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JPH0616195B2 - Electrophotography - Google Patents
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JPH0616195B2 - Electrophotography - Google Patents

Electrophotography

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Publication number
JPH0616195B2
JPH0616195B2 JP59064779A JP6477984A JPH0616195B2 JP H0616195 B2 JPH0616195 B2 JP H0616195B2 JP 59064779 A JP59064779 A JP 59064779A JP 6477984 A JP6477984 A JP 6477984A JP H0616195 B2 JPH0616195 B2 JP H0616195B2
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JP
Japan
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layer
switching element
charge
charging
element layer
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JP59064779A
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Japanese (ja)
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JPS60208771A (en
Inventor
正明 横山
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Kyocera Mita Industrial Co Ltd
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Mita Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G13/00Electrographic processes using a charge pattern
    • G03G13/04Exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、メモリー効果を利用する電子写真法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrophotographic method utilizing a memory effect.

従来技術 従来、原稿の多数枚複製には、印刷技術の他に、操作の
手軽さ等の見地から、電子写真法による多数枚複写技術
が採用されるに至っている。この多数枚複写電子写真法
の代表的なものとして、光メモリー効果を有する光導電
性感光層を画像電光した後、帯電、現像、転写及びクリ
ーニングの諸工程を反復する、所謂リテンション型静電
印刷法が知られている。この方法は、感光層の露光部で
は光メモリー効果により導電性となり、この部分に電荷
がのりにくくなるという原理を使用するものであるが、
公知の感光体は、所望の光メモリー効果を与えるための
感度が低く、感光体を大出力の光源を用いて画像露光し
なければならないという不便さがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to reproduce a large number of originals, in addition to the printing technique, the technique of copying a large number of sheets by electrophotography has been adopted from the viewpoint of ease of operation. As a typical one of the multi-copy electrophotography, a so-called retention type electrostatic printing, in which a photoconductive photosensitive layer having an optical memory effect is image-lighted and then the charging, developing, transferring and cleaning steps are repeated. The law is known. This method uses the principle that the exposed portion of the photosensitive layer becomes conductive due to the optical memory effect, and it becomes difficult for electric charges to be transferred to this portion.
Known photoconductors have a low sensitivity for giving a desired optical memory effect, and there is an inconvenience that the photoconductor must be image-exposed using a high-power light source.

最近に至って、光メモリー効果を利用する感光体の開発
も行われており、例えば井上教授等によって、ポリ−N
−ビニルカルバゾール(PVK)、2、4、7−トリニ
トロフルオレノン(TNF)及びロイコ色素の混合溶液
をアルミニウム電極上に塗布した感光体、或いは上記混
合溶液塗布層の上に、PVKとTNFとの組成物の層を
設けた複層感光体を使用し、これを一回画像露光するこ
とにより、感光体上にメモリー像(露光部の電荷受容性
の低下)を形成し、帯電−現像−転写のプロセスを繰り
返すことで多数枚の複写物を得る研究が行われている
(日本写真学会誌第44巻2号第104乃至117頁
(1981)参照)。これらの感光体におけるメモリー
形成は、TNFとロイコ色素の作る電荷移動錯体の光吸
収後の化学反応に起因するものと言われている。
Recently, a photoconductor utilizing the optical memory effect has also been developed. For example, Professor Inoue et al.
-Vinylcarbazole (PVK), 2,4,7-trinitrofluorenone (TNF) and a leuco dye mixed solution coated on an aluminum electrode, or on the mixed solution coating layer, PVK and TNF By using a multi-layered photoconductor provided with a layer of the composition and exposing the image once, a memory image (reduction of charge acceptability in the exposed area) is formed on the photoconductor, and charging-development-transfer is performed. A study has been conducted to obtain a large number of copies by repeating the above process (see Journal of the Photographic Society of Japan, Vol. 44, No. 2, pages 104 to 117 (1981)). It is said that the memory formation in these photoconductors is caused by the chemical reaction of the charge transfer complex formed by TNF and the leuco dye after light absorption.

発明の構成 本発明によれば、光化学反応によるメモリー像の形成と
は全く異なった原理によりメモリー像の形成が行われ、
しかも比較的少ない露光量でメモリー像の形成が可能で
ある電子写真法が提供される。
According to the present invention, the formation of the memory image is performed by a completely different principle from the formation of the memory image by the photochemical reaction,
Moreover, an electrophotographic method is provided in which a memory image can be formed with a relatively small exposure amount.

本発明によれば更に、従来の感光体とは層構成の全く異
なる複層構成の感光体を使用し、前帯電−露光と主帯電
−画像露光とを組合せによりメモリー像の形成を行う電
子写真法が提供される。
Further, according to the present invention, an electrophotographic apparatus which uses a multi-layered photoreceptor having a completely different layer constitution from a conventional photoreceptor and forms a memory image by combining pre-charging-exposure and main-charging-image exposure. Law is provided.

即ち、本発明は、導電性基質、該導電性基質上に設けら
れ、高電場で高電導状態となり且つ高電導状態が維持さ
れるスイッチング素子層、及び該スイッチング素子層上
に設けられた電荷発生輸送乃至は電荷受容層から成る電
子写真感光体に対して、スイッチング素子に高電場が印
加されない限度内において、前帯電と前一様露光とを行
い、次いで前帯電と同極の主帯電と画像露光とを行って
感光体上にメモリー像を形成させることを特徴とする電
子写真法が提供される。
That is, the present invention provides a conductive substrate, a switching element layer provided on the conductive substrate, which is in a high conductivity state in a high electric field and maintains the high conductivity state, and charge generation provided on the switching element layer. Pre-charging and pre-uniform exposure are performed on an electrophotographic photosensitive member composed of a transport or charge-receptive layer within a limit in which a high electric field is not applied to a switching element, and then main charging and image of the same polarity as pre-charging. An electrophotographic method is provided which comprises exposing and forming a memory image on a photoreceptor.

本発明を添付図面を参照しつつ以下に詳細に説明する。The present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

本発明に用いる感光体の断面構造を示す第1図におい
て、導電性基質1の上にはスイッチング素子層2が設け
られ、この層2の上に更に電荷発生輸送層乃至は電荷受
容層3が設けられる。図示していないが、導電性基質1
とスイッチング素子層2との間には、所望に応じ電荷注
入バリヤー層或いは接着力を増強させるためのアンダー
層等が設けられていてもよい。
In FIG. 1 showing a sectional structure of a photoreceptor used in the present invention, a switching element layer 2 is provided on a conductive substrate 1, and a charge generation / transport layer or a charge accepting layer 3 is further provided on the layer 2. It is provided. Although not shown, conductive substrate 1
If desired, a charge injection barrier layer or an under layer for enhancing the adhesive force may be provided between the switching element layer 2 and the switching element layer 2.

本発明の重要な特徴の一つは、このスイッチング層2と
して、高電場で高電導状態となり且つこの高電導状態が
維持されるスイッチング素子層を用いる点にある。
One of the important features of the present invention is that, as the switching layer 2, a switching element layer which is in a high conductivity state in a high electric field and maintains this high conductivity state is used.

本発明による感光体のメモリー像の形成原理及び静電像
の形成原理を第2−A乃至2−F図に基づき以下に説明
する。
The principle of forming a memory image and the principle of forming an electrostatic image on a photoreceptor according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 2-A to 2-F.

先ず、第2−A図の前帯電工程において、感光体4の表
面を、コロナチャージャ5により一定極性の電荷に帯電
させる。図の具体例では、電荷受容層3の表面は正電荷
に帯電され、導電性基質1には負電荷が誘起される。
First, in the pre-charging step of FIG. 2-A, the surface of the photoconductor 4 is charged by the corona charger 5 to a constant polarity charge. In the specific example shown in the figure, the surface of the charge receiving layer 3 is positively charged, and the conductive substrate 1 is negatively charged.

次いで、前一様露光工程を示す第2−B図において、表
面が帯電された感光体4を光源6により一様に前露光す
る。この前露光により、電荷受容層3中に電荷(キャリ
ヤ)が発生し、生じたホール(+)が積層界面、即ちス
イッチング素子層2との界面迄移動して、そこに蓄積さ
れる。
Next, in FIG. 2-B showing the pre-uniform exposure step, the photoconductor 4 whose surface is charged is uniformly pre-exposed by the light source 6. By this pre-exposure, charges (carriers) are generated in the charge receiving layer 3, and the generated holes (+) move to the stacking interface, that is, the interface with the switching element layer 2 and are accumulated there.

本発明においては、上述した前帯電及び前一様露光工程
を、スイッチング素子層2に高電場が印加されない限定
において行う。かくして、電荷受容層3とスイッチング
素子層2との界面には、或る程度の正電荷が蓄積されて
はいるが、スイッチング素子層2には未だ高抵抗状態
(OFF STATE)に維持されている。主電荷及び
画像露光工程を示す第2−C図において、前帯電及び前
露光が行われた感光体4を、コロナチャージャ5′によ
り一定極性の電荷に帯電させ、次いで光源6′によりこ
の表面を画像露光させる。
In the present invention, the above-mentioned pre-charging and pre-uniform exposure steps are performed within the limitation that a high electric field is not applied to the switching element layer 2. Thus, although a certain amount of positive charge is accumulated at the interface between the charge receiving layer 3 and the switching element layer 2, the switching element layer 2 is still maintained in a high resistance state (OFF STATE). . In FIG. 2-C showing the main charge and image exposure process, the pre-charged and pre-exposed photoconductor 4 is charged to a constant polarity charge by a corona charger 5 ', and then this surface is charged by a light source 6'. Image exposure.

メモリー像形成の第1段階を示す第2−D図において、
暗部Dでは表面電荷はそのままであるが、明部Lでは第
2−B図に示したのと同様に電荷受容層3中に電荷(キ
ャリヤ)の発生と、ホール(+)のスイッチング素子層
2との界面への移動とを生じ、電荷の蓄積が前述した限
度を越え、素子層2には高電場が印加されるに至る。
In Figure 2-D showing the first step of memory image formation,
In the dark portion D, the surface charge remains as it is, but in the light portion L, as in the case shown in FIG. 2-B, charge (carrier) is generated in the charge receiving layer 3 and the hole (+) switching element layer 2 is generated. To the interface, the charge accumulation exceeds the above-mentioned limit, and a high electric field is applied to the element layer 2.

第2−E図において、スイッチング素子層2の明部Lで
は、印加される高電場により高電導状態(ON STA
TE)、即ち低抵抗状態に誘起される。スイッチング素
子層2の暗部Dでは、高抵抗状態(OFF STAT
E)のまま残り、スイッチング素子層2には、上述した
状態が継続して維持され、その結果として、明部Lでは
導電性基質1からの電子の注入が容易な状態となる。
In FIG. 2-E, in the bright portion L of the switching element layer 2, a high electric field (ON STA) is applied due to the applied high electric field.
TE), that is, a low resistance state is induced. In the dark portion D of the switching element layer 2, a high resistance state (OFF STAT
E) remains as it is, and the above-mentioned state is continuously maintained in the switching element layer 2, and as a result, in the bright portion L, the injection of electrons from the conductive substrate 1 becomes easy.

静電像形成工程を示す第2−F図において、一度露光が
行われた部分Lでは、その後の正帯電に対して注入が容
易となった電子(−)が高電導状態のスイッチング層2
を介して電荷発生輸送乃至は電荷受容層3に注入され、
該層3を通って表面に到達し、表面の正電荷(+)を消
去することにより、電荷像の形成が行われる。図示して
いないが、この電荷像を、それ自体公知の方法により、
トナーで現像し、形成されるトナー像を紙等に転写する
ことにより、複写物乃至印刷物を得ることができる。か
くして、第2−A乃至2−E図に示す1回のメモリー像
形成の後に、第2−F図に示す所望回数の帯電工程を行
うことにより、所望枚数の複写が可能となる。
In FIG. 2-F showing the electrostatic image forming step, in the portion L which has been exposed once, the electron (−) which has become easy to be injected due to the subsequent positive charging is in the high conductivity state of the switching layer 2.
Via charge generation and transport or injection into the charge receiving layer 3,
A charge image is formed by reaching the surface through the layer 3 and erasing the positive charges (+) on the surface. Although not shown, this charge image can be obtained by a method known per se.
By developing with a toner and transferring the formed toner image onto paper or the like, a copy or a printed matter can be obtained. Thus, the desired number of copies can be made by performing the desired number of charging steps shown in FIG. 2-F after one memory image formation shown in FIGS. 2-A to 2-E.

本発明では、上述した説明から明らかな通り、光は電荷
発生輸送層乃至は電荷受容層3の電荷発生、換言すれ
ば、スイッチング素子層2への高電場印加の目的にのみ
使用されるという特徴がある。即ち、従来の複層感光体
では、電荷輸送層或いは電荷受容層を介してメモリー形
成層をも露光し、該メモリー形成層中に光化学変化を起
こさせる必要があったのに対して、本発明では、電荷発
生輸送層乃至は電荷受容層中に電荷(キャリヤ)を発生
させることのみが要求されるものであるから、従来法に
比して著しく少ない露光量でメモリー像の形成が可能と
なるという利点が達成されるものである。
In the present invention, as is apparent from the above description, light is used only for the purpose of generating charges in the charge generating / transporting layer or the charge receiving layer 3, in other words, for applying a high electric field to the switching element layer 2. There is. That is, in the conventional multilayer photoreceptor, it is necessary to expose the memory forming layer through the charge transport layer or the charge receiving layer to cause photochemical change in the memory forming layer. In this case, since it is only required to generate charges (carriers) in the charge generating / transporting layer or the charge receiving layer, it is possible to form a memory image with a significantly smaller exposure amount as compared with the conventional method. The advantage is achieved.

更に、本発明では、主帯電及び画像露光に先立って、ス
イッチング素子層に高電場が印加されない限度内におい
て前帯電及び前一様露光を行うことにより、電荷発生輸
送層乃至は電荷受容層とスイッチング素子層との界面
に、予め前記限度内の電荷を蓄積させておくことが可能
となり、次いで行う画像露光工程で行われる界面への電
荷輸送量が比較的少ない場合にも、スイッチング素子層
におけるスイッチング操作を有効に且つ円滑に行わせる
ことが可能となる。このことは、画像露光工程における
露光量が著しく節約され、その結果として、通常の複写
機に使用される光源や露光システムを用いて露光操作が
簡単に行い得ることを意味する。
Furthermore, in the present invention, prior to the main charging and the imagewise exposure, pre-charging and pre-uniform exposure are performed within a limit where a high electric field is not applied to the switching element layer, thereby switching between the charge generation transport layer or the charge receiving layer. It becomes possible to accumulate charges within the above limits at the interface with the device layer in advance, and even when the amount of charge transport to the interface performed in the subsequent image exposure process is relatively small, switching in the switching device layer is performed. The operation can be effectively and smoothly performed. This means that the exposure amount in the image exposure process is significantly saved, and as a result, the exposure operation can be easily performed by using the light source and the exposure system used in a general copying machine.

第3図では、本発明に使用するスイッチング素子層の或
るもの(後述するCu・TCNQ)について、印加電圧
と電流との関係を示したものであり、曲線1は未処理の
スイッチング素子層についての電圧と電流との関係、曲
線2は高電圧印加後のスイッチング素子層について同様
の関係を調べたものである。曲線1から、このスイッチ
ング素子層は傾斜のゆるやかな高低抵抗状態Aと傾斜の
極めて大きい低抵抗状態Bとが存在すること、及び曲線
2から一旦高電導状態(ON STATE)となったス
イッチング素子層では、高抵抗状態Aが殆ど消失してい
ることが明らかである。
FIG. 3 shows the relationship between the applied voltage and the current for one of the switching element layers used in the present invention (Cu.TCNQ described later). Curve 1 shows the untreated switching element layer. The relationship between the voltage and the current, curve 2 is the same relationship as for the switching element layer after application of the high voltage. It can be seen from the curve 1 that the switching element layer has a high-low resistance state A with a gentle slope and a low resistance state B with a very large slope, and from the curve 2 the switching element layer once brought into a high conductivity state (ON STATE). In, it is clear that the high resistance state A has almost disappeared.

第4図は、後述するCu・TCNQをスイッチング素子
層、及びPVK・TNF錯体を電荷発生輸送層乃至電荷
受容層とした感光体の表面電位と時間との関係を示す線
図であって、曲線(1)は未処理感光体の表面帯電電
位、曲線(2)は露光開始後の表面帯電電位、曲線
(2′)はスイッチング操作が行われない限度内で前帯
電−前一様露光を行った後、主帯電及び露光を行った際
の表面帯電電位(ただし、主帯電後の感光体の表面電位
が同じになるように印加電圧を調整してある)、曲線
(3)は帯電露光によりスイッチング素子層が高電導状
態となった感光体を再帯電した際の表面帯電電位を示
す。第4図中、V0は高抵抗状態(OFF STAT
E)でのスイッチング層を備えた感光体の初期飽和帯電
電位であり、V1は高電導状態(ON STATE)で
のスイッチング層を備えた感光体の飽和帯電電位であ
り、メモリー効果(F)は下記式 で表される。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the surface potential and time of a photoreceptor having Cu / TCNQ as a switching element layer and PVK / TNF complex as a charge generating / transporting layer or charge accepting layer, which will be described later. (1) is the surface charge potential of the untreated photoreceptor, curve (2) is the surface charge potential after the start of exposure, and curve (2 ') is the pre-charge-pre-uniform exposure within the limit where the switching operation is not performed. After that, the surface charging potential at the time of main charging and exposure (however, the applied voltage is adjusted so that the surface potential of the photoconductor after the main charging becomes the same), the curve (3) shows The surface charging potential when the photoconductor in which the switching element layer is in the high conductivity state is recharged is shown. In FIG. 4, V 0 is a high resistance state (OFF STAT
E) is the initial saturation charge potential of the photoconductor having the switching layer in V), V 1 is the saturation charge potential of the photoconductor having the switching layer in the high conductivity state (ON STATE), and the memory effect (F) Is the following formula It is represented by.

第4図の結果を参照すると、主帯電−画像露光に先立っ
て、前帯電及び前一様露光を前述した限度内で行うこと
により、光照射後の光減衰が急で、見掛上感度の著しい
上昇がもたらされることが明白であろう。
Referring to the results of FIG. 4, by performing the pre-charging and the pre-uniform exposure within the above-mentioned limits prior to the main charging-image exposure, the light attenuation after the light irradiation is rapid, and the apparent sensitivity is reduced. It will be clear that a significant rise will result.

本発明に用いるスイッチング素子層は、高抵抗状態(O
FF STATE)の電気抵抗(RH)が108乃至10
14Ω−cm、特に109乃至1011Ω−cmの範囲にあるこ
とが電荷保持性の点で望ましく、一方RHと低抵抗状態
(ON STATE)の電気抵抗(RL:Ω−cm)との
比(RH/RL)は、1×101乃至1×105の範囲内に
あることが、コントラストの面で望ましい。
The switching element layer used in the present invention has a high resistance state (O
The electric resistance ( RH ) of FF STATE) is 10 8 to 10
14 Ω-cm, especially 10 9 to 10 11 Ω-cm is desirable in terms of charge retention, while R H and low resistance (ON STATE) electric resistance ( RL : Ω-cm) It is desirable in terms of contrast that the ratio (R H / R L ) to the ratio is in the range of 1 × 10 1 to 1 × 10 5 .

前述した特性を有するスイッチング素子としては、テト
ラシアノエチレン(TCNE)、テトラシアノキノジメ
タン(TCNQ)、テトラシアノナフトキノジメタン
(TNAP)、2,3,5,6−テトラフルオロー7,
7,8,8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ
4)等のシアノ基含有電子受容性物質と、銅又は銀と
の錯体が好適に使用されるが、同様の特性を有する他の
スイッチング素子をも用いることができる。
Examples of the switching element having the above-mentioned characteristics include tetracyanoethylene (TCNE), tetracyanoquinodimethane (TCNQ), tetracyanonaphthoquinodimethane (TNAP), 2,3,5,6-tetrafluoro-7,
7,8,8-Tetracyanoquinodimethane (TCNQ
A complex of a cyano group-containing electron-accepting substance such as F 4 ) and copper or silver is preferably used, but other switching elements having similar characteristics can also be used.

これらの錯体は、蒸着等の手段で導電性基質上に結晶薄
膜の形で直接形成されることもできるし、或いは微結晶
のものを樹脂バインダー中に分散させて導電性基質上に
設けることもできる。樹脂バインダーとしては、電気絶
縁性の樹脂、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、
スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、フエノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコーン樹脂、アルキド樹脂等が使用される。微結晶錯
体と樹脂バインダーとは、1:4乃至4:1の重量比で
使用される。これらの樹脂バインダーを、テトラヒドロ
フラン、クロロホルム、ジオキサン、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
の溶媒に溶解し、微結晶錯体を分散させ、導電性基質上
に塗布し、乾燥してスイッチング素子層を形成させる。
These complexes can be directly formed in the form of a crystalline thin film on a conductive substrate by means such as vapor deposition, or microcrystals can be dispersed in a resin binder and provided on the conductive substrate. it can. As the resin binder, an electrically insulating resin such as polyester resin, acrylic resin,
Styrene resin, polycarbonate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, phenoxy resin, epoxy resin, silicone resin, alkyd resin and the like are used. The microcrystalline complex and the resin binder are used in a weight ratio of 1: 4 to 4: 1. These resin binders are dissolved in a solvent such as tetrahydrofuran, chloroform, dioxane, dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, and the microcrystalline complex is dispersed, coated on a conductive substrate, and dried to form a switching element layer. Let

本発明に用いる電荷発生輸送層乃至電荷受容層は、光照
射により電荷(キャリヤ)を発生し、界面へこれを移送
すると共に、スイッチング素子から注入される電荷を表
面迄移送するものでなければならない。かかる見地から
は、この層は正孔及び電子の両方を移送させ得るもので
なければならない。
The charge-generating transport layer or charge-accepting layer used in the present invention must generate charges (carriers) by light irradiation, transfer the charges to the interface, and transfer the charges injected from the switching element to the surface. . From this perspective, this layer must be capable of transporting both holes and electrons.

この目的のために、正孔輸送物と電子輸送物との混合物
乃至は電荷輸送錯体が有利に使用される。
For this purpose, a mixture of hole and electron transport materials or a charge transport complex is advantageously used.

適当な正孔輸送物質の例は、ポリ−N−ビニルカルバゾ
ール、フエナントレン、N−エチルカルバゾール、2,
5−ジフエニル−1,3,4−オキサジアゾール、2,
5−ビス−(4−ジエチルアミノフエニル)−1,3,
4−オキサジアゾール、ビス−ジエチルアミノフエニル
−1,3,6−オキサジアゾール、4,4′−ビス(ジ
エチルアミノ−2,2′−ジメチルトリフエニルメタ
ン、2,4,5−トリアミノフエニルメタゾール、2,
5−ビス(4−ジエチルアミノフエニル)−1,3,4
−トリアゾール、1−フエニル−3−(4−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフエニル)
−2−ピラゾリン、p−ジエチルアミノベンツアルデヒ
ド−(ジフエニルヒドラゾン)などであり、適当な電子
輸送物質の例は2−ニトロ−9−フルオレノン、2,7
−ジニトロ−9−フルオレノン、2,4,7−トリニト
ロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ
−9−フルオレノン、2−ニトロベンゾチオフエン、
2,4,8−トリニトロチオキサントン、ジニトロアン
トラセン、ジニトロアクリジン、ジニトロアントラキノ
ン、テトラシアノキノジメタンなどである。
Examples of suitable hole transport materials are poly-N-vinylcarbazole, phenanthrene, N-ethylcarbazole, 2,
5-diphenyl-1,3,4-oxadiazole, 2,
5-bis- (4-diethylaminophenyl) -1,3
4-oxadiazole, bis-diethylaminophenyl-1,3,6-oxadiazole, 4,4'-bis (diethylamino-2,2'-dimethyltriphenylmethane, 2,4,5-triaminophenyl Methazole, 2,
5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4
-Triazole, 1-phenyl-3- (4-diethylaminostyryl) -5- (4-diethylaminophenyl)
2-pyrazoline, p-diethylaminobenzaldehyde- (diphenylhydrazone) and the like. Examples of suitable electron-transporting substances are 2-nitro-9-fluorenone, 2,7.
-Dinitro-9-fluorenone, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2-nitrobenzothiophene,
2,4,8-trinitrothioxanthone, dinitroanthracene, dinitroacridine, dinitroanthraquinone, tetracyanoquinodimethane and the like.

これらの混合物乃至錯体が造膜性を有する場合には、こ
れを有機溶媒の溶液として、スイッチング素子層上に塗
布すればよく、また造膜性を有しない場合には、前に例
示した樹脂バインダーの溶液中に前述した組合せ物質を
分散させ、これを塗布して、電荷発生輸送層乃至電荷受
容層を形成させればよい。
When the mixture or complex has a film-forming property, it may be applied as a solution of an organic solvent on the switching element layer, and when the mixture or complex does not have a film-forming property, the resin binder exemplified above is used. It is sufficient to disperse the above-mentioned combination substance in the above solution and apply it to form a charge generation transport layer or a charge acceptance layer.

本発明において、導電性基質としては、銅、アルミニウ
ム、ブリキ等の導電性金属基質や、導電処理した紙、或
いはネサ(NESA)ガラス等が使用され、これらはシ
ート或いはドラムの形で用いられる。
In the present invention, as the conductive substrate, a conductive metal substrate such as copper, aluminum or tin plate, conductive treated paper, NESA glass or the like is used, and these are used in the form of a sheet or a drum.

本発明に用いる感光体において、スイッチング素子層の
厚みは、一般に1乃至5μm、特に1.5乃至3.5μmの範
囲にあり、電荷発生輸送層乃至電荷受容層の厚みは一般
に6乃至20μm、特に7乃至12μmの範囲にあるこ
とが、帯電時の表面電位を高いレベルに維持しつつ、し
かもメモリー効果を最大限に利用する上で好ましい。
In the photoconductor used in the present invention, the thickness of the switching element layer is generally in the range of 1 to 5 μm, particularly 1.5 to 3.5 μm, and the thickness of the charge generating / transporting layer to the charge receiving layer is generally 6 to 20 μm, especially 7 to 12 μm. It is preferable that it is in the range of (1) in order to maintain the surface potential at the time of charging at a high level and to maximize the memory effect.

本発明の電子写真法では、スイッチング素子層と電荷発
生輸送層乃至電荷受容層との組合せ或いはそれらの厚み
や厚み比を選択することにより、40%以上、特に60
%以上のメモリー効果(F)が得られる。
In the electrophotographic method of the present invention, by selecting the combination of the switching element layer and the charge generating / transporting layer or the charge receiving layer, or the thickness and thickness ratio thereof, 40% or more, particularly 60% or more.
% Or more of the memory effect (F) can be obtained.

本発明の電子写真法において、感光体の帯電は、一般に
正極性のコロナチャージヤを用いて、飽和帯電電位が5
00乃至700ボルトになるように帯電を行う。
In the electrophotographic method of the present invention, the photoconductor is charged by using a corona charger having a positive polarity, and the saturation charge potential is 5
Charging is performed so that the voltage becomes 00 to 700 volts.

一方、感光体の前帯電及び前一様露光は、スイッチング
素子層のスイッチング操作が実質上行われない限定にお
いて行う。このために、前帯電の帯電量を主帯電のそれ
よりも少ない量で行う、前露光の露光量を画像露光のそ
れよりも少ない量で行う、或いはこれらの組合せを採用
する等の手段を採用する。より具体的には、前帯電の帯
電電位を主帯電の電位の10乃至50%の範囲とする、
或いは前一様露光の露光量を画像露光のそれの1乃至1
0%の範囲とする等の手段を採用する。本発明で規定し
た限度内の前帯電及び前露光が行われていることは、前
帯電の初期飽和帯電電位(VP)が主帯電の帯電電位
(VC)よりも高いとしても、その差が50%以下であ
ることにより確認できる。
On the other hand, the pre-charging and the pre-uniform exposure of the photosensitive member are performed in the limit that the switching operation of the switching element layer is not substantially performed. For this reason, a means such as performing the amount of pre-charging less than that of main charging, performing the amount of pre-exposure less than that of image exposure, or adopting a combination of these is adopted. To do. More specifically, the charging potential of the pre-charging is within the range of 10 to 50% of the potential of the main charging,
Alternatively, the exposure amount of the pre-uniform exposure is set to 1 to 1 of that of the image exposure.
Means such as setting the range to 0% is adopted. The fact that pre-charging and pre-exposure within the limits specified in the present invention means that even if the initial saturation charging potential (V P ) of pre-charging is higher than the charging potential (V C ) of main charging, the difference Can be confirmed by being 50% or less.

次いで、帯電された感光体を画像露光する。光源として
は、タングステンハロゲンランプのような通常の電子写
真用光源を使用し得るのが本発明の特徴である。必要な
露光量は、感光体の層構成によっても相違するが一般
に、0.1乃至100mW/cm2の範囲から選択するのがよ
い。勿論、光源としては、ガスレーザー半導体レーザー
等のレーザービームを用いることができる。
Then, the charged photoreceptor is imagewise exposed. It is a feature of the present invention that a conventional electrophotographic light source such as a tungsten halogen lamp can be used as the light source. The required exposure amount varies depending on the layer structure of the photoconductor, but it is generally preferable to select it in the range of 0.1 to 100 mW / cm 2 . Of course, as the light source, a laser beam such as a gas laser semiconductor laser can be used.

メモリー像が形成された感光体を、前述したのと同様な
手段で帯電し、形成される静電潜像を、それ自体公知の
1成分系或いは2成分系の現像用トナーと接触させてト
ナー像を形成させ、トナーを紙等の転写シートに転移さ
せ、必要により定着して複写物或いは印刷物とする。ト
ナー転写後の感光体は、静電的或いは機械的にクリーニ
ングした後、上述した帯電、現像、転写、クリーニング
を必要枚数だけ反復する。
The photoreceptor on which the memory image is formed is charged by the same means as described above, and the formed electrostatic latent image is brought into contact with a known one-component or two-component developing toner to obtain the toner. An image is formed, toner is transferred to a transfer sheet such as paper, and if necessary, fixed to form a copy or a printed matter. After the toner transfer, the photoconductor is electrostatically or mechanically cleaned, and then the above-described charging, development, transfer, and cleaning are repeated as many times as necessary.

新たに、メモリー像を形成する場合には、感光体中のス
イッチング素子層を、赤外線ランプ照射、ジュール熱加
熱、強力なレーザー光照射、熱風吹付、熱ローラーとの
接触等の手段で加熱して、スイッチング素子層を、高抵
抗状態(OFF STATE)に復帰させ、しかる後前
述した操作を行えばよい。加熱温度は50乃至200℃
の範囲から適当な温度を選ぶ。
When newly forming a memory image, the switching element layer in the photoconductor is heated by means of infrared lamp irradiation, Joule heat heating, strong laser light irradiation, hot air blowing, contact with a heat roller, etc. The switching element layer may be returned to the high resistance state (OFF STATE), and then the above-mentioned operation may be performed. Heating temperature is 50 ~ 200 ℃
Select an appropriate temperature from the range.

本発明を次の例で説明する。The invention is illustrated by the following example.

参考例 スイッチング素子層の形成 ボールミルにより粉砕した銅−テトラシアノキノジメタ
ン錯体(Cu・TCNQ)10重量部を、ポリアリレー
ト樹脂(U−polymer 8000 ユニチカ製)
10重量部、ポリエチレングリコール(PEG 100
0 三洋化成工業社製) 0.5重量部、クロロホルム90重量部の組成から成る
溶液と混合し、30分間超音波分散した後、銅基板上に
ワイヤーバーにより、塗布、乾燥した。乾燥は80℃で
15分、さらに必要にて応じて6時間の真空乾燥を行
い、膜厚2μmのスイッチング素子層を形成した。
Reference Example Formation of Switching Element Layer 10 parts by weight of a copper-tetracyanoquinodimethane complex (Cu.TCNQ) crushed by a ball mill was mixed with a polyarylate resin (U-polymer 8000 Unitika).
10 parts by weight, polyethylene glycol (PEG 100
0.5 parts by weight and 90 parts by weight of chloroform were mixed and ultrasonically dispersed for 30 minutes, and then coated on a copper substrate with a wire bar and dried. Vacuum drying was carried out at 80 ° C. for 15 minutes and, if necessary, for 6 hours to form a switching element layer having a film thickness of 2 μm.

スイッチング現象の測定 上記スイッチング素子層にAlを真空蒸着し、Al蒸着
膜と銅基板を電極としてサンドイッチ型セルを形成し
た。
Measurement of Switching Phenomenon Al was vacuum-deposited on the switching element layer to form a sandwich type cell using the Al vapor deposition film and the copper substrate as electrodes.

次に、銅基板側に対し、+3.0V〜−3.0Vの電圧を印加
した。第1回目の電圧印加におけるV−I曲線を第3図
の曲線(1)に示す。さらに第2回目以降の電圧印加に
おけるV−I曲線を曲線(2)に示す。
Next, a voltage of +3.0 V to −3.0 V was applied to the copper substrate side. The VI curve in the first voltage application is shown by the curve (1) in FIG. Further, the VI curve in the second and subsequent voltage application is shown in the curve (2).

実施例 感光体の作成 参考例と同様な方法により、スイッチング素子層を銅基
板上に形成させた。
Example Preparation of Photoreceptor A switching element layer was formed on a copper substrate by the same method as in the reference example.

次に、ポリビニルカバルゾール(Luvi-canM−170
BASF社製)10重量部にテトラヒドロフラン90重
量部を加えて10%PVK溶液を作製した。この10%
PVK溶液10重量部に2,4,5,7−テトラニトロ
−9−フルオレノン0.6重量部及びテトラヒドロフラン
2.0重量部を加え、超音波分散機で充分に溶解させ、感
光層塗布液を作製した。
Next, polyvinyl cavalzole (Luvi-can M-170
90 parts by weight of tetrahydrofuran was added to 10 parts by weight of BASF) to prepare a 10% PVK solution. This 10%
0.6 part by weight of 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone and 10 parts by weight of PVK solution and tetrahydrofuran
2.0 parts by weight was added and sufficiently dissolved with an ultrasonic disperser to prepare a photosensitive layer coating liquid.

この塗布液を先に形成させたスイッチング層上にワイヤ
ーバーにて塗布、乾燥を行い、7μmの感光層を形成さ
せ、感光体を得た。
This coating solution was applied onto the switching layer previously formed with a wire bar and dried to form a photosensitive layer having a thickness of 7 μm to obtain a photoreceptor.

複写テスト 上述の作製に感光体を表面電位光減衰装置にセットし約
10秒間正コロナ放電(+3.0kv)を行った後、タン
グステンランプ(14mW/cm2)で一様露光を約5秒
間で行った。次いで約20秒間正コロナ放電(+6.0k
v)を行った後、原稿露光を行った。なお、照射光とし
てタングステンランプ(14mW/cm2)を用い、約1
分間露光を行った。
Copy test After the photoconductor was set in the surface potential optical attenuator for the above-mentioned production and positive corona discharge (+3.0 kv) was performed for about 10 seconds, uniform exposure was performed for about 5 seconds with a tungsten lamp (14 mW / cm 2 ). went. Next, positive corona discharge for about 20 seconds (+ 6.0k
After performing v), the original was exposed. A tungsten lamp (14 mW / cm 2 ) was used as the irradiation light, and about 1
Exposure was performed for a minute.

次に市販の静電写真複写機(DC−162;三田工業社
製)の感光体ドラムをアルマイト・ドラムに取り換え、
そこに露光後の本感光体を貼付し、銅基板を接地した
後、正コロナ放電(+6kv)、トナー現像、普通紙へ
の転写、クリーニングのサイクルを連続的に繰り返し、
静電印刷を行った。
Next, replace the photoconductor drum of a commercially available electrostatic photocopier (DC-162; manufactured by Mita Kogyo Co., Ltd.) with an alumite drum,
After sticking the exposed photoreceptor to it and grounding the copper substrate, positive corona discharge (+6 kv), toner development, transfer to plain paper, and cleaning cycle are repeated continuously,
Electrostatic printing was performed.

印刷を50サイクルまで行ったところ、初期画像と比較
しても画像のノイズや、コントラストの乱れはほとんど
観測されず、鮮明な印刷物が得られた。
When printing was performed up to 50 cycles, even when compared with the initial image, almost no image noise or contrast disorder was observed, and clear printed matter was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明に用いる感光体の断面構造を示し第2−
A乃至2−F図は本発明の方法による感光体のメモリー
像の形成原理及び静電像の形成原理を示し、 第3図は本発明に使用するスイッチング素子層について
印加電圧と電流との関係を示し、 第4図は本発明に用いる感光体の表面電位と時間の関係
を示したものである。 1……導電製基質 2……スイッチング素子層 3……電荷発生輸送乃至電荷受容層
FIG. 1 shows the cross-sectional structure of the photoconductor used in the present invention.
FIGS. 2A to 2F show the principle of forming a memory image and the principle of forming an electrostatic image on a photoreceptor by the method of the present invention, and FIG. 3 shows the relationship between applied voltage and current for the switching element layer used in the present invention. FIG. 4 shows the relationship between the surface potential of the photosensitive member used in the present invention and time. 1 ... Conductive substrate 2 ... Switching element layer 3 ... Charge generation / transport or charge reception layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導電性基質、該導電性基質上に設けられ、
高電場で高電導状態となり且つ高電導状態が維持される
スイッチング素子層、及び該スイッチング素子層上に設
けられた電荷発生輸送乃至は電子受容層から成る電子写
真感光体に対して、スイッチング素子層に高電場が印加
されない限度内において、前帯電と前一様露光とを行
い、次いで前帯電と同極の主帯電と画像露光とを行って
感光体上にメモリー像を形成させることを特徴とする電
子写真法。
1. A conductive substrate, provided on the conductive substrate,
A switching element layer is provided for an electrophotographic photosensitive member including a switching element layer which is in a high electrical conductivity state and maintains a high electrical conductivity state under a high electric field, and a charge generating / transporting or electron accepting layer provided on the switching element layer. Pre-charging and pre-uniform exposure are performed within a limit in which a high electric field is not applied to, and then main charging and image exposure having the same polarity as pre-charging are performed to form a memory image on the photoconductor. Electrophotography.
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