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JPH061771B2 - Wafer protection film cutting method - Google Patents
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JPH061771B2 - Wafer protection film cutting method - Google Patents

Wafer protection film cutting method

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Publication number
JPH061771B2
JPH061771B2 JP11773785A JP11773785A JPH061771B2 JP H061771 B2 JPH061771 B2 JP H061771B2 JP 11773785 A JP11773785 A JP 11773785A JP 11773785 A JP11773785 A JP 11773785A JP H061771 B2 JPH061771 B2 JP H061771B2
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Japan
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wafer
cutter
protective film
suction table
film
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稔 雨谷
康弘 中尾
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Nitto Denko Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は例えば集積回路形成用の基板となる半導体ウ
エハのようなウエハに貼着した粘着フイルムからなる保
護フイルムをウエハの周縁に沿つて切断する方法に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention cuts a protective film made of an adhesive film adhered to a wafer such as a semiconductor wafer which is a substrate for forming an integrated circuit along the periphery of the wafer. It is about how to do it.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来この種の保護フイルムの貼着方法として、前もって
一定寸法に切断された保護フイルムを、ゴムローラ等に
より、手作業でウエハ上に貼着した後、人手によりウエ
ハの外周にカッタナイフを当てがって切抜く方法が行な
われていた。
In the past, a protective film of this type has been pasted by manually adhering a protective film that has been cut to a certain size in advance to a wafer with a rubber roller or the like, and then manually applying a cutter knife to the outer periphery of the wafer. The method of cutting out was done.

また、フローティング式の吸着テーブルとこのテーブル
上に吸着せしめたウエハ上面に粘着フイルムからなる保
護フイルムを貼着する動力駆動の貼着ローラと、保護フ
イルムを貼着後に環状のガイドレールに沿つて手動で移
動させる移動台に設けたカッタで保護フイルムを切断す
る半自動の装置もある。
In addition, a floating suction table, a power-driven sticking roller that sticks a protective film made of an adhesive film on the upper surface of the wafer sucked on this table, and a manual guide along the circular guide rail after sticking the protective film. There is also a semi-automatic device that cuts the protective film with a cutter provided on the moving table.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上記のような従来方法において、全てを手作業で行なう
方法はウエハに対してカッタナイフを必要以上の力で押
し付けてウエハを損傷させたり、ウエハの外形と切抜い
た保護フイルムの寸法精度が悪くなったりして作業性が
きわめて悪いものであった。
In the conventional method as described above, the method of performing all manually is to press the cutter knife against the wafer with an excessive force to damage the wafer, or the dimensional accuracy of the outer shape of the wafer and the cut-out protective film deteriorates. However, the workability was extremely poor.

また、半自動の装置は作業性は相当向上したが保護フイ
ルムの切断は手動にてガイドレールに沿ってカッタを動
かすものであるから、作業性の点でいま一歩というもの
であった。
Further, the workability of the semi-automatic device is considerably improved, but the cutting of the protective film is performed by manually moving the cutter along the guide rails, which is another step in terms of workability.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の問題点を解決するために、この発明はウエハを上
面に吸着して固定し、このウエハに保護フイルムの貼着
などを行なう真空吸引式の吸着テーブルを回動および昇
降自在とし、この吸着テーブル上にウエハを吸着せしめ
るとともに、このウエハにテープ状の保護フイルムを貼
着したのち、このウエハに貼着されている保護フイルム
をこれに続くテープ状フイルムから切離し、ついで吸着
テーブルを上昇させることによって、ウエハに貼着した
保護フイルムを不回転部分より分離したのち、吸着テー
ブルを回転させつつカッタをウエハの周縁附近に位置す
るようにガイドして保護フイルムをウエハの周縁に沿つ
て切断する方法を提供するものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention allows a wafer to be sucked and fixed on the upper surface, and a vacuum suction type suction table for adhering a protective film to the wafer can be rotated and moved up and down. Adsorb the wafer onto the table and attach a tape-shaped protective film to this wafer, then separate the protective film attached to this wafer from the tape-shaped film that follows it, and then raise the adsorption table. After separating the protective film attached to the wafer from the non-rotatable part by the method, while rotating the suction table, the cutter is guided so that it is located near the peripheral edge of the wafer, and the protective film is cut along the peripheral edge of the wafer. Is provided.

〔実施例〕〔Example〕

第1図において、1は基板、2はこの基板上に図示省略
してある複数の支柱により支持された支持板で、こ支持
板2上に図示省略してあるブラケットを介して固定テー
ブル3が設けてある。
In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is a supporting plate supported by a plurality of columns (not shown) on the substrate, and the fixed table 3 is mounted on the supporting plate 2 via brackets (not shown). It is provided.

4は固定テーブル3に設けた円形の開口で、この開口内
に円板状の吸着テーブル6を設ける。
Reference numeral 4 denotes a circular opening provided in the fixed table 3, and a disk-shaped suction table 6 is provided in this opening.

この吸着テーブル6の上面には第2図に示すような真空
吸引用の溝7を設け、テーブル6の下部中央にはスプラ
イン軸8を同芯に固定するが、この軸8には溝7に通じ
る連通孔10を設け、軸8の下端にはロータリエルボ1
1を取付けて、このエルボ11に図示省略してある真空
吸引装置に通じるホース12を連結する。
A groove 7 for vacuum suction as shown in FIG. 2 is provided on the upper surface of the suction table 6, and a spline shaft 8 is fixed to the center of the lower portion of the table 6 concentrically. A communication hole 10 communicating with the rotary elbow 1 is provided at the lower end of the shaft 8.
1 is attached and a hose 12 leading to a vacuum suction device (not shown) is connected to the elbow 11.

15は支持板2に固定した軸受で、この軸受15内にニ
ードルベアリングを介して回転筒16を回動自在で昇降
不可に取付け、その内部にボールスプライン17を介し
て前記スプライン軸8を昇降自在で、回転筒16ととも
に回転するように挿入する。
Reference numeral 15 is a bearing fixed to the support plate 2, and a rotary cylinder 16 is mounted in the bearing 15 through a needle bearing so as to be rotatable and cannot be moved up and down, and the spline shaft 8 can be moved up and down through a ball spline 17 therein. Then, it is inserted so as to rotate together with the rotary cylinder 16.

前記回転筒16の中間部外側にはギヤ18を一体に設
け、その上部において回転筒16の外側にニードルベア
リングを介して回転自在にはめた筒体20の下部外周の
フランジと、前記テーブル6の下部に着脱自在に固定し
たカム21の間には押バネ22を取付けてテーブル6を
フローティング状とする。
A gear 18 is integrally provided on the outer side of the intermediate portion of the rotary cylinder 16, and a flange on the outer periphery of the lower portion of a cylindrical body 20 rotatably fitted on the outer side of the rotary cylinder 16 via a needle bearing at the upper part of the gear 18 and the table 6. A pressing spring 22 is attached between the cams 21 which are detachably fixed to the lower portion to make the table 6 in a floating state.

第1図の25は、基板1上に固定したエアまたは油圧あ
るいは電動式のシリンダで、このシリンダ25により上
下に駆動されるリフタ26に前記スプライン軸8の下端
に形成した丸棒部27をベアリングを介して昇降および
回動自在に取付け、この丸棒部27の外部外側の雄ネジ
にはストッパ28とロックネジ29をねじ込んで吸着テ
ーブル6の位置を決めている。
Reference numeral 25 in FIG. 1 denotes an air, hydraulic or electric cylinder fixed on the substrate 1. A lifter 26 vertically driven by the cylinder 25 has a round bar portion 27 formed at the lower end of the spline shaft 8 as a bearing. The round bar 27 is mounted movably up and down, and a stopper 28 and a lock screw 29 are screwed into the male screw on the outside of the round bar 27 to position the suction table 6.

31は支持板2上に固定した軸で、この軸31に回動自
在に取付けたギヤ32を前記ギヤ18に噛合させる。
Reference numeral 31 is a shaft fixed on the support plate 2, and a gear 32 rotatably attached to the shaft 31 is meshed with the gear 18.

33は支持板2上に固定した軸受(図示省略)に回動自
在に取付けた横向きの駆動軸で、この軸33の外端にハ
ンドル34を固定し、内端にはベベルギヤ35を固定し
て、このギヤ35を前記ギヤ32上に固定したベベルギ
ヤ36に噛合させる。また、駆動軸33をモータなどの
動力駆動にしてもよい。
Reference numeral 33 denotes a lateral drive shaft rotatably attached to a bearing (not shown) fixed on the support plate 2. A handle 34 is fixed to an outer end of the shaft 33, and a bevel gear 35 is fixed to an inner end thereof. The gear 35 is meshed with the bevel gear 36 fixed on the gear 32. Further, the drive shaft 33 may be driven by a motor or the like.

第2図、第3図の38は吸着テーブル6の側方におい
て、支持板2上に固定した軸、39はこの軸38を中心
として回転するアーム、40はアームの外端に取付けた
カムフオロア、41はカムフオロア40をカム21の外
周に圧着させるためアーム39と支持板2の間に張った
引バネである。
2 and 3, 38 is a shaft fixed on the support plate 2 on the side of the suction table 6, 39 is an arm which rotates around this shaft 38, 40 is a cam follower attached to the outer end of the arm, Reference numeral 41 is a tension spring stretched between the arm 39 and the support plate 2 to press the cam follower 40 onto the outer circumference of the cam 21.

45は前記アーム39上に固定したブラケットで、その
上に円弧状の長孔とボルトなどによってカッタ取付台4
6が上下位置および取付角度が調節自在に固定されてい
る。
Reference numeral 45 is a bracket fixed on the arm 39, on which the cutter mounting base 4 is attached by an arc-shaped long hole and bolts.
6 is fixed so that the vertical position and the mounting angle are adjustable.

カッタ取付台46上には、直線ガイドによりホルダ47
を第3図の矢印方向に進退するように取付け、ホルダ4
7の先端にはカッタ48を固定し、ホルダ47の両側に
は、ホルダ47を吸着テーブル6の方へ押すバネ49を
設ける。
A holder 47 is attached on the cutter mount 46 by a linear guide.
Attached so that it moves forward and backward in the direction of the arrow in FIG.
A cutter 48 is fixed to the tip of 7, and springs 49 for pushing the holder 47 toward the suction table 6 are provided on both sides of the holder 47.

つぎに、上記実施例の作用を説明すれば、最初にウエハ
50を下降位置の吸着テーブル6上に載せ、このテーブ
ル上に設けた指示線などにより正確に位置決めしたの
ち、真空吸引を行ないウエハ50をテーブル6上に固定
する。
Next, the operation of the above embodiment will be described. First, the wafer 50 is placed on the suction table 6 in the lowered position, the wafer 50 is accurately positioned by an instruction line or the like provided on the table, and then vacuum suction is performed. Is fixed on the table 6.

ついで、図示省略してある保護フイルム貼着装置を働か
せてテープ状の保護フイルム51をその粘着面を下にし
てウエハ50上に張り渡し、ついで、ゴムなどからなる
貼着ローラ52をフイルム51上に圧着しつつ転がして
フイルム51をウエハ50上に貼着する。
Then, a protective film sticking device (not shown) is operated to stretch the tape-like protective film 51 on the wafer 50 with its adhesive surface facing down, and then a sticking roller 52 made of rubber or the like is placed on the film 51. The film 51 is affixed onto the wafer 50 by rolling while pressing it.

前記の貼着において、ローラ52が吸着テーブル6上に
載ったとき、バネ22の反力によりローラ52とテーブ
ル6間の加圧力が一定となる。
In the pasting, when the roller 52 is placed on the suction table 6, the reaction force of the spring 22 makes the pressing force between the roller 52 and the table 6 constant.

こうして、ウエハ50に保護フイルム51を貼着し、ロ
ーラ52がテーブル6上から去ったのち、図示省略して
あるカッタにより保護フイルム51を吸着テーブル6の
前後でテープ状のフイルムから切り離す。
In this way, the protective film 51 is attached to the wafer 50, and after the roller 52 is removed from the table 6, the protective film 51 is separated from the tape-shaped film before and after the suction table 6 by a cutter (not shown).

つぎに、シリンダ25を作用させて、スプライン軸8を
上昇させ、吸着テーブル6上のフイルム51を固定テー
ブル3などから分離させてテーブル3とともに回転し得
る状態とする。
Next, the cylinder 25 is actuated to raise the spline shaft 8 to separate the film 51 on the suction table 6 from the fixed table 3 or the like so that the film can be rotated together with the table 3.

そののち、アーム39を第2図、第3図のような作用位
置につけてバネ41によりカムホロア40をカム21に
圧着させる。
After that, the arm 39 is attached to the operating position as shown in FIGS. 2 and 3, and the cam follower 40 is pressed against the cam 21 by the spring 41.

また、カッタ取付台46、ホルダ47を調節してカッタ
48をウエハ50の周囲のフイルム51に切込ませる。
Further, the cutter mounting base 46 and the holder 47 are adjusted so that the cutter 48 is cut into the film 51 around the wafer 50.

つぎに、ハンドル34により駆動軸33を回すとベベル
ギヤ35,36、ギヤ32,18、回転筒16、ボール
スプライン17を介してスプライン軸8がカム21、テ
ーブル6とともに回転するので、回転しないカッタ48
がウエハ50の周縁に沿つてフイルム51を切断する。
Next, when the drive shaft 33 is rotated by the handle 34, the spline shaft 8 rotates together with the cam 21 and the table 6 via the bevel gears 35 and 36, the gears 32 and 18, the rotary cylinder 16, and the ball spline 17, so the cutter 48 that does not rotate.
Cuts the film 51 along the periphery of the wafer 50.

上記のさい、カッタ48がウエハ50の円形の周縁を切
っているときはカムフオロア40もカム21の円形の周
縁に接していてカッタ48は一定の位置で動かないから
フイルム51が円形に切断されるが、ウエハ50のオリ
エンテーションフラット53がカッタ48の部分にくる
と同時にカム21のフラット部もカムフオロア40の部
分にくるのでこの部分ではカムフオロア40とともにカ
ッタ48が若干動いて、フイルム51をフラット53に
沿つて直線状に切り抜く。
In the above, when the cutter 48 cuts the circular edge of the wafer 50, the cam follower 40 is also in contact with the circular edge of the cam 21, and the cutter 48 does not move at a fixed position, so that the film 51 is cut into the circular shape. However, since the orientation flat 53 of the wafer 50 comes to the portion of the cutter 48 and the flat portion of the cam 21 also comes to the portion of the cam follower 40, the cutter 48 moves slightly together with the cam follower 40 in this portion, and the film 51 moves along the flat 53. Then cut out in a straight line.

ウエハ50とカム21の大きさと形状を近似とし、第2
図に示すようにカッタ48の刃先と、カム21とカムフ
オロア40の接点の垂直方向の位置が鉛直線上にあるよ
うにすればカッタ48の刃先はカム21に倣って動き、
フイルム51をウエハ50の形状の通りに切り抜くが、
カム21をウエハ50よりも小さくし、かつウエハ50
と相似形としても同じ結果が得られる。
The size and shape of the wafer 50 and the cam 21 are approximated to each other.
As shown in the figure, if the vertical position of the cutting edge of the cutter 48 and the contact point of the cam 21 and the cam follower 40 is on the vertical line, the cutting edge of the cutter 48 moves following the cam 21.
The film 51 is cut out according to the shape of the wafer 50,
The cam 21 is made smaller than the wafer 50, and the wafer 50
The same result can be obtained as a similar form.

上記実施例はカム21にカッタ48を倣わせる方法であ
るが、カムを用いない切断方法を第4図ないし第7図に
基づいて説明すると、第4図のように表面に硬度を与え
た吸着テーブル6にカッタ48の刃先をあて、ウエハ5
0の側面をガイドとして切断する方法と第5図のように
吸着テーブル6上にウエハ50の外径と近似形の溝54
を加工し、その溝の中にカッタ48の刃先をあて切断し
ていく方法がある。また、ウエハ50の外形よりの保護
フイルム51の切断面のはみ出し量は、カッタ48の傾
きにより調整可能である。
Although the above embodiment is a method of making the cutter 48 follow the cam 21, a cutting method without using the cam will be described with reference to FIGS. 4 to 7. Hardness is given to the surface as shown in FIG. The edge of the cutter 48 is placed on the suction table 6 and the wafer 5
0 as a guide, and as shown in FIG. 5, the outer diameter of the wafer 50 and the approximate groove 54 are formed on the suction table 6 as shown in FIG.
Is processed, and the cutting edge of the cutter 48 is applied to the groove to cut. Further, the protrusion amount of the cut surface of the protective film 51 from the outer shape of the wafer 50 can be adjusted by the inclination of the cutter 48.

ウエハ50の外形とほとんど同寸法に切断したい場合は
第6図のように、保護フイルム51を吸着テーブル6の
上面に移しかえることにより可能である。
When it is desired to cut the wafer 50 into almost the same size as the outer shape of the wafer 50, the protective film 51 can be moved to the upper surface of the suction table 6 as shown in FIG.

第7図のように吸着テーブル6上にウエハ50と近似形
状の突部55を設け、この上にウエハ50を吸着させて
フイルム51を突部55の外周にはめたリング56で押
えてフイルム51に張力を与えた状態を保ち、カッタ4
8に熱を加えて溶断によりフイルム51を切断する場合
もある。保護フイルム51の基材が縮み易いものなど
の、溶断に不都合なものはカッタ48に加える熱のコン
トロールをし熱溶断とカッタ48の刃先による切断を併
用しながら保護フイルム51を切断する場合もある。
As shown in FIG. 7, a projection 55 having a shape similar to that of the wafer 50 is provided on the suction table 6, the wafer 50 is sucked onto the projection 55, and the film 51 is pressed by a ring 56 fitted on the outer periphery of the projection 55 to form the film 51. Keep the tension applied to the cutter 4
The film 51 may be cut by fusing by applying heat to the film 8. If the base material of the protective film 51 is easily shrunk, or the like that is inconvenient for fusing, the heat applied to the cutter 48 may be controlled and the fusing of the protective film 51 may be performed while the fusing of the heat and the cutting edge of the cutter 48 are used together. .

切断後、不用な外周のフイルムを剥ぎ取り、吸着テーブ
ル6の吸着を開放し、保護フイルム51が貼着されたウ
エハを取り外したのちテーブル6を元の位置に下げる。
After cutting, the unnecessary film on the outer periphery is peeled off, the suction of the suction table 6 is released, the wafer to which the protective film 51 is attached is removed, and then the table 6 is lowered to its original position.

〔効果〕〔effect〕

この発明は上記のようにウエハを上面に吸着して固定
し、このウエハに保護フイルムの貼着などを行なう真空
吸引式の吸着テーブルを回動および昇降自在とし、この
吸着テーブル上にウエハを吸着せしめるとともに、この
ウエハにテープ状の保護フイルムを貼着したのち、ウエ
ハに貼着されている保護フイルムをこれに続くテープ状
フイルムから切離し、ついで吸着テーブルを上昇させる
ことによって保護フイルムを不回転部分より分離したの
ち、吸着テーブルを回転させつつカッタをウエハの周縁
附近に位置するようにガイドして保護フイルムをウエハ
の周縁に沿つて切断する方法であるからカッタの動きは
極くわずかとなり、カッタの支持手段や上下手段も簡単
となる。また、従来の方法と異なり、手作業による熟練
度を必要とせず、カッタによりウエハの周縁を強く押圧
して損傷せしめるおそれもないなどの効果がある。
According to the present invention, the wafer is sucked and fixed on the upper surface as described above, and the vacuum suction type suction table for adhering the protective film to the wafer can be rotated and moved up and down, and the wafer is sucked onto the suction table. After attaching the tape-shaped protective film to this wafer, separate the protective film attached to the wafer from the tape-shaped film that follows it, and then raise the suction table to move the protective film to the non-rotating part. After separation, the method is to rotate the suction table and guide the cutter so that it is positioned near the edge of the wafer, and cut the protective film along the edge of the wafer, so the movement of the cutter is extremely small. The support means and the up-and-down means of are also simple. Further, unlike the conventional method, there is an effect that skill level by manual work is not required and there is no possibility of damaging by strongly pressing the peripheral edge of the wafer with the cutter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明方法を実施する装置の一部縦断正面
図、第2図は同上要部の平面図、第3図はカッタ取付部
の正面図、第4図ないし第7図は切断方法の各例を示す
一部縦断正面図である。 6……吸着テーブル、48……カッタ、 50……ウエハ、51……保護フイルム。
FIG. 1 is a partially longitudinal front view of an apparatus for carrying out the method of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a main portion of the same, FIG. 3 is a front view of a cutter mounting portion, and FIGS. 4 to 7 are cutting methods. It is a partial longitudinal front view showing each example of. 6 ... Suction table, 48 ... Cutter, 50 ... Wafer, 51 ... Protective film.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ウエハを上面に吸着して固定し、このウエ
ハに保護フィルムの貼着などを行なう真空吸引式の吸着
テーブルを回動および昇降自在とし、この吸着テーブル
上にウエハを吸着せしめるとともに、このウエハにテー
プ状の保護フィルムを貼着したのち、このウエハに貼着
されている保護フィルムを、これに続くテープ状フィル
ムから切離し、ついで吸着テーブルを上昇させることに
よって、ウエハに貼着した保護フィルムを不回転部分よ
り分離したのち、吸着テーブルを回転させつつカッタを
ウエハの周縁付近に位置するようにガイドして保護フィ
ルムをウエハの周縁に沿つて切断することを特徴とする
ウエハ保護フィルムの切断方法。
1. A vacuum suction type suction table for adsorbing and fixing a wafer on the upper surface and adhering a protective film to the wafer is rotatable and can be raised and lowered, and the wafer is sucked onto the suction table. After attaching a tape-shaped protective film to this wafer, the protective film attached to this wafer was separated from the tape-shaped film that follows it, and then attached to the wafer by raising the suction table. After separating the protective film from the non-rotating portion, while rotating the suction table, the cutter is guided to be positioned near the peripheral edge of the wafer and the protective film is cut along the peripheral edge of the wafer. Cutting method.
【請求項2】前記カッタのガイド方法はカッタの先端を
吸着テーブルの境界位置に当てがって、カッタをウエハ
の周縁によりガイドすることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のウエハ保護フィルムの切断方法。
2. The wafer protecting method according to claim 1, wherein the cutter guiding method applies the tip of the cutter to a boundary position of the suction table and guides the cutter by the peripheral edge of the wafer. How to cut the film.
【請求項3】前記カッタのガイド方法はウエハの形状と
近似の外形カムを設け、このカムを吸着テーブルと同期
回転させることによりカッタをガイドすることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のウエハ保護フィルムの
切断方法。
3. The cutter guiding method according to claim 1, wherein an external cam having a shape similar to that of the wafer is provided, and the cutter is guided by rotating the cam synchronously with the suction table. Method for cutting wafer protective film.
JP11773785A 1985-05-30 1985-05-30 Wafer protection film cutting method Expired - Lifetime JPH061771B2 (en)

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