JPH0617824B2 - 光学量分布計測方法および光学量分布計測装置 - Google Patents
光学量分布計測方法および光学量分布計測装置Info
- Publication number
- JPH0617824B2 JPH0617824B2 JP18922488A JP18922488A JPH0617824B2 JP H0617824 B2 JPH0617824 B2 JP H0617824B2 JP 18922488 A JP18922488 A JP 18922488A JP 18922488 A JP18922488 A JP 18922488A JP H0617824 B2 JPH0617824 B2 JP H0617824B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、いわゆるCCD(電荷結合素子)カメラな
どの高精細度で観測を行うことができる画像入力手段を
用いて、輝度などの光学量の分布を計測する光学量計測
方法および光学量計測装置に関するものである。
どの高精細度で観測を行うことができる画像入力手段を
用いて、輝度などの光学量の分布を計測する光学量計測
方法および光学量計測装置に関するものである。
被照明領域等の計測対象の表面の輝度分布を計測する場
合、計測対象の全表面を連続的に測定することが理想で
あるが、実際にはそのような測定は困難である。そこ
で、被照明領域に所定間隔で点在する測定点を決め、各
測定点毎に測定を行うことが考えられる。
合、計測対象の全表面を連続的に測定することが理想で
あるが、実際にはそのような測定は困難である。そこ
で、被照明領域に所定間隔で点在する測定点を決め、各
測定点毎に測定を行うことが考えられる。
従来は、被照明領域をメジャーで図りながら各測定点に
印を付け、各測定点毎に輝度計で測定し、各測定点の位
置(座標)と測定値とから全体の評価を行っていた。
印を付け、各測定点毎に輝度計で測定し、各測定点の位
置(座標)と測定値とから全体の評価を行っていた。
ところが、このような光学量分布計測方法は、道路のよ
うな長大な被照明領域の場合、測定点の位置を決めるた
めの計測を行い、かつ各測定点毎に輝度計による測定を
する必要があるため膨大な作業量となる。またそのため
粗い間隔での測定しかできなかった。
うな長大な被照明領域の場合、測定点の位置を決めるた
めの計測を行い、かつ各測定点毎に輝度計による測定を
する必要があるため膨大な作業量となる。またそのため
粗い間隔での測定しかできなかった。
このような背景から、CCDカメラ等の高精細度の画像
入力手段を用いて測定を行うことが考えられる。この場
合、画像入力手段の画像出力と被照明領域の実際の輝度
との間の対応をとるため、変換係数を求める必要があ
る。
入力手段を用いて測定を行うことが考えられる。この場
合、画像入力手段の画像出力と被照明領域の実際の輝度
との間の対応をとるため、変換係数を求める必要があ
る。
したがって、この発明の目的は、変換係数が簡単に得ら
れかつ精細な輝度分布が容易に得られる光学量分布計測
方法を提供するとともに、測定が容易な光学量分布計測
装置を提供することである。
れかつ精細な輝度分布が容易に得られる光学量分布計測
方法を提供するとともに、測定が容易な光学量分布計測
装置を提供することである。
請求項(1)の光学量分布計測方法は、高精細度で観測を
行なうことができる画像入力手段で計測対象を撮影し、
その画像の各部の部分的出力と変換係数とにより前記計
測対象の各部の輝度を計測する光学量分布計測方法であ
って、レーザスキャナからレーザビームを照射して前記
計測対象に予め照準図形を描き、この照準図形に照準を
設定して撮影することにより得られた前記画像入力手段
の平均的な画像出力と、前記照準図形に照準が設定され
て前記画像入力手段と同一の測定範囲に関する前記光学
量計測手段の平均的な測定値との間の前記変換係数を求
めることを特徴とするものである。
行なうことができる画像入力手段で計測対象を撮影し、
その画像の各部の部分的出力と変換係数とにより前記計
測対象の各部の輝度を計測する光学量分布計測方法であ
って、レーザスキャナからレーザビームを照射して前記
計測対象に予め照準図形を描き、この照準図形に照準を
設定して撮影することにより得られた前記画像入力手段
の平均的な画像出力と、前記照準図形に照準が設定され
て前記画像入力手段と同一の測定範囲に関する前記光学
量計測手段の平均的な測定値との間の前記変換係数を求
めることを特徴とするものである。
請求項(2)の光学量分布計測装置は、計測対象に予め定
める照準図形を描くレーザビームを照射するレーザスキ
ャナと、このレーザスキャナと同じ位置に設けられ前記
照準図形に照準が設定されて平均の輝度を計測する変換
係数算出用の光学量計測手段と、前記レーザスキャナと
同じ位置に設けられ前記照準図形に照準が設定されて前
記画像入力手段と同一の測定範囲を撮影する高精細度で
観測可能な画像入力手段とを備え、前記光学量計測手段
の平均的な測定値と、前記画像入力手段の平均的な画像
出力との間の変換係数を算出するとともに、前記画像入
力手段により得られる各部の部分的出力と前記変換係数
とに基づいて、前記計測対象の各部の輝度を計測するこ
とを特徴とするものである。
める照準図形を描くレーザビームを照射するレーザスキ
ャナと、このレーザスキャナと同じ位置に設けられ前記
照準図形に照準が設定されて平均の輝度を計測する変換
係数算出用の光学量計測手段と、前記レーザスキャナと
同じ位置に設けられ前記照準図形に照準が設定されて前
記画像入力手段と同一の測定範囲を撮影する高精細度で
観測可能な画像入力手段とを備え、前記光学量計測手段
の平均的な測定値と、前記画像入力手段の平均的な画像
出力との間の変換係数を算出するとともに、前記画像入
力手段により得られる各部の部分的出力と前記変換係数
とに基づいて、前記計測対象の各部の輝度を計測するこ
とを特徴とするものである。
請求項(1)の光学量分布計測方法によれば、レーザビー
ムにより描かれた照準図形に光学量計測手段および画像
入力手段の照準が共通に設定され、同一の測定範囲に関
する観測が行なわれ、光学量計測手段により得られた平
均の輝度と、画像入力手段により得られた平均的な画像
出力との間の変換係数が算出される。そして画像入力手
段の各部の画像出力と変換係数とに基づいて各部の輝度
が算出される。この場合、レーザビームは任意の場所に
簡単に照準図形を描くことができるので、被照明領域等
の現場で印を付ける等の面倒な作業が必要でなくなり、
変換係数が簡単に得られる。また画像入力手段の各部の
部分的出力は画素の精度で得られるので、精細な輝度の
分布を容易に測定することができる。
ムにより描かれた照準図形に光学量計測手段および画像
入力手段の照準が共通に設定され、同一の測定範囲に関
する観測が行なわれ、光学量計測手段により得られた平
均の輝度と、画像入力手段により得られた平均的な画像
出力との間の変換係数が算出される。そして画像入力手
段の各部の画像出力と変換係数とに基づいて各部の輝度
が算出される。この場合、レーザビームは任意の場所に
簡単に照準図形を描くことができるので、被照明領域等
の現場で印を付ける等の面倒な作業が必要でなくなり、
変換係数が簡単に得られる。また画像入力手段の各部の
部分的出力は画素の精度で得られるので、精細な輝度の
分布を容易に測定することができる。
請求項(2)の光学量分布計測装置によれば、レーザスキ
ャナ、光学量計測手段および画像入力手段を同じ位置に
設けることにより、装置の一体化が可能になり取扱いが
簡単になるとともに、測定が容易になる。
ャナ、光学量計測手段および画像入力手段を同じ位置に
設けることにより、装置の一体化が可能になり取扱いが
簡単になるとともに、測定が容易になる。
この発明の一実施例を第1図および第2図に基づいて説
明する。すなわち、この光学量分布計測方法は、光学量
計測手段1と、画像入力手段2と、レーザスキャナ3と
を用いる。
明する。すなわち、この光学量分布計測方法は、光学量
計測手段1と、画像入力手段2と、レーザスキャナ3と
を用いる。
光学量計測手段1は、輝度計を実施例としている。画像
入力手段2は高精細度で観測を行うことができるもので
いわゆるCCD(電荷結合素子)カメラを実施例として
いる。そして、レーザスキャナ3はレーザビームを照射
するもので、任意の場所に容易に照準図形を描くことが
できる。
入力手段2は高精細度で観測を行うことができるもので
いわゆるCCD(電荷結合素子)カメラを実施例として
いる。そして、レーザスキャナ3はレーザビームを照射
するもので、任意の場所に容易に照準図形を描くことが
できる。
この光学量分布計測方法は、計測対象4にレーザスキャ
ナ3からレーザビーム3aを照射する。さらにレーザビ
ーム3aで計測対象4に予め定めた所定の領域を囲む円
形を実施例とする照準図形を描く(第2図(3))。
ナ3からレーザビーム3aを照射する。さらにレーザビ
ーム3aで計測対象4に予め定めた所定の領域を囲む円
形を実施例とする照準図形を描く(第2図(3))。
光学量計測手段1は、光軸1a上にある中心C1(第2図
(1))を照準図形の中心に合わせるように照準図形が設
定される。この光学量計測手段1は通常たとえば光軸1
aを含み、1/3゜,1/2゜,1゜,2゜などの見込み
角によって規定される測定視野を有しており、レーザス
キャナ3が描く照準図形はこの測定視野に対応する測定
範囲を示している。
(1))を照準図形の中心に合わせるように照準図形が設
定される。この光学量計測手段1は通常たとえば光軸1
aを含み、1/3゜,1/2゜,1゜,2゜などの見込み
角によって規定される測定視野を有しており、レーザス
キャナ3が描く照準図形はこの測定視野に対応する測定
範囲を示している。
画像入力手段2は、光軸2a上にある中心C2(第2図
(2))を照準図形の中心C4に合わせるように照準が設
定される(第2図(4))。
(2))を照準図形の中心C4に合わせるように照準が設
定される(第2図(4))。
変換係数は、光学量計測手段1の平均の計測値と画像入
力手段2の平均の画像出力とから算出される。
力手段2の平均の画像出力とから算出される。
つぎに、画像入力手段2の各部の画像出力と変換係数と
に基づいて各部の輝度を算出する。この場合、画像入力
手段2は高精細度であり、たとえば、各画素毎または複
数の画素のグループ毎に輝度を細かく得ることができ
る。
に基づいて各部の輝度を算出する。この場合、画像入力
手段2は高精細度であり、たとえば、各画素毎または複
数の画素のグループ毎に輝度を細かく得ることができ
る。
この実施例の光学量分布計測方法によれば、レーザビー
ム3aにより描かれた照準図形に光学量計測手段1およ
び画像入力手段2の照準が共通に設定され、同一の測定
範囲に関する観測が行なわれ、光学量計測手段1により
得られた平均の輝度と、画像入力手段2により得られた
平均的な画像出力との間の変換係数が算出される。そし
て画像入力手段2の各部の画像出力と変換係数とに基づ
いて各部の輝度が算出される。この場合、レーザビーム
3aは任意の場所に簡単に照準図形を描くことができる
ので、被照明領域等の現場で印を付ける等の面倒な作業
が必要でなくなり、変換係数が簡単に得られる。また画
像入力手段2の各部の部分的出力は画素の精度で得られ
るので、精細な輝度の分布を容易に測定することができ
る。
ム3aにより描かれた照準図形に光学量計測手段1およ
び画像入力手段2の照準が共通に設定され、同一の測定
範囲に関する観測が行なわれ、光学量計測手段1により
得られた平均の輝度と、画像入力手段2により得られた
平均的な画像出力との間の変換係数が算出される。そし
て画像入力手段2の各部の画像出力と変換係数とに基づ
いて各部の輝度が算出される。この場合、レーザビーム
3aは任意の場所に簡単に照準図形を描くことができる
ので、被照明領域等の現場で印を付ける等の面倒な作業
が必要でなくなり、変換係数が簡単に得られる。また画
像入力手段2の各部の部分的出力は画素の精度で得られ
るので、精細な輝度の分布を容易に測定することができ
る。
また光学量分布計測装置によれば、レーザスキャナ3、
光学量計測手段1および画像入力手段2を同じ位置に設
けることにより、装置の一体化が可能になり取扱いが簡
単になるとともに、測定が容易になる。
光学量計測手段1および画像入力手段2を同じ位置に設
けることにより、装置の一体化が可能になり取扱いが簡
単になるとともに、測定が容易になる。
なお、計測対象4は、計測対象4を照明する光源の種類
や、光源の光によって照射される物体を組成する物質な
どによって異なるため、画像入力手段2による輝度の計
測にあたっては計測対象4が異なるごとに、前述のよう
な変換係数の算出が行われる。
や、光源の光によって照射される物体を組成する物質な
どによって異なるため、画像入力手段2による輝度の計
測にあたっては計測対象4が異なるごとに、前述のよう
な変換係数の算出が行われる。
請求項(1)の光学量分布計測方法によれば、レーザビー
ムは任意の場所に簡単に照準図形を描くことができるの
で、被照明領域等の現場で印を付ける等の面倒な作業が
必要でなくなり、変換係数が簡単に得られる。また画像
入力手段の各部の部分的出力は画素の精度で得られるの
で、精細な輝度の分布を容易に測定することができると
いう効果がある。
ムは任意の場所に簡単に照準図形を描くことができるの
で、被照明領域等の現場で印を付ける等の面倒な作業が
必要でなくなり、変換係数が簡単に得られる。また画像
入力手段の各部の部分的出力は画素の精度で得られるの
で、精細な輝度の分布を容易に測定することができると
いう効果がある。
請求項(2)の光学量分布計測装置によれば、レーザスキ
ャナ、光学量計測手段および画像入力手段を同じ位置に
設けることにより、装置の一体化が可能になり取扱いが
簡単になるとともに、測定が容易になる。
ャナ、光学量計測手段および画像入力手段を同じ位置に
設けることにより、装置の一体化が可能になり取扱いが
簡単になるとともに、測定が容易になる。
第1図はこの発明の一実施例の原理的な構成を示す概念
図、第2図は光学量計測手段および画像入力手段の光軸
の中心ならびにレーザスキャナによって描かれる図形の
一例を示す図である。 1……光学量計測手段、2……画像入力手段、3……レ
ーザスキャナ、3a……レーザビーム
図、第2図は光学量計測手段および画像入力手段の光軸
の中心ならびにレーザスキャナによって描かれる図形の
一例を示す図である。 1……光学量計測手段、2……画像入力手段、3……レ
ーザスキャナ、3a……レーザビーム
Claims (2)
- 【請求項1】高精細度で観測を行なうことができる画像
入力手段で計測対象を撮影し、その画像の各部の部分的
出力と変換係数とにより前記計測対象の各部の輝度を計
測する光学量分布計測方法であって、レーザスキャナか
らレーザビームを照射して前記計測対象に予め照準図形
を描き、この照準図形に照準を設定して撮影することに
より得られた前記画像入力手段の平均的な画像出力と、
前記照準図形に照準が設定されて前記画像入力手段と同
一の測定範囲に関する前記光学量計測手段の平均的な測
定値との間の前記変換係数を求めることを特徴とする光
学量分布計測方法。 - 【請求項2】計測対象に予め定める照準図形を描くレー
ザビームを照射するレーザスキャナと、このレーザスキ
ャナと同じ位置に設けられ前記照準図形に照準が設定さ
れて平均の輝度を計測する変換係数算出用の光学量計測
手段と、前記レーザスキャナと同じ位置に設けられ前記
照準図形に照準が設定されて前記画像入力手段と同一の
測定範囲を撮影する高精細度で観測可能な画像入力手段
とを備え、前記光学量計測手段の平均的な測定値と、前
記画像入力手段の平均的な画像出力との間の変換係数を
算出するとともに、前記画像入力手段により得られる各
部の部分的出力と前記変換係数とに基づいて、前記計測
対象の各部の輝度を計測することを特徴とする光学量分
布計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18922488A JPH0617824B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 光学量分布計測方法および光学量分布計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18922488A JPH0617824B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 光学量分布計測方法および光学量分布計測装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0236323A JPH0236323A (ja) | 1990-02-06 |
| JPH0617824B2 true JPH0617824B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=16237655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18922488A Expired - Lifetime JPH0617824B2 (ja) | 1988-07-26 | 1988-07-26 | 光学量分布計測方法および光学量分布計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617824B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6377400B1 (en) * | 1999-07-02 | 2002-04-23 | Milton Bernard Hollander | Laser sighting beam modification for measuring or treatment instrument |
-
1988
- 1988-07-26 JP JP18922488A patent/JPH0617824B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0236323A (ja) | 1990-02-06 |
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