部拡大図である。
り高いレベルまで後述の要領で上昇させ、既造成の下段
側のリングトンネル６より小さい径の円弧状にシールド
機２を周回させることにより上下に隣接するリングトン
ネル６，６を造成し、引き続いてこの作業を順次レベル
差を付けて繰り返すことにより図示するように深さ方向
に互いに距離をおいて隣接し、上方側が小径となる、平
面的に同心円状のドーム状の屋根部Ｒが構築される。第
５図は第４図−Ｉの一部拡大図である。
第６図はリングトンネル６構築時の屋根用トンネル４内
におけるシールド機２の移動状態を示したものである
が、この図によりシールド機２の移動の要領を説明す
る。
におけるシールド機２の移動状態を示したものである
が、この図によりシールド機２の移動の要領を説明す
る。
中央立坑12よりシールド機２を屋根用トンネル４の下端
まで降下させるときの様子を示すＩのようにシールド機
２はそれを所定の発進位置にセットするための発進装置
２ａに組み込まれたまま、昇降ジャッキ２ｂを有する昇
降装置２ｃに接続され、その両側で壁面に反力によって
懸架し、昇降ジャッキ２ｂにより昇降装置２ｃを伸縮さ
せることにより尺取虫式に降下する。
まで降下させるときの様子を示すＩのようにシールド機
２はそれを所定の発進位置にセットするための発進装置
２ａに組み込まれたまま、昇降ジャッキ２ｂを有する昇
降装置２ｃに接続され、その両側で壁面に反力によって
懸架し、昇降ジャッキ２ｂにより昇降装置２ｃを伸縮さ
せることにより尺取虫式に降下する。
昇降装置２ｃが屋根用トンネル４の下端まで降下したと
ころで、シールド機２を発進装置２ａから切り離し、一
周掘進させる(II)。
ころで、シールド機２を発進装置２ａから切り離し、一
周掘進させる(II)。
シールド機２を周回させて帰還させた後、これを再度発
進装置２ａに載せて昇降ジャッキ２ｂにより一段上昇さ
せる（III）。
進装置２ａに載せて昇降ジャッキ２ｂにより一段上昇さ
せる（III）。
続いてこのレベルでIIと同じ要領で周回させる（IV）。
以上のＩ〜IVの作業を屋根用トンネル４の上端まで繰り
返し、ドーム状の屋根部Ｒが構築される。
返し、ドーム状の屋根部Ｒが構築される。
屋根部Ｒの構築後、側壁用トンネル３からは地中連続壁
の施工の要領で側壁Ｗの構築が行われる。
の施工の要領で側壁Ｗの構築が行われる。
側壁Ｗは第７図に示すようにセグメント５のガイドウォ
ール５ａに据え付けられた掘削機７により泥水掘削を行
い、掘削終了後、泥水とコンクリートとを置き換えなが
ら鉄筋篭８を挿入して構築される。
ール５ａに据え付けられた掘削機７により泥水掘削を行
い、掘削終了後、泥水とコンクリートとを置き換えなが
ら鉄筋篭８を挿入して構築される。
屋根部Ｒと側壁Ｗの構築終了後、これに囲まれた内部の
土砂の掘削を行い、掘削土砂を外周立坑11と中央立坑12
より排土し、更に第２図に示すように側壁Ｗ下端位置に
底版Ｆを逆アーチ状に構築して無支柱空間の地下構造物
Ｂが完成する。
土砂の掘削を行い、掘削土砂を外周立坑11と中央立坑12
より排土し、更に第２図に示すように側壁Ｗ下端位置に
底版Ｆを逆アーチ状に構築して無支柱空間の地下構造物
Ｂが完成する。
（発明の効果） この発明は以上の通りであり、目標とする地下構造物の
中央部より鉛直下方に形成される中央立坑より屋根部構
築用の屋根用トンネルを造成し、これを拠点としてシー
ルド機を同一レベルで円弧状に掘進させ、複数のリング
トンネルを深さ方向に径を変えてドーム状に造成するこ
とにより屋根部を、また外周部の外周立坑より造成され
る側壁用トンネルから側壁をそれぞれ構築するものであ
り、地上に占める工事面積は両立坑部分のみであるため
地上への影響を抑えながら施工を遂行することができ
る。
中央部より鉛直下方に形成される中央立坑より屋根部構
築用の屋根用トンネルを造成し、これを拠点としてシー
ルド機を同一レベルで円弧状に掘進させ、複数のリング
トンネルを深さ方向に径を変えてドーム状に造成するこ
とにより屋根部を、また外周部の外周立坑より造成され
る側壁用トンネルから側壁をそれぞれ構築するものであ
り、地上に占める工事面積は両立坑部分のみであるため
地上への影響を抑えながら施工を遂行することができ
る。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の施工状況を示した斜視図、第２図はそ
の縦断面図、第３図−Ｉ，IIはそれぞれ立坑，横坑の施
工の様子を示した断面図、第４図−Ｉ，IIはリングトン
ネルの施工の様子を示した断面図、第５図は第４図の一
部拡大図、第６図−Ｉ〜IVは屋根用トンネル内でのシー
ルド機の移動の様子を示した断面図、第７図は側壁の施
工の様子を示した断面図である。 Ｂ……地下構造物、Ｒ……屋根部、Ｗ……側壁、Ｆ……
底版、11……外周立坑、12……中央立坑、13……横坑、
２……シールド機、２ａ……発進装置、２ｂ……昇降ジ
ャッキ、２ｃ……昇降装置、３……側壁用トンネル、４
……屋根用トンネル、５……セグメント、５ａ……ガイ
ドウォール、６……リングトンネル、７……掘削機、８
……鉄筋篭。
の縦断面図、第３図−Ｉ，IIはそれぞれ立坑，横坑の施
工の様子を示した断面図、第４図−Ｉ，IIはリングトン
ネルの施工の様子を示した断面図、第５図は第４図の一
部拡大図、第６図−Ｉ〜IVは屋根用トンネル内でのシー
ルド機の移動の様子を示した断面図、第７図は側壁の施
工の様子を示した断面図である。 Ｂ……地下構造物、Ｒ……屋根部、Ｗ……側壁、Ｆ……
底版、11……外周立坑、12……中央立坑、13……横坑、
２……シールド機、２ａ……発進装置、２ｂ……昇降ジ
ャッキ、２ｃ……昇降装置、３……側壁用トンネル、４
……屋根用トンネル、５……セグメント、５ａ……ガイ
ドウォール、６……リングトンネル、７……掘削機、８
……鉄筋篭。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 999999999 株式会社小松製作所 東京都港区赤坂２丁目３番６号 (71)出願人 999999999 清水建設株式会社 東京都中央区京橋２丁目16番１号 (71)出願人 999999999 大成建設株式会社 東京都新宿区西新宿１丁目25番１号 (71)出願人 999999999 財団法人電力中央研究所 東京都千代田区大手町１丁目６番１号 (71)出願人 999999999 株式会社フジタ 東京都渋谷区千駄ヶ谷４丁目６番15号 (72)発明者 野間 正治 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 松山 政雄 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 森 泰雄 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 石川 泰昭 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 山崎 英嗣 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 前原 信之 東京都千代田区大手町２丁目６番２号 日 立建機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−43699（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−315600（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−108799（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−157399（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】目標とする地下構造物の外周部と中央部の
上層より地盤を鉛直に掘削してそれぞれ外周立坑、中央
立坑を形成し、外周立坑の側面よりシールド機を平面的
に円弧状に周回させて側壁用トンネルを、中央立坑の側
面より側壁用トンネルまでシールド機を傾斜させながら
掘進させて屋根用トンネルをそれぞれ造成した後、側壁
用トンネルから鉛直下方へ施工して側壁を円筒状に構築
するとともに、屋根用トンネルの側面からシールド機を
円弧状に同一レベルで周回させる作業を順次レベル差を
付けて繰り返し、互いに深さ方向に距離をおいて隣接
し、屋根部を構成する複数のリングトンネルを平面的に
同心円状に形成し、地下構造物の外郭を構築する地下構
造物の構築方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1150149A JPH0613838B2 (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | 地下構造物の構築方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1150149A JPH0613838B2 (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | 地下構造物の構築方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317399A JPH0317399A (ja) | 1991-01-25 |
| JPH0613838B2 true JPH0613838B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=15490569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1150149A Expired - Fee Related JPH0613838B2 (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | 地下構造物の構築方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0613838B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4566927B2 (ja) * | 2006-02-22 | 2010-10-20 | 大成建設株式会社 | 地中構造物の構築方法 |
| JP2009074309A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Shimizu Corp | 立坑およびその構築方法 |
| JP2009113733A (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-28 | Hitachi Ltd | パワーステアリング装置 |
-
1989
- 1989-06-13 JP JP1150149A patent/JPH0613838B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0317399A (ja) | 1991-01-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |